JPH04279549A - 精製テレフタル酸の製造方法 - Google Patents
精製テレフタル酸の製造方法Info
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- JPH04279549A JPH04279549A JP3041876A JP4187691A JPH04279549A JP H04279549 A JPH04279549 A JP H04279549A JP 3041876 A JP3041876 A JP 3041876A JP 4187691 A JP4187691 A JP 4187691A JP H04279549 A JPH04279549 A JP H04279549A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、精製テレフタル酸の製
造方法に関し、詳しくは、アルキルベンゼンを低級脂肪
族カルボン酸からなる溶媒中にて分子状酸素で液相酸化
し、得られた粗テレフタル酸を熱水に溶解し、この溶液
を第8族金属と接触させ、冷却し、晶析を2回に行なつ
て、母液から精製テレフタル酸及びその他の不純物とし
ての芳香族カルボン酸を分離して、母液中の有機物量を
低減し、次いで、この母液を低温にてp−キシレンにて
抽出処理して、精製テレフタル酸を得ると共に、母液中
に残存する有機物を低減せしめた精製テレフタル酸の製
造方法に関する。
造方法に関し、詳しくは、アルキルベンゼンを低級脂肪
族カルボン酸からなる溶媒中にて分子状酸素で液相酸化
し、得られた粗テレフタル酸を熱水に溶解し、この溶液
を第8族金属と接触させ、冷却し、晶析を2回に行なつ
て、母液から精製テレフタル酸及びその他の不純物とし
ての芳香族カルボン酸を分離して、母液中の有機物量を
低減し、次いで、この母液を低温にてp−キシレンにて
抽出処理して、精製テレフタル酸を得ると共に、母液中
に残存する有機物を低減せしめた精製テレフタル酸の製
造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】低級脂肪族カルボン酸からなる溶媒中に
て遷移金属化合物及び臭素化合物の存在下に分子状酸素
によつてアルキルベンゼンを液相連続酸化してテレフタ
ル酸を製造することは、工業的に大規模に行なわれてい
る。このようにして得られる粗テレフタル酸は、通常、
相当量の不純物を含んでいるので、従来、これを精製し
た後、ポリエステルの原料として用いている。このよう
な粗テレフタル酸の精製方法としては、例えば、特公昭
41−16860号公報に記載されているように、粗テ
レフタル酸を熱水中に溶解させ、この溶液を水素存在下
にパラジウム等の第8族金属と接触させ、この後に溶液
を冷却し、精製テレフタル酸を晶析させる方法が知られ
ている。
て遷移金属化合物及び臭素化合物の存在下に分子状酸素
によつてアルキルベンゼンを液相連続酸化してテレフタ
ル酸を製造することは、工業的に大規模に行なわれてい
る。このようにして得られる粗テレフタル酸は、通常、
相当量の不純物を含んでいるので、従来、これを精製し
た後、ポリエステルの原料として用いている。このよう
な粗テレフタル酸の精製方法としては、例えば、特公昭
41−16860号公報に記載されているように、粗テ
レフタル酸を熱水中に溶解させ、この溶液を水素存在下
にパラジウム等の第8族金属と接触させ、この後に溶液
を冷却し、精製テレフタル酸を晶析させる方法が知られ
ている。
【0003】しかし、このような方法によれば、精製テ
レフタル酸を分離した後の母液には、溶解度相当のテレ
フタル酸のほかに、テレフタル酸誘導体である芳香族カ
ルボン酸等の有価物、特に、酸化によつてテレフタル酸
とし得るp−トルイル酸が相当量含まれている。従つて
、かかる母液をそのまま廃棄することは、p−トルイル
酸等の有価物を徒に失なうこととなり、他方、母液に含
まれる芳香族カルボン酸等の有機物が化学的酸素要求量
や生物学的酸素要求量が大きいので、環境汚染を招来す
ることとなる。
レフタル酸を分離した後の母液には、溶解度相当のテレ
フタル酸のほかに、テレフタル酸誘導体である芳香族カ
ルボン酸等の有価物、特に、酸化によつてテレフタル酸
とし得るp−トルイル酸が相当量含まれている。従つて
、かかる母液をそのまま廃棄することは、p−トルイル
酸等の有価物を徒に失なうこととなり、他方、母液に含
まれる芳香族カルボン酸等の有機物が化学的酸素要求量
や生物学的酸素要求量が大きいので、環境汚染を招来す
ることとなる。
【0004】一般に、目的物を分離した後の母液から有
