JPH04284265A - Surface polishing device for thermal print head - Google Patents
Surface polishing device for thermal print headInfo
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、サーマルプリントヘッ
ドの製造に際して、ガラス等の保護膜層の表面を、滑ら
かな表面に研磨仕上げするための表面研磨装置に関する
ものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface polishing apparatus for polishing the surface of a protective film layer made of glass or the like to a smooth surface when manufacturing a thermal print head.
【0002】0002
【従来の技術】一般に、この種のサーマルプリントヘッ
ド1は、図1及び図2に示すように、短冊状の絶縁基板
2の表面に、各種電極配線のパターン層3を形成し、該
電極配線のパターン層3の上面に、細幅状の抵抗体4を
一直状に延びるように形成したのち、その全体の表面に
、ガラス等の保護膜層5を形成することによって製造さ
れるのであるが、前記保護膜層5を形成するに際しては
、当該保護膜層5の表面に凹凸ができる。ところで、こ
のサーマルプリントヘッド1は、前記細幅状の抵抗体4
を、当該抵抗体4における隆起部6に紙を接触した状態
で発熱することによって印字するものであるから、前記
保護膜層5のうち前記抵抗体4を覆う部分の表面、前記
隆起部6の表面に凹凸が存在すると、印字むら等の不具
合が発生することになる。2. Description of the Related Art In general, this type of thermal print head 1, as shown in FIGS. 1 and 2, has a pattern layer 3 of various electrode wirings formed on the surface of a strip-shaped insulating substrate 2. It is manufactured by forming a narrow resistor 4 so as to extend in a straight line on the upper surface of the pattern layer 3, and then forming a protective film layer 5 of glass or the like on the entire surface of the resistor 4. When forming the protective film layer 5, the surface of the protective film layer 5 is uneven. By the way, this thermal print head 1 has the narrow resistor 4.
is printed by generating heat while the paper is in contact with the raised portion 6 of the resistor 4. Therefore, the surface of the portion of the protective film layer 5 that covers the resistor 4 and the raised portion 6 of the resistor 4 are printed. If the surface is uneven, problems such as uneven printing will occur.
【0003】そこで、前記サーマルプリントヘッド1の
製造に際しては、前記ガラス等の保護膜層5を形成した
あとにおいて、この保護膜層5のうち前記抵抗体4を覆
う部分の表面、つまり、前記隆起部6の表面を、滑らか
な表面にするために研磨加工を施すようにしている。Therefore, when manufacturing the thermal print head 1, after forming the protective film layer 5 of glass or the like, the surface of the portion of the protective film layer 5 that covers the resistor 4, that is, the raised The surface of the portion 6 is polished to make it smooth.
【0004】そして、前記の表面研磨に際して、従来は
、図10〜図12に示すように構成した研磨装置を使用
している。すなわち、従来の表面研磨装置は、ゴム製等
の軟質弾性体製ローラ7の外周面に、前記サーマルプリ
ントヘッド1の長さLと略等しい広幅状の研磨シート8
を巻付け、この研磨シート8を、ローラ7の回転によっ
て矢印方向に送り移動しながら、前記サーマルプリント
ヘッド1における抵抗体隆起部6の表面に押し付けるこ
とにより、当該抵抗体隆起部6の表面を研磨するように
構成している。[0004] Conventionally, when polishing the surface, a polishing apparatus constructed as shown in FIGS. 10 to 12 has been used. That is, the conventional surface polishing device has a wide polishing sheet 8 approximately equal to the length L of the thermal print head 1 on the outer peripheral surface of a roller 7 made of a soft elastic material such as rubber.
