JPH04283246A - Heat-resistant film - Google Patents

Heat-resistant film

Info

Publication number
JPH04283246A
JPH04283246A JP4516791A JP4516791A JPH04283246A JP H04283246 A JPH04283246 A JP H04283246A JP 4516791 A JP4516791 A JP 4516791A JP 4516791 A JP4516791 A JP 4516791A JP H04283246 A JPH04283246 A JP H04283246A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
resin
mol
aromatic polyamide
heat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4516791A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Jun Owada
潤 大和田
Takahiro Nakawa
孝宏 名川
Nobuaki Ito
伸明 伊藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toray Industries Inc filed Critical Toray Industries Inc
Priority to JP4516791A priority Critical patent/JPH04283246A/en
Publication of JPH04283246A publication Critical patent/JPH04283246A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To prepare a heat-resistant film excellent in mechanical and chemical properties, profitability, and adhesion to an inorg. material by blending an arom. polyamide having specific diamine residues with a sol. resin. CONSTITUTION:A heat-resistant film is prepd. from a resin blend comprising 5-90wt.% arom. polyamide wherein 1-50mol% of all the diamine residues contain at least one kind of element selected from the group consisting of Si, Ge, and Sn and 10-95wt.% sol. resin. The film does not flow even above the softening point of the sol. resin, has a low thermal shrinkage and an excellent dimensional stability at high temp., has higher mechanical properties, such as tensile strength and elongation at break, than those of a film comprising the sol. resin alone, and hence can be easily handled in the secondary processing. Moreover, when the amt. blended of the sol. resin exceeds 50wt.%, the moisture absorption properties are improved.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性フィルムに関す
るものであり、更に詳しくは、耐熱性の低い可溶性樹脂
と芳香族ポリアミドがブレンドされた耐熱性フィルムに
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a heat-resistant film, and more particularly to a heat-resistant film that is a blend of a soluble resin with low heat resistance and an aromatic polyamide.

【0002】0002

【従来の技術】ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリ
エーテルイミド、ポリエーテルスルホン、ポリスルフィ
ドスルホンなどに代表される非晶性フィルムは、優れた
光学的性質、電気的性質、熱的性質から、液晶用透明導
電フィルム、プリンターインクリボン、コンデンサー、
プリント基板、電気絶縁材料など幅広い用途展開が行な
われている。しかしながら、比較的安価で、かつ湿度特
性が良好なこれら非晶性フィルムの大きな欠点としては
、ガラス転移点以上の温度でフィルムが急激に軟化流動
してしまい、市場の要求する高耐熱性材料としては不満
が残る。また機械特性が結晶性のフィルムに較べて悪い
ことも大きな欠点である。
[Prior Art] Amorphous films represented by polycarbonate, polysulfone, polyetherimide, polyethersulfone, polysulfide sulfone, etc. are used as transparent conductive films for liquid crystals due to their excellent optical, electrical, and thermal properties. , printer ink ribbon, capacitor,
It is being used in a wide range of applications, including printed circuit boards and electrical insulation materials. However, a major drawback of these amorphous films, which are relatively inexpensive and have good humidity characteristics, is that they rapidly soften and flow at temperatures above the glass transition point, making them difficult to meet the demands of the market for highly heat-resistant materials. remains dissatisfied. Another major drawback is that the mechanical properties are poorer than that of crystalline films.

【0003】一方、耐熱フィルムとしては芳香族ポリア
ミド、芳香族ポリイミドから成るフィルムが知られてい
るが、耐熱性・機械特性は良好であるが、生産性が悪い
ためコストが高かったり、湿度特性も非晶性フィルムに
較べると悪い。
On the other hand, as heat-resistant films, films made of aromatic polyamides and aromatic polyimides are known, but although they have good heat resistance and mechanical properties, they are expensive due to poor productivity, and have poor humidity characteristics. It is worse than an amorphous film.

【0004】これら樹脂の欠点を補なう一つの方法とし
て分子複合の検討も行なわれている。例えば剛直な構造
をもつポリパラフェニレンテレフタルアミド(芳香族ポ
リアミド)とナイロン6を分子複合し高強度のフィルム
が得られたり(J.MACRMOL.SCI.,PHY
S.,B17(4),591 〜615(1980) 
)、剛直な補強用高分子と屈曲性の骨格を有するマトリ
ックス分子とから高分子複合体が得られた例(特公平1
−36785 )が報告されている。
[0004] As a method of compensating for the drawbacks of these resins, molecular conjugation is also being investigated. For example, a high-strength film can be obtained by molecularly compositing polyparaphenylene terephthalamide (aromatic polyamide) with a rigid structure and nylon 6 (J. MACRMOL. SCI., PHY
S. , B17(4), 591-615 (1980)
), an example of a polymer composite obtained from a rigid reinforcing polymer and a matrix molecule with a flexible skeleton (Japanese Patent Publication No. 1
-36785) has been reported.

【0005】また、結晶性の低い芳香族ポリアミドに非
晶性のポリエーテルスルホンなどの結晶化促進剤をブレ
ンドすることで、芳香族ポリアミドの結晶性を上げ耐熱
フィルムを得るという報告もある(高分子学会予稿集、
38(12)、4149〜4154(1989))。
There is also a report that a heat-resistant film can be obtained by increasing the crystallinity of aromatic polyamide by blending a crystallization promoter such as amorphous polyether sulfone with aromatic polyamide having low crystallinity. Proceedings of the Molecular Society,
38(12), 4149-4154 (1989)).

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかし、例えばポリパ
ラフェニレンテレフタルアミドとナイロン6の分子複合
体フィルムは、ポリパラフェニレンテレフタルアミドが
有機溶媒に不溶なため、濃硫酸に溶解させ、多量の水で
再沈殿させて高温下で熱圧縮してフィルムにするという
非常に煩雑な製法が必要なため工業化しても高価になり
、得られるフィルムも伸度の小さなもろいフィルムしか
できない。又、特公平1−36785 では剛直な補強
用高分子としてポリパラフェニレンベンズビスチアゾー
ル、ポリパラフェニレンテレフタルアミドなどが挙げら
れているが、これらのポリマも上記同様、酸性溶媒に溶
解して製膜する必要があるため高価となり、また、得ら
れるフィルムも伸度が小さい。
[Problems to be Solved by the Invention] However, for example, a molecular composite film of polyparaphenylene terephthalamide and nylon 6 can be prepared by dissolving it in concentrated sulfuric acid and adding a large amount of water, since polyparaphenylene terephthalamide is insoluble in organic solvents. It requires a very complicated production method of re-precipitation and heat compression at high temperatures to form a film, making it expensive even if it is industrialized, and the resulting film is only a brittle film with low elongation. In addition, in Japanese Patent Publication No. 1-36785, polyparaphenylenebenzbisthiazole, polyparaphenyleneterephthalamide, etc. are listed as rigid reinforcing polymers, but these polymers can also be dissolved in an acidic solvent to form a film. This makes it expensive, and the resulting film also has low elongation.

【0007】さらに、結晶性の低い芳香族ポリアミドに
非晶性のポリマをブレンドするという方法は、結晶化に
長時間を有し生産性が悪いばかりでなく、得られるフィ
ルムの機械特性も悪く実用的ではない。
Furthermore, the method of blending an amorphous polymer with an aromatic polyamide with low crystallinity not only takes a long time for crystallization and has poor productivity, but also has poor mechanical properties of the resulting film, making it impractical for practical use. Not the point.

