JPH04282540A - Plane type image display device - Google Patents

Plane type image display device

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Publication number
JPH04282540A
JPH04282540A JP6925091A JP6925091A JPH04282540A JP H04282540 A JPH04282540 A JP H04282540A JP 6925091 A JP6925091 A JP 6925091A JP 6925091 A JP6925091 A JP 6925091A JP H04282540 A JPH04282540 A JP H04282540A
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JP
Japan
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electron source
electron
anode
electrons
image display
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP6925091A
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Japanese (ja)
Inventor
Rikio Ikeda
利喜夫 池田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Priority to GB9204704A priority patent/GB2254486B/en
Priority to DE4207003A priority patent/DE4207003A1/en
Priority to KR1019920003678A priority patent/KR920019214A/en
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To improve emitting intensity of light by increasing intensity of an electron beam to an anode from a cathode of a field emission type plane display. CONSTITUTION:An electron source, formed on a base body 11, is constituted of electron sources 12 to 15 of plurality of orders, and an electron from a cathode 23 is amplified by stages in each electron source 12 to 15. As a result, a strong electron beam can be irradiated to an anode 17, and emitting intensity of light of a light emitting material layer 35 can be increased.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は平面型画像表示装置に関
し、特に複数の電子源からの電子ビームによって発光体
が発光する平面型画像表示装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a flat image display device, and more particularly to a flat image display device in which a light emitter emits light by electron beams from a plurality of electron sources.

【0002】0002

【従来の技術】現在主流のテレビジョン受像機のCRT
に代わる画像表示装置として、平面型の画像表示装置が
検討されており、このような平面型の画像表示装置とし
ては、液晶表示装置(LCD)、エレクトロルミネセン
ス素子(ELD),プラズマ表示装置(PDP)等が挙
げられ、また、画面の明るさの点で、電界放出型の画像
表示装置も注目されている。ここで、その電界放出型の
画像表示装置について簡単に説明すると、半導体製造プ
ロセスを利用して基板上に形成された直径1.0ミクロ
ン以下のモリブデン等よりなる円錐状のカソードをエミ
ッション源とし、そのカソードの先端側に、板状とされ
各カソードに対応して孔が配されたゲート電極が形成さ
れる。ゲート電極はカソードの先端と離間され、両者の
間には高電圧が印加されて電界放出が発生し、上記カソ
ードから電子ビームが引き出される。そして、この電子
ビームをアノードの裏面に配された発光体(蛍光体)に
照射することで、所要の画面が表示される。このような
電界放出型の画像表示装置については、例えば、米国特
許第3665241号公報や特開平1−294336号
公報等にその記載がある。
[Prior Art] CRTs in currently mainstream television receivers
Planar image display devices are being considered as alternative image display devices, and examples of such planar image display devices include liquid crystal displays (LCDs), electroluminescent devices (ELDs), and plasma display devices ( In addition, field emission type image display devices are also attracting attention in terms of screen brightness. Here, to briefly explain the field emission type image display device, a conical cathode made of molybdenum or the like with a diameter of 1.0 microns or less formed on a substrate using a semiconductor manufacturing process is used as an emission source. A plate-shaped gate electrode is formed on the tip side of the cathode, and has a hole corresponding to each cathode. The gate electrode is separated from the tip of the cathode, and a high voltage is applied between the two to generate field emission, and an electron beam is extracted from the cathode. Then, by irradiating this electron beam onto a light emitting body (phosphor) arranged on the back surface of the anode, a desired screen is displayed. Such field emission type image display devices are described in, for example, US Pat. No. 3,665,241 and Japanese Patent Laid-Open No. 1-294336.