The polishing sheet 8 is pressed against the surface of the resistor raised part 6 in the thermal print head 1 while being fed and moved in the direction of the arrow by the rotation of the roller 7, thereby polishing the surface of the resistor raised part 6. It is configured to be polished.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかし、この従来の表
面研磨装置は、研磨シート8を、サーマルプリントヘッ
ド1の長さLと略等しい広幅状にして、これをサーマル
プリントヘッド1における抵抗体隆起部6に対して押圧
するものであって、サーマルプリントヘッド1に対する
接触面積が広いことにより、単位面積当たりの押圧力が
低く、従って、単位時間当たりの研磨量が小さいから、
サーマルプリントヘッド1における抵抗体隆起部6の全
体を研磨するまでに長い時間を必要とするから、研磨の
能率性が可成り低いのであり、しかも、前記広幅状の研
磨シート8が部分的に消耗すると、その全体を新しいも
のと交換するようにしなければならず、研磨シート8を
交換することに要するランニングコストが可成り嵩むこ
とになるから、前記研磨の能率が低いことと相俟って、
研磨に要するコストが大幅にアップすると言う問題があ
った。その上、前記研磨シート8を、サーマルプリント
ヘッド1における抵抗体隆起部6に対して、回転する軟
質弾性体製ゴム製ローラ7にて押圧したとき、この研磨
シート8は、前記抵抗体隆起部5における表面のうち当
該研磨シート8の移動方向に対して手前側の表面に対し
ては、確実に押し付けられるものの、前記抵抗体隆起部
5における表面のうち当該研磨シート8の移動方向に対
して前方側の表面に対しては、図12に示すように、浮
き上がる傾向を呈して、前記抵抗体隆起部6の裾野を充
分に研磨することができないから、前記抵抗体隆起部5
における全表面を等しく研磨することができず、前記抵
抗体隆起部5の表面に研磨むらが発生すると言う問題も
あった。[Problems to be Solved by the Invention] However, in this conventional surface polishing device, the polishing sheet 8 is made into a wide shape that is approximately equal to the length L of the thermal print head 1, and the polishing sheet 8 is made into a wide shape that is approximately equal to the length L of the thermal print head 1. Since the contact area with the thermal print head 1 is large, the pressing force per unit area is low, and therefore the amount of polishing per unit time is small.
Since it takes a long time to polish the entire resistor raised portion 6 in the thermal print head 1, the polishing efficiency is quite low, and the wide polishing sheet 8 is partially worn out. In this case, the entire polishing sheet 8 must be replaced with a new one, and the running cost required to replace the polishing sheet 8 increases considerably.This, combined with the low polishing efficiency,
There was a problem in that the cost required for polishing increased significantly. Moreover, when the polishing sheet 8 is pressed against the resistor raised portion 6 of the thermal print head 1 by the rotating soft elastic rubber roller 7, the polishing sheet 8 is pressed against the resistor raised portion 6 of the thermal print head 1. Although the surface of the resistor raised portion 5 on the front side with respect to the moving direction of the polishing sheet 8 is surely pressed, the surface of the resistor raised portion 5 with respect to the moving direction of the polishing sheet 8 is surely pressed. With respect to the front surface, as shown in FIG. 12, the base of the resistor raised portion 6 tends to rise and the base of the resistor raised portion 6 cannot be polished sufficiently.
There is also a problem in that the entire surface of the resistor raised portion 5 cannot be polished equally, resulting in uneven polishing on the surface of the resistor raised portion 5.
【0006】本発明は、これらの問題を解消し、低コス
トで表面研磨ができ、且つ、研磨むらが発生することな
く表面研磨ができるようにした表面研磨装置を提供する
ことを技術的課題とするものである。[0006] The technical object of the present invention is to provide a surface polishing device which can solve these problems and can perform surface polishing at low cost and without causing polishing unevenness. It is something to do.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】この技術的課題を達成す
るため本発明は、細幅テープ状の研磨シートをサーマル
プリントヘッドの抵抗体における隆起部の長手方向に沿
って適宜長さずつ間欠的に移送する経路中に、ゴム等の
軟質弾性体を備えたヘッド部材を、当該ヘッド部材にお
ける軟質弾性体が前記研磨シートの裏面に接当するよう
に配設して、このヘッド部材により前記研磨シートをサ
ーマルプリントヘッドの表面に押圧するように構成し、
更に、前記ヘッド部材に、当該ヘッド部材を前記サーマ
ルプリントヘッドの表面と略平行な方向に往復振動する
ようにした振動発生手段に連結する構成にした。[Means for Solving the Problems] In order to achieve this technical object, the present invention provides a method for applying a polishing sheet in the form of a narrow tape intermittently along the longitudinal direction of the protrusion in the resistor of a thermal print head. A head member equipped with a soft elastic body such as rubber is disposed in the transfer route so that the soft elastic body in the head member comes into contact with the back surface of the polishing sheet, and this head member is used to transfer the polishing sheet to the polishing sheet. configured to press the sheet against the surface of the thermal print head;
Furthermore, the head member is connected to a vibration generating means that causes the head member to reciprocate in a direction substantially parallel to the surface of the thermal print head.
