JPH0429859Y2 - - Google Patents
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- JPH0429859Y2 JPH0429859Y2 JP1987086743U JP8674387U JPH0429859Y2 JP H0429859 Y2 JPH0429859 Y2 JP H0429859Y2 JP 1987086743 U JP1987086743 U JP 1987086743U JP 8674387 U JP8674387 U JP 8674387U JP H0429859 Y2 JPH0429859 Y2 JP H0429859Y2
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- catalyst
- gas
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- reaction
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P30/00—Technologies relating to oil refining and petrochemical industry
- Y02P30/20—Technologies relating to oil refining and petrochemical industry using bio-feedstock
Landscapes
- Devices And Processes Conducted In The Presence Of Fluids And Solid Particles (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、合成ガス、メタノール、ジメチルエ
ーテルなどの気体から高品質のガソリンを製造す
る合成反応に適用される接触反応装置に関し、例
えば石油の接触分解改質反応装置など固体粉粒体
触媒による気体の接触反応装置等として適用でき
る。
ーテルなどの気体から高品質のガソリンを製造す
る合成反応に適用される接触反応装置に関し、例
えば石油の接触分解改質反応装置など固体粉粒体
触媒による気体の接触反応装置等として適用でき
る。
高性能触媒を用いる合成ガスなどからのガソリ
ン合成反応は、反応熱が大きく、温度制御が困難
で、一般的には固定床反応器より流動床反応器が
用いられている。また、このような反応に用いら
れる触媒は、一般に高温度下で用いられるので、
触媒の表面への炭素質の沈着などによつて活性劣
化し、従つて触媒の再生が必要であり、触媒の連
続供給抜き出しが可能な流動床方式が効率的であ
る。
ン合成反応は、反応熱が大きく、温度制御が困難
で、一般的には固定床反応器より流動床反応器が
用いられている。また、このような反応に用いら
れる触媒は、一般に高温度下で用いられるので、
触媒の表面への炭素質の沈着などによつて活性劣
化し、従つて触媒の再生が必要であり、触媒の連
続供給抜き出しが可能な流動床方式が効率的であ
る。
流動床方式は、流体の流れによつて分散板上の
固体粒子を浮遊懸濁させながらダイナミツク・サ
スペンシヨン（dynamic suspension）の状態で
気体と固体の接触を行わせるもので、気体の流速
は流動化開始速度から固体粒子の終末速度の中間
に入るように制限されると共に固体粒子の良好な
流動状態を保つためには分散板の構造など特別な
装置上の工夫が必要である。このため、種々の装
置上の考案がなされているが、実用化上、スケー
ルアツプ等の問題点が多く、殆んど守秘事項とな
つている。
固体粒子を浮遊懸濁させながらダイナミツク・サ
スペンシヨン（dynamic suspension）の状態で
気体と固体の接触を行わせるもので、気体の流速
は流動化開始速度から固体粒子の終末速度の中間
に入るように制限されると共に固体粒子の良好な
流動状態を保つためには分散板の構造など特別な
装置上の工夫が必要である。このため、種々の装
置上の考案がなされているが、実用化上、スケー
ルアツプ等の問題点が多く、殆んど守秘事項とな
つている。
本考案は、主として、合成ガスからジメチルエ
ーテルを経由して、あるいはメタノール等のアル
コールを原料として、アルミノシリケート又は遷
移金属シリケート触媒を用いて高品質のガソリン
を合成するための反応器として従来試みられてい
る流動床反応器より構造が簡単で、良好な気液の
接触状態が得られるスケールアツプ容易な構造の
反応装置を提供するものである。
ーテルを経由して、あるいはメタノール等のアル
コールを原料として、アルミノシリケート又は遷
移金属シリケート触媒を用いて高品質のガソリン
を合成するための反応器として従来試みられてい
る流動床反応器より構造が簡単で、良好な気液の
接触状態が得られるスケールアツプ容易な構造の
反応装置を提供するものである。
本考案は、竪置き筒体状の反応装置本体内に固
