JPH04280458A - Semiconductor integrated circuit device, and its manufacture and mounting structure - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device, and its manufacture and mounting structure

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JPH04280458A
JPH04280458A JP3042158A JP4215891A JPH04280458A JP H04280458 A JPH04280458 A JP H04280458A JP 3042158 A JP3042158 A JP 3042158A JP 4215891 A JP4215891 A JP 4215891A JP H04280458 A JPH04280458 A JP H04280458A
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circuit device
semiconductor integrated
chip
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Abstract

PURPOSE:To provide an LSI package wherein the reliability on the connection during mounting on a board is high and which is suitable for multipin and high-density mounting. CONSTITUTION:This semiconductor integrated circuit device has such a package structure that the chip 4 is encapsulated in the package body 1 consisting of the rubber-shaped elastic body having a projection 2 at the surface, that one end of the lead wiring 3 made on the surface of the sand package body 1 is connected to the pad 7 of the said chip 4 through the connection hole 5 opened in the said package body 1, and that the other end of the said lead wiring 3 is extended to the apex of the said projection.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、半導体集積回路装置に
関し、特に、半導体チップを封止するパッケージおよび
その実装に適用して有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device, and more particularly to a package for sealing a semiconductor chip and a technique effective for mounting the package.

【0002】0002

【従来の技術】近年、RAM、ROMなどのメモリLS
Iは、メモリ容量の大規模化に伴って半導体チップの面
積が著しく増大しているため、チップをSOP(Sma
ll OutlinePackage) 、SOJ(S
mall Outline J−lead packa
ge)などの表面実装形パッケージに封止し、これらの
パッケージの薄形化、小形化を実現することで実装密度
の向上を図っている。
[Prior Art] In recent years, memory LS such as RAM, ROM, etc.
As the area of semiconductor chips has increased significantly with the increase in memory capacity, chips have been
ll OutlinePackage), SOJ(S
mall Outline J-lead packa
ge) and other surface-mount packages, and by making these packages thinner and smaller, the packaging density is improved.

【0003】一方、ゲートアレイやマイクロコンピュー
タなどの論理LSIは、多機能化、高速化の進行に伴っ
て外部端子(入出力端子、電源端子)の数が著しく増加
(多ピン化)しているため、QFP(Quad Fla
t Package) などのパッケージの薄形化を実
現することで実装密度の向上を図っている。
On the other hand, as logic LSIs such as gate arrays and microcomputers become more multifunctional and faster, the number of external terminals (input/output terminals, power supply terminals) increases significantly (increasing the number of pins). Therefore, QFP (Quad Fla
By making the package thinner, such as t Package), we aim to improve the packaging density.

【0004】論理LSIの実装方式としては、上記QF
Pの他、チップの最上層配線に接合したCCBバンプを
介してチップを基板に実装するフリップチップ方式が知
られている。このフリップチップ方式については、例え
ばIBM社発行、「IBMジャーナル・オブ・リサーチ
・アンド・ディベロップメント、13巻、No. 3(
IBMJournal of Research an
d Development, Vol.13, No
.3) 」P239〜P250に記載がある。
[0004] As a logic LSI implementation method, the above-mentioned QF
In addition to P, a flip-chip method is known in which a chip is mounted on a substrate via a CCB bump bonded to the top layer wiring of the chip. Regarding this flip-chip method, for example, published by IBM, "IBM Journal of Research and Development, Volume 13, No. 3 (
IBM Journal of Research an
d Development, Vol. 13, No
.. 3)” is described on pages 239 to 250.

【0005】また、多ピンLSIの実装方式としては、
TAB(Tape Automated Bondin
g)方式が知られている。 このTAB方式は、チップのボンディングパッド上にバ
リアメタルを介して形成されたAuのバンプと、ポリイ
ミド樹脂などの絶縁フィルムに形成したCuリードの一
端とを電気的に接続すると共に、上記Cuリードの他端
を実装基板に電気的に接続する実装方式である。なお、
TAB方式については、例えば特開昭62−20564
8号公報に記載がある。
[0005] Also, as a mounting method for multi-pin LSI,
TAB (Tape Automated Bondin)
g) The method is known. This TAB method electrically connects an Au bump formed on a bonding pad of a chip via a barrier metal with one end of a Cu lead formed on an insulating film such as polyimide resin, and This is a mounting method in which the other end is electrically connected to the mounting board. In addition,
Regarding the TAB method, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-20564
There is a description in Publication No. 8.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記S
OP、SOJ、QFPなどの表面実装形パッケージは、
パッケージ本体の外部に突出したアウターリードを通じ
てチップと基板との電気的接続を取るため、アウターリ
ードの占有面積の分だけ実装密度が低下するという問題
がある。また、パッケージからのリード抜けを防止する
ためにパッケージ内のインナーリードの長さをある程度
確保しなければならず、これも実装密度を低下させる一
因になっている。
[Problem to be solved by the invention] However, the above S
Surface mount packages such as OP, SOJ, QFP, etc.
Since the chip and the board are electrically connected through outer leads protruding outside the package body, there is a problem in that the packaging density is reduced by the area occupied by the outer leads. Furthermore, in order to prevent the leads from coming off from the package, it is necessary to ensure a certain length of the inner leads within the package, which is also a factor in reducing the packaging density.

【0007】さらに、表面実装形パッケージは、ワイヤ
を介してチップ、リード間を接続するワイヤボンディン
グ方式を採用しているため、パッケージの薄形化、小形
化、多ピン化には限界がある。また、パッケージ本体を
薄形化すると、これに伴ってリフロー半田付け時のクラ
ックなど、実装時の熱に起因する信頼性の低下が深刻な
問題となる。
Furthermore, since surface mount packages employ a wire bonding method in which chips and leads are connected via wires, there are limits to how the package can be made thinner, smaller, and have more pins. Furthermore, when the package body is made thinner, reliability degradation due to heat during mounting, such as cracks during reflow soldering, becomes a serious problem.

