JPH04277033A - Apparatus for automatically controlling chemical reaction - Google Patents

Apparatus for automatically controlling chemical reaction

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JPH04277033A
JPH04277033A JP6135591A JP6135591A JPH04277033A JP H04277033 A JPH04277033 A JP H04277033A JP 6135591 A JP6135591 A JP 6135591A JP 6135591 A JP6135591 A JP 6135591A JP H04277033 A JPH04277033 A JP H04277033A
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tank
reaction
temperature
chemical
chemical reaction
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Takao Kobayashi
孝夫 小林
Shizuo Takahashi
静雄 高橋
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Todoroki Sangyo KK
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/0006Controlling or regulating processes
    • B01J19/004Multifunctional apparatus for automatic manufacturing of various chemical products

Abstract

PURPOSE:To automatically control a chemical reaction experiment by connecting a plurality of chemical reactors to a computer to monitor the reaction states of the respective reactors by said computer and controlling the cooling, heating and chemical liquid dropping mechanisms of the respective chemical reactors on the basis of the monitoring by the computer. CONSTITUTION:A plurality of chemical reactors A'-having cooling, heating and chemical liquid dropping mechanisms are connected to a computer CPU 1. The computer monitors the reaction states of the respective chemical reactors and, on the basis of this monitoring, the cooling, heating and chemical solution dripping mechanisms of the respective reactors are controlled by the computer. As a result, a chemical reaction experiment can automatically be controlled. Especially, when many experiments are simultaneously performed, the marked conservation of labor is achieved. Reaction control is really practical over various reaction conditions, the recording and storage of various data, safe control or the like.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、複数の化学反応槽の反
応条件を一度に管理できる化学反応自動管理システムに
関するもので、特に反応試験を行うときに役立つ。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic chemical reaction management system that can manage the reaction conditions of a plurality of chemical reaction tanks at once, and is particularly useful when conducting reaction tests.

【0002】0002

【従来の技術】多くの原子、あるいはその集合体は、外
側を飛び回る電子のわずかな軌道の変化で、化学的性質
が大きく変化する。このため、同じ化学物質を混ぜて反
応を行っても、温度、圧力、モル濃度比、触媒の有無な
どの条件が変化すると、反応速度、反応過程、反応後の
生成物などが異なってくるのである。
BACKGROUND OF THE INVENTION The chemical properties of many atoms or aggregates thereof change significantly due to slight changes in the orbits of electrons flying around the outside. For this reason, even if the same chemical substances are mixed and reacted, changes in conditions such as temperature, pressure, molar concentration ratio, presence or absence of catalyst, etc. will cause the reaction rate, reaction process, and products after the reaction to differ. be.

【0003】従って、化学反応によって物質を製造する
ときの生産性は、当該反応の反応条件に大きく左右され
ざるを得ない。とすれば、より好ましい反応条件で反応
を行うことが強く望まれるが、そのためには、数多くの
実験を行ってデータを集めることが必要である。
[0003] Therefore, the productivity when producing substances by chemical reactions must be greatly influenced by the reaction conditions of the reactions. Therefore, it is strongly desired to carry out the reaction under more preferable reaction conditions, but to do so, it is necessary to conduct numerous experiments and collect data.

【0004】また、新化学物質の開発も、今までとは別
の条件で反応実験を行ってみることから始まる。
[0004] The development of new chemical substances also begins by conducting reaction experiments under conditions different from those used up until now.

【0005】しかし、これらの化学反応の実験は、しば
しば数時間以上にも及び、技術者不足の今日においては
、実際に実験を行う人材が不足しがちであった。
[0005] However, these chemical reaction experiments often last several hours or more, and in today's shortage of engineers, there tends to be a shortage of human resources to actually conduct the experiments.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来の実験
実行に人手不足の問題があったことに鑑みてなされたも
ので、自動的に反応実験を行い、更には自動でデータ収
集するシステムを提供することを技術的課題とする。
[Problems to be Solved by the Invention] The present invention was made in view of the problem of lack of manpower in conventional experiment execution. The technical challenge is to provide the following.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明においては、各自
冷却機構、加熱機構、攪拌機構、薬液滴下機構、真空圧
制禦機構などを備えた複数の化学反応槽に対し、これら
の槽内の温度、真空圧、攪拌機構の回転トルク算定値、
経過時間などの情報を集め、これらの情報に基づいて、
予じめ与えられた反応条件に合致するように、加熱機構
、冷却機構、薬液滴下機構、真空圧制御機構などを操作
するという手段を採用することによって、自動的に複数
の反応実験を行う化学反応自動管理システムを提供した
のであり、このとき、要すれば、槽内の温度、真空圧、
攪拌機構の回転トルク、経過時間などの情報を記憶し、
出力するようにすることもできる。
[Means for Solving the Problems] In the present invention, the temperature inside a plurality of chemical reaction tanks each equipped with a cooling mechanism, a heating mechanism, a stirring mechanism, a chemical liquid dropping mechanism, a vacuum pressure control mechanism, etc. is controlled. , vacuum pressure, calculated rotational torque of the stirring mechanism,
Collect information such as elapsed time, and based on this information,
Chemistry that automatically performs multiple reaction experiments by operating heating mechanisms, cooling mechanisms, chemical liquid dropping mechanisms, vacuum pressure control mechanisms, etc. to match pre-given reaction conditions. The company provided an automatic reaction management system, and at this time, if necessary, the temperature, vacuum pressure,
Memorizes information such as the rotational torque of the stirring mechanism and elapsed time,
It can also be configured to output.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明を、第1〜第4実施例に基づい
て説明する。
[Embodiments] The present invention will be explained below based on first to fourth embodiments.