【0008】本発明はかかる課題を改善し、機械的特性
、化学的特性(主に吸湿特性)、経済性(コスト)に優
れ、さらには無機物(粒子など)との接着性が良好な耐
熱性フィルムを提供することを目的とする。
[0008] The present invention improves these problems and provides heat resistance that is excellent in mechanical properties, chemical properties (mainly moisture absorption properties), economical efficiency (cost), and has good adhesion to inorganic substances (particles, etc.). The purpose is to provide film.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明は、芳香族ポリア
ミドと可溶性樹脂とのブレンド樹脂からなるフィルムで
あって、該芳香族ポリアミドはブレンド樹脂の5重量%
以上90重量%以下の範囲で含有され、さらに該芳香族
ポリアミドを構成する全ジアミン残基の1モル%以上5
0モル%以下はケイ素,ゲルマニウム,スズの中から選
ばれた少なくとも1種以上を含むジアミン残基で構成さ
れることを特徴とする耐熱性フィルムである。
[Means for Solving the Problems] The present invention is a film made of a blend resin of an aromatic polyamide and a soluble resin, wherein the aromatic polyamide accounts for 5% by weight of the blend resin.
It is contained in a range of 90% by weight or more, and 1 mol% or more of the total diamine residues constituting the aromatic polyamide.
The heat-resistant film is characterized in that 0 mol% or less is composed of diamine residues containing at least one selected from silicon, germanium, and tin.

【0010】本発明の芳香族ポリアミドとは、一般式The aromatic polyamide of the present invention has the general formula


0011】
[
0011

【化1】[Chemical formula 1]

【0012】で示される繰り返し単位を50モル%以上
含むものが好ましく、70モル%以上からなるものがよ
り好ましい。
It is preferable that the repeating unit contained in the following formula is contained in an amount of 50 mol % or more, more preferably 70 mol % or more.

【0013】ここでAr1 は下記の(1)、(2)、
(3)の中から選ばれるが、Ar1 の1モル%以上5
0モル%以下は(1)から選ばれ、かつAr1 の50
モル%以上は(2)から選ばれる。ポリマ中に無機粒子
などが含有する場合のポリマと粒子との相性や、得られ
るフィルムと金属などとの接着性が向上する点から、A
r1 の2モル%以上、より好ましくは3モル%以上は
(1)から選ばれることが望ましい。また、逆に(1)
が多すぎると得られるフィルムの機械特性が低下する点
から、40モル%以下が好ましく、30モル%以下がよ
り好ましい。(3)の中から選ばれるAr1の共重合成
分は多すぎるとフィルムの機械特性を低下させる点より
、40モル%以下が好ましく、30モル%以下の範囲で
含まれることがより好ましい。
[0013] Here, Ar1 is the following (1), (2),
selected from (3), but not less than 1 mol% of Ar15
0 mol% or less is selected from (1), and 50 of Ar1
The mole % or more is selected from (2). A from the viewpoint of improving the compatibility between the polymer and particles when the polymer contains inorganic particles and the adhesion between the obtained film and metal etc.
It is desirable that 2 mol % or more, more preferably 3 mol % or more of r1 be selected from (1). Also, conversely (1)
If the amount is too large, the mechanical properties of the resulting film will deteriorate, so the amount is preferably 40 mol% or less, more preferably 30 mol% or less. The copolymerization component of Ar1 selected from (3) is preferably contained in a range of 40 mol% or less, more preferably 30 mol% or less, since too much of it will deteriorate the mechanical properties of the film.

【0014】またAr2 は下記の(2)、(3)から
選ばれるが、Ar2 の50モル%以上は(2)から選
ばれる。さらに得られるフィルムの機械特性が向上する
点から、Ar2 の60モル%以上、より好ましくは7
0モル%以上は(2)から選ばれることが望ましい。
Further, Ar2 is selected from the following (2) and (3), and 50 mol% or more of Ar2 is selected from (2). Furthermore, from the point of view of improving the mechanical properties of the obtained film, Ar2 is 60 mol% or more, more preferably 7
It is desirable that 0 mol% or more be selected from (2).

【0015】[0015]

【化2】[Case 2]

【0016】また、(1),(2),(3)の中の芳香
環の環上の水素の一部が、ハロゲン基(特に塩素)、ニ
トロ基、C1 〜C3 のアルキル基(特にメチル基)
、C1 〜C3 のアルコキシ基などの置換基で置換さ
れているものは、溶媒に対する溶解性、可溶性樹脂との
相溶性が高くより好ましい。さらに、ハロゲン基は得ら
れるフィルムの湿度特性を向上させるので好ましい。
Furthermore, some of the hydrogen atoms on the aromatic rings in (1), (2), and (3) are halogen groups (especially chlorine), nitro groups, C1 to C3 alkyl groups (especially methyl basis)
, C1 to C3 alkoxy groups are more preferable because they have high solubility in solvents and high compatibility with soluble resins. Furthermore, halogen groups are preferred because they improve the humidity characteristics of the resulting film.

【0017】例えば、For example,

【0018】[0018]

【化3】[Chemical formula 3]

【0019】などを50モル%以上含むものが挙げられ
る。
Examples include those containing 50 mol% or more of the following.

【0020】本発明の可溶性樹脂とは、前述した芳香族
ポリアミドを溶解する溶媒に、1重量%以上溶解する樹
脂を意味する。芳香族ポリアミドと可溶性樹脂の両者を
溶解する溶媒としては、取り扱いやすさなどを考慮する
と有機系の溶媒が好ましく、N−メチル−2−ピロリド
ン、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミ
ド、ジメチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノン
などのアミド系極性溶媒やジメチルスルホキシドなどが
挙げられるが、特にN−メチル−2−ピロリドンおよび
N−メチル−2−ピロリドンと他のアミド系極性溶媒の
混合物が好ましい。これらの溶媒を用いた場合特に、ポ
リカーボネート、ポリフッ化ビニリデン、ポリメチルメ
タアクリレート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール
、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレー
ト、ポリスルフィドスルホン、ポリエーテルイミドなど
が好ましく、高温での機械特性の改良が顕著で湿度特性
の優れている非晶性樹脂、例えば、ポリカーボネート、
ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリアリレート
、ポリスルフィドスルホンがより好ましい。特に、
The soluble resin of the present invention refers to a resin that dissolves at least 1% by weight in the solvent that dissolves the aromatic polyamide described above. As the solvent for dissolving both the aromatic polyamide and the soluble resin, organic solvents are preferred from the viewpoint of ease of handling, such as N-methyl-2-pyrrolidone, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, dimethylformamide, and dimethyl. Examples include amide polar solvents such as imidazolidinone, dimethyl sulfoxide, etc., and N-methyl-2-pyrrolidone and a mixture of N-methyl-2-pyrrolidone and other amide polar solvents are particularly preferred. When these solvents are used, particularly preferred are polycarbonate, polyvinylidene fluoride, polymethyl methacrylate, polystyrene, polyvinyl alcohol, polyether sulfone, polysulfone, polyarylate, polysulfide sulfone, polyetherimide, etc., which have good mechanical properties at high temperatures. Amorphous resins with remarkable improvement and excellent humidity characteristics, such as polycarbonate,
More preferred are polyether sulfone, polysulfone, polyarylate, and polysulfide sulfone. especially,

【0
021】
0
021]

【化4】[C4]

【0022】の基本骨格ZとThe basic skeleton Z of

【0023】[0023]

【化5】[C5]