【0003】図2は従来の電界放出型の画像表示装置の
一例の断面である。基体101上に複数の尖頭形状のカ
ソード102が配列されて形成される。基体101上に
は絶縁膜103を介してゲート電極104が形成される
。ゲート電極104とカソード102間に印加される電
圧により電子が引き出される。このゲート電極104は
、カソード102上で孔104aを有し、カソード10
2からの電子ビームは孔104aを通過する。そして、
高電圧が印加され基体101に対向した面状のアノード
105に、その電子ビームは照射され、その裏面の発光
体層106に電子が到達して、その発光体層106が発
光する。
FIG. 2 is a cross-sectional view of an example of a conventional field emission type image display device. A plurality of pointed cathodes 102 are arranged and formed on a base 101 . A gate electrode 104 is formed on the base 101 with an insulating film 103 interposed therebetween. Electrons are extracted by the voltage applied between the gate electrode 104 and the cathode 102. This gate electrode 104 has a hole 104a on the cathode 102, and the gate electrode 104 has a hole 104a on the cathode 102.
The electron beam from 2 passes through the hole 104a. and,
A planar anode 105 facing the base 101 to which a high voltage is applied is irradiated with the electron beam, and the electrons reach the light-emitting layer 106 on the back surface of the anode 105, causing the light-emitting layer 106 to emit light.

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】ところが、このような
電界放出型の画像表示装置では、尖頭形状のカソード1
02から放出される電子ビームが散乱し易く、発光体層
106における発光強度が十分にならない。従って、よ
り明るい画面を形成するための新たな技術的な創意が必
要とされていた。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in such a field emission type image display device, the point-shaped cathode 1
The electron beam emitted from the electron beam 02 is easily scattered, and the emission intensity in the light emitter layer 106 is not sufficient. Therefore, new technical ingenuity was needed to form a brighter screen.

【0005】そこで、本発明は上記技術的な課題に鑑み
、強力な電子ビームを放出する電子源を利用して、発光
体の発光強度を向上させてなる平面型画像表示装置の提
供を目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above technical problems, the present invention aims to provide a flat image display device that uses an electron source that emits a powerful electron beam to improve the luminous intensity of a light emitter. do.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
め、本発明の平面型画像表示装置は、基体と、その基体
上に配される複数の電子源と、その電子源に真空空間を
介して対向する電極と、その電極の上記基体と反対側に
設けられた発光体とを有し、上記電子源はそれぞれ複数
次の電子源からなり、各電子源で次々と電子を増幅して
発光体に照射することを特徴とする。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the flat image display device of the present invention includes a base, a plurality of electron sources disposed on the base, and a vacuum space for the electron sources. The electron source has a plurality of electron sources, and each electron source amplifies electrons one after another. It is characterized by irradiating a light emitting body.

【0007】[0007]

【作用】本発明の平面型画像表示装置の電子源は、2次
以上の電子源からなり、それぞれの電子源では、電子を
増幅して放出する。このため最終的に電子源から大量の
電子が放出され、発光体の発光強度が向上する。
[Operation] The electron source of the flat image display device of the present invention is composed of secondary or higher order electron sources, and each electron source amplifies and emits electrons. Therefore, a large amount of electrons are finally emitted from the electron source, and the emission intensity of the light emitter is improved.

【0008】[0008]

【実施例】本発明の好適な実施例を図面を参照しながら
説明する。本実施例の平面型画像表示装置は複数次の電
子源からなり、大量の電子を放出させて発光体層に照射
することができる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The flat image display device of this embodiment includes a plurality of electron sources, and can emit a large amount of electrons to irradiate the light emitting layer.