【0009】図1、図2に示す第1実施例は、複数の反
応槽で同種の実験を行う際の、反応温度と薬液滴下条件
を管理することを目的とする。
The first embodiment shown in FIGS. 1 and 2 is aimed at controlling the reaction temperature and chemical solution dropping conditions when conducting the same type of experiment in a plurality of reaction vessels.

【0010】まず、8槽のジャケット型の反応槽A・B
・…が設置され、8槽の反応槽それぞれに、冷却機構と
加熱機構、それに加えて3系統の薬液滴下機構が設けら
れる。この各反応槽と各機構の組み合わせを実験装置A
’・B’・…とする。すると、これら8機の実験装置A
’・B’・…は、1台の制御器CPU1によって、同時
に統括制御される。
First, 8 jacket-type reaction tanks A and B
... is installed, and each of the eight reaction tanks is equipped with a cooling mechanism, a heating mechanism, and three systems of chemical liquid dripping mechanisms. The combination of each reaction tank and each mechanism is shown in experimental equipment A.
'・B'・... Then, these eight experimental devices A
', B', . . . are simultaneously centrally controlled by one controller CPU1.

【0011】以下、これらジャケット型反応槽を中心と
する実験装置の内、1機(実験装置A’)を代表例とし
てシステム構成を説明する。
[0011] Below, the system configuration will be explained using one of these experimental apparatuses (experimental apparatus A') as a representative example, which mainly uses jacket type reaction vessels.

【0012】当然、この反応槽Aにも、冷却機構、加熱
機構、3系統の薬液滴下機構が設けられ、制御器CPU
1と通信ケーブルで連繋されている。
Naturally, this reaction tank A is also provided with a cooling mechanism, a heating mechanism, and three systems of chemical liquid dropping mechanisms, and the controller CPU
1 and is connected via a communication cable.

【0013】このうち、冷却機構は、槽内の温度をリア
ルタイムで計測する温度センサA0、及び冷却器A11
とその冷却器A11によって供給される冷却水を反応槽
A周囲のジャケット内に導く冷却路A12、及び循環ポ
ンプA13、それに反応槽A周囲に冷気を送風する冷却
ファンA14によって構成される水冷空冷併用式であり
、これら冷却器A11、及び冷却ファンA14の作動は
、制御器CPU1によって制御される。
Among these, the cooling mechanism includes a temperature sensor A0 that measures the temperature inside the tank in real time, and a cooler A11.
A cooling path A12 that guides the cooling water supplied by the cooler A11 into the jacket surrounding the reaction tank A, a circulation pump A13, and a cooling fan A14 that blows cold air around the reaction tank A. The operation of the cooler A11 and the cooling fan A14 is controlled by the controller CPU1.

【0014】また、加熱機構としては、前記温度センサ
A0と、制御器CPU1によって制御される電気加熱器
A21、及び加熱器A21で加熱された熱媒体を蓄えて
反応槽Aを温める加熱槽A22が採用され、全体として
オイルバス方式となっている。
The heating mechanism includes the temperature sensor A0, an electric heater A21 controlled by the controller CPU1, and a heating tank A22 that stores the heat medium heated by the heater A21 and warms the reaction tank A. The entire system is an oil bath system.