【0024】の構造を両方有する樹脂は、該芳香族ポリ
アミドとの相溶性が非常によいために、芳香族ポリアミ
ドと可溶性樹脂を上記溶媒に溶解して得られるブレンド
溶液は長期保存安定性に優れ、また機械特性や透明性に
優れたフィルムが得られるなどの理由で、より好ましい
。例えばポリカーボネート、ポリアリレートなどが挙げ
られ、経済性の点からポリカーボネートがさらに好まし
い。上記基本骨格Zには置換基があってもよく、例えば
ハロゲン基などが挙げられる。また、上記芳香族ポリア
ミドと可溶性樹脂とのブレンド樹脂にさらに別の樹脂が
該可溶性樹脂の好ましくは40重量%以下、より好まし
くは30重量%以下、さらに好ましくは20重量%以下
添加されていてもよく、例えば、可溶性樹脂としてポリ
カーボネートを用いた場合、これにポリエーテルスルホ
ン、ポリスルホン、または、第3の芳香族ポリアミドな
どを添加すると、機械特性が向上する。また、上記溶媒
の他に、可溶性樹脂の良溶媒、例えばジオキサン、テト
ラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロホルム、1,1
,2−トリクロロエタン、トリクレン、アセトン、トル
エンなどを、可溶性樹脂と芳香族ポリアミドが相溶する
のを妨げない範囲内で、好ましくは全溶媒量の20重量
%以内、より好ましくは15重量%以内でなら含まれて
もさし支えない。
Since the resin having both of the above structures has very good compatibility with the aromatic polyamide, the blended solution obtained by dissolving the aromatic polyamide and the soluble resin in the above solvent has excellent long-term storage stability. In addition, it is more preferred because a film with excellent mechanical properties and transparency can be obtained. Examples include polycarbonate and polyarylate, with polycarbonate being more preferred from the economic point of view. The basic skeleton Z may have a substituent, such as a halogen group. Further, another resin may be added to the blend resin of the aromatic polyamide and the soluble resin, preferably at most 40% by weight, more preferably at most 30% by weight, even more preferably at most 20% by weight of the soluble resin. For example, when polycarbonate is used as the soluble resin, mechanical properties are improved by adding polyethersulfone, polysulfone, or a third aromatic polyamide. In addition to the above solvents, good solvents for soluble resins such as dioxane, tetrahydrofuran, methylene chloride, chloroform, 1,1
, 2-trichloroethane, tricrene, acetone, toluene, etc., within a range that does not prevent the soluble resin and the aromatic polyamide from being compatible, preferably within 20% by weight of the total solvent amount, more preferably within 15% by weight. If so, it doesn't hurt to include it.

【0025】上述したブレンド溶液を、溶液製膜するこ
とでブレンド樹脂からなるフィルムが得られる。
A film made of the blend resin can be obtained by solution casting the blend solution described above.

【0026】本発明のフィルム中の芳香族ポリアミド量
は、フィルム中の全ブレンド樹脂の5重量%以上90重
量%以下の範囲であることが必要である。芳香族ポリア
ミド量がこの範囲より少ない場合、もはや耐熱性向上の
効果は見られず、高温での機械特性が極端に悪化する。 好ましくは10重量%以上、より好ましくは20重量%
以上である。また、芳香族ポリアミド量がこの範囲より
多い場合は経済的メリットがなくなりる。好ましくは7
0重量%以下、より好ましくは50重量%以下である。
The amount of aromatic polyamide in the film of the present invention must be in the range of 5% to 90% by weight of the total blended resin in the film. When the amount of aromatic polyamide is less than this range, the effect of improving heat resistance is no longer observed, and the mechanical properties at high temperatures are extremely deteriorated. Preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight
That's all. Furthermore, if the amount of aromatic polyamide is greater than this range, there will be no economic advantage. Preferably 7
It is 0% by weight or less, more preferably 50% by weight or less.

【0027】本発明のフィルムの少なくとも一方向の荷
重下(0.5kg/mm2 )の250℃の熱寸法変化
率は50%以下である。50%より大きいと、高温で張
力がかかるような場合での使用に耐えない。好ましくは
40%以下、より好ましくは20%以下である。
The thermal dimensional change rate of the film of the present invention at 250° C. under a load (0.5 kg/mm 2 ) in at least one direction is 50% or less. If it is greater than 50%, it cannot withstand use in situations where tension is applied at high temperatures. Preferably it is 40% or less, more preferably 20% or less.

【0028】本発明において得られるフィルムの少なく
とも一方向の250℃の熱収縮率は20%以下が好まし
い。より好ましくは10%以下、さらに好ましくは5%
以下である。20%より大きくなると、寸法安定性が悪
く、例えば感熱転写用途、フレキシブル回路基板、コン
デンサー用途の分野では実用に耐えない。また、少なく
とも一方向の200℃での熱収縮率は10%以下が好ま
しく、5%以下がより好ましい。さらに、少なくとも一
方向の300℃の熱収縮率は30%以下が好ましく、よ
り好ましくは20%以下、さらに好ましくは15%以下
である。また、少なくとも一方向の熱膨張係数は、5×
10−5/℃以下が好ましく、4×10−5/℃以下が
より好ましい。
[0028] The heat shrinkage rate of the film obtained in the present invention at 250°C in at least one direction is preferably 20% or less. More preferably 10% or less, even more preferably 5%
It is as follows. If it exceeds 20%, the dimensional stability will be poor and it will not be practical in the fields of thermal transfer applications, flexible circuit boards, and capacitor applications, for example. Further, the heat shrinkage rate at 200° C. in at least one direction is preferably 10% or less, more preferably 5% or less. Further, the heat shrinkage rate at 300° C. in at least one direction is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, even more preferably 15% or less. Further, the coefficient of thermal expansion in at least one direction is 5×
It is preferably 10-5/°C or less, more preferably 4×10-5/°C or less.

【0029】フィルムの吸湿率は5%以下が好ましく、
より好ましくは3%以下、さらに好ましくは1%以下で
ある。5%より大きいと吸湿による寸法変化が大きくな
り実用に耐えない。また、少なくとも一方向の湿度膨張
係数は、5×10−5/%RH以下が好ましく、4×1
0−5/%RH以下がより好ましい。3×10−5/%
RH以下がさらに好ましい。
[0029] The moisture absorption rate of the film is preferably 5% or less,
More preferably it is 3% or less, and still more preferably 1% or less. If it is more than 5%, the dimensional change due to moisture absorption becomes large and it is not suitable for practical use. Further, the humidity expansion coefficient in at least one direction is preferably 5 x 10-5/%RH or less, and 4 x 1
0-5/%RH or less is more preferable. 3×10-5/%
RH or less is more preferable.

【0030】また、得られるフィルムの少なくとも一方
向の破断伸度は10%以上が好ましい。より好ましくは
15%以上、さらに好ましくは20%以上である。10
%未満ではフィルムのハンドリング時や加工時にフィル
ム破れを起こし実用に耐えない。また、少なくとも一方
向の強度は5kg/mm2 以上が好ましく、より好ま
しくは7kg/mm2 以上、さらに好ましくは9kg
/mm2 以上である。少なくとも一方向のヤング率は
150kg/mm2 以上が好ましく、さらに好ましく
は200kg/mm2 以上である。さらに本発明のフ
ィルムの少なくとも一方向のF−5値(伸度5%の時の
強度)は4kg/mm2 以上が好ましく、6kg/m
m2 以上がより好ましい。
[0030] Furthermore, the elongation at break in at least one direction of the obtained film is preferably 10% or more. More preferably it is 15% or more, and still more preferably 20% or more. 10
If it is less than %, the film will break during handling or processing, making it unsuitable for practical use. Further, the strength in at least one direction is preferably 5 kg/mm2 or more, more preferably 7 kg/mm2 or more, and even more preferably 9 kg/mm2.
/mm2 or more. The Young's modulus in at least one direction is preferably 150 kg/mm 2 or more, more preferably 200 kg/mm 2 or more. Furthermore, the F-5 value (strength at 5% elongation) of the film of the present invention in at least one direction is preferably 4 kg/mm2 or more, and 6 kg/m2.
m2 or more is more preferable.

【0031】本発明のフィルムの厚みは0.2〜200
μmが好ましく、1〜50μmがより好ましい。さらに
好ましくは2〜40μmである。また、本フィルムの密
度は1.0〜1.5g/cm3 が好ましく、1.1〜
1.4g/cm3 がより好ましい。
[0031] The thickness of the film of the present invention is 0.2 to 200
The thickness is preferably μm, and more preferably 1 to 50 μm. More preferably, it is 2 to 40 μm. In addition, the density of this film is preferably 1.0 to 1.5 g/cm3, and preferably 1.1 to 1.5 g/cm3.
1.4 g/cm3 is more preferable.