価物を回収すると共に、環境汚染源である有機物の同伴
を低減する方法としては、従来、母液を有機溶媒と接触
させて、母液中に溶解している有機物を有機溶媒中に抽
出する方法がよく知られている。特に、前述したテレフ
タル酸の工業的製造における母液からp−トルイル酸を
回収するためには、米国特許第 4,500,732号
明細書に記載されているように、母液をp−キシレンに
て処理し、p−トルイル酸をp−キシレン中に抽出する
方法が有用である。しかし、この方法によれば、母液の
p−キシレンによる抽出時にp−キシレンの一部が母液
側に同伴し、p−キシレンが失なわれると共に、このよ
うに母液に同伴したp−キシレンが環境汚染源となるた
めに、母液に同伴する環境汚染物質を実質的に低減し得
ないという問題を有している。
価物を回収すると共に、環境汚染源である有機物の同伴
を低減する方法としては、従来、母液を有機溶媒と接触
させて、母液中に溶解している有機物を有機溶媒中に抽
出する方法がよく知られている。特に、前述したテレフ
タル酸の工業的製造における母液からp−トルイル酸を
回収するためには、米国特許第 4,500,732号
明細書に記載されているように、母液をp−キシレンに
て処理し、p−トルイル酸をp−キシレン中に抽出する
方法が有用である。しかし、この方法によれば、母液の
p−キシレンによる抽出時にp−キシレンの一部が母液
側に同伴し、p−キシレンが失なわれると共に、このよ
うに母液に同伴したp−キシレンが環境汚染源となるた
めに、母液に同伴する環境汚染物質を実質的に低減し得
ないという問題を有している。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の精製
テレフタル酸の製造における上記した問題を解決するた
めになされたものであつて、精製テレフタル酸を分離し
た後の母液の抽出に用いるp−キシレンの量を低減し、
更に、この抽出処理によつて、母液に同伴するp−キシ
レンの量を低減し、かくして、母液と共に排出される環
境汚染源となる有機物の量を低減することができる精製
テレフタル酸の製造方法を提供することを目的とする。
テレフタル酸の製造における上記した問題を解決するた
めになされたものであつて、精製テレフタル酸を分離し
た後の母液の抽出に用いるp−キシレンの量を低減し、
更に、この抽出処理によつて、母液に同伴するp−キシ
レンの量を低減し、かくして、母液と共に排出される環
境汚染源となる有機物の量を低減することができる精製
テレフタル酸の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明による精製テレフ
タル酸の製造方法は、低級脂肪族カルボン酸からなる溶
媒中にて遷移金属化合物及び臭素化合物の存在下に分子
状酸素によつてアルキルベンゼンを液相酸化して得られ
た粗テレフタル酸を熱水に溶解させ、この溶液を第8族
金属と接触させた後、100〜160℃の温度に冷却し
、第1回の晶析を行なつて、精製テレフタル酸を分離し
、次いで、この母液を20〜80℃の温度に冷却し、第
2回の晶析を行なつて、テレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸を分離し、その後、母液を20〜80℃の温度で
p−キシレンと接触させ、母液中の不純物を抽出除去す
ることを特徴とする。
タル酸の製造方法は、低級脂肪族カルボン酸からなる溶
媒中にて遷移金属化合物及び臭素化合物の存在下に分子
状酸素によつてアルキルベンゼンを液相酸化して得られ
た粗テレフタル酸を熱水に溶解させ、この溶液を第8族
金属と接触させた後、100〜160℃の温度に冷却し
、第1回の晶析を行なつて、精製テレフタル酸を分離し
、次いで、この母液を20〜80℃の温度に冷却し、第
2回の晶析を行なつて、テレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸を分離し、その後、母液を20〜80℃の温度で
p−キシレンと接触させ、母液中の不純物を抽出除去す
ることを特徴とする。
【0007】前述したように、低級脂肪族カルボン酸か
らなる溶媒中にて、触媒としての遷移金属化合物及び臭
素化合物の存在下に分子状酸素によつてアルキルベンゼ
ンを液相酸化して、テレフタル酸を製造する方法は、既
によく知られており、工業的に大規模に行なわれている
。かかるテレフタル酸の製造方法において、アルキルベ
ンゼンとしては、通常、p−キシレンが用いられており
、溶媒としては、酢酸が用いられている。触媒としての
遷移金属化合物としては、マンガン、コバルト、鉄、ク