【0015】更に、3系統の薬液滴下機構は、それぞれ
、添加薬液α、β、γを蓄えた貯蔵容器A31と容器内
の薬液を反応槽A内に送り込む薬液路A32、それに貯
蔵容器の重量を測定する電子天秤A33と薬液ポンプA
34によって構成されている。このうち、薬液ポンプA
34には、轟産業社製の定量滴下ポンプ(型式番号;C
P1−1)が使用されている。この定量滴下ポンプは、
制御器CPU1の指令に従って滴下スピードを変化させ
ることができると共に、電子天秤から容器の重量変化を
送知されて所定時間当たりの薬液滴下量を積算し、この
積算値を制御器CPU1へ報知することもできる。
Furthermore, the three systems of chemical liquid dropping mechanisms each include a storage container A31 storing added chemical liquids α, β, and γ, a chemical liquid path A32 for feeding the chemical liquid in the containers into the reaction tank A, and a storage container A31 that stores the added chemical liquids α, β, and γ. Electronic balance A33 and chemical pump A to be measured
34. Of these, chemical liquid pump A
34 is a metering drip pump manufactured by Todoroki Sangyo Co., Ltd. (model number: C
P1-1) is used. This metered drip pump is
The dropping speed can be changed according to commands from the controller CPU1, and the electronic balance notifies the weight change of the container, integrates the amount of drug solution dropped per predetermined time, and reports this integrated value to the controller CPU1. You can also do it.

【0016】制御器CPU1は、 ■  日本電気社製  32ビット小型コンピュータ型
式番号;PC−9801DX2 ■  日本電気社製  モニタ装置 型式番号;PC−KD882 ■  日本電気社製  プリンタ装置 型式番号;PC−PR101G2 ■  I・Oデータ社製  メモリ装置型式番号;PI
O−9234G−4ML■  CONTEC社製  I
F回路付アナログ−デジタル変換器 型式番号;AD12−16TA(98)■  CONT
EC社製  IF回路付デジタル−アナログ変換器 型式番号;DA12−16(98) ■  日本電気社製  IF回路付通信ケーブルRS2
32C 型式番号;PC−9861K によって構成される。
The controller CPU1 is: ■ 32-bit small computer model number, manufactured by NEC Corporation; PC-9801DX2; ■ Monitor device model number, manufactured by NEC Corporation; PC-KD882; ■ Printer device model number, manufactured by NEC Corporation; PC-PR101G2; ■ Memory device model number manufactured by I/O Data Co., Ltd.: PI
O-9234G-4ML■ Manufactured by CONTEC I
Analog-digital converter model number with F circuit; AD12-16TA (98) CONT
Digital-to-analog converter with IF circuit manufactured by EC Model number: DA12-16 (98) ■ Communication cable with IF circuit manufactured by NEC Corporation RS2
32C model number: PC-9861K.

【0017】このうち小型コンピュータには、予じめ、
実験開始温度、実験温度と許容温度差、及び、異常判定
温度、更に、薬液滴下量と滴下種を入力設定して、実験
準備をすることとなる。実験開始温度は実験を開始する
ときの温度であり、実験前、槽内はこの温度に保たれる
。また、薬液滴下量は、各滴下種ごとに、モニタに表示
される、縦軸に滴下量を横軸に経過時間を取ったグラフ
に入力できるもので、実験開始からの時間経過にしたが
って、滴下量が変化するように設定することもできる。
[0017] Among these, small computers are equipped with
The experiment is prepared by inputting and setting the experiment start temperature, the allowable temperature difference between the experiment temperature and the allowable temperature difference, the abnormality determination temperature, and the amount and type of chemical solution to be dropped. The experiment start temperature is the temperature at which the experiment starts, and the inside of the tank is maintained at this temperature before the experiment. In addition, the amount of chemical solution dropped can be entered into a graph displayed on the monitor for each type of drop, with the vertical axis showing the drop amount and the horizontal axis showing the elapsed time. It can also be set so that the amount changes.

【0018】実際に実験開始を制御器CPU1に指令す
ると、制御器CPU1は、8槽の反応槽の内、1槽の反
応槽から、実験開始操作を行う。まず、制御器CPU1
が、最初に開始操作を行う反応槽Aに配設される冷却機
構、加熱機構、薬液滴下機構などへの通信回線を開き、
各機構へ制御命令を通信する。つまり、実験装置A’へ
実験開始操作を行う。この制御器CPU1からの制御命
令によって、反応槽Aでは、0時間における設定薬液滴
下が開始されると共に、加熱機構または冷却機構が作動
して槽内温度が実験温度に近づき、反応槽Aでの実験が
開始される。実験装置A’での実験開始操作は、最初の
0.15秒間に行われ、0.15秒経過すると、他の7
槽の反応槽B・C・…に対し、0.15秒ごとに順繰り
に各実験装置B’・C’・…へ通信回線を切り換えなが
ら、それぞれに対し、実験開始操作を行う。
When the controller CPU1 is actually instructed to start the experiment, the controller CPU1 starts the experiment from one reaction tank among the eight reaction tanks. First, controller CPU1
opens the communication line to the cooling mechanism, heating mechanism, chemical liquid dripping mechanism, etc. installed in reaction tank A, which will perform the starting operation first.
Communicate control commands to each mechanism. That is, an experiment start operation is performed on the experimental apparatus A'. In accordance with this control command from the controller CPU1, in the reaction tank A, the preset chemical solution dropping at time 0 is started, and the heating mechanism or cooling mechanism is activated to bring the temperature inside the tank closer to the experimental temperature. The experiment begins. The experiment start operation on experimental device A' is performed during the first 0.15 seconds, and after 0.15 seconds, the other 7
The experiment start operation is performed for each of the reaction vessels B, C, . . . while switching the communication line to each experimental apparatus B', C', . . . in turn every 0.15 seconds.