【0032】フィルムの、誘電率(1kHz)は,2〜
7が好ましく、3〜7がより好ましい。また、誘電正接
(1kHz)は、3%以下が好ましい。より好ましくは
、2%以下である。
The dielectric constant (1kHz) of the film is 2~
7 is preferable, and 3 to 7 are more preferable. Further, the dielectric loss tangent (1 kHz) is preferably 3% or less. More preferably, it is 2% or less.

【0033】本発明で得られるフィルムの光線透過率は
、50%以上が好ましい。より好ましくは、60%以上
である。
[0033] The light transmittance of the film obtained by the present invention is preferably 50% or more. More preferably, it is 60% or more.

【0034】さらにフィルムの平均表面粗さ(Ra)は
、10〜500nmが好ましく、より好ましくは30〜
300nmである。この範囲であると加工時の作業性や
使用時の走行性が一層よくなり特に望ましい。なおこの
表面粗さを達成するには、無機、有機の微粒子を添加す
ることが有効である。
Furthermore, the average surface roughness (Ra) of the film is preferably 10 to 500 nm, more preferably 30 to 500 nm.
It is 300 nm. This range is particularly desirable since workability during processing and runnability during use will be even better. Note that in order to achieve this surface roughness, it is effective to add inorganic or organic fine particles.

【0035】また、本発明のフィルムの少なくとも一方
向の端裂抵抗は、0.05kg/μm以上が好ましい。 これ未満であるとフィルムのハンドリング時や加工時に
フィルム破れを起こし実用に耐えない。より好ましくは
、0.1kg/μm以上、さらに好ましくは、0.3k
g/μm以上である。
[0035] Furthermore, the end tear resistance of the film of the present invention in at least one direction is preferably 0.05 kg/μm or more. If it is less than this, the film will break during handling or processing, making it unsuitable for practical use. More preferably 0.1 kg/μm or more, even more preferably 0.3 k
g/μm or more.

【0036】次に、本発明の耐熱フィルム製造方法につ
いて説明するが、これに限定されるものではない。
Next, the method for producing a heat-resistant film of the present invention will be explained, but the method is not limited thereto.

【0037】本発明で用いる芳香族ポリアミドはジイソ
シアネートとジカルボン酸、あるいはジ酸クロリドとジ
アミンとの反応で得られる。ジ酸クロリドとジアミンと
からの場合は、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチル
アセトアミドなどのアミド系極性溶媒中で、溶液重合し
たり、水系媒体を使用する界面重合などで合成される。 ジ酸クロリドとジアミンを低水分のアミド系極性溶媒中
で低温下(通常50℃以下、好ましくは30℃以下)で
1〜2時間撹拌し重合される。モノマの添加順序は特に
限定されるものではない。重合後発生した塩酸を無機ア
ルカリあるいは有機系の中和剤で中和する。また、ジイ
ソシアネートとジカルボン酸との反応は、アミド系極性
溶媒中、触媒の存在下、通常は高温下(50〜200℃
)で行なわれる。これらのポリマ溶液はそのままブレン
ド用原液にしてもよく、またポリマーを一度単離してか
ら溶媒に再溶解してブレンド用原液を調製してもよい。 ブレンド用原液には、溶解助剤として無機塩、例えば塩
化カルシウム、塩化マグネシウムなどを添加する場合も
ある。
The aromatic polyamide used in the present invention can be obtained by reacting a diisocyanate with a dicarboxylic acid, or a diacid chloride with a diamine. In the case of diacid chloride and diamine, it is synthesized by solution polymerization in an amide polar solvent such as N-methyl-2-pyrrolidone or dimethylacetamide, or by interfacial polymerization using an aqueous medium. The diacid chloride and the diamine are stirred in a low-moisture amide polar solvent at a low temperature (usually 50°C or lower, preferably 30°C or lower) for 1 to 2 hours to polymerize. The order of adding the monomers is not particularly limited. Hydrochloric acid generated after polymerization is neutralized with an inorganic alkali or organic neutralizing agent. Furthermore, the reaction between diisocyanate and dicarboxylic acid is carried out in an amide polar solvent in the presence of a catalyst, usually at a high temperature (50 to 200°C).
). These polymer solutions may be used as they are as a stock solution for blending, or the polymer may be isolated once and then redissolved in a solvent to prepare a stock solution for blending. Inorganic salts such as calcium chloride, magnesium chloride, etc. may be added to the blending stock solution as a solubilizing agent.

【0038】耐熱性フィルムの機械的特性を向上させる
ためにはポリマの分子量を一定以上にしておく必要があ
り、この尺度としては固有粘度(ηinh)をもって表
わすのが便利である。すなわち、固有粘度が、N−メチ
ル−2−ピロリドンに溶解する場合は、好ましくは1.
0〜10.0、より好ましくは1.5〜7.0である。
[0038] In order to improve the mechanical properties of a heat-resistant film, it is necessary to keep the molecular weight of the polymer above a certain level, and this is conveniently expressed in terms of intrinsic viscosity (ηinh). That is, when the intrinsic viscosity is dissolved in N-methyl-2-pyrrolidone, preferably 1.
It is 0 to 10.0, more preferably 1.5 to 7.0.

【0039】芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブレン
ドの方法としては、芳香族ポリアミドと可溶性樹脂のそ
れぞれの原液を別個に調製しその原液同士をブレンドす
る方法、可溶性樹脂を溶解したアミド系極性溶媒溶液を
調整し、その中で芳香族ポリアミドの重合を行ない、重
合とブレンドを同時に行なう方法などが挙げられる。こ
うして得られた製膜原液から得られる見かけの固有粘度
は0.1〜8.0が好ましく、より好ましくは0.2〜
5.0である。溶液粘度は、自由に選べるが流延性の点
から5〜50000ポイズ/30℃が望ましく、10〜
20000ポイズが更に望ましい。樹脂濃度は1〜50
%が望ましく、5〜30%が更に望ましい。
Methods for blending the aromatic polyamide and the soluble resin include a method in which stock solutions of the aromatic polyamide and the soluble resin are prepared separately and blended together, and a method in which the stock solutions of the aromatic polyamide and the soluble resin are prepared separately, and a method in which the stock solutions of the aromatic polyamide and the soluble resin are blended together. Examples include a method in which aromatic polyamide is polymerized in the polymerized polymer, and polymerization and blending are performed simultaneously. The apparent intrinsic viscosity obtained from the film-forming stock solution thus obtained is preferably 0.1 to 8.0, more preferably 0.2 to 8.0.
It is 5.0. The solution viscosity can be freely selected, but from the viewpoint of flowability, it is preferably 5 to 50,000 poise/30°C, and 10 to
20,000 poise is more desirable. Resin concentration is 1-50
%, more preferably 5 to 30%.

【0040】この製膜原液は以下の方法でフィルムにす
る。
[0040] This film-forming stock solution is made into a film by the following method.