ロム、ニツケル等の遷移金属の臭素塩、安息香酸塩、ナ
フテン酸塩、酢酸塩等のカルボン酸塩、アセチルアセト
ナート等が、また、臭素化合物としては、マンガン、コ
バルト、鉄、クロム、ニツケル等の臭素塩、臭化水素酸
、ジブロモエチレン、テトラブロモエタン等が用いられ
ている。アルキルベンゼンを酸化するための分子状酸素
としては、純酸素、空気、純酸素と不活性ガスとの混合
物等が用いられる。
らなる溶媒中にて、触媒としての遷移金属化合物及び臭
素化合物の存在下に分子状酸素によつてアルキルベンゼ
ンを液相酸化して、テレフタル酸を製造する方法は、既
によく知られており、工業的に大規模に行なわれている
。かかるテレフタル酸の製造方法において、アルキルベ
ンゼンとしては、通常、p−キシレンが用いられており
、溶媒としては、酢酸が用いられている。触媒としての
遷移金属化合物としては、マンガン、コバルト、鉄、ク
ロム、ニツケル等の遷移金属の臭素塩、安息香酸塩、ナ
フテン酸塩、酢酸塩等のカルボン酸塩、アセチルアセト
ナート等が、また、臭素化合物としては、マンガン、コ
バルト、鉄、クロム、ニツケル等の臭素塩、臭化水素酸
、ジブロモエチレン、テトラブロモエタン等が用いられ
ている。アルキルベンゼンを酸化するための分子状酸素
としては、純酸素、空気、純酸素と不活性ガスとの混合
物等が用いられる。
【0008】より具体的には、例えば、p−キシレンを
酸化してテレフタル酸を製造する場合には、原料p−キ
シレンは、通常、溶媒に対して1〜50重量%の割合で
用いられる。触媒としてコバルト化合物又はマンガン化
合物と臭素化合物とが用いられるときは、これらの化合
物は、溶媒に対して、コバルト原子が10〜5000重
量 ppm、マンガン原子が10〜5000重量 pp
m、臭素原子が10〜10000重量 ppmとなるよ
うに用いられる。また、分子状酸素を含むガスとして空
気が用いられるときは、空気は、p−キシレン1Kgに
対して、通常、0.5〜15N立方メートルの割合にて
酸化槽に供給される。反応は、通常、160〜260℃
、反応圧力4〜50Kg/平方センチメートルG、滞留
時間10〜200分の範囲で行なわれる。
酸化してテレフタル酸を製造する場合には、原料p−キ
シレンは、通常、溶媒に対して1〜50重量%の割合で
用いられる。触媒としてコバルト化合物又はマンガン化
合物と臭素化合物とが用いられるときは、これらの化合
物は、溶媒に対して、コバルト原子が10〜5000重
量 ppm、マンガン原子が10〜5000重量 pp
m、臭素原子が10〜10000重量 ppmとなるよ
うに用いられる。また、分子状酸素を含むガスとして空
気が用いられるときは、空気は、p−キシレン1Kgに
対して、通常、0.5〜15N立方メートルの割合にて
酸化槽に供給される。反応は、通常、160〜260℃
、反応圧力4〜50Kg/平方センチメートルG、滞留
時間10〜200分の範囲で行なわれる。
【0009】このようにして得られる粗テレフタル酸は
、不純物として4−カルボキシベンズアルデヒドを50
〜10000重量ppm 含んでおり、ポリエステルの
原料として用いるために、精製される。即ち、粗テレフ
タル酸を熱水中に溶解させ、高温高圧下、水素の存在下
に第8族金属と接触させ、この後、冷却し、晶析によつ
て精製テレフタル酸を得る。より詳細には、例えば、水
100重量部に対して粗テレフタル酸1〜60重量部を
180〜320℃の温度で溶解させ、純水素、水素と不
活性ガスとの混合物等の存在下、10〜120Kg/平
方センチメートルGの下で、ルテニウム、ロジウム、パ
ラジウム、白金、オスミウム等の第8族金属と1〜10
0分間、接触される。これら第8族金属は、通常、テレ
フタル酸熱水溶液に不溶性の担体、例えば、活性炭等に
担持させて用いられる。これらのなかでは、特に、活性
炭に担持させたパラジウムが精製効果の点から好ましく
用いられる。
、不純物として4−カルボキシベンズアルデヒドを50
〜10000重量ppm 含んでおり、ポリエステルの
原料として用いるために、精製される。即ち、粗テレフ
タル酸を熱水中に溶解させ、高温高圧下、水素の存在下
に第8族金属と接触させ、この後、冷却し、晶析によつ
て精製テレフタル酸を得る。より詳細には、例えば、水
100重量部に対して粗テレフタル酸1〜60重量部を
180〜320℃の温度で溶解させ、純水素、水素と不
活性ガスとの混合物等の存在下、10〜120Kg/平
方センチメートルGの下で、ルテニウム、ロジウム、パ
ラジウム、白金、オスミウム等の第8族金属と1〜10
0分間、接触される。これら第8族金属は、通常、テレ