【0019】こうして、全反応槽で実験が開始されると
、制御器CPU1は、再び、最初の反応槽Aの各機構へ
の通信回路を開き、各機構から、測定槽内温度、薬液滴
下量を通信され、このデータを、反応槽Aにおける実験
開始からの経過時間と組にして記憶する。このデータ収
集も0.15秒間で行われ、データ収集開始から0.1
5秒経過すると、他の7槽の反応槽に対し、0.15秒
ごとに順繰りに各反応槽に対応する各機構への通信回線
を切り換えながら、それぞれに対し、データ収集(以下
、モニタリングと称する)を行うのである。こうして、
7槽すべての反応槽に対してモニタリングが終了すると
、反応槽Aに戻って、0.15秒ごとに、順番に8槽の
反応槽に対し、実験終了までモニタリングを繰り返す。 また、所定時間が経過すると薬液滴下量を変化させるよ
うに予じめ設定されているときは、各反応槽での実験開
始操作から一定時間経過して後、当該反応槽への最初の
通信再開のときに、当該反応槽に対応する薬液滴下機構
へ新しい制御指令を送って滴下量を変化させる。
[0019] When the experiment is started in all the reaction vessels, the controller CPU1 again opens the communication circuit to each mechanism of the first reaction vessel A, and receives information from each mechanism such as the temperature inside the measurement vessel and the amount of chemical solution dropped. This data is stored in combination with the elapsed time from the start of the experiment in reaction tank A. This data collection is also performed in 0.15 seconds, and 0.1 seconds from the start of data collection.
After 5 seconds have elapsed, data collection (hereinafter referred to as monitoring) begins for each of the other seven reaction tanks, switching the communication line to each mechanism corresponding to each reaction tank in turn every 0.15 seconds. ). thus,
When the monitoring for all seven reaction vessels is completed, the system returns to reaction vessel A and repeats monitoring for the eight reaction vessels in order every 0.15 seconds until the end of the experiment. In addition, if it is set in advance to change the amount of chemical solution dropped after a predetermined period of time has elapsed, the first communication to the reaction tank will be resumed after a certain period of time has elapsed from the experiment start operation in each reaction tank. At this time, a new control command is sent to the chemical liquid dropping mechanism corresponding to the reaction tank to change the dropping amount.

【0020】さて、実験の進行に伴いある反応槽で槽内
温度が変化すると、制御器CPU1は、当該反応槽のモ
ニタリングのときに、槽内温度の測定値を通信され、測
定温度が設定された実験温度よりも許容温度差以上高け
れば、このモニタリング時間の間に、冷却機構を作動さ
せる指令を発する。また、逆に、測定温度が設定実験温
度よりも許容温度差以上低ければ、加熱機構を作動させ
る指令を発する。この後、0.15秒のモニタリング時
間が終われば、他の7槽のモニタリングを行い、1.0
5秒後に再びこの反応槽のモニタリングを行う。この1
.05秒の空白の間は、加熱機構及び冷却機構は先の指
令に従って作動している。次いで、当該反応槽に再びモ
ニタリングが行われたときにも、制御器CPU1は槽内
温度の測定値を通信され、この測定値に基づいて、新し
い適当な制御指令を発する。しかして、この冷却機構、
加熱機構の作動制御の繰り返しにより、槽内温度が調節
されるのである。
Now, when the temperature inside a certain reaction tank changes as the experiment progresses, the controller CPU1 receives the measured value of the temperature inside the tank when monitoring that reaction tank, and sets the measured temperature. If the temperature is higher than the experimental temperature by more than an allowable temperature difference, a command to operate the cooling mechanism is issued during this monitoring time. Conversely, if the measured temperature is lower than the set experimental temperature by more than the allowable temperature difference, a command to operate the heating mechanism is issued. After this, when the 0.15 seconds of monitoring time is over, the other 7 tanks are monitored and 1.0
The reactor is monitored again after 5 seconds. This one
.. During the 05 second gap, the heating and cooling mechanisms are operating according to the previous commands. Then, when the reaction tank is again monitored, the controller CPU1 is also informed of the measured value of the temperature inside the tank, and issues a new appropriate control command based on this measured value. However, this cooling mechanism
The temperature inside the tank is adjusted by repeatedly controlling the operation of the heating mechanism.