【0041】まず、乾湿式法だが、ドクターナイフ、口
金などによりフィルム状に支持体上に流延され、通常5
0〜250℃の範囲、より好ましくは60〜200℃で
一定時間乾燥される。50℃未満では溶媒の蒸発速度が
遅く、250℃を越えると溶媒の突沸が起こりフィルム
の品質の低下をきたす。乾燥されたフィルムは支持体よ
り剥離され、水系の媒体中へ浸漬または媒体を噴霧せら
れて無機塩および溶媒が抽出される。水系の媒体とは、
水を主成分とする液体であり、ポリマに対しては貧溶媒
であるが、無機塩やアミド系極性溶媒には親和性のある
液体のことである。例えば、水単独、水と原液を構成し
ているアミド系極性溶媒との混合物、水とエチレングリ
コール、アセトン、低級アルコールとの混合物が挙げら
れるが、水の比率として少なくとも50%以上が脱塩・
脱溶媒速度や溶媒回収を考慮すると望ましい。また、湿
式浴の温度は通常5〜90℃が適当である。該湿式工程
では溶解助剤となる無機塩とアミド系極性溶媒が抽出さ
れる訳であるが、該湿式工程終了直後のフィルム中で無
機塩残存量はポリマ当り3%以下、より好ましくは1%
以下がよい。アミド系極性溶媒の残存率は特に規定され
ないが溶媒回収を考慮すれば出来るだけ抽出した方が有
利である。該湿式工程中のフィルムは水系媒体で膨潤し
た状態にあるため湿式温度範囲での延伸が行いやすく最
終フィルムの機械特性向上のため、一般的に工程中で1
.01〜5.0倍に縦方向に延伸される。湿式工程を終
了したフィルムは、水系媒体の蒸発、アミド系極性溶媒
の蒸発のため加熱が行われる。この加熱工程では最終的
に100℃以上、好ましくは200℃以上500℃以下
の処理が行なわれる。また、該加熱工程では横方向に1
.01〜5.0倍延伸される。また必要に応じてリラッ
クスなども行なわれても何ら問題はない。
First, in the dry-wet method, a film is cast onto a support using a doctor knife, a nozzle, etc.
Drying is carried out at a temperature in the range of 0 to 250°C, more preferably in the range of 60 to 200°C for a certain period of time. If it is less than 50°C, the evaporation rate of the solvent is slow, and if it exceeds 250°C, bumping of the solvent occurs, resulting in a decrease in film quality. The dried film is peeled off from the support and immersed in or sprayed with an aqueous medium to extract the inorganic salt and solvent. What is an aqueous medium?
A liquid whose main component is water, which is a poor solvent for polymers, but has an affinity for inorganic salts and amide polar solvents. Examples include water alone, a mixture of water and an amide polar solvent constituting the stock solution, and a mixture of water and ethylene glycol, acetone, or lower alcohol, but at least 50% of the water is desalted or
This is desirable in consideration of desolvation speed and solvent recovery. Further, the temperature of the wet bath is usually 5 to 90°C. In the wet process, inorganic salts and amide polar solvents that serve as solubilizing agents are extracted, and the amount of inorganic salts remaining in the film immediately after the wet process is 3% or less, more preferably 1% based on the polymer.
The following is good. Although the residual rate of the amide polar solvent is not particularly defined, it is advantageous to extract as much as possible in consideration of solvent recovery. During the wet process, the film is swollen with an aqueous medium, making it easy to stretch in the wet temperature range.
.. 01 to 5.0 times in the longitudinal direction. After the wet process, the film is heated to evaporate the aqueous medium and amide polar solvent. In this heating step, the final temperature is 100°C or higher, preferably 200°C or higher and 500°C or lower. In addition, in the heating process, 1
.. 01 to 5.0 times. There is no problem in relaxing if necessary.

【0042】次に、湿式法は、口金から直接、あるいは
一旦支持体上にフィルム状に成形して、水系(メタノー
ル、エタノールなどのアルコールを含んでいてもアルコ
ールだけでもよい)の媒体中に導入する方法である。多
量のアミド系極性溶媒などを含むため、水系の媒体中で
急激な無機塩やアミド系極性溶媒の置換が行われ最終フ
ィルムにボイドの発生あるいはフィルムの面荒れが起こ
りやすくなるために、前述の水系の媒体中に必要に応じ
て置換速度を制御するため無機塩、例えば、塩化カルシ
ウム、塩化リチウム、臭化リチウムなどが含有されたり
、水槽を多段にして、水とアミド系極性溶媒・無機塩の
混合物などに濃度勾配を持たせたりする。乾湿式法同様
に本工程で縦方向に1.01〜5倍延伸してもよい。 湿式工程を終了したフィルムは乾湿式法と同様に加熱(
200〜500℃)と横方向の延伸(1.01〜5.0
倍)が行われる。
Next, in the wet method, the material is introduced into an aqueous medium (containing alcohol such as methanol or ethanol, or only alcohol) directly from the die or once formed into a film on a support. This is the way to do it. Because it contains a large amount of amide-based polar solvents, inorganic salts and amide-based polar solvents are rapidly replaced in the aqueous medium, which tends to cause voids or surface roughness in the final film. Inorganic salts such as calcium chloride, lithium chloride, lithium bromide, etc. may be contained in the aqueous medium to control the substitution rate as necessary, or water and amide polar solvents/inorganic salts may be added to the water tank in multiple stages. to create a concentration gradient in a mixture of Similar to the wet-dry method, the film may be stretched 1.01 to 5 times in the longitudinal direction in this step. After the wet process, the film is heated (
200-500℃) and transverse stretching (1.01-5.0
times) will be carried out.

【0043】次に、乾式法である。この方法は湿式法と
は逆に抽出工程を省いたプロセスであり、有機系溶媒を
使用し製膜原液中に溶解助剤である無機塩を含まないも
のに限って可能となる方法である。ドクターナイフや口
金より支持体上へ流延された原液は乾湿式法同様に乾燥
されて支持体から剥離され、支持体と加熱工程の間で縦
方向に1.01〜5.0倍延伸される。乾式工程を終了
したフィルムは乾湿式法と同様な加熱と延伸が行われる
。以上のようにして本発明の耐熱フィルムを得ることが
できる。
Next is the dry method. This method is the opposite of the wet method, in that it omits the extraction step, and is only possible when an organic solvent is used and the membrane forming stock solution does not contain an inorganic salt as a solubilizing agent. The stock solution cast onto the support using a doctor knife or die is dried and peeled off from the support in the same manner as the dry-wet method, and stretched 1.01 to 5.0 times in the longitudinal direction between the support and the heating process. Ru. After completing the dry process, the film is heated and stretched in the same manner as in the wet-dry process. The heat-resistant film of the present invention can be obtained in the manner described above.

【0044】かくして得られた本発明の耐熱フィルムの
用途は、感熱転写用リボン、フレキシブルプリント基板
、コンデンサー、電気絶縁材料用途などがある。
Applications of the heat-resistant film of the present invention thus obtained include ribbons for thermal transfer, flexible printed circuit boards, capacitors, and electrical insulation materials.

【0045】[0045]

【実施例】次に実施例に基づいて本発明の実施態様を説
明するが、これに限定されるものではない。なお、実施
例中の特性の測定法は以下の通りである。
EXAMPLES Next, embodiments of the present invention will be described based on examples, but the invention is not limited thereto. In addition, the method of measuring the characteristics in the examples is as follows.

【0046】(1)固有粘度(ηinh)下式により、
N−メチル−2−ピロリドンを溶媒として0.5g/1
00ml、30℃の条件下にウベローデ型粘度計を用い
て測定した。
(1) Intrinsic viscosity (ηinh) According to the following formula,
0.5g/1 using N-methyl-2-pyrrolidone as a solvent
Measurement was performed using an Ubbelohde viscometer under conditions of 00ml and 30°C.

【0047】[0047]

【式1】[Formula 1]

【0048】[0048]

【0049】(2)溶液粘度(ポイズ)回転式B型粘度
計(東京計器)を用い、温度30℃で測定した。
(2) Solution viscosity (poise) Measured at a temperature of 30° C. using a rotating B-type viscometer (Tokyo Keiki).

【0050】(3)破断伸度、強度、ヤング率、F−5
値 TRS型引張り試験器で幅10mm、長さ50mm、引
張り速度300mm/分の条件で測定した。
(3) Elongation at break, strength, Young's modulus, F-5
Measurement was performed using a TRS type tensile tester under conditions of width 10 mm, length 50 mm, and tensile speed 300 mm/min.