フタル酸熱水溶液に不溶性の担体、例えば、活性炭等に
担持させて用いられる。これらのなかでは、特に、活性
炭に担持させたパラジウムが精製効果の点から好ましく
用いられる。
【0010】このようにして処理した粗テレフタル酸の
熱水溶液は、次いで、第1回の晶析処理に付される。第
1回の晶析工程では、上記熱水溶液を100〜160℃
の温度に冷却して、水溶液中のテレフタル酸の大部分を
精製テレフタル酸を晶析させ、これを母液から分離する
。このとき溶媒の一部を揮発させて留去してもよい粗テ
レフタル酸に含まれる不純物4−カルボキシベンズアル
デヒドは、前記精製工程において、殆どがより晶析で除
去されやすいp−トルイル酸に変換され、かくして、p
−トルイル酸は、テレフタル酸の第1回の晶析工程にお
いて、殆どが母液に残留する。
熱水溶液は、次いで、第1回の晶析処理に付される。第
1回の晶析工程では、上記熱水溶液を100〜160℃
の温度に冷却して、水溶液中のテレフタル酸の大部分を
精製テレフタル酸を晶析させ、これを母液から分離する
。このとき溶媒の一部を揮発させて留去してもよい粗テ
レフタル酸に含まれる不純物4−カルボキシベンズアル
デヒドは、前記精製工程において、殆どがより晶析で除
去されやすいp−トルイル酸に変換され、かくして、p
−トルイル酸は、テレフタル酸の第1回の晶析工程にお
いて、殆どが母液に残留する。
【0011】第1回の晶析工程の後の母液には、テレフ
タル酸を含む芳香族カルボン酸が1000〜10000
重量 ppm程度含まれている。ここに、上記芳香族カ
ルボン酸とは、テレフタル酸のほか、p−トルイル酸、
4−カルボキシベンズアルデヒド、ヒドロキシメチル安
息香酸、安息香酸、イソフタル酸、フタル酸、トリメリ
ット酸等を含むものとする。
タル酸を含む芳香族カルボン酸が1000〜10000
重量 ppm程度含まれている。ここに、上記芳香族カ
ルボン酸とは、テレフタル酸のほか、p−トルイル酸、
4−カルボキシベンズアルデヒド、ヒドロキシメチル安
息香酸、安息香酸、イソフタル酸、フタル酸、トリメリ
ット酸等を含むものとする。
【0012】そこで、本発明の方法によれば、第1回の
晶析工程の後の母液は、第2回の晶析工程に付される。 第2回の晶析工程では、母液を20〜80℃の温度に冷
却し、テレフタル酸を含む芳香族カルボン酸を析出させ
、これを濾過、沈降等、適宜の手段によつて分離する。 本発明の方法によれば、第2回の晶析工程の後の母液は
、晶析後の温度のまま、即ち、20〜80℃でp−キシ
レンに1〜30分程度接触され、母液中に残留するテレ
フタル酸を含む芳香族カルボン酸がp−キシレンに抽出
される。p−キシレンは、母液1リツトルに対して、通
常、0.05〜2リツトルの範囲で用いられる。
晶析工程の後の母液は、第2回の晶析工程に付される。 第2回の晶析工程では、母液を20〜80℃の温度に冷
却し、テレフタル酸を含む芳香族カルボン酸を析出させ
、これを濾過、沈降等、適宜の手段によつて分離する。 本発明の方法によれば、第2回の晶析工程の後の母液は
、晶析後の温度のまま、即ち、20〜80℃でp−キシ
レンに1〜30分程度接触され、母液中に残留するテレ
フタル酸を含む芳香族カルボン酸がp−キシレンに抽出
される。p−キシレンは、母液1リツトルに対して、通
常、0.05〜2リツトルの範囲で用いられる。
【0013】本発明の方法においては、第2回の晶析工
程を上記したように20〜80℃の温度で行なうと共に
、その後のp−キシレンによる抽出も、その温度範囲で
行なうことが重要である。第2回の晶析工程を80℃を
越える温度で行なうと、母液中に多量の芳香族カルボン
酸が残留し、従つて、抽出処理にも多量のp−キシレン
を必要とし、また、その後の抽出処理を80℃を越える
温度で行うと母液中へのp−キシレンの同伴量も増大す
るので、母液中の有機物量を低減することができない。 更に、ベンゼンやトルエンは、母液の抽出処理において
、母液に同伴する量が多く、本発明において用いるに適
さない。
程を上記したように20〜80℃の温度で行なうと共に
、その後のp−キシレンによる抽出も、その温度範囲で
行なうことが重要である。第2回の晶析工程を80℃を
越える温度で行なうと、母液中に多量の芳香族カルボン
酸が残留し、従つて、抽出処理にも多量のp−キシレン
を必要とし、また、その後の抽出処理を80℃を越える
温度で行うと母液中へのp−キシレンの同伴量も増大す
るので、母液中の有機物量を低減することができない。 更に、ベンゼンやトルエンは、母液の抽出処理において
、母液に同伴する量が多く、本発明において用いるに適
さない。