【0021】ただし、添加薬液を短時間に大量に滴下し
たときには、測定可能な槽内温度が一時的に不安定な状
態になっているので、薬液滴下機構からの情報に応じて
、冷却機構、加熱機構の作動制御を一時見合わせるよう
に設定してある。
However, when a large amount of the additive chemical solution is dropped in a short period of time, the measurable temperature inside the tank is temporarily unstable, so the cooling mechanism, The operation control of the heating mechanism is temporarily suspended.

【0022】更に、もし、実験途中にある反応槽の槽内
温度が異常判定値よりも高くなったときは、当該反応槽
のモニタリングのときにこれを発見し、すぐさま、薬液
滴下を中止し、冷却機構を作動させ、反応を停止させる
べく指令を発する。ただし、これは、温度が上がる程、
反応が進行する実験を行っている場合のみである。
Furthermore, if the temperature inside the reaction tank becomes higher than the abnormality judgment value during the experiment, this will be discovered during monitoring of the reaction tank, and the dropping of the chemical solution will be immediately stopped. It activates the cooling mechanism and issues a command to stop the reaction. However, as the temperature rises,
This is only true if you are conducting an experiment where the reaction is progressing.

【0023】また、各反応槽における温度センサから通
信される槽内温度、薬液ポンプから送信される薬液滴下
量は、小型コンピュータで計測する、各反応槽における
実験開始からの経過時間と組にして、各反応槽ごとに記
憶される(ただし、本実施例においては、最大48時間
まで)。このデータは、モニタリング実行中も、モニタ
装置に出力表示することができるし、プリンタ装置から
出力することもできる。また、実験終了後も、データは
保存され、所望のときに出力できる。
[0023] In addition, the temperature inside the tank communicated from the temperature sensor in each reaction tank and the amount of chemical solution dripping sent from the chemical pump are combined with the elapsed time from the start of the experiment in each reaction tank, which is measured by a small computer. , are stored for each reaction tank (however, in this example, up to 48 hours). This data can be output and displayed on a monitor device even during monitoring execution, and can also be output from a printer device. Furthermore, even after the experiment is finished, the data is saved and can be output when desired.

【0024】なお、本第1実施例においては、制御器C
PU1が一度に1つの実験装置に対してしか通信・制御
できないので、各実験装置を順繰りに制御する方法を採
用している。
Note that in the first embodiment, the controller C
Since the PU 1 can communicate with and control only one experimental device at a time, a method is adopted in which each experimental device is controlled in turn.

【0025】こうして、8槽の反応槽で反応が終了した
なら、各反応槽内の生成物を収集検査すると共に、制御
器CPU1に記憶されるデータを整理した後、器具を洗
浄するなどの後片付けを行えば、実験が終了する。この
実験を行った際の反応条件の設定値は制御器CPU1に
記憶保存しておくことができ(ただし、最大99パター
ンまで)、所望のときに呼び出して、同じ条件で実験を
行うことができる。
[0025] When the reactions have finished in the eight reaction vessels, the products in each reaction vessel are collected and inspected, the data stored in the controller CPU1 is organized, and the equipment is cleaned up afterward. If you do this, the experiment will end. The set values of the reaction conditions used when conducting this experiment can be stored in the controller CPU 1 (up to 99 patterns), and can be recalled at any time to perform the experiment under the same conditions. .

【0026】また、図3、図4に示す第2実施例は、複
数の反応槽で同種の実験を行う際の、反応温度と薬液滴
下条件と反応槽内の液体の粘度を管理することを目的と
する。
In addition, the second embodiment shown in FIGS. 3 and 4 makes it possible to control the reaction temperature, chemical drop conditions, and viscosity of the liquid in the reaction tanks when conducting the same type of experiment in a plurality of reaction tanks. purpose.