【0051】(4)熱収縮率(%) 無荷重で所定の温度に設定したオーブン中で10分間加
熱後、室温にもどして寸法を測り、下式の計算式より算
出した。
(4) Thermal shrinkage rate (%) After heating for 10 minutes in an oven set at a predetermined temperature without any load, the product was returned to room temperature, the dimensions were measured, and the calculation was calculated using the following formula.

【0052】[0052]

【式2】[Formula 2]

【0053】[0053]

【0054】(5)吸湿率(%) 150℃、60分絶乾後と、75%RH中に48時間放
置後のフィルム重量を測定し、下記の計算式により算出
した。
(5) Moisture absorption rate (%) The weight of the film was measured after being completely dried at 150° C. for 60 minutes and after being left in 75% RH for 48 hours, and calculated using the following formula.

【0055】吸湿率 =(75%RH、48時間放置後のフィルム重量−絶乾
時のフィルム重量)/(絶乾時のフィルム重量)×10
0  (%) (6)熱膨張係数(α) 熱収縮や吸脱湿の影響を除くためフィルムを一旦150
℃まで加熱し、徐々に冷却していった時の80〜150
℃の領域における寸法変化から計算した。寸法変化量は
、熱機械分析計(TMA)によって測定した。
Moisture absorption rate = (75% RH, weight of film after standing for 48 hours - weight of film when completely dry) / (weight of film when completely dry) x 10
0 (%) (6) Coefficient of thermal expansion (α) To eliminate the effects of heat shrinkage and moisture absorption and desorption, the film was heated to 150%
80-150 when heated to ℃ and gradually cooled
Calculated from dimensional changes in the °C range. The amount of dimensional change was measured by a thermomechanical analyzer (TMA).

【0056】(7)湿度膨張係数(β)恒温恒湿槽中で
、脱湿時(約30%RH)と加湿時(約80%RH)で
それぞれ平衡になった時のフィルム長を読み取りその差
(伸び量)を使い下式より求めた。
(7) Humidity expansion coefficient (β) In a constant temperature and humidity chamber, read the film length when equilibrium is reached during dehumidification (approximately 30% RH) and humidification (approximately 80% RH). Using the difference (amount of elongation), it was calculated from the formula below.

【0057】[0057]

【式3】[Formula 3]

【0058】[0058]

【0059】(8)荷重下の熱寸法変化率荷重0.5k
g/mm2 を掛けて温度250℃で10分間、オーブ
ン中に入れ、室温にもどして寸法を測り、下式の計算式
より算出した。
(8) Thermal dimensional change rate under load Load 0.5k
g/mm2, placed in an oven at 250°C for 10 minutes, returned to room temperature, measured dimensions, and calculated using the formula below.

【0060】[0060]

【式4】[Formula 4]

【0061】[0061]

【0062】(9)誘電率、tanδ ASTM−D−150−81に準ずる。(9) Dielectric constant, tanδ According to ASTM-D-150-81.

【0063】(10)光線透過率 ASTM  D−1003に準拠して測定した。(10) Light transmittance Measured in accordance with ASTM D-1003.

【0064】(11)平均表面粗さ(Ra)小坂研究所
製の高精度薄膜段差測定器ET−10を用いて測定した
。条件は下記の通りであり、20回の平均値をもって値
とした。
(11) Average surface roughness (Ra) Measured using a high precision thin film step measuring instrument ET-10 manufactured by Kosaka Institute. The conditions were as follows, and the average value of 20 times was taken as the value.

【0065】 ・触針先端半径:0.5μm ・触針荷重    :5mg ・測定長      :0.5mm ・カットオフ値:0.08mm なお、Raの定義は、例えば、奈良治郎著「表面粗さの
測定・評価法」(総合技術センター、1983)に示さ
れているものである。
・Stylus tip radius: 0.5 μm ・Stylus load: 5 mg ・Measurement length: 0.5 mm ・Cutoff value: 0.08 mm ``Measurement and Evaluation Methods'' (Sogo Technological Center, 1983).

【0066】(12)端裂抵抗(kg/μm)JIS−
C−2318  に準拠して測定し、厚み1μmあたり
に換算した。
(12) End tear resistance (kg/μm) JIS-
It was measured in accordance with C-2318 and converted into a value per 1 μm of thickness.

【0067】なお、以下の実施例で用いた部は全て重量
部を表わす。
[0067] All parts used in the following examples represent parts by weight.

【0068】実施例1 95mol%の2−クロロパラフェニレンジアミン(以
下CPAと略す)と5mol%のビス(3−アミノプロ
ピル)テトラメチルジシロキサン(以下SiDAと略す
)を、100mol%の2−クロロテレフタル酸クロリ
ド(以下CTPCと略す)とN−メチル−2−ピロリド
ン(以下NMPと略す)中で20℃以下で反応させ、芳
香族ポリアミドのNMP溶液を得た。この溶液を多量の
水に投入し、再沈・乾燥して粉体状のポリマを得た。 このポリマ30部をNMP200部に溶解させ、この中
に別に調整しておいたポリカーボネート30部を含むN
MP溶液200部を加えてブレンド溶液を得た。固有粘
度は1.9であり溶液粘度は1500ポイズであった。
Example 1 95 mol% of 2-chloroparaphenylenediamine (hereinafter abbreviated as CPA) and 5 mol% of bis(3-aminopropyl)tetramethyldisiloxane (hereinafter abbreviated as SiDA) were mixed with 100 mol% of 2-chloroparaphenylenediamine (hereinafter abbreviated as CPA). Terephthalic acid chloride (hereinafter abbreviated as CTPC) and N-methyl-2-pyrrolidone (hereinafter abbreviated as NMP) were reacted at 20°C or lower to obtain an NMP solution of aromatic polyamide. This solution was poured into a large amount of water, reprecipitated and dried to obtain a powdery polymer. 30 parts of this polymer was dissolved in 200 parts of NMP, and NMP containing 30 parts of polycarbonate, which had been prepared separately, was dissolved in 200 parts of NMP.
200 parts of MP solution was added to obtain a blend solution. The intrinsic viscosity was 1.9 and the solution viscosity was 1500 poise.

【0069】この製膜用原液を、アプリケータを用いて
ガラス板上に均一に流延し、120℃のオーブン中で8
分間乾燥後、ガラス板より剥離して流水中に10分間浸
漬した後、1分間300℃で加熱して厚み19μmの最
終フィルムを得た。得られたフィルムの破断伸度は30
%、引張り強度23kg/mm2 、ヤング率750k
g/mm2 、F−5値17kg/mm2 、端裂抵抗
は0.85kg/μmであり、250℃、10分間の熱
収縮率は0.5%、250℃の荷重下(0.5kg/m
m2 )の熱寸法変化は1.0%、熱膨張係数(α)は
1.7×10−5/℃、吸湿率は1.0%、平均表面粗
さは80nmと強靭で湿度特性、耐熱性、作業性に優れ
たフィルムであった。
[0069] This film-forming stock solution was uniformly cast onto a glass plate using an applicator, and heated in an oven at 120°C for 8 hours.
After drying for a minute, it was peeled off from the glass plate, immersed in running water for 10 minutes, and then heated at 300° C. for 1 minute to obtain a final film with a thickness of 19 μm. The elongation at break of the obtained film was 30
%, tensile strength 23kg/mm2, Young's modulus 750k
g/mm2, F-5 value 17kg/mm2, end tear resistance 0.85kg/μm, heat shrinkage rate at 250℃ for 10 minutes is 0.5%, under load at 250℃ (0.5kg/mm
m2) has a thermal dimensional change of 1.0%, a coefficient of thermal expansion (α) of 1.7 x 10-5/°C, a moisture absorption rate of 1.0%, and an average surface roughness of 80 nm, making it tough, moisture-resistant, and heat-resistant. The film had excellent properties and workability.