【0014】この後、p−キシレンは、蒸留等の方法に
よつてテレフタル酸を含む芳香族カルボン酸を分離した
後、再度、抽出溶媒として用いてもよく、また、p−ト
ルイル酸等の芳香族カルボン酸を含むまま、粗テレフタ
ル酸の製造原料として用いてもよい。他方、第2回の晶
析工程によつて得られたテレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸は、必要に応じて、粗テレフタル酸の製造原料と
混合して用いられる。
よつてテレフタル酸を含む芳香族カルボン酸を分離した
後、再度、抽出溶媒として用いてもよく、また、p−ト
ルイル酸等の芳香族カルボン酸を含むまま、粗テレフタ
ル酸の製造原料として用いてもよい。他方、第2回の晶
析工程によつて得られたテレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸は、必要に応じて、粗テレフタル酸の製造原料と
混合して用いられる。
【0015】
【発明の効果】本発明によれば、低級脂肪族カルボン酸
からなる溶媒中にて遷移金属化合物及び臭素化合物の存
在下に分子状酸素によつてアルキルベンゼンを液相酸化
して得られた粗テレフタル酸を熱水に溶解させ、この溶
液を第8族金属と接触させた後、第1回の晶析工程によ
つて精製テレフタル酸を得、次いで、より低温での第2
回の晶析工程によつて、テレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸を析出させて、これを分離する。
からなる溶媒中にて遷移金属化合物及び臭素化合物の存
在下に分子状酸素によつてアルキルベンゼンを液相酸化
して得られた粗テレフタル酸を熱水に溶解させ、この溶
液を第8族金属と接触させた後、第1回の晶析工程によ
つて精製テレフタル酸を得、次いで、より低温での第2
回の晶析工程によつて、テレフタル酸を含む芳香族カル
ボン酸を析出させて、これを分離する。
【0016】従つて、かかる本発明の方法によれば、母
液中の芳香族カルボン酸の量を著しく低減することがで
き、かくして、その後のp−キシレンによる抽出工程に
おいて、用いるp−キシレン量を低減することができる
と共に、このp−キシレンによる抽出を低温で行なうの
で、母液に同伴するp−キシレン量をも低減することが
できる。従つて、本発明によれば、母液の排水処理にお
ける負荷を低減することができる。
液中の芳香族カルボン酸の量を著しく低減することがで
き、かくして、その後のp−キシレンによる抽出工程に
おいて、用いるp−キシレン量を低減することができる
と共に、このp−キシレンによる抽出を低温で行なうの
で、母液に同伴するp−キシレン量をも低減することが
できる。従つて、本発明によれば、母液の排水処理にお
ける負荷を低減することができる。
【0017】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。水溶液中の芳香族カルボン酸は、液体クロマトグラ
フイーにて定量し、また、水溶液に同伴したp−キシレ
ンは、ベンゼン(和光純薬工業(株)製試薬特級)にて
抽出した後、ガスクロマトグラフイーで定量した。水溶
液に同伴したトルエンは三井ヘキサン(三井石油化学工
業(株)製)で、また、ベンゼンはp−キシレン(和光
純薬工業(株)製試薬特級)にてそれぞれ抽出した後、
ガスクロマトグラフイーで定量した。実施例中、通気ガ
ス量は、0℃、1気圧のときの値である。 実施例1 酢酸溶媒中、コバルト化合物、マンガン化合物及び臭素
化合物からなる触媒の存在下にp−キシレンを空気によ
り液相酸化して、粗テレフタル酸を得た。これを熱水中
に溶解させ、水素の存在下にパラジウム金属と接触させ
た後、第1回の晶析工程として、150℃に冷却し、晶
析させた精製テレフタル酸を母液から分離した。この母
液におけるテレフタル酸及び不純物としての芳香族カル
ボン酸の濃度は5300重量 ppmであつた。
本発明はこれら実施例により何ら限定されるものではな
い。水溶液中の芳香族カルボン酸は、液体クロマトグラ
フイーにて定量し、また、水溶液に同伴したp−キシレ
ンは、ベンゼン(和光純薬工業(株)製試薬特級)にて
抽出した後、ガスクロマトグラフイーで定量した。水溶
液に同伴したトルエンは三井ヘキサン(三井石油化学工
業(株)製)で、また、ベンゼンはp−キシレン(和光
純薬工業(株)製試薬特級)にてそれぞれ抽出した後、
ガスクロマトグラフイーで定量した。実施例中、通気ガ
ス量は、0℃、1気圧のときの値である。 実施例1 酢酸溶媒中、コバルト化合物、マンガン化合物及び臭素
化合物からなる触媒の存在下にp−キシレンを空気によ