体粒状触媒を分散搬送するための搬送管を内蔵
し、該筒体状本体下部に気体の出・入口を有する
該筒体断面積より大きな断面積を有する気体と触
媒の分離室を接続し、該分散室の底部に上記搬送
管下部と上記気体入口を一定の小間隔を置いて対
向させることにより、上記の分離室底部に集る触
媒を供給気体によつて搬送管内に分散して搬送
し、筒体状本体の上部から該筒体状本体と搬送管
で形成される環状部を気体と触媒を接触落下さ
せ、上記分離室で触媒を分離し、連続的に触媒を
反応装置内で循環接触させるようにした気体と固
体触媒の接触反応装置に関する。
体粒状触媒を分散搬送するための搬送管を内蔵
し、該筒体状本体下部に気体の出・入口を有する
該筒体断面積より大きな断面積を有する気体と触
媒の分離室を接続し、該分散室の底部に上記搬送
管下部と上記気体入口を一定の小間隔を置いて対
向させることにより、上記の分離室底部に集る触
媒を供給気体によつて搬送管内に分散して搬送
し、筒体状本体の上部から該筒体状本体と搬送管
で形成される環状部を気体と触媒を接触落下さ
せ、上記分離室で触媒を分離し、連続的に触媒を
反応装置内で循環接触させるようにした気体と固
体触媒の接触反応装置に関する。
本考案装置では、供給気体流速、搬送管内径、
及び搬送管と気体入口の間隔を適切に設定するこ
とにより、固体粒状触媒を搬送管→反応装置本体
→分離室と一様に気体と接触させながら循環さ
せ、気体を連続的に効率よく該固体触媒と接触反
応処理する。
及び搬送管と気体入口の間隔を適切に設定するこ
とにより、固体粒状触媒を搬送管→反応装置本体
→分離室と一様に気体と接触させながら循環さ
せ、気体を連続的に効率よく該固体触媒と接触反
応処理する。
第１図に本考案装置の一実施例を示す。
第１図の反応装置は、筒体状の本体１と、この
下部に接続された本体１よりも断面積の大きい固
体粉粒体触媒の分離室２よりなる。本体１内には
下部に突出した触媒の搬送管７が取付金具５，６
により設置されている。この取付手段は一例を示
すもので、この手段に限定するものではない。分
離室２には気体出口４及び気体供給ノズル３が取
付けられている。気体供給ノズル３は搬送管７よ
り断面積は小さく、気体供給ノズル３と搬送管７
とは適切な間隔を置いて対向して設置される。分
離室２の底部は例えば図示するように円錐状と
し、搬送管７下部に気体より沈降分離された触媒
が集まるように構成されている。
下部に接続された本体１よりも断面積の大きい固
体粉粒体触媒の分離室２よりなる。本体１内には
下部に突出した触媒の搬送管７が取付金具５，６
により設置されている。この取付手段は一例を示
すもので、この手段に限定するものではない。分
離室２には気体出口４及び気体供給ノズル３が取
付けられている。気体供給ノズル３は搬送管７よ
り断面積は小さく、気体供給ノズル３と搬送管７
とは適切な間隔を置いて対向して設置される。分
離室２の底部は例えば図示するように円錐状と
し、搬送管７下部に気体より沈降分離された触媒
が集まるように構成されている。
触媒の反応装置内への初期充填は、本体１又は
分離室２の適当な個処に図示省略の充填孔を設け
て充填してもよく、また気体供給ノズル３より気
流搬送々入してもよい。
分離室２の適当な個処に図示省略の充填孔を設け
て充填してもよく、また気体供給ノズル３より気
流搬送々入してもよい。
上記構成の本考案装置を、合成ガスから合成さ
れるジメチルエーテルガスより遷移金属シリケー
ト触媒を用いてガソリンを製造する例で説明す
る。先ず約250〜400℃に加熱されたジメチルエー
テルガスを気体供給ノズル３から供給し、予め充
填されている平均粒径数十ミクロンの触媒を該ガ
ス中に分散して搬送管７内を上方に向つて搬送す
る。この間に、ジメチルエーテルのC10程度迄の
オレフイン、パラフイン、芳香族炭化水素（ガソ
リン）への転化反応が進行し、約400℃程度迄温
度上昇する。搬送管７を出た気体及び触媒はＵタ
ーンされ、反応装置本体１と搬送管７で形成され
る環状路を更に接触反応進行しながら降下する。
これらの気体と触媒の混合物は分離室２に入る
と、急激に断面積が大きくなるので、触媒粒子は
沈降し、気体と分離される。沈降した触媒は分離
室２下部の円錐部に沿つて搬送管７下部に集ま
り、気体供給ノズル３から送入される気体によつ
て再び搬送管７内で分散搬送され循環を繰りかえ
す。反応の完結した気体（ガソリン）は排出口４
より外部に取り出され、冷却凝縮して回収され
る。
れるジメチルエーテルガスより遷移金属シリケー
ト触媒を用いてガソリンを製造する例で説明す
る。先ず約250〜400℃に加熱されたジメチルエー
テルガスを気体供給ノズル３から供給し、予め充
填されている平均粒径数十ミクロンの触媒を該ガ
ス中に分散して搬送管７内を上方に向つて搬送す
る。この間に、ジメチルエーテルのC10程度迄の
オレフイン、パラフイン、芳香族炭化水素（ガソ
リン）への転化反応が進行し、約400℃程度迄温
度上昇する。搬送管７を出た気体及び触媒はＵタ
ーンされ、反応装置本体１と搬送管７で形成され