【0070】実施例2 CPA80mol%、4,4’−ジアミノジフェニルエ
ーテル(以下DAEと略す)10mol%、SiDA1
0mol%とCTPC50mol%,テレフタル酸クロ
リド(以下TPCと略す)50mol%との反応後単離
して芳香族ポリアミドを得た。この芳香族ポリアミド3
0部を300部のNMPに溶かした溶液と、ポリカーボ
ネート70部を含むNMP溶液400部をブレンドし、
このブレンド溶液を、ガラス板上にキャストし150℃
で4分間乾燥後さらに30秒間230℃で乾燥した。こ
のフィルムをストレッチャーを使い250℃で縦横とも
1.2倍延伸した後、さらに280℃で加熱した。得ら
れたフィルムは、表1に示すように優れた特性を有して
いた。
Example 2 CPA 80 mol%, 4,4'-diaminodiphenyl ether (hereinafter abbreviated as DAE) 10 mol%, SiDA1
After reaction of 0 mol % with 50 mol % of CTPC and 50 mol % of terephthalic acid chloride (hereinafter abbreviated as TPC), the mixture was isolated to obtain an aromatic polyamide. This aromatic polyamide 3
Blend a solution of 0 parts dissolved in 300 parts of NMP and 400 parts of an NMP solution containing 70 parts of polycarbonate,
This blend solution was cast on a glass plate and heated to 150°C.
After drying for 4 minutes at 230°C for an additional 30 seconds. This film was stretched 1.2 times in both length and width at 250°C using a stretcher, and then further heated at 280°C. The obtained film had excellent properties as shown in Table 1.

【0071】実施例3 CPA60mol%,DAE30mol%,SiDA1
0mol%とCTPC100mol%から芳香族ポリア
ミドを得た。反応後単離した芳香族ポリアミド30部、
ポリエーテルスルホン70部をブレンドしたNMP溶液
を、アプリケータを用いてガラス板上に均一に流延し、
流水中に浸漬すると自然にガラス板から剥離してくる。 さらに10分間浸漬し脱溶媒した後、1分間300℃で
加熱して厚み10μmの最終フィルムを得た。表1に示
すような非常に特性の優れたフィルムであった。
Example 3 CPA60mol%, DAE30mol%, SiDA1
An aromatic polyamide was obtained from 0 mol% and 100 mol% of CTPC. 30 parts of aromatic polyamide isolated after the reaction,
An NMP solution blended with 70 parts of polyether sulfone was uniformly cast onto a glass plate using an applicator.
When immersed in running water, it will naturally peel off from the glass plate. After further immersing for 10 minutes to remove the solvent, the film was heated at 300° C. for 1 minute to obtain a final film with a thickness of 10 μm. The film had very excellent properties as shown in Table 1.

【0072】実施例4 実施例1の芳香族ポリアミド40部をポリアリレート6
0部とブレンドし、実施例1と同じ方法でフィルムを作
製した。表1に示すような非常に特性の優れたフィルム
であった。
Example 4 40 parts of the aromatic polyamide of Example 1 was mixed with polyarylate 6
A film was prepared in the same manner as in Example 1. The film had very excellent properties as shown in Table 1.

【0073】実施例5 CPA60mol%、4,4’− ジアミノジフェニル
スルホン30mol%、ビス(4−アミノフェニル)テ
トラメチルジシロキサン10mol%とTPC100m
ol%から得られた芳香族ポリアミド70部と、ポリカ
ーボネート30部からなるブレンド溶液からフィルムを
作製した。なお、縦横とも1.2倍の延伸を行ない、表
1に示すように特性の非常に優れたフィルムを得た。
Example 5 CPA 60 mol%, 4,4'-diaminodiphenylsulfone 30 mol%, bis(4-aminophenyl)tetramethyldisiloxane 10 mol% and TPC 100m
A film was produced from a blend solution consisting of 70 parts of aromatic polyamide obtained from OL% and 30 parts of polycarbonate. The film was stretched 1.2 times both in the length and width directions, and as shown in Table 1, a film with very excellent properties was obtained.

【0074】実施例6 実施例3でポリエーテルスルホンをポリカーボネートに
変える以外は全く同様な方法でフィルムを作製したとこ
ろ、表1に示すような非常に優れた特性を有するフィル
ムであった。
Example 6 A film was produced in exactly the same manner as in Example 3 except that polyether sulfone was replaced with polycarbonate. The film had very excellent properties as shown in Table 1.

【0075】比較例1 ポリカーボネートのNMP溶液をガラス板上に流延し、
120℃で6分乾燥後、210℃に加熱して得たポリカ
ーボネートのみからなるフィルムの特性は、表1に示す
ように熱特性が非常に悪いフィルムであった。
Comparative Example 1 An NMP solution of polycarbonate was cast onto a glass plate,
The properties of the film made only of polycarbonate obtained by drying at 120°C for 6 minutes and then heating to 210°C were very poor in thermal properties, as shown in Table 1.

【0076】比較例2 実施例3で、芳香族ポリアミドの量を1部に変えた以外
は同様な方法でフィルムを作製しようとしたが、300
℃では溶融しフィルムが得られなかった。そこで加熱温
度を210℃に変えてフィルムを得たが、表1に示した
ように熱特性の非常に悪いものであった。
Comparative Example 2 A film was prepared in the same manner as in Example 3 except that the amount of aromatic polyamide was changed to 1 part.
At ℃, it melted and no film was obtained. Therefore, a film was obtained by changing the heating temperature to 210°C, but as shown in Table 1, the thermal properties were very poor.

【0077】比較例3 実施例1と同様な方法で、4,4’− ジアミノジフェ
ニルメタン100mol%とTPC100mol%の反
応から得られる芳香族ポリアミド95部と、ポリカーボ
ネート5部からなるフィルムを作製したが、湿度特性の
悪いフィルムであった。
Comparative Example 3 A film consisting of 95 parts of aromatic polyamide obtained from the reaction of 100 mol% of 4,4'-diaminodiphenylmethane and 100 mol% of TPC and 5 parts of polycarbonate was prepared in the same manner as in Example 1. The film had poor humidity characteristics.

【0078】以上のように、本発明の範囲外のフィルム
は、熱特性、湿度特性のいずれかが劣るものであった。
As described above, films outside the scope of the present invention were inferior in either thermal properties or humidity properties.

【0079】実施例7 パラフェニレンジアミン50mol%,DAE20mo
l%,SiDA30mol%,TPC60mol%,イ
ソフタル酸ジクロリド40mol%から得た芳香族ポリ
アミド30部とポリカ−ボネ−ト50部、ポリエ−テル
スルホン20部をブレンドして製膜原液を調製した。こ
のブレンド原液を幅450mm、スリット0.2mmの
口金から連続的に水中に押し出し、水中で縦方向に1.
05倍延伸し、300℃で横方向に1.2倍延伸しなが
ら長尺のフィルムを得た。得られたフィルムの機械特性
は、破断伸度35%、引張り強度15kg/mm2 、
ヤング率420kg/mm2 、端裂抵抗は0.66k
g/μmであり、250℃、10分間の熱収縮率は0.
4%、250℃の荷重下(0.5kg/mm2 )の熱
寸法変化は15%、吸湿率は0.4%、湿度膨張係数(
β)は2.1×10−5/%RHと強靭で湿度特性、耐
熱性に優れたフィルムであった。また、εは3.6、t
anδは0.5%と電気特性にも優れ、光線透過率は7
5%で光学特性も優れていた。さらに、表面の平均突起
高さは120nmと平滑性のよいフィルムであった。
Example 7 Paraphenylene diamine 50 mol%, DAE 20 mo
A membrane-forming stock solution was prepared by blending 30 parts of an aromatic polyamide obtained from 1% SiDA, 30 mol% SiDA, 60 mol% TPC, and 40 mol% isophthalic acid dichloride, 50 parts polycarbonate, and 20 parts polyethersulfone. This blended stock solution was continuously extruded into water through a nozzle with a width of 450 mm and a slit of 0.2 mm, and vertically 1.
A long film was obtained by stretching 1.2 times in the transverse direction at 300°C. The mechanical properties of the obtained film include: elongation at break of 35%, tensile strength of 15 kg/mm2,
Young's modulus 420kg/mm2, end tear resistance 0.66k
g/μm, and the heat shrinkage rate at 250°C for 10 minutes is 0.
4%, thermal dimensional change under load (0.5 kg/mm2) at 250°C is 15%, moisture absorption rate is 0.4%, humidity expansion coefficient (
β) was 2.1×10 −5 /%RH, which was a tough film with excellent humidity characteristics and heat resistance. Also, ε is 3.6, t
It has excellent electrical properties with an δ of 0.5% and a light transmittance of 7.
At 5%, the optical properties were also excellent. Furthermore, the average height of protrusions on the surface was 120 nm, and the film had good smoothness.