【0027】第1実施例同様、8槽のジャケット型の反
応槽I・J・…が同時に設置され、8槽の反応槽それぞ
れに、冷却機構と加熱機構、3系統の薬液滴下機構、更
には、攪拌機構が設けられる。そこで、各反応槽と各機
構との組み合わせを実験装置I’・H’・…とする。更
に、これら8槽の反応槽の各機構を同時に統括制御する
、1台の制御器CPU2も設置される。
Similar to the first embodiment, eight jacket-type reaction tanks I, J,... are installed at the same time, and each of the eight reaction tanks is equipped with a cooling mechanism, a heating mechanism, three systems of chemical liquid dripping mechanisms, and , a stirring mechanism is provided. Therefore, the combinations of each reaction tank and each mechanism are referred to as experimental apparatuses I', H', . . . . Furthermore, one controller CPU2 is also installed, which simultaneously controls each mechanism of these eight reaction tanks.

【0028】以下、これら実験装置の内、1機(実験装
置I’)を代表例としてシステム構成を説明する。
The system configuration of one of these experimental apparatuses (experimental apparatus I') will be explained below as a representative example.

【0029】当然、この反応槽Iにも、冷却機構、加熱
機構、3系統の薬液滴下機構が設けられ、更に、攪拌機
構も設けられる。これら各機構は、制御器CPU2と通
信ケーブルで連繋されている。
Naturally, this reaction tank I is also provided with a cooling mechanism, a heating mechanism, and three systems of chemical solution dropping mechanisms, and is further provided with a stirring mechanism. Each of these mechanisms is linked to the controller CPU2 via a communication cable.

【0030】このうち、冷却機構は、第1実施例同様、
槽内の温度をリアルタイムで計測する温度センサI0、
冷却器I11と、その冷却器I11によって供給される
冷却水を反応槽I周囲のジャケット内に導く冷却路I1
2、及び循環ポンプI13、それに反応槽I周囲に冷気
を送風する冷却ファンI14によって構成される水−空
冷方式を採用している。また、これら冷却器I11、及
び冷却ファンI14の作動が、制御器CPU2によって
制御される点も第1実施例と同様である。
Of these, the cooling mechanism is similar to the first embodiment.
Temperature sensor I0 that measures the temperature inside the tank in real time,
A cooler I11 and a cooling path I1 that guides the cooling water supplied by the cooler I11 into the jacket around the reaction tank I.
2, a circulation pump I13, and a cooling fan I14 that blows cold air around the reaction tank I. Further, as in the first embodiment, the operation of the cooler I11 and the cooling fan I14 is controlled by the controller CPU2.

【0031】また、加熱機構としては、前記温度センサ
I0と、制御器CPU2によって制御される電気加熱器
I21、及び加熱器I21で加熱された熱媒体を蓄えて
反応槽Iを温める加熱槽I22が採用されており、この
点でも第1実施例と同じであると云える。
The heating mechanism includes the temperature sensor I0, an electric heater I21 controlled by the controller CPU2, and a heating tank I22 that stores the heat medium heated by the heater I21 and warms the reaction tank I. This point can be said to be the same as the first embodiment.

【0032】一方、3系統の薬液滴下機構は、やはり、
それぞれ、添加薬液δ、ε、ζを蓄えた貯蔵容器I31
と容器内の薬液を反応槽I内に送り込む薬液路I32、
それに貯蔵容器の重量を測定する電子天秤I33と薬液
ポンプI34によって構成されている。このうち、薬液
ポンプI34には、轟産業社製の定量滴下ポンプ(型式
番号;CP2−1)を使用している。この定量滴下ポン
プは、制御器CPU2の指令に従って滴下スピードを変
化させることができると共に、電子天秤から容器の重量
変化を送知されて所定時間当たりの薬液滴下量を積算し
、この積算値を制御器CPU2へ報知する。
[0032] On the other hand, the three systems of chemical liquid dripping mechanisms are still
Storage containers I31 storing additive chemical solutions δ, ε, and ζ, respectively
and a chemical liquid path I32 that sends the chemical liquid in the container into the reaction tank I,
It also includes an electronic balance I33 for measuring the weight of the storage container and a chemical liquid pump I34. Among these, a fixed-quantity dripping pump (model number: CP2-1) manufactured by Todoroki Sangyo Co., Ltd. is used as the chemical liquid pump I34. This fixed-quantity dripping pump can change the dripping speed according to commands from the controller CPU2, and also integrates the amount of drug solution dripped per predetermined time based on changes in the weight of the container sent from the electronic balance, and controls this cumulative value. device CPU2.