【0008】[0008]
【作用】この構成において、細幅テープ状の研磨シート
は、その移送が停止しているときにおいて、その裏面に
接当するヘッド部材によって、サーマルプリントヘッド
の表面に対して押圧され、次いで、前記ヘッド部材が、
これに連結した振動発生手段にて前記サーマルプリント
ヘッドの表面と略平行な方向に往復振動することによっ
て、前記研磨シートを、サーマルプリントヘッドの表面
に対して擦り付けることができるから、サーマルプリン
トヘッドの表面を研磨することができる。この場合にお
いて、前記ヘッド部材と前記研磨シートとの間には、ゴ
ム等の軟質弾性体が介在しているから、前記ヘッド部材
を、前記サーマルプリントヘッドにおける抵抗体隆起部
に対して押圧することにより、この押圧によって、前記
研磨シートを、前記抵抗体隆起部における全表面に対し
て押し付けることができる。そして、前記研磨シートは
、この状態で往復振動することにより、前記抵抗体隆起
部の全表面を、当該抵抗体隆起部の裾野まで確実に研磨
することができるのであり、しかも、この研磨は、前記
細幅テープ状の研磨シートを、前記抵抗体隆起部に対し
てその長手方向に延びるように押し付けた状態で行うも
のであることに加えて、前記ヘッド部材を往復振動によ
って行うものであることにより、単位時間当たりの研磨
量が大きいから、前記抵抗体隆起部に対する所定の研磨
を短い時間で完了するのである。このようにして所定の
研磨が完了すると、ヘッド部材の往復振動を停止すると
共に、ヘッド部材による研磨シートの押圧を解除し、前
記細幅テープ状の研磨シートを適宜寸法(正しくは、前
記ヘッド部材の長さ)だけ移送することによって、当該
研磨シートにおける新しい研磨面をヘッド部材の箇所に
移行したのち、前記の操作を繰り返すのである。[Operation] In this configuration, when the narrow tape-shaped abrasive sheet is stopped being transported, it is pressed against the surface of the thermal print head by the head member that is in contact with the back surface of the abrasive sheet, and then the abrasive sheet is pressed against the surface of the thermal print head. The head member is
The abrasive sheet can be rubbed against the surface of the thermal print head by reciprocating vibration in a direction substantially parallel to the surface of the thermal print head by a vibration generating means connected to the abrasive sheet. The surface can be polished. In this case, since a soft elastic body such as rubber is interposed between the head member and the polishing sheet, the head member cannot be pressed against the resistor protrusion in the thermal print head. By this pressing, the polishing sheet can be pressed against the entire surface of the resistor raised portion. By reciprocating the polishing sheet in this state, it is possible to reliably polish the entire surface of the resistor protrusion up to the base of the resistor protrusion. In addition to the polishing being carried out with the narrow tape-shaped polishing sheet being pressed against the raised portion of the resistor so as to extend in the longitudinal direction thereof, the polishing is being carried out by reciprocating vibration of the head member. Since the polishing amount per unit time is large, the prescribed polishing of the resistor raised portion can be completed in a short time. When the prescribed polishing is completed in this way, the reciprocating vibration of the head member is stopped, the pressing of the polishing sheet by the head member is released, and the narrow tape-shaped polishing sheet is adjusted to an appropriate size (correctly, the head member is The new polishing surface of the polishing sheet is transferred to the head member by moving the polishing sheet by a length of , and then the above operation is repeated.
【0009】[0009]
【発明の効果】このように、本発明によると、サーマル
プリントヘッドにおける抵抗体隆起部の全表面を、その
裾野まで各所均等に、研磨むらが発生することなく確実
に研磨することができると共に、研磨に要する時間を大
幅に短縮できる。しかも、本発明は、細幅テープ状の研
磨シートを使用し、この細幅テープ状の研磨シートをそ
の長手方向に適宜長さずつ移送することによって研磨面
を更新しながら研磨を行うものであって、前記従来のよ
うに、広幅寸法の研磨シートを使用するものに比べて、
研磨シートを交換することに要するランニングコストを
大幅に低減できるから、前記のように研磨時間を短縮で
きることと相俟って、研磨に要するコストを著しく低減
できる効果を有する。As described above, according to the present invention, it is possible to reliably polish the entire surface of the raised portion of the resistor in the thermal print head, evenly and without polishing unevenness, all the way to its base. The time required for polishing can be significantly reduced. Moreover, the present invention uses a narrow tape-shaped polishing sheet, and performs polishing while renewing the polishing surface by transporting the narrow tape-shaped polishing sheet by an appropriate length in the longitudinal direction. Therefore, compared to the conventional method that uses a wide-width polishing sheet,
Since the running cost required for replacing the polishing sheet can be significantly reduced, this, together with the ability to shorten the polishing time as described above, has the effect of significantly reducing the cost required for polishing.