り液相酸化して、粗テレフタル酸を得た。これを熱水中
に溶解させ、水素の存在下にパラジウム金属と接触させ
た後、第1回の晶析工程として、150℃に冷却し、晶
析させた精製テレフタル酸を母液から分離した。この母
液におけるテレフタル酸及び不純物としての芳香族カル
ボン酸の濃度は5300重量 ppmであつた。
【0018】次いで、この母液を20℃まで冷却して、
第2回の晶析工程を行なつて、析出したテレフタル酸を
含む芳香族カルボン酸を濾過によつて分離した。この後
、母液1リツトルに対してp−キシレンを0.17リツ
トルの割合で20℃で15分間、向流にて接触させて抽
出した。母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシ
レン量を表1に示す。 実施例2〜5 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ30℃
、40℃、70℃及び80℃で行ない、析出した芳香族
カルボン酸を濾過して分離した後、それぞれ上記の温度
で母液1リツトルに対してp−キシレンを0.17リツ
トルの割合で15分間、向流にて接触させて抽出した。 母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を
表1に示す。 実施例6〜8 実施例1において、第2回の晶析工程を70℃で行ない
、析出した芳香族カルボン酸を濾過して分離した後、上
記の温度で母液1リツトルに対してp−キシレンをそれ
ぞれ0.1リツトル、0.25リツトル及び0.5リツ
トルの割合で15分間、向流にて接触させて抽出した。 母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を
表1に示す。 比較例1及び2 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ100
℃及び140℃で行ない、析出した芳香族カルボン酸を
濾過して分離した後、それぞれ上記の温度で母液1リツ
トルに対してp−キシレンを0.17リツトルの割合で
15分間、向流にて接触させて抽出した。母液中の残存
芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を表1に示す。 比較例3及び4 実施例1において、第2回の晶析工程を70℃で行ない
、析出した芳香族カルボン酸を濾過して分離した後、上
記の温度で母液1リツトルに対して、それぞれベンゼン
及びキシレンを0.17リツトルの割合で15分間、向
流にて接触させて抽出した。母液中の残存芳香族カルボ
ン酸量及びベンゼン量又はキシレン量を表1に示す。 比較例5〜7 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ20℃
、40℃及び70℃で行ない、析出した芳香族カルボン
酸を濾過して分離したままの母液の残存芳香族カルボン
酸量を表1に示す。
第2回の晶析工程を行なつて、析出したテレフタル酸を
含む芳香族カルボン酸を濾過によつて分離した。この後
、母液1リツトルに対してp−キシレンを0.17リツ
トルの割合で20℃で15分間、向流にて接触させて抽
出した。母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシ
レン量を表1に示す。 実施例2〜5 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ30℃
、40℃、70℃及び80℃で行ない、析出した芳香族
カルボン酸を濾過して分離した後、それぞれ上記の温度
で母液1リツトルに対してp−キシレンを0.17リツ
トルの割合で15分間、向流にて接触させて抽出した。 母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を
表1に示す。 実施例6〜8 実施例1において、第2回の晶析工程を70℃で行ない
、析出した芳香族カルボン酸を濾過して分離した後、上
記の温度で母液1リツトルに対してp−キシレンをそれ
ぞれ0.1リツトル、0.25リツトル及び0.5リツ
トルの割合で15分間、向流にて接触させて抽出した。 母液中の残存芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を
表1に示す。 比較例1及び2 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ100
℃及び140℃で行ない、析出した芳香族カルボン酸を