【0033】これに対し、攪拌機構は、反応槽Iの槽内
に収められる攪拌シャフトI41と、攪拌シャフトI4
1を駆動する電動回路I42によって構成される。電動
回路I42は、制御器CPU2に連繋されて制御される
と共に、電動回路I42の回転トルクを、回路内の電流
値と実効回転数から推定し、当該推定値を制御器CPU
2に送るようになっている。
On the other hand, the stirring mechanism includes a stirring shaft I41 housed in the reaction tank I and a stirring shaft I4.
1 is configured by an electric circuit I42 that drives the motor. The electric circuit I42 is connected and controlled by the controller CPU2, and estimates the rotational torque of the electric circuit I42 from the current value and effective rotation speed in the circuit, and transmits the estimated value to the controller CPU2.
It is set to be sent to 2.

【0034】この回転トルク推定の方法を更に具体的に
説明すると、攪拌シャフトI41を回転させるモータは
、所定回転数域内では、電圧、電流値と回転トルク、回
転数の間に一定の関係式が成立する。今、電圧が一定で
あるので、回路I42は、電流と回転数を計測すれば、
所定の関係式から回転トルクが算定できるのである。
To explain this rotational torque estimation method in more detail, the motor that rotates the stirring shaft I41 has a certain relational expression between the voltage, current value, rotational torque, and rotational speed within a predetermined rotational speed range. To establish. Now, since the voltage is constant, circuit I42 measures the current and rotation speed, and then
Rotational torque can be calculated from a predetermined relational expression.

【0035】また、制御器CPU2は、■  日本電気
社製  32ビット小型コンピュータ型式番号;PC−
9801DX2 ■  日本電気社製のモニタ装置 型式番号;PC−KD882 ■  日本電気社製のプリンタ装置 型式番号;PC−PR101GS ■  日本電気社製  IF回路付通信ケーブルRS2
32C 型式番号;PC−9861K などによって構成される。
In addition, the controller CPU2 is a 32-bit small computer model number manufactured by NEC Corporation; PC-
9801DX2 ■ Monitor device model number manufactured by NEC Corporation; PC-KD882 ■ Printer device model number manufactured by NEC Corporation; PC-PR101GS ■ Communication cable with IF circuit manufactured by NEC Corporation RS2
32C model number; composed of PC-9861K, etc.

【0036】このうち、小型コンピュータには、予じめ
、実験開始温度、実験温度と許容温度差、及び異常判定
温度、更に薬液滴下量と滴下種、異常回転トルク値が入
力設定される。なお、実験開始温度は実験を開始すると
きの温度であり、実験前、槽内はこの温度に保たれる。 また、薬液滴下量は、各滴下種ごとに、モニタに表示さ
れる、縦軸に滴下量を横軸に経過時間を取ったグラフに
入力できるもので、実験開始からの時間経過にしたがっ
て、滴下量が変化するように設定することもできる。
Among these, the experiment start temperature, the allowable temperature difference between the experiment temperature and the allowable temperature, the abnormality determination temperature, the amount of the chemical solution to be dropped, the type of the droplet, and the abnormal rotational torque value are input and set in the small computer in advance. Note that the experiment start temperature is the temperature at which the experiment starts, and the inside of the tank is maintained at this temperature before the experiment. In addition, the amount of chemical solution dropped can be entered into a graph displayed on the monitor for each type of drop, with the vertical axis showing the drop amount and the horizontal axis showing the elapsed time. It can also be set so that the amount changes.

【0037】実際に実験開始を制御器CPU2に指令す
ると、制御器CPU2は、第1実施例と同様の実験管理
を行う。つまり、制御器CPU2は、8槽の反応槽の内
、1槽の反応槽から、実験開始操作を行い始め、最初に
開始操作を行う反応槽Iに配設される冷却機構、加熱機
構、薬液滴下機構、攪拌機構などへの通信回線を開き、
0.15秒間に各機構へ制御命令を通信した後、他の7
槽の反応槽に対し、0.15秒ごとに順繰りに各反応槽
に対応する各機構への通信回線を切り換えながら、それ
ぞれに対し、実験開始操作を行うのである。また、制御
器CPU2からの制御命令によって、各反応槽で、0時
間における設定薬液滴下が開始されると共に、加熱機構
または冷却機構が作動して槽内温度が実験温度に近づく
点でも、第1実施例と同じである。
When the controller CPU2 is actually instructed to start the experiment, the controller CPU2 performs the same experiment management as in the first embodiment. That is, the controller CPU2 starts the experiment starting operation from one reaction tank among the eight reaction tanks, and controls the cooling mechanism, heating mechanism, and chemical liquid disposed in the reaction tank I that performs the starting operation first. Open communication lines to dripping mechanism, stirring mechanism, etc.
After communicating the control command to each mechanism within 0.15 seconds, the other 7
While switching the communication lines to each mechanism corresponding to each reaction tank in turn every 0.15 seconds, the experiment start operation is performed for each reaction tank. In addition, according to a control command from the controller CPU2, in each reaction tank, dropping of the set chemical solution at time 0 is started, and at the same time the heating mechanism or cooling mechanism is activated and the temperature inside the tank approaches the experimental temperature. It is the same as the example.