【0010】0010
【実施例】以下、本発明の実施例を図面(図3〜図8)
について説明する。図において符号10は、上面に一列
状に並べて載置したサーマルプリントヘッド1を、その
長手方向に適宜長さ(詳しくは、後述するヘッド部材2
1の長さ寸法Sより若干短い長さ寸法)ずつ間欠的に移
送するようにした移送手段を示す。符号11は、前記移
送手段10の側方に立設した支持フレームを示し、該支
持フレーム11の上部前面には、細幅テープ状の研磨シ
ート12を巻き付けた繰り出しリール13と、前記細幅
テープ状研磨シート12に対する巻取りリール14とが
設けられ、前記繰り出しリール13から繰り出された研
磨シート12は、基端を前記支持フレーム11に枢着さ
れ且つばね15に付勢されたレバー16の先端に取付け
たテンションローラ17、及び一対の送りローラ18,
19を経て前記巻取りリール14に巻付けられ、前記一
対の送りローラ18,19の回転により、適宜長さ寸法
(詳しくは、後述するヘッド部材21の長さ寸法Sと略
等しい長さ寸法)ずつ間欠的に移送するように構成され
ている。この場合、前記繰り出しリール13には、その
研磨テープ12の繰り出しに対して一定のブレーキが掛
けられている一方、前記レバー16の先端に取付けたテ
ンションローラ17の箇所には、前記研磨シート12が
切れたとき、前記テンションローラ17が接当するよう
にしたテープ切れ検出センサー20が設けられている。[Example] Below, examples of the present invention are shown in the drawings (Figs. 3 to 8).
I will explain about it. In the figure, reference numeral 10 denotes thermal print heads 1 placed in a row on the upper surface, with an appropriate length in the longitudinal direction (in detail, a head member 2 to be described later).
1. This shows a transfer means that intermittently transfers by a length dimension slightly shorter than the length dimension S of 1. Reference numeral 11 indicates a support frame erected on the side of the transfer means 10, and on the upper front surface of the support frame 11 there is a feed reel 13 around which a narrow tape-shaped abrasive sheet 12 is wound, and a feed reel 13 with a narrow tape-shaped abrasive sheet 12 wound thereon; A take-up reel 14 for the shaped abrasive sheet 12 is provided, and the abrasive sheet 12 fed out from the feed reel 13 is attached to the distal end of a lever 16 whose base end is pivoted to the support frame 11 and biased by a spring 15. a tension roller 17 and a pair of feed rollers 18,
19, and is wound around the take-up reel 14, and is rotated by the pair of feed rollers 18 and 19 to have an appropriate length dimension (more specifically, a length dimension approximately equal to the length dimension S of the head member 21, which will be described later). It is configured to be transferred intermittently. In this case, a certain brake is applied to the feed reel 13 to prevent the polishing tape 12 from being fed out, while the polishing sheet 12 is placed at the tension roller 17 attached to the tip of the lever 16. A tape break detection sensor 20 is provided, which the tension roller 17 comes into contact with when the tape breaks.
【0011】符号21は、前記テンションローラ17と
前記一対の巻取りローラ18,19との間において、前
記研磨シート12の裏面側に接当するように配設したヘ
ッド部材を示し、該ヘッド部材21のうち当該ヘッド部
材21に対して前記研磨シート12が接当する部分には
、ゴム等の軟質弾性体22が貼着されている。このヘッ
ド部材21は、細幅で、その長さ寸法Sは、前記サーマ
ルプリントヘッド1における長さ寸法Lよりも短い長さ
寸法であり、しかも、このヘッド部材21は、前記支持
フレーム11の前面に図示しない手段によって上下動す
るように装着された上下動部材23に対して、振動発生
手段24を介して取付けられ、この振動発生手段24に
より、矢印Aで示すように、前記サーマルプリントヘッ
ド1の表面と略平行で、且つ、当該サーマルプリントヘ
ッド1における隆起部5の長手方向と略直角の方向に往
復振動するように構成されている。なお、前記ヘッド部
材21の両端部には、前記研磨シート12が当該ヘッド
部材21における下面から外れることを防止するための
前後一対のガイド部材25a,25b、26a,26b
が各々取付けられている。Reference numeral 21 designates a head member disposed between the tension roller 17 and the pair of take-up rollers 18 and 19 so as to be in contact with the back side of the polishing sheet 12. A soft elastic body 22 such as rubber is attached to a portion of the polishing sheet 21 where the polishing sheet 12 comes into contact with the head member 21 . This head member 21 has a narrow width, and its length S is shorter than the length L of the thermal print head 1. It is attached via a vibration generating means 24 to a vertically movable member 23 which is mounted so as to move up and down by means not shown in the figure. It is configured to reciprocate in a direction that is substantially parallel to the surface of the thermal print head 1 and substantially perpendicular to the longitudinal direction of the raised portion 5 of the thermal print head 1 . A pair of front and rear guide members 25a, 25b, 26a, 26b are provided at both ends of the head member 21 to prevent the polishing sheet 12 from coming off the lower surface of the head member 21.