【0009】図1は、本実施例の平面型画像表示装置の
模式的な断面図である。基体11上には階層構造を以て
1次電子源〜4次電子源12〜15が形成されている。 これら1次電子源〜4次電子源12〜15は、真空空間
16を挟んで奇数次の電子源12,14と偶数次の電子
源13,15が振り分けられて配され且つ真空空間16
を挟んで互いに対向するように設けられている。これら
1次電子源〜4次電子源12〜15は、奇数次側と偶数
次側でそれぞれ基体11側からアルミニューム膜からな
るアノード17に向かって次数が大きくなるように配さ
れている。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of the flat image display device of this embodiment. On the base 11, primary to quaternary electron sources 12 to 15 are formed in a hierarchical structure. These primary electron sources to quaternary electron sources 12 to 15 are arranged such that odd-numbered electron sources 12 and 14 and even-numbered electron sources 13 and 15 are distributed across a vacuum space 16.
They are provided so as to face each other with the two sides in between. These primary electron sources to quaternary electron sources 12 to 15 are arranged so that the order increases from the base 11 side toward the anode 17 made of an aluminum film on the odd-numbered side and the even-numbered side, respectively.

【0010】1次電子源12は、酸化シリコン膜等から
なる層間絶縁膜21,22に挟まれたモリブデンやタン
グステン等の金属からなるカソード23を有している。 電気的には、カソード23は接地される。このカソード
23の先端部23aは、鋸歯状に山及び谷を形成して、
電界を集中させるようにすることが望ましい。このカソ
ード23の先端部23a側は、開口されており、その開
口部24から電子が放出される。開口部24が真空空間
16に接続する部分には、引き出し電極25a,25b
が臨む。この引き出し電極25a,25bに所要の引き
出し電圧を印加することで、カソード23から電子が引
き出され、真空空間16にその1次電子I1 が導かれ
る。
The primary electron source 12 has a cathode 23 made of a metal such as molybdenum or tungsten sandwiched between interlayer insulating films 21 and 22 made of a silicon oxide film or the like. Electrically, the cathode 23 is grounded. The tip 23a of the cathode 23 has sawtooth-like peaks and valleys.
It is desirable to concentrate the electric field. The tip 23a side of the cathode 23 is open, and electrons are emitted from the opening 24. Extraction electrodes 25a and 25b are provided at the portion where the opening 24 connects to the vacuum space 16.
is coming. By applying a required extraction voltage to the extraction electrodes 25a and 25b, electrons are extracted from the cathode 23, and the primary electrons I1 are introduced into the vacuum space 16.

【0011】2次電子源13は、真空空間16を挟んで
前記1次電子源12に対向し、基板11とアノード17
の間の位置については、該1次電子源12よりもややア
ノード17寄りの位置に設けられている。2次電子源1
3は、酸化セシウムや酸化マグネシウム等の電子源層2
7を層間絶縁膜26,28で挟んだ構造とされる。この
電子源層27には、所要のプラス電圧が与えられる。電
子源層27の真空空間16側の面には、1次電子源12
からの1次電子I1 が照射される。その結果、電子源
層27からは増幅されて2次電子I2 が放出される。
A secondary electron source 13 faces the primary electron source 12 with a vacuum space 16 in between, and is connected to a substrate 11 and an anode 17.
The position in between is located slightly closer to the anode 17 than the primary electron source 12. Secondary electron source 1
3 is an electron source layer 2 made of cesium oxide, magnesium oxide, etc.
7 is sandwiched between interlayer insulating films 26 and 28. A required positive voltage is applied to this electron source layer 27. A primary electron source 12 is provided on the surface of the electron source layer 27 on the vacuum space 16 side.
is irradiated with primary electrons I1 from . As a result, secondary electrons I2 are amplified and emitted from the electron source layer 27.