る環状路を更に接触反応進行しながら降下する。
これらの気体と触媒の混合物は分離室２に入る
と、急激に断面積が大きくなるので、触媒粒子は
沈降し、気体と分離される。沈降した触媒は分離
室２下部の円錐部に沿つて搬送管７下部に集ま
り、気体供給ノズル３から送入される気体によつ
て再び搬送管７内で分散搬送され循環を繰りかえ
す。反応の完結した気体（ガソリン）は排出口４
より外部に取り出され、冷却凝縮して回収され
る。
また、本考案装置を発熱を伴う接触反応に適用
する場合は、第２図に示すように、冷却管８を本
体１の内部に設置し、該冷却管８により反応熱の
除去調節を行うようにすることもできる。
する場合は、第２図に示すように、冷却管８を本
体１の内部に設置し、該冷却管８により反応熱の
除去調節を行うようにすることもできる。
さらに本考案装置において、触媒粒子の循環量
を調節するために、搬送管７と気体供給ノズル３
の間隙を調整することは効果が大きいが、この外
に第３図に例示するように気体供給ノズル３と共
に補助ノズル９を設け触媒粒子の閉塞防止及び触
媒循環量の増加を計るようにしても大きな効果を
得ることができる。
を調節するために、搬送管７と気体供給ノズル３
の間隙を調整することは効果が大きいが、この外
に第３図に例示するように気体供給ノズル３と共
に補助ノズル９を設け触媒粒子の閉塞防止及び触
媒循環量の増加を計るようにしても大きな効果を
得ることができる。
また本考案装置を使用触媒の活性低下を伴うよ
うな系に使用する場合は、活性低下触媒の連続再
生のために、一部触媒の連続抜出し及び連続供給
を通常の流動床方式と全く同様に行なえるように
することもできる。
うな系に使用する場合は、活性低下触媒の連続再
生のために、一部触媒の連続抜出し及び連続供給
を通常の流動床方式と全く同様に行なえるように
することもできる。
〔考案の効果〕
本考案装置は、反応装置本体と固体粉粒体触媒
の分離室を結合させ内部に触媒の搬送管を設置し
たため、反応装置内で触媒を効率よく流動循環さ
せることができ、コンパクトで単純な構造の装置
で高度な気液接触反応を行なわせることができ
る。
の分離室を結合させ内部に触媒の搬送管を設置し
たため、反応装置内で触媒を効率よく流動循環さ
せることができ、コンパクトで単純な構造の装置
で高度な気液接触反応を行なわせることができ
る。
また本考案装置は、従来の流動床反応器と比較
して流動触媒濃度はやや稀薄となるが、高活性な
触媒を用いる反応系には特に適用性が広い。
して流動触媒濃度はやや稀薄となるが、高活性な
触媒を用いる反応系には特に適用性が広い。
第１図は本考案装置の一実施例を示す図、第２
〜３図は本考案装置の他の実施例を示す図であ
る。 １……反応器本体、２……気固分離室、３……
気体供給ノズル、４……気体出口、５，６……搬
送管取付金具、７……搬送管、８……冷却管、９
……気体供給補助ノズル。
〜３図は本考案装置の他の実施例を示す図であ
る。 １……反応器本体、２……気固分離室、３……
気体供給ノズル、４……気体出口、５，６……搬
送管取付金具、７……搬送管、８……冷却管、９
……気体供給補助ノズル。
Claims (1)
- 竪置き筒体内に固体粉粒体触媒搬送のための搬
送管を内蔵し、該筒体下部に気体の出・入口を有
する気体と固体触媒の分離室を接続し、且つ前記
搬送管下部と前記気体入口を一定の間隔を置いて
対向させたことを特徴とする気体と固体触媒の接
触反応装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987086743U JPH0429859Y2 (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987086743U JPH0429859Y2 (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63197631U JPS63197631U (ja) | 1988-12-20 |
| JPH0429859Y2 true JPH0429859Y2 (ja) | 1992-07-20 |
Family
ID=30943335
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987086743U Expired JPH0429859Y2 (ja) | 1987-06-05 | 1987-06-05 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0429859Y2 (ja) |
-
1987
- 1987-06-05 JP JP1987086743U patent/JPH0429859Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63197631U (ja) | 1988-12-20 |
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