are installed respectively.
【0012】この構成において、サーマルプリントヘッ
ド1及び研磨シート12の移送を停止した状態で、ヘッ
ド部材21を、上下動部材23の下降動によって、サー
マルプリントヘッド1の表面に押圧する。すると、研磨
シート12は、前記ヘッド部材21の下面に貼着したゴ
ム等の軟質弾性体22を介して、前記サーマルプリント
ヘッド1における抵抗体隆起部6に対して押し付けられ
ることにより、この抵抗体隆起部6の全表面に対して接
触する。そこで、前記ヘッド部材21を、振動発生手段
24にて往復振動することにより、前記研磨シート12
は、前記抵抗体隆起部6の表面に対して擦り付けられる
ことになるから、前記抵抗体隆起部6の全表面を、当該
抵抗体隆起部6の裾野まで確実に研磨することができる
のである。In this configuration, the head member 21 is pressed against the surface of the thermal print head 1 by the downward movement of the vertically moving member 23 while the transfer of the thermal print head 1 and the polishing sheet 12 is stopped. Then, the abrasive sheet 12 is pressed against the resistor raised portion 6 of the thermal print head 1 via the soft elastic body 22 such as rubber attached to the lower surface of the head member 21, and thereby the resistor The entire surface of the raised portion 6 is contacted. Therefore, by reciprocating the head member 21 with the vibration generating means 24, the polishing sheet 12
Since it is rubbed against the surface of the resistor raised portion 6, the entire surface of the resistor raised portion 6 can be reliably polished down to the base of the resistor raised portion 6.
【0013】そして、この研磨が完了すると、前記ヘッ
ド部材21を上昇し、サーマルプリントヘッド1を、前
記ヘッド部材21の長さ寸法Sより若干短い長さ寸法だ
け間欠的に移送したのち、前記の研磨を再び行うのであ
り、この場合において、前記研磨シート12における研
磨面が磨耗しているときには、前記ヘッド部材21を上
昇した状態において、前記研磨シート12を、ヘッド部
材21の長さ寸法Sと略等しい長さ寸法だけ間欠的に移
送して、研磨面を更新するのである。When this polishing is completed, the head member 21 is raised and the thermal print head 1 is intermittently transferred by a length slightly shorter than the length S of the head member 21, and then Polishing is performed again, and in this case, if the polishing surface of the polishing sheet 12 is worn, the polishing sheet 12 is adjusted to the length dimension S of the head member 21 while the head member 21 is raised. The polishing surface is updated by intermittently transferring the polishing surface by approximately equal length dimensions.
【0014】なお、前記ヘッド部材21は、サーマルプ
リントヘッド1における抵抗体隆起部6の長手方向と直
角の方向に往復振動することに限らず、前記抵抗体隆起
部5の長手方向に沿って往復振動するか、抵抗体隆起部
5に対して直角の方向と隆起部5の長手方向との両方に
わたって往復振動するように構成しても良いのである。
また、前記の研磨に際して、サーマルプリントヘッド1
の表面と研磨シート12との間に、ノズル27より水を
供給するか、或いは、水を霧吹き状に供給することによ
り、研磨をいわゆる湿式の状態で行うことができるから
、研磨速度を向上できると共に、粉塵が周囲に飛散する
ことを防止できる利点を有する。更にまた、前記ヘッド
部材21を、図9に示すように、振動発生手段24に対
して板ばね28を介して取付けることによって、この板
ばね28にてサーマルプリントヘッド1に対して押圧す
るように構成しても良いのである。Note that the head member 21 is not limited to reciprocating vibration in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the resistor raised portion 6 in the thermal print head 1, but also reciprocates along the longitudinal direction of the resistor raised portion 5. It may be configured to vibrate or to reciprocate in both the direction perpendicular to the resistor raised portion 5 and the longitudinal direction of the raised portion 5. Also, during the polishing described above, the thermal print head 1
By supplying water from the nozzle 27 or by supplying water in a spray form between the surface of the polishing sheet 12 and the polishing sheet 12, polishing can be performed in a so-called wet state, and the polishing speed can be improved. It also has the advantage of preventing dust from scattering around. Furthermore, as shown in FIG. 9, the head member 21 is attached to the vibration generating means 24 via a plate spring 28, so that the plate spring 28 presses against the thermal print head 1. It may be configured.