【0038】こうして、全反応槽で実験が開始されると
、制御器CPU2は、再び、最初の反応槽Iの各機構へ
の通信回路を開き、各機構から、測定槽内温度、薬液滴
下量、槽内液体の推定粘度を通信され、このデータを、
反応槽Iにおける実験開始からの経過時間と組にして記
憶する。つまり、第1実施例と同様にモニタリングを行
うのである。このモニタリングもやはり0.15秒間で
行われ、モニタリング開始から0.15秒経過すると、
他の7槽の反応槽に対し、0.15秒ごとに順繰りに各
反応槽に対応する各機構への通信回線を切り換えながら
、それぞれの反応槽に対し、モニタリングを行うのであ
る。こうして、7槽すべての反応槽に対してモニタリン
グが終了すると、反応槽Iに戻って、0.15秒ごとに
、順番に8槽の反応槽に対し、実験終了までモニタリン
グを繰り返す。また、所定時間が経過すると薬液滴下量
を変化させるように予じめ設定されているときは、各反
応槽での実験開始操作から一定時間経過して後、当該反
応槽への最初の通信再開のときに、薬液滴下機構へ新し
い制御指令を送って滴下量を変化させる。
[0038] When the experiment is started in all the reaction vessels, the controller CPU2 again opens the communication circuit to each mechanism of the first reaction vessel I, and receives information from each mechanism such as the temperature inside the measuring vessel and the amount of chemical solution dropped. , the estimated viscosity of the liquid in the tank is communicated, and this data is
It is stored in combination with the elapsed time from the start of the experiment in reaction tank I. In other words, monitoring is performed in the same way as in the first embodiment. This monitoring is also performed for 0.15 seconds, and when 0.15 seconds have passed from the start of monitoring,
Monitoring is performed for each of the other seven reaction tanks while switching the communication line to each mechanism corresponding to each reaction tank in turn every 0.15 seconds. When the monitoring of all seven reaction vessels is completed in this way, the system returns to reaction vessel I and repeats the monitoring of the eight reaction vessels in order every 0.15 seconds until the end of the experiment. In addition, if it is set in advance to change the amount of chemical solution dropped after a predetermined period of time has elapsed, the first communication to the reaction tank will be resumed after a certain period of time has elapsed from the experiment start operation in each reaction tank. At this time, a new control command is sent to the chemical liquid dripping mechanism to change the dripping amount.

【0039】さて、実験の進行に伴い、ある反応槽で槽
内温度が変化すると、制御器CPU2は、当該反応槽の
モニタリングのときに、槽内温度の測定値を通信され、
測定温度が設定された実験温度よりも許容温度差以上高
ければ、このモニタリング時間の間に、冷却機構を作動
させる指令を発する。また、逆に、測定温度が設定実験
温度よりも許容温度差以上低ければ、加熱機構を作動さ
せる指令を発する。この後、0.15秒のモニタリング
時間が終われば、残りの7槽のモニタリングを行い、1
.05秒後に再びこの反応槽のモニタリングを行う。こ
のときも、槽内温度の測定値を通信され、この測定値に
基づいて、適当な制御指令を発する。しかして、この冷
却機構、加熱機構の制御の繰り返しにより、槽内温度が
調節されるのである。
Now, as the experiment progresses, when the temperature inside a certain reaction tank changes, the controller CPU 2 is notified of the measured value of the temperature inside the tank when monitoring that reaction tank.
If the measured temperature is higher than the set experimental temperature by more than an allowable temperature difference, a command to operate the cooling mechanism is issued during this monitoring time. Conversely, if the measured temperature is lower than the set experimental temperature by more than the allowable temperature difference, a command to operate the heating mechanism is issued. After this, when the 0.15 second monitoring period is over, the remaining 7 tanks will be monitored and 1
.. After 0.5 seconds, the reaction vessel is monitored again. At this time, the measured value of the temperature inside the tank is also communicated, and an appropriate control command is issued based on this measured value. By repeating this control of the cooling mechanism and heating mechanism, the temperature inside the tank is adjusted.

【0040】また、制御器CPU2が、ある反応槽の槽
内温度が異常判定温度を超えたことを発見した場合には
、第1実施例と同様の対処を行う。つまり、薬液滴下を
中止し、槽内温度を下げるのである。
Further, when the controller CPU 2 discovers that the internal temperature of a certain reaction tank exceeds the abnormality determination temperature, the