【0012】3次電子源14は、真空空間16を挟んで
前記2次電子源13に対向し、基板11上の前記1次電
子源12のさらに上部すなわちアノード17寄りに形成
されている。この3次電子源14の位置は、前記2次電
子源13の位置よりも更にアノード17寄りの位置に設
けられている。この3次電子源14は、酸化セシウムや
酸化マグネシウム等の電子源層30を層間絶縁膜29,
31で挟んだ構造とされる。3次電子源14の電子源層
30には、2次電子源13の電子源層27よりも高い電
圧が印加される。その電子源層30の真空空間16側の
面には、2次電子源13からの2次電子I2 が照射さ
れる。このため、当該3次電子源14の電子源層30か
らは、2次電子I2 を元に増幅された3次電子I3 
が真空空間16に向けて放出される。
The tertiary electron source 14 faces the secondary electron source 13 with a vacuum space 16 in between, and is formed further above the primary electron source 12 on the substrate 11, that is, closer to the anode 17. The tertiary electron source 14 is located closer to the anode 17 than the secondary electron source 13 is. This tertiary electron source 14 includes an electron source layer 30 made of cesium oxide, magnesium oxide, etc., and an interlayer insulating film 29,
It has a structure sandwiched by 31. A higher voltage is applied to the electron source layer 30 of the tertiary electron source 14 than to the electron source layer 27 of the secondary electron source 13. The surface of the electron source layer 30 on the vacuum space 16 side is irradiated with secondary electrons I2 from the secondary electron source 13. Therefore, from the electron source layer 30 of the tertiary electron source 14, tertiary electrons I3 are amplified based on the secondary electrons I2.
is emitted towards the vacuum space 16.

【0013】4次電子源15は、真空空間16の前記2
次電子源13側に配され、前記3次電子源14と該真空
空間を挟んで対向する。2次電子源13の電子源層27
の上部に形成された層間絶縁膜28上に、4次電子源1
5の酸化セシウムや酸化マグネシウム等からなる電子源
層32が形成される。この4次電子源15の電子源層3
2の位置は、前記3次電子源14の位置よりも更にアノ
ード17寄りとされる。電子源層32のアノード17側
には、層間絶縁膜33が形成され、電子源層32は層間
絶縁膜28,33の間に挟まれる。この4次電子源15
の電子源層32には、3次電子源14の電子源層30よ
りも更に高い電圧が印加される。従って、この4次電子
源15においても、3次電子源14や2次電子源13と
同様、その電子源層32の真空空間16側の面には、3
次電子源14からの3次電子I3 が照射され、当該4
次電子源15の電子源層32からは、増幅された4次電
子I4 が真空空間16に向けて放出される。
The quaternary electron source 15 is located in the vacuum space 16.
It is arranged on the side of the secondary electron source 13 and faces the tertiary electron source 14 across the vacuum space. Electron source layer 27 of secondary electron source 13
The quaternary electron source 1 is placed on the interlayer insulating film 28 formed on the top of the
An electron source layer 32 made of cesium oxide, magnesium oxide, etc. of No. 5 is formed. Electron source layer 3 of this quaternary electron source 15
The position No. 2 is located closer to the anode 17 than the position of the tertiary electron source 14. An interlayer insulating film 33 is formed on the anode 17 side of the electron source layer 32, and the electron source layer 32 is sandwiched between the interlayer insulating films 28 and 33. This quaternary electron source 15
A voltage higher than that applied to the electron source layer 30 of the tertiary electron source 14 is applied to the electron source layer 32 of the tertiary electron source 14 . Therefore, in this quaternary electron source 15 as well, as in the tertiary electron source 14 and the secondary electron source 13, the surface of the electron source layer 32 on the vacuum space 16 side has three
The tertiary electrons I3 from the secondary electron source 14 are irradiated, and the 4
Amplified quaternary electrons I4 are emitted from the electron source layer 32 of the secondary electron source 15 toward the vacuum space 16.