【図1】サーマルプリントヘッドの斜視図である。FIG. 1 is a perspective view of a thermal print head.
【図2】図1のII−II視拡大断面図である。FIG. 2 is an enlarged sectional view taken along line II-II in FIG. 1;
【図3】本発明の実施例を示す正面図である。FIG. 3 is a front view showing an embodiment of the present invention.
【図4】図3のIV−IV視拡大断面図である。FIG. 4 is an enlarged sectional view taken along line IV-IV in FIG. 3;
【図5】図4のV−V視断面図である。FIG. 5 is a sectional view taken along line V-V in FIG. 4;
【図6】図5のVI−VI視側面図である。FIG. 6 is a side view taken along VI-VI in FIG. 5;
【図7】図5のVII −VII 視断面図である。FIG. 7 is a sectional view taken along line VII-VII in FIG. 5;
【図8】ヘッド部材の斜視図である。FIG. 8 is a perspective view of the head member.
【図9】別の実施例を示す視断面図である。FIG. 9 is a sectional view showing another embodiment.
【図10】従来の例を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a conventional example.
【図11】図10のXI−XI視断面図である。FIG. 11 is a sectional view taken along line XI-XI in FIG. 10;
【図12】図11の要部拡大図である。FIG. 12 is an enlarged view of the main part of FIG. 11;
1 サーマルプリントヘッド2
絶縁基板
4 抵抗体
5 保護膜層
6 抵抗体の隆起部10
サーマルプリントヘッドの移送手段11
支持フレーム
12 細幅テープ状の研磨シート13
繰り出しリール
14 巻取りリール
18,19 送りローラ
21 ヘッド部材
22 軟質弾性体
23 上下動部材
24 振動発生手段1 Thermal print head 2
Insulating substrate 4 Resistor 5 Protective film layer 6 Resistor raised portion 10
Thermal print head transport means 11
Support frame 12 Narrow tape-shaped polishing sheet 13
Payout reel 14 Take-up reels 18, 19 Feed roller 21 Head member 22 Soft elastic body 23 Vertical movement member 24 Vibration generating means
Claims (1)
ントヘッドの抵抗体における隆起部の長手方向に沿って
移送する経路中に、ゴム等の軟質弾性体を備えたヘッド
部材を、当該ヘッド部材における軟質弾性体が前記研磨
シートの裏面に接当するように配設して、このヘッド部
材により前記研磨シートをサーマルプリントヘッドの表
面に押圧するように構成し、更に、前記ヘッド部材に、
当該ヘッド部材を前記サーマルプリントヘッドの表面と
略平行な方向に往復振動するようにした振動発生手段に
連結したことを特徴とするサーマルプリントヘッドの表
面研磨装置。Claim 1: A head member provided with a soft elastic material such as rubber is installed in a path for transporting a narrow tape-shaped abrasive sheet along the longitudinal direction of a raised portion of a resistor of a thermal print head. A soft elastic body is disposed so as to be in contact with the back surface of the polishing sheet, and the head member is configured to press the polishing sheet against the surface of the thermal print head, and the head member further includes:
A surface polishing device for a thermal print head, characterized in that the head member is connected to vibration generating means configured to vibrate reciprocatingly in a direction substantially parallel to the surface of the thermal print head.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7480191A JPH04284265A (en) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | Surface polishing device for thermal print head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7480191A JPH04284265A (en) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | Surface polishing device for thermal print head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04284265A true JPH04284265A (en) | 1992-10-08 |
Family
ID=13557774
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7480191A Pending JPH04284265A (en) | 1991-03-13 | 1991-03-13 | Surface polishing device for thermal print head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04284265A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN112792637A (en) * | 2021-01-15 | 2021-05-14 | 重庆仟知佳科技有限公司 | Polishing machine tool for processing building materials |
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1991
- 1991-03-13 JP JP7480191A patent/JPH04284265A/en active Pending
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