【0080】実施例8 CPA97mol%、ビス(4−アミノフェニル)ジメ
チルゲルマニウム3mol%、CTPC100mol%
から得られた芳香族ポリアミド30部とポリカーボネー
ト70部からなるブレンド溶液を実施例3の方法で製膜
したところ、優れた特性のフィルムが得られた。
Example 8 CPA 97 mol%, bis(4-aminophenyl)dimethylgermanium 3 mol%, CTPC 100 mol%
When a blend solution consisting of 30 parts of the aromatic polyamide obtained from the above and 70 parts of polycarbonate was formed into a film by the method of Example 3, a film with excellent properties was obtained.

【0081】実施例9 実施例1でSiDAをビス(4−アミノフェニル)ジメ
チルスズに変える以外は全く同じ方法でフィルムを作製
したところ、表1に示すような特性のフィルムが得られ
た。
Example 9 A film was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that SiDA was changed to bis(4-aminophenyl)dimethyltin, and a film having the characteristics shown in Table 1 was obtained.

【0082】[0082]

【表1】[Table 1]

【0083】[0083]

【発明の効果】本発明で得られる芳香族ポリアミドと可
溶性樹脂とのブレンド樹脂からなるフィルムは、可溶性
樹脂の軟化流動点以上の温度でも流動せず、高温での熱
収縮率も小さく寸法安定性に優れている。また、可溶性
樹脂の単体フィルムに比較して機械特性、特に引張り伸
度や引張り強度が優れており、加工時の取り扱いが容易
となる。さらに、可溶性樹脂がフィルム中の全樹脂の5
0重量%を越えると、フィルムの湿度特性(特に吸湿性
)が改良される。
Effects of the invention: The film made of the blended resin of aromatic polyamide and soluble resin obtained by the present invention does not flow even at temperatures above the softening pour point of the soluble resin, and has low thermal shrinkage at high temperatures and is dimensionally stable. Excellent. In addition, it has better mechanical properties, especially tensile elongation and tensile strength, than a single film of soluble resin, and is easier to handle during processing. Furthermore, the soluble resin accounts for 5% of the total resin in the film.
When it exceeds 0% by weight, the humidity properties (especially hygroscopicity) of the film are improved.

【0084】また、本発明の芳香族ポリアミドと可溶性
樹脂は相溶性が非常によいためにブレンド溶液の長期安
定性に優れ、得られるフィルム中でもポリマが微分散し
やすく界面でのミクロボイドの発生が抑えられるため機
械特性や透明性に優れている。特に芳香族ポリアミドに
ケイ素、ゲルマニウム、スズなどが含まれるため無機粒
子等との親和性が向上するので、ポリマ中に無機粒子な
どを多量に添加しても機械特性の低下が小さい。またフ
ィルムにしたときの金属などとの接着性が良好である。
Furthermore, since the aromatic polyamide of the present invention and the soluble resin have very good compatibility, the blend solution has excellent long-term stability, and the polymer is easily finely dispersed in the obtained film, suppressing the generation of microvoids at the interface. It has excellent mechanical properties and transparency. In particular, since aromatic polyamide contains silicon, germanium, tin, etc., its affinity with inorganic particles and the like is improved, so even if a large amount of inorganic particles and the like are added to the polymer, there is little deterioration in mechanical properties. Also, when made into a film, it has good adhesion to metals and the like.

【0085】さらに、比較的安価な可溶性樹脂を使用し
ているためフィルムの製造コストを下げることが可能と
なる。
Furthermore, since a relatively inexpensive soluble resin is used, it is possible to reduce the manufacturing cost of the film.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  芳香族ポリアミドと可溶性樹脂とのブ
レンド樹脂からなるフィルムであって、該芳香族ポリア
ミドはブレンド樹脂の5重量%以上90重量%以下の範
囲で含有され、さらに該芳香族ポリアミドを構成する全
ジアミン残基の1モル%以上50モル%以下はケイ素,
ゲルマニウム,スズの中から選ばれた少なくとも1種以
上を含むジアミン残基で構成されることを特徴とする耐
熱性フィルム。
1. A film made of a blend resin of an aromatic polyamide and a soluble resin, wherein the aromatic polyamide is contained in an amount of 5% to 90% by weight of the blend resin, and the aromatic polyamide is further contained in a range of 5% to 90% by weight of the blended resin. 1 mol% or more and 50 mol% or less of all the constituting diamine residues are silicon,
A heat-resistant film comprising a diamine residue containing at least one selected from germanium and tin.
JP4516791A 1991-03-11 1991-03-11 Heat-resistant film Pending JPH04283246A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4516791A JPH04283246A (en) 1991-03-11 1991-03-11 Heat-resistant film

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4516791A JPH04283246A (en) 1991-03-11 1991-03-11 Heat-resistant film

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04283246A true JPH04283246A (en) 1992-10-08

Family

ID=12711711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4516791A Pending JPH04283246A (en) 1991-03-11 1991-03-11 Heat-resistant film

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04283246A (en)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
Hasegawa et al. Low-CTE polyimides derived from 2, 3, 6, 7-naphthalenetetracarboxylic dianhydride
EP0091778B1 (en) Improvement in or relating to aromatic polyamide film
WO2008044851A1 (en) Aromatic polyamide, polymerization method thereof, and optical film using the same
JPH08231719A (en) Poly(imide-amic ester),its production,polyimide,polyimide film and polyimide fiber made by using it and their production
KR20180090671A (en) Polyamideimide copolymers and polyamideimide film comprising the same
JP2936676B2 (en) Heat resistant film
CN110799580B (en) Polyamide-imide resin film
JP2897312B2 (en) Heat resistant film
JPH07165915A (en) Aromatic polyamide-imide-based film
JP2884665B2 (en) Aromatic polycarbonate / aromatic polyamide block copolymer composition
JP2979610B2 (en) Film production method
JPH04283246A (en) Heat-resistant film
JPH06136156A (en) Aromatic polyamide film and its production
JPH07149892A (en) Aromatic polyamide film
JP2718212B2 (en) Heat resistant film
JPH0226648B2 (en)
JP3025583B2 (en) Aromatic polyamide film and method for producing the same
JP2979706B2 (en) Laminate
Li et al. Optical anisotropy of flexible polyimide thin films
JPH04335063A (en) Filled aromatic polyamide composition
JPH03115438A (en) Heat-resistant film
JPS6339412B2 (en)
JP2611194B2 (en) Aromatic polyamide film
KR102067226B1 (en) Polyimide-based block copolymers and polyimide-based film comprising the same
JP2830376B2 (en) Heat resistant capacitors