【0014】前記層間絶縁膜33と層間絶縁膜31のア
ノード17側には、ゲート電極34が配される。ゲート
電極34は、その電極によって形成される電界によって
、上記4次電子I4 のアノード17の照射を制御する
電極であり、高い電圧が印加されている場合に4次電子
I4 がアノード17に照射され、低い電圧が印加され
ている場合には4次電子I4 がアノード17に照射さ
れることはない。このゲート電極34は、複数次の電子
源12〜14が対向した真空空間16のアノード17側
への延長線上を開口するような開口部37を有して形成
される。例えば、基体11上に2次元マトリクス状に複
数次の電子源12〜14からなる電子源が配された場合
、上記開口部37もそれらの位置に対応して2次元マト
リクス状に配列される。
A gate electrode 34 is arranged on the anode 17 side of the interlayer insulating film 33 and the interlayer insulating film 31. The gate electrode 34 is an electrode that controls the irradiation of the anode 17 with the quaternary electrons I4 by an electric field formed by the gate electrode, and when a high voltage is applied, the anode 17 is irradiated with the quaternary electrons I4. , when a low voltage is applied, the anode 17 is not irradiated with the quaternary electrons I4. This gate electrode 34 is formed to have an opening 37 that opens on an extension line toward the anode 17 side of the vacuum space 16 where the plurality of electron sources 12 to 14 face. For example, when electron sources consisting of a plurality of electron sources 12 to 14 are arranged in a two-dimensional matrix on the base 11, the openings 37 are also arranged in a two-dimensional matrix corresponding to their positions.

【0015】このゲート電極34に対してアノード17
は、距離Wの真空空間38を介して配される。アノード
17は基体11の主面と平行な面を有するアルミニュー
ム薄膜であり、高電圧が印加される。このアノード17
の厚みは、例えば100オングストローム程度である。 電子源からの電子は、薄いアノード17による電界に応
じてアノード17に達し、その裏面の発光体層35に至
る。アノード17の基体11の反対側に形成された発光
体層35は、複数次の電子源12〜15によって大幅に
増幅された大量の電子ビームが衝突して、強力に発光す
る。発光体層35のアノード17と反対側の面には、前
面パネルガラス36が形成され、この前面パネルガラス
36を介して発光体層35の発光による画像が表示され
る。
The anode 17 is connected to the gate electrode 34.
are arranged via a vacuum space 38 at a distance W. The anode 17 is an aluminum thin film having a surface parallel to the main surface of the base 11, and a high voltage is applied thereto. This anode 17
The thickness is, for example, about 100 angstroms. Electrons from the electron source reach the anode 17 in response to the electric field generated by the thin anode 17, and reach the light emitting layer 35 on the back surface thereof. The light emitting layer 35 formed on the opposite side of the base 11 of the anode 17 is bombarded with a large amount of electron beams greatly amplified by the multi-order electron sources 12 to 15, and emits intense light. A front panel glass 36 is formed on the surface of the light emitter layer 35 opposite to the anode 17, and an image generated by the light emitted from the light emitter layer 35 is displayed through the front panel glass 36.

【0016】このような構造を有する本実施例の平面型
画像表示装置は、1次電子源12に対して2次電子源1
3は50〜100V程度の高い電圧が供給され、3次電
子源14は2次電子源13に対して50〜100V程度
の高い電圧が供給され、4次電子源15は3次電子源1
4に対して50〜100V程度の高い電圧が供給される
。このように段階的に高い電圧が各電子源に印加される
ことで、電子が各電子源で増幅されながら真空空間16
をアノード17側に段々と送られる。この時の電子のエ
ネルギーは、およそ50〜100eV程度である。4次
電子源15から放出された電子は、ゲート電極34の電
圧に応じて、アノード17に放出される。例えば、各電
子源では、電子を10倍以上に増強することができるた
め、4次電子源15から放出される4次電子I4 は十
分に増幅された強力な電子ビームとされる。このため発
光体層15を極めて高輝度に発光させることができ、鮮
明な画像を表示させることができる。
In the flat image display device of this embodiment having such a structure, the secondary electron source 1 is connected to the primary electron source 12.
3 is supplied with a high voltage of about 50 to 100 V, the tertiary electron source 14 is supplied with a high voltage of about 50 to 100 V to the secondary electron source 13, and the quaternary electron source 15 is supplied with a high voltage of about 50 to 100 V to the secondary electron source 13.
4, a high voltage of about 50 to 100V is supplied. In this way, by applying a stepwise high voltage to each electron source, the electrons are amplified by each electron source and are distributed in the vacuum space 16.
is gradually sent to the anode 17 side. The energy of the electrons at this time is about 50 to 100 eV. Electrons emitted from the quaternary electron source 15 are emitted to the anode 17 according to the voltage of the gate electrode 34. For example, since each electron source can intensify electrons ten times or more, the quaternary electrons I4 emitted from the quaternary electron source 15 are made into a sufficiently amplified and powerful electron beam. Therefore, the light-emitting layer 15 can emit light with extremely high brightness, and a clear image can be displayed.