濾過して分離した後、それぞれ上記の温度で母液1リツ
トルに対してp−キシレンを0.17リツトルの割合で
15分間、向流にて接触させて抽出した。母液中の残存
芳香族カルボン酸量及びp−キシレン量を表1に示す。 比較例3及び4 実施例1において、第2回の晶析工程を70℃で行ない
、析出した芳香族カルボン酸を濾過して分離した後、上
記の温度で母液1リツトルに対して、それぞれベンゼン
及びキシレンを0.17リツトルの割合で15分間、向
流にて接触させて抽出した。母液中の残存芳香族カルボ
ン酸量及びベンゼン量又はキシレン量を表1に示す。 比較例5〜7 実施例1において、第2回の晶析工程をそれぞれ20℃
、40℃及び70℃で行ない、析出した芳香族カルボン
酸を濾過して分離したままの母液の残存芳香族カルボン
酸量を表1に示す。
【0019】
【表1】
Claims (1)
- 【請求項1】低級脂肪族カルボン酸からなる溶媒中にて
遷移金属化合物及び臭素化合物の存在下に分子状酸素に
よつてアルキルベンゼンを液相酸化して得られた粗テレ
フタル酸を熱水に溶解させ、この溶液を第8族金属と接
触させた後、100〜160℃の温度に冷却し、第1回
の晶析を行なつて、精製テレフタル酸を分離し、次いで
、この母液を20〜80℃の温度に冷却し、第2回の晶
析を行なつて、テレフタル酸を含む芳香族カルボン酸を
分離し、その後、母液を20〜80℃の温度でp−キシ
レンと接触させ、母液中の不純物を抽出除去することを
特徴とするテレフタル酸の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3041876A JP2899927B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 精製テレフタル酸の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3041876A JP2899927B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 精製テレフタル酸の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04279549A true JPH04279549A (ja) | 1992-10-05 |
JP2899927B2 JP2899927B2 (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=12620474
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3041876A Expired - Fee Related JP2899927B2 (ja) | 1991-03-07 | 1991-03-07 | 精製テレフタル酸の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2899927B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005200402A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-28 | Mitsui Chemicals Inc | テレフタル酸の製造方法 |
JP2008511647A (ja) * | 2004-09-02 | 2008-04-17 | イーストマン ケミカル カンパニー | 最適化液相酸化 |
-
1991
- 1991-03-07 JP JP3041876A patent/JP2899927B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005200402A (ja) * | 2003-12-19 | 2005-07-28 | Mitsui Chemicals Inc | テレフタル酸の製造方法 |
JP4657674B2 (ja) * | 2003-12-19 | 2011-03-23 | 三井化学株式会社 | テレフタル酸の製造方法 |
JP2008511647A (ja) * | 2004-09-02 | 2008-04-17 | イーストマン ケミカル カンパニー | 最適化液相酸化 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2899927B2 (ja) | 1999-06-02 |
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