【0008】一方、前記フリップチップ方式は、表面実
装形パッケージに比べてチップの多ピン化、高密度実装
が容易に実現できる反面、チップと基板との熱膨張係数
差に起因する応力がCCBバンプに加わり易い構造であ
るため、CCBバンプが破断したり、チップが割れたり
するなど、接続信頼性に問題がある。
On the other hand, the flip-chip method can easily achieve a higher number of chip pins and higher density mounting than a surface mount package, but on the other hand, stress due to the difference in thermal expansion coefficient between the chip and the substrate is Since the structure is susceptible to damage, there are problems with connection reliability, such as breakage of CCB bumps and cracking of chips.

【0009】また、前記TAB方式についても、前記S
OP、SOJ、QFPなどの表面実装形パッケージと同
様、アウターリードの占有面積の分だけ実装密度が低下
するという問題がある。
[0009] Also, regarding the TAB method, the S
Similar to surface mount packages such as OP, SOJ, and QFP, there is a problem in that the packaging density is reduced by the area occupied by the outer leads.

【0010】本発明は、上記した問題点に着目してなさ
れたものであり、その目的は、チップの実装密度を向上
させることのできる技術を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to provide a technique that can improve the packaging density of chips.

【0011】本発明の他の目的は、チップを多ピン化す
ることのできる技術を提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that allows a chip to have a large number of pins.

【0012】本発明の他の目的は、チップと基板との間
の接続信頼性を向上させることのできる技術を提供する
ことにある。
Another object of the present invention is to provide a technique that can improve the connection reliability between a chip and a substrate.

【0013】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明による半導体集積
回路装置は、複数の回路素子を形成したチップの主面に
ゴム状弾性体からなる複数の突起を設け、チップの主面
に形成したリード配線の一端をチップの主面のパッドに
接続すると共に、その他端を上記突起の頂部に延在した
構造を有する。
[Means for Solving the Problems] A semiconductor integrated circuit device according to the present invention provides a plurality of protrusions made of a rubber-like elastic material on the main surface of a chip on which a plurality of circuit elements are formed, and leads formed on the main surface of the chip. It has a structure in which one end of the wiring is connected to a pad on the main surface of the chip, and the other end extends to the top of the protrusion.

【0015】また、上記半導体集積回路装置において、
パッドおよび突起の少なくとも一方を回路素子上に配置
した構造を有する。
[0015] Furthermore, in the semiconductor integrated circuit device,
It has a structure in which at least one of a pad and a protrusion is placed on a circuit element.

【0016】[0016]

【作用】上記した手段によれば、パッケージ本体の表面
に形成したリード配線を通じてチップと基板との電気的
接続を取ることにより、パッケージ本体の外部に突出し
たリードを通じてチップと基板との電気的接続を取る従
来の表面実装形パッケージよりも実装密度を向上させる
ことができる。
[Operation] According to the above means, the chip and the board are electrically connected through the lead wiring formed on the surface of the package body, and the chip and the board are electrically connected through the leads protruding outside the package body. Packaging density can be improved compared to conventional surface mount packages that take more space.

【0017】上記した手段によれば、突起をゴム状弾性
体で構成したことにより、チップと基板との熱膨張係数
差に起因する応力がこの突起で吸収、緩和されるため、
チップと基板との間の接続信頼性が向上し、かつ半田付
け時の熱に起因するパッケージ本体やチップのクラック
が防止される。
According to the above-mentioned means, since the protrusion is made of a rubber-like elastic material, the stress caused by the difference in coefficient of thermal expansion between the chip and the substrate is absorbed and alleviated by the protrusion.
The reliability of the connection between the chip and the board is improved, and cracks in the package body and chip due to heat during soldering are prevented.

【0018】上記した手段によれば、パッケージ本体に
開孔した接続孔を通じてリード配線とチップのパッドと
を直結したことにより、ワイヤを介してチップ、リード
間を接続するワイヤボンディング方式に比べてパッケー
ジの薄形化、小形化が容易になる。
According to the above-mentioned means, the lead wires and the pads of the chip are directly connected through the connection holes formed in the package body, so that the package is more compact than the wire bonding method in which the chip and the leads are connected via wires. It becomes easier to make the device thinner and smaller.

【0019】上記した手段によれば、回路素子上にパッ
ドを配置し、このパッドにリード配線の一端を接続する
ことにより、チップ内部の配線長を短くすることができ
るので、高速LSIに好適なパッケージを提供すること
ができる。また、パッドの形成領域の分だけチップを小
形化することができる。
According to the above-mentioned means, by arranging a pad on the circuit element and connecting one end of the lead wiring to this pad, the wiring length inside the chip can be shortened, which is suitable for high-speed LSI. package can be provided. Furthermore, the chip can be made smaller by the area in which the pads are formed.

【0020】上記した手段によれば、回路素子上に突起
を配置することにより、チップとほぼ同一寸法の半導体
集積回路装置が得られるので、チップの実装密度を向上
させることができる。
According to the above-described means, by arranging the protrusions on the circuit elements, a semiconductor integrated circuit device having approximately the same dimensions as the chip can be obtained, so that the packaging density of the chips can be improved.

【0021】以下、本発明を実施例により説明する。な
お、実施例を説明するための全図において、同一の機能
を有するものは同一の符号を付け、その繰り返しの説明
は省略する。
[0021] The present invention will be explained below with reference to Examples. In addition, in all the figures for explaining the embodiment, parts having the same functions are given the same reference numerals, and repeated explanations thereof will be omitted.

【0022】[0022]

【実施例】図3は、本実施例による半導体集積回路装置
の斜視図、図4は、その長辺方向の正面図、図5は、同
じく短辺方向の正面図である。
Embodiment FIG. 3 is a perspective view of a semiconductor integrated circuit device according to this embodiment, FIG. 4 is a front view of the semiconductor integrated circuit device in the long side direction, and FIG. 5 is a front view of the semiconductor integrated circuit device in the short side direction.

【0023】この半導体集積回路装置のパッケージ本体
1は、ゴム状弾性体からなり、その下面の両端には、短
辺方向に沿って所定数の突起2が一定の間隔で配置され
ている。これらの突起2は、パッケージ本体1と同一材
質のゴム状弾性体からなり、パッケージ本体1と一体成
形されている。
The package body 1 of this semiconductor integrated circuit device is made of a rubber-like elastic body, and a predetermined number of protrusions 2 are arranged at regular intervals along the shorter side at both ends of the lower surface. These protrusions 2 are made of a rubber-like elastic body made of the same material as the package body 1, and are integrally molded with the package body 1.

【0024】上記それぞれの突起2の頂部には、この半
導体集積回路装置の外部端子(入出力端子および電源端
子)を構成するリード配線3の一端が延在している。上
記リード配線3の他端は、突起2の側壁を経てパッケー
ジ本体1の下面の中心方向に延在している。リード配線
3は、例えば下層がCuの蒸着膜、中間層がCuのメッ
キ膜、表面がAuのメッキ膜でそれぞれ構成された複合
金属膜からなる。
One end of a lead wire 3 constituting an external terminal (input/output terminal and power supply terminal) of this semiconductor integrated circuit device extends to the top of each of the projections 2. The other end of the lead wire 3 extends toward the center of the lower surface of the package body 1 via the side wall of the protrusion 2 . The lead wiring 3 is made of a composite metal film including, for example, a lower layer of a deposited Cu film, an intermediate layer of a Cu plating film, and a surface of an Au plating film.

【0025】上記パッケージ本体1の内部には、図3〜
図5では図示しない半導体チップ4が封止されている。 上記チップ4は、例えばDRAM、SRAMなどのメモ
リLSIを形成したシリコン単結晶からなり、その主面
(回路素子成面)がパッケージ本体1の突起2形成面を
向いた状態で封止されている。
[0025] Inside the package body 1, there are
In FIG. 5, a semiconductor chip 4 (not shown) is sealed. The chip 4 is made of a silicon single crystal on which a memory LSI such as a DRAM or SRAM is formed, and is sealed with its main surface (circuit element surface) facing the surface on which the protrusions 2 of the package body 1 are formed. .

【0026】図1は、上記パッケージ本体1の下面の端
部を拡大して示す破断斜視図、図2は、同じく断面図で
ある。
FIG. 1 is a cutaway perspective view showing an enlarged end portion of the lower surface of the package body 1, and FIG. 2 is a sectional view thereof.

【0027】パッケージ本体1に設けられた突起2は、
例えば頂部が長方形で、パッケージ本体1の中心側の側
壁に傾斜が設けられた角錐台形をなしており、その頂部
の短辺の長さは、例えば200μm程度、隣り合う突起
2,2同士の隙間は、例えば300μm程度である。す
なわち、突起2は、500μm程度のピッチでパッケー
ジ本体1の短辺方向に沿って配列されている。
[0027] The protrusion 2 provided on the package body 1 is
For example, the top part is rectangular, and the package body 1 has a truncated pyramid shape with an inclined side wall on the center side, and the length of the short side of the top part is, for example, about 200 μm, and the gap between adjacent protrusions 2, 2. is, for example, about 300 μm. That is, the protrusions 2 are arranged along the short side direction of the package body 1 at a pitch of about 500 μm.

【0028】上記それぞれの突起2の近傍のパッケージ
本体1には、接続孔5が開孔されており、接続孔5の内
部には、前記リード配線3が埋込まれている。また、上
記接続孔5の底部には、チップ4の表面保護膜(パッシ
ベーション膜)6を開孔して形成したパッド7が露出し
ており、これにより、パッド7とリード配線3とが電気
的に接続されている。上記パッド7は、チップ4の回路
素子に接続されたAl配線8からなる。また、上記チッ
プ4の主面は、突起2と同一材料のゴム状弾性体で覆わ
れており、このゴム状弾性体でチップ4の主面が保護さ
れるようになっている。
Connection holes 5 are formed in the package body 1 near each of the projections 2, and the lead wires 3 are embedded inside the connection holes 5. Further, at the bottom of the connection hole 5, a pad 7 formed by opening a surface protection film (passivation film) 6 of the chip 4 is exposed, so that the pad 7 and the lead wiring 3 are electrically connected. It is connected to the. The pad 7 is made of Al wiring 8 connected to the circuit elements of the chip 4. Further, the main surface of the chip 4 is covered with a rubber-like elastic body made of the same material as the protrusion 2, and the main surface of the chip 4 is protected by this rubber-like elastic body.

【0029】このように、本実施例の半導体集積回路装
置は、外部端子を構成するリード配線3の一端をゴム状
弾性体からなるパッケージ本体1の下面に設けた突起2
の頂部に延在し、リード配線3の他端をパッケージ本体
1に開孔した接続孔5を通じてチップ4のパッド7に接
続したパッケージ構造を有している。
As described above, in the semiconductor integrated circuit device of this embodiment, one end of the lead wire 3 constituting the external terminal is connected to the protrusion 2 provided on the lower surface of the package body 1 made of a rubber-like elastic material.
The other end of the lead wire 3 is connected to the pad 7 of the chip 4 through a connection hole 5 formed in the package body 1.

【0030】図6は、上記パッド7の近傍の断面図であ
る。例えばp形のシリコン単結晶からなるチップ4の主
面には、抵抗R、nチャネル形MISFETQ1 、p
チャネル形MISFETQ2 などの回路素子が形成さ
れている。上記抵抗R、nチャネル形MISFETQ1
 およびpチャネル形MISFETQ2 は、例えばメ
モリLSIの入力回路を構成している。
FIG. 6 is a sectional view of the vicinity of the pad 7. For example, on the main surface of the chip 4 made of p-type silicon single crystal, a resistor R, an n-channel MISFET Q1, a p
Circuit elements such as a channel type MISFETQ2 are formed. The above resistance R, n-channel MISFET Q1
and p-channel type MISFET Q2 constitute, for example, an input circuit of a memory LSI.

【0031】上記抵抗Rは、例えばn形半導体領域9a
からなる。また、nチャネル形MISFETQ1 は、
ソース、ドレインを構成する一対のn形半導体領域9b
および多結晶シリコンなどにより構成されたゲート電極
10からなり、pチャネル形MISFETQ2 は、ソ
ース、ドレインを構成する一対のp形半導体領域11お
よびゲート電極10からなる。抵抗Rおよびnチャネル
形MISFETQ1 の一対のn形半導体領域9bは、
p形シリコンの主面にそれぞれ形成され、pチャネル形
MISFETQ2 の一対のp形半導体領域11は、n
形ウエル12の主面に形成されている。
The resistance R is, for example, an n-type semiconductor region 9a.
Consisting of In addition, the n-channel MISFETQ1 is
A pair of n-type semiconductor regions 9b forming a source and a drain
and a gate electrode 10 made of polycrystalline silicon or the like, and the p-channel type MISFET Q2 consists of a pair of p-type semiconductor regions 11 forming a source and a drain, and a gate electrode 10. The resistor R and the pair of n-type semiconductor regions 9b of the n-channel MISFET Q1 are as follows:
A pair of p-type semiconductor regions 11 of the p-channel MISFETQ2 are formed on the main surface of p-type silicon, respectively, and are formed on the main surface of p-type silicon.
It is formed on the main surface of the shaped well 12.

【0032】上記抵抗Rには、絶縁膜13に開孔された
接続孔14を通じて一対のAl配線8,8が接続されて
いる。上記一対のAl配線8,8の一方は、パッド7お
よび接続孔5を通じて入力信号用のリード配線3に接続
されており、もう一方のAl配線8は、nチャネル形M
ISFETQ1 およびpチャネル形MISFETQ2
 のそれぞれのゲート電極10に接続されている。すな
わち、リード配線3は、接続孔5、パッド7、Al配線
8および抵抗Rを通じてメモリLSIの入力回路に接続
されている。
A pair of Al wirings 8, 8 are connected to the resistor R through a connection hole 14 formed in the insulating film 13. One of the pair of Al wirings 8, 8 is connected to the input signal lead wiring 3 through the pad 7 and the connection hole 5, and the other Al wiring 8 is connected to the n-channel type M
ISFETQ1 and p-channel MISFETQ2
are connected to respective gate electrodes 10 of. That is, the lead wiring 3 is connected to the input circuit of the memory LSI through the connection hole 5, the pad 7, the Al wiring 8, and the resistor R.

【0033】次に、本実施例の半導体集積回路装置の製
造方法の一例を図7〜図10を用いて説明する。
Next, an example of a method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device of this embodiment will be explained with reference to FIGS. 7 to 10.

【0034】まず、図7に示すように、チップ4をゴム
状弾性体のパッケージ本体1で封止する。チップ4の封
止は、例えば射出成形法により行う。ゴム状弾性体とし
ては、例えばシリコーンゴムなど、弾性率が100MP
aまたはそれ以下の軟質な組成のものを使用する。パッ
ケージ本体1は、その両端が中央部よりも肉厚となって
おり、この肉厚部の厚さは、例えば1mm程度である。 また、パッケージ本体1の肉厚部と中央部との段差部に
は、傾斜を設けておく。
First, as shown in FIG. 7, the chip 4 is sealed with a package body 1 made of rubber-like elastic material. The chip 4 is sealed by, for example, injection molding. As the rubber-like elastic body, for example, silicone rubber etc. has an elastic modulus of 100 MP.
Use one with a soft composition of A or less. The package body 1 is thicker at both ends than at the center, and the thickness of the thicker portions is, for example, about 1 mm. Further, a step portion between the thick portion and the center portion of the package body 1 is provided with an inclination.

【0035】次に、図8に示すように、パッケージ本体
1の一部を開孔してチップ4のパッド7に達する接続孔
5を形成する。続いて、図9に示すように、パッケージ
本体1の表面にリード配線用の金属膜15を堆積し、上
記金属膜15を接続孔5の内部に埋込んでチップ4のパ
ッド7と金属膜15とを電気的に接続する。金属膜15
は、少なくともパッケージ本体1の両端から接続孔5ま
でを覆うように堆積する。パッケージ本体1の肉厚部と
中央部との段差部には、傾斜が設けてあるので、この段
差部で金属膜15の被覆性が低下することはない。
Next, as shown in FIG. 8, a part of the package body 1 is opened to form a connection hole 5 that reaches the pad 7 of the chip 4. Subsequently, as shown in FIG. 9, a metal film 15 for lead wiring is deposited on the surface of the package body 1, and the metal film 15 is buried inside the connection hole 5 to connect the pad 7 of the chip 4 and the metal film 15. electrically connect the Metal film 15
is deposited so as to cover at least the area from both ends of the package body 1 to the connection hole 5. Since the stepped portion between the thick portion and the central portion of the package body 1 is sloped, the coverage of the metal film 15 does not deteriorate at this stepped portion.

【0036】上記金属膜15は、例えば膜厚1μm程度
のCuの蒸着膜、膜厚10μm程度のCuのメッキ膜、
膜厚1〜2μm程度のAuのメッキ膜を順次堆積した複
合金属膜からなる。Cuの蒸着膜は、Cuのメッキ膜を
電気メッキ法により堆積する際の電極となる。Cuのメ
ッキ膜は、パッケージ本体1を基板に半田付けする際の
半田の濡れ性を良くするためのものであり、Auのメッ
キ膜は、Cuのメッキ膜の腐食を防止するためのもので
ある。なお、上記Auのメッキ膜に代えて半田メッキ膜
を使用してもよい。
The metal film 15 is, for example, a deposited Cu film with a thickness of about 1 μm, a plated Cu film with a thickness of about 10 μm,
It consists of a composite metal film in which Au plating films with a thickness of about 1 to 2 μm are sequentially deposited. The deposited Cu film serves as an electrode when depositing a Cu plating film by electroplating. The Cu plating film is for improving solder wettability when the package body 1 is soldered to the board, and the Au plating film is for preventing corrosion of the Cu plating film. . Note that a solder plating film may be used instead of the Au plating film.

【0037】次に、例えばダイシングなどの機械加工に
より、パッケージ本体1の端部から中心方向に図10に
示すような切り込み16を入れて前記突起2およびリー
ド配線3を形成することにより、本実施例の半導体集積
回路装置が完成する。
Next, by machining such as dicing, a cut 16 as shown in FIG. 10 is made from the end of the package body 1 toward the center to form the protrusion 2 and the lead wiring 3. The example semiconductor integrated circuit device is completed.

【0038】図11は、本実施例の半導体集積回路装置
を基板17に実装した状態を示している。基板17は、
例えばその主面にCuからなる電極18を設けたエポキ
シ系樹脂、ポリイミド系樹脂などの合成樹脂からなる。 この基板17に本実施例の半導体集積回路装置を実装す
るには、SOP、SOJなどの表面実装形パッケージと
同様、半田リフロー法を利用する。すなわち、基板17
の電極18上にクリーム状の半田19を印刷した後、パ
ッケージ本体1の突起2の頂部を電極18上に位置合わ
せし、赤外線などを用いて半田19をその融点以上に加
熱する。
FIG. 11 shows the semiconductor integrated circuit device of this embodiment mounted on a substrate 17. As shown in FIG. The substrate 17 is
For example, it is made of synthetic resin such as epoxy resin or polyimide resin, and has an electrode 18 made of Cu on its main surface. In order to mount the semiconductor integrated circuit device of this embodiment on this substrate 17, the solder reflow method is used as in the case of surface mount packages such as SOP and SOJ. That is, the substrate 17
After printing a cream-like solder 19 on the electrode 18, the top of the protrusion 2 of the package body 1 is positioned on the electrode 18, and the solder 19 is heated to above its melting point using infrared rays or the like.

【0039】なお、上記半導体集積回路装置は、パッケ
ージ本体1の短辺方向に沿って突起2を配列したが、パ
ッケージ本体1の長辺方向に沿って突起2を配列するこ
ともできる。突起2をパッケージ本体1の短辺方向に沿
って配列するか、長辺方向に沿って配列するかは、SO
P、SOJなどの表面実装形パッケージの場合と同様、
パッケージ本体1に封止されるチップ4のパッド7の配
列によって決める。
In the semiconductor integrated circuit device described above, the protrusions 2 are arranged along the short side direction of the package body 1, but the protrusions 2 can also be arranged along the long side direction of the package body 1. Whether the protrusions 2 are arranged along the short side direction or the long side direction of the package body 1 depends on SO.
As with surface mount packages such as P and SOJ,
It is determined by the arrangement of the pads 7 of the chip 4 sealed in the package body 1.

【0040】このように、本実施例によれば、下記のよ
うな効果を得ることができる。
As described above, according to this embodiment, the following effects can be obtained.

【0041】(1).パッケージ本体1の表面に形成し
たリード配線3を通じてチップ4と基板17との電気的
接続を取るようにしたので、パッケージ本体の外部に突
出したリードを通じてチップと基板との電気的接続を取
る従来の表面実装形パッケージよりも実装密度を向上さ
せることができる。
(1). Since the chip 4 and the substrate 17 are electrically connected through the lead wiring 3 formed on the surface of the package body 1, the chip 4 and the substrate 17 are electrically connected through the leads protruding outside the package body. Packaging density can be improved compared to surface mount packages.

【0042】(2).パッケージ本体1および突起2を
ゴム状弾性体で構成したことにより、チップ4と基板1
7との熱膨張係数差に起因する応力をパッケージ本体1
および突起2が吸収、緩和するので、チップ4と基板1
7との間の接続信頼性が向上する。
(2). Since the package body 1 and the protrusions 2 are made of rubber-like elastic material, the chip 4 and the substrate 1
The stress due to the difference in thermal expansion coefficient between package body 1 and
and the protrusions 2 absorb and relax, so the chip 4 and the substrate 1
The reliability of the connection with 7 is improved.

【0043】また、半田付け時の熱に起因するパッケー
ジ本体1やチップ4のクラックを防止することもできる
Furthermore, it is also possible to prevent cracks in the package body 1 and the chip 4 caused by heat during soldering.

【0044】(3).パッケージ本体1に開孔した接続
孔5を通じてリード配線3とチップ4のパッド7とを直
結したことにより、ワイヤを介してチップ、リード間を
接続する従来のワイヤボンディング方式に比べてパッケ
ージを薄形化、小形化することができる。
(3). By directly connecting the lead wiring 3 and the pad 7 of the chip 4 through the connection hole 5 formed in the package body 1, the package is thinner than the conventional wire bonding method, which connects the chip and the leads via wire. It can be made smaller and smaller.

【0045】図12は、本発明の半導体集積回路装置の
他の実施例を示すパッケージ本体1の端部の断面図であ
る。
FIG. 12 is a sectional view of the end of the package body 1 showing another embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0046】前記実施例は、パッケージ本体1と突起2
とを同一材質のゴム状弾性体で一体成形した構成になっ
ているが、この実施例は、ゴム状弾性体からなるパッケ
ージ本体1にゴム状弾性体からなる導電性の突起2を接
続した構成になっている。導電性の突起2は、例えば導
電性接着剤20を介してパッケージ本体1に接着し、こ
れにより、パッケージ本体1の表面に形成したリード配
線3と突起2とを電気的に接続する。なお、上記突起2
には、パッケージ本体1の中心側の側壁に傾斜を設ける
必要はない。
In the above embodiment, the package body 1 and the protrusion 2 are
This embodiment has a structure in which conductive protrusions 2 made of a rubber-like elastic body are connected to a package body 1 made of a rubber-like elastic body. It has become. The conductive protrusion 2 is adhered to the package body 1 via, for example, a conductive adhesive 20, thereby electrically connecting the lead wiring 3 formed on the surface of the package body 1 and the protrusion 2. In addition, the above protrusion 2
In this case, there is no need to provide an inclination to the side wall on the center side of the package body 1.

【0047】導電性の突起2を設けた上記半導体集積回
路装置を基板に実装するには、例えば導電性接着剤を用
いる。すなわち、基板の電極または突起2の頂部に導電
性接着剤を印刷した後、突起2の頂部を電極上に位置合
わせし、加熱により導電性接着剤を硬化させる。
To mount the semiconductor integrated circuit device provided with the conductive protrusions 2 on a substrate, for example, a conductive adhesive is used. That is, after printing a conductive adhesive on the electrode of the substrate or the top of the protrusion 2, the top of the protrusion 2 is aligned on the electrode, and the conductive adhesive is cured by heating.

【0048】図13は、本発明の半導体集積回路装置の
さらに他の実施例を示すパッケージ本体1の斜視図であ
る。
FIG. 13 is a perspective view of a package body 1 showing still another embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【0049】前記実施例は、メモリLSIを形成したチ
ップ4をパッケージ本体1に封止したが、この実施例は
、ゲートアレイなどの論理LSIを形成したチップをパ
ッケージ本体1に封止している。この場合は、パッケー
ジ本体1の四辺に沿って突起2を配列することにより、
QFP同様、多ピンのパッケージを提供することができ
る。
In the above embodiment, the chip 4 on which a memory LSI was formed was sealed in the package body 1, but in this embodiment, a chip on which a logic LSI such as a gate array was formed was sealed in the package body 1. . In this case, by arranging the protrusions 2 along the four sides of the package body 1,
Like QFP, a multi-pin package can be provided.

【0050】また、本発明によれば、図14に示すよう
に、パッケージ本体1の端部のみならず、その中心部に
も突起2および配線3を形成することができるので、Q
FPよりもさらに多ピンのパッケージを提供することが
できる。この場合は、チップ4のパッド7を回路素子の
直上に配置し、このパッド7の上に接続孔5を設け、さ
らにこの接続孔5のに突起を設ける。
Furthermore, according to the present invention, as shown in FIG. 14, the protrusions 2 and the wiring 3 can be formed not only at the ends of the package body 1 but also at its center.
It is possible to provide a package with even more pins than an FP. In this case, the pad 7 of the chip 4 is placed directly above the circuit element, the connection hole 5 is provided on the pad 7, and a projection is provided in the connection hole 5.

【0051】また、この場合は、パッド7をチップ4の
周辺部に配置する場合に比べてチップ4の内部の配線長
が短くなるので、高速LSIに好適なパッケージを提供
することができる。本発明は、パッケージ本体1に開孔
した接続孔5を通じてリード配線3をチップ4のパッド
7に接続しているので、パッド7を回路素子の直上に配
置した場合でも、ワイヤボンディング方式のように衝撃
荷重や超音波振動によってパッド直下の回路素子が劣化
する虞れはない。
Furthermore, in this case, the internal wiring length of the chip 4 is shorter than in the case where the pads 7 are arranged at the periphery of the chip 4, so that a package suitable for high-speed LSI can be provided. In the present invention, the lead wires 3 are connected to the pads 7 of the chip 4 through the connection holes 5 formed in the package body 1, so even when the pads 7 are placed directly above the circuit elements, it is possible to There is no risk that the circuit elements directly under the pad will deteriorate due to shock loads or ultrasonic vibrations.

【0052】図15は、本発明の半導体集積回路装置の
さらに他の実施例を示すパッケージ本体1の長辺方向の
正面図であり、図16は、このパッケージ本体1の要部
断面図である。
FIG. 15 is a front view in the long side direction of a package body 1 showing still another embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention, and FIG. 16 is a sectional view of a main part of this package body 1. .

【0053】本実施例では、Al配線8の上層に第二層
目のAl配線21を形成し、配線を多層化することでパ
ッド7を回路素子上に配置したものである。また、これ
に伴い、突起2も回路素子上に配置してある。
In this embodiment, a second layer of Al wiring 21 is formed above the Al wiring 8, and the pads 7 are arranged on the circuit elements by multilayering the wiring. Additionally, along with this, a protrusion 2 is also arranged on the circuit element.

【0054】本実施例によれば、パッド7を回路素子上
に配置したことにより、パッド領域を削減することがで
きるので、チップ4を小形化することができる。また、
突起2を回路素子上に配置したことにより、パッケージ
本体1の外径寸法をチップ4の外径寸法とほぼ同程度ま
で縮小することができるので、チップ4の実装密度をよ
り向上させることができる。
According to this embodiment, by arranging the pads 7 on the circuit elements, the pad area can be reduced, so that the chip 4 can be made smaller. Also,
By arranging the protrusion 2 on the circuit element, the outer diameter of the package body 1 can be reduced to approximately the same level as the outer diameter of the chip 4, so the packaging density of the chip 4 can be further improved. .

【0055】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
[0055] Above, the invention made by the present inventor has been specifically explained based on examples, but the present invention is not limited to the above-mentioned examples, and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Needless to say.

【0056】例えば突起の形状は、前記実施例の形状に
限定されるものではない。また、パッケージ本体および
突起を構成するゴム状弾性体は、シリコーンゴムなどに
限定されるものではない。
For example, the shape of the protrusion is not limited to the shape of the above embodiment. Furthermore, the rubber-like elastic bodies forming the package body and the protrusions are not limited to silicone rubber or the like.

【0057】[0057]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下の通りである。
[Effects of the Invention] Among the inventions disclosed in this application, the effects obtained by the typical inventions will be briefly explained as follows.
It is as follows.

【0058】(1).  パッケージ本体の表面に形成
したリード配線を通じてチップと基板との電気的接続を
取るようにしたので、パッケージ本体の外部に突出した
リードを通じてチップと基板との電気的接続を取る従来
の表面実装形パッケージよりも実装密度を向上させるこ
とができる。
(1). Since the chip and the board are electrically connected through the lead wiring formed on the surface of the package body, it is different from the conventional surface mount package where the chip and the board are electrically connected through the leads that protrude outside the package body. It is possible to improve the packaging density.

【0059】(2).パッケージ本体および突起をゴム
状弾性体で構成したことにより、チップと基板との熱膨
張係数差に起因する応力がパッケージ本体および突起に
より吸収、緩和され、チップと基板との間の接続信頼性
が向上する。また、半田付け時の熱に起因するパッケー
ジ本体やチップのクラックを防止することができる。
(2). Since the package body and protrusions are made of rubber-like elastic material, the stress caused by the difference in thermal expansion coefficient between the chip and the substrate is absorbed and alleviated by the package body and the protrusions, improving the connection reliability between the chip and the substrate. improves. Furthermore, it is possible to prevent cracks in the package body and chip caused by heat during soldering.

【0060】(3).パッケージ本体に開孔した接続孔
を通じてリード配線とチップのパッドとを直結したこと
により、ワイヤを介してチップ、リード間を接続するワ
イヤボンディング方式に比べてパッケージの薄形化、小
形化が容易になる。
(3). By directly connecting the lead wiring and the pads of the chip through the connection holes in the package body, it is easier to make the package thinner and smaller than with the wire bonding method, which connects the chip and leads via wire. Become.

【0061】(4).回路素子の直上にパッドを配置し
、このパッドにリード配線の一端を接続したことにより
、チップ内部の配線長を短くすることができるので、高
速LSIに好適なパッケージを提供することができる。
(4). By arranging the pad directly above the circuit element and connecting one end of the lead wire to this pad, the length of the wire inside the chip can be shortened, so that a package suitable for high-speed LSI can be provided.

【0062】(5).回路素子の直上に配置したパッド
の上に接続孔を設け、この接続孔の近傍に突起を設ける
ことにより、パッケージの多ピン化が容易になる。
(5). By providing a connection hole on a pad placed directly above a circuit element and providing a protrusion near the connection hole, it becomes easy to increase the number of pins in the package.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例である半導体集積回路装置の
要部を拡大して示す破断斜視図である。
FIG. 1 is a cutaway perspective view showing an enlarged main part of a semiconductor integrated circuit device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この半導体集積回路装置の要部を拡大して示す
断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing an enlarged main part of the semiconductor integrated circuit device.

【図3】この半導体集積回路装置の斜視図である。FIG. 3 is a perspective view of this semiconductor integrated circuit device.

【図4】この半導体集積回路装置の長辺方向の正面図で
ある。
FIG. 4 is a front view of the semiconductor integrated circuit device in the long side direction.

【図5】この半導体集積回路装置の短辺方向の正面図で
ある。
FIG. 5 is a front view of the semiconductor integrated circuit device in the short side direction.

【図6】この半導体集積回路装置の部分断面図である。FIG. 6 is a partial cross-sectional view of this semiconductor integrated circuit device.

【図7】この半導体集積回路装置の製造方法の一部を示
す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a part of the method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device.

【図8】この半導体集積回路装置の製造方法の一部を示
す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a part of the method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device.

【図9】この半導体集積回路装置の製造方法の一部を示
す斜視図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a part of the method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device.

【図10】この半導体集積回路装置の製造方法の一部を
示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a part of the method for manufacturing the semiconductor integrated circuit device.

【図11】この半導体集積回路装置の実装構造を示す正
面図である。
FIG. 11 is a front view showing the mounting structure of this semiconductor integrated circuit device.

【図12】本発明の他の実施例である半導体集積回路装
置の要部を拡大して示す断面図である。
FIG. 12 is a cross-sectional view showing an enlarged main part of a semiconductor integrated circuit device according to another embodiment of the present invention.

【図13】本発明のさらに他の実施例である半導体集積
回路装置の斜視図である。
FIG. 13 is a perspective view of a semiconductor integrated circuit device which is still another embodiment of the present invention.

【図14】本発明のさらに他の実施例である半導体集積
回路装置の長辺方向の正面図である。
FIG. 14 is a front view in the long side direction of a semiconductor integrated circuit device that is still another embodiment of the present invention.

【図15】本発明のさらに他の実施例である半導体集積
回路装置の長辺方向の正面図である。
FIG. 15 is a front view in the long side direction of a semiconductor integrated circuit device which is still another embodiment of the present invention.

【図16】この半導体集積回路装置の要部を拡大して示
す断面図である。
FIG. 16 is a cross-sectional view showing an enlarged main part of this semiconductor integrated circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  パッケージ本体 2  突起 3  リード配線 4  半導体チップ 5  接続孔 6  表面保護膜(パッシベーション膜)7  パッド 8  Al配線 9a  n形半導体領域 9b  n形半導体領域 10  ゲート電極 11  p形半導体領域 12  n形ウエル 13  絶縁膜 14  接続孔 15  金属膜 16  切り込み 17  基板 18  電極 19  半田 20  導電性接着剤 21  Al配線 Q1 nチャネル形MISFET Q2 pチャネル形MISFET R  抵抗 1 Package body 2.Protrusion 3 Lead wiring 4 Semiconductor chip 5 Connection hole 6 Surface protection film (passivation film) 7 Pad 8 Al wiring 9a N-type semiconductor region 9b N-type semiconductor region 10 Gate electrode 11 p-type semiconductor region 12 N-type well 13 Insulating film 14 Connection hole 15 Metal film 16 Notch 17 Board 18 Electrode 19 Solder 20 Conductive adhesive 21 Al wiring Q1 n-channel MISFET Q2 p-channel MISFET R resistance

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  主面に複数の回路素子が形成された半
導体チップと、前記半導体チップの主面上に設けられた
ゴム状弾性体からなる突起部と、前記半導体チップの主
面上に形成され、その一端が前記半導体チップのパッド
に接続されると共に、その他端が前記突起の頂部に延在
したリード配線とを有することを特徴とする半導体集積
回路装置。
1. A semiconductor chip having a plurality of circuit elements formed on its main surface, a protrusion made of a rubber-like elastic body provided on the main surface of the semiconductor chip, and a protrusion formed on the main surface of the semiconductor chip. A semiconductor integrated circuit device comprising a lead wire having one end connected to a pad of the semiconductor chip and the other end extending to the top of the protrusion.
【請求項2】  前記ゴム状弾性体の弾性率は、100
MPaまたはそれ以下であることを特徴とする請求項1
記載の半導体集積回路装置。
2. The elastic modulus of the rubber-like elastic body is 100
Claim 1 characterized in that the pressure is MPa or less.
The semiconductor integrated circuit device described above.
【請求項3】  前記突起を回路素子上に設けたことを
特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
3. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the protrusion is provided on a circuit element.
【請求項4】  前記パッドを回路素子上に設けたこと
を特徴とする請求項1記載の半導体集積回路装置。
4. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the pad is provided on a circuit element.
【請求項5】  ゴム状弾性体からなるパッケージ本体
に半導体チップを封止し、前記パッケージ本体の表面に
形成したリード配線の一端を前記パッケージ本体に開孔
した接続孔を通じて前記半導体チップのパッドに接続す
るとともに、前記リード配線の他端を前記パッケージ本
体の表面に設けたゴム状弾性体からなる導電性の突起に
接続したことを特徴とする半導体集積回路装置。
5. A semiconductor chip is sealed in a package body made of a rubber-like elastic material, and one end of a lead wire formed on the surface of the package body is connected to a pad of the semiconductor chip through a connection hole formed in the package body. and the other end of the lead wiring is connected to a conductive protrusion made of a rubber-like elastic body provided on the surface of the package body.
【請求項6】  表面に突起を設けたゴム状弾性体から
なるパッケージ本体に半導体チップを封止する工程と、
前記パッケージ本体の一部を開孔して前記半導体チップ
のパッドに達する接続孔を形成する工程と、前記パッケ
ージ本体の表面にリード配線用の導電膜を堆積する工程
と、前記パッケージ本体およびその表面の導電膜に所定
数の切り込みを形成することにより、一端が前記接続孔
を通じて前記半導体チップのパッドに接続され、他端が
前記突起の頂部に延在するリード配線を形成する工程と
を有することを特徴とする請求項1、2、3または4記
載の半導体集積回路装置の製造方法。
6. A step of sealing a semiconductor chip in a package body made of a rubber-like elastic body with protrusions on the surface;
a step of opening a part of the package body to form a connection hole reaching a pad of the semiconductor chip; a step of depositing a conductive film for lead wiring on the surface of the package body; and a step of forming the package body and its surface. forming a lead wiring whose one end is connected to the pad of the semiconductor chip through the connection hole and whose other end extends to the top of the protrusion by forming a predetermined number of cuts in the conductive film. 5. The method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to claim 1, 2, 3, or 4.
【請求項7】  前記突起の側壁に傾斜部を設けること
を特徴とする請求項6記載の半導体集積回路装置の製造
方法。
7. The method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to claim 6, wherein a sloped portion is provided on a side wall of the protrusion.
【請求項8】  前記突起の頂部のリード配線と基板の
電極とを半田により接続したことを特徴とする請求項1
、2、3または4記載の半導体集積回路装置の実装構造
8. The lead wiring on the top of the protrusion and the electrode on the substrate are connected by solder.
A mounting structure for a semiconductor integrated circuit device according to , 2, 3 or 4.
【請求項9】  前記ゴム状弾性体からなる導電性の突
起と基板の電極とを導電性接着剤により接続したことを
特徴とする請求項5記載の半導体集積回路装置の実装構
造。
9. The mounting structure for a semiconductor integrated circuit device according to claim 5, wherein the conductive protrusion made of the rubber-like elastic body and the electrode of the substrate are connected by a conductive adhesive.
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