【0017】なお、上述の実施例では、複数次の電子源
の配置を真空空間16を挟んで振り分け、アノード17
側に向かって次数が徐々に高くなるような配置としたが
、これに限定されず、平面的に複数次の電子源を配置す
るようにしても良く、電子が円弧を描いて増幅されて行
き、最終的にアノードに照射される構造としても良い。 また、本実施例では、4次電子源までとしたが、これに
限定されず、3次や5次,6次,…等の次数であっても
良い。
In the above-described embodiment, the arrangement of the plurality of electron sources is divided across the vacuum space 16, and the anode 17
Although the arrangement is such that the order gradually increases toward the side, the arrangement is not limited to this, and it is also possible to arrange multiple order electron sources in a plane, in which the electrons are amplified in an arc. , it is also possible to have a structure in which the anode is finally irradiated. Further, in this embodiment, up to a fourth order electron source is used, but the number is not limited to this, and orders such as third order, fifth order, sixth order, . . . may be used.

【0018】[0018]

【発明の効果】本発明の平面型画像表示装置は、上述の
ように、電子源が複数次の電子源を有し、低次から高次
の電子源に電子が放出されるごとに、大幅に電子が増幅
される。このため、極めて強力な電子ビームを発光体に
照射することができ、十分な発光強度が得られて、鮮明
な画像が表示されることになる。
Effects of the Invention As described above, the flat image display device of the present invention has a plurality of electron sources, and each time an electron is emitted from a lower order electron source to a higher order electron source, the electrons are amplified. Therefore, it is possible to irradiate the light emitting body with an extremely powerful electron beam, and sufficient light emission intensity is obtained, resulting in a clear image being displayed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の平面型画像表示装置の一例の模式的な
断面図
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of an example of a flat image display device of the present invention.

【図2】従来の平面型画像表示装置の一例の模式的な断
面図
[Fig. 2] A schematic cross-sectional view of an example of a conventional flat image display device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11…基体 12…1次電子源 13…2次電子源 14…3次電子源 15…4次電子源 16,38…真空空間 17…アノード 23…カソード 27,30,32…電子源層 34…ゲート電極 35…発光体層 37…開口部 11...Base 12...Primary electron source 13...Secondary electron source 14...Third electron source 15... Quaternary electron source 16,38...vacuum space 17...Anode 23...Cathode 27, 30, 32...electron source layer 34...Gate electrode 35... Luminous layer 37...Opening

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  基体と、その基体上に配される複数の
電子源と、その電子源に真空空間を介して対向する電極
と、その電極の上記基体と反対側に設けられた発光体と
を有し、上記電子源はそれぞれ複数次の電子源からなり
、各電子源で次々と電子を増幅して発光体に照射するこ
とを特徴とする平面型画像表示装置。
Claim 1: A base body, a plurality of electron sources disposed on the base body, an electrode facing the electron source through a vacuum space, and a light emitting body provided on the opposite side of the electrode from the base body. 1. A flat image display device comprising a plurality of electron sources, each of which has a plurality of order electron sources, and each electron source amplifies electrons one after another and irradiates the light-emitting body with the electrons.
JP6925091A 1991-03-06 1991-03-08 Plane type image display device Withdrawn JPH04282540A (en)

Priority Applications (8)

Application Number Priority Date Filing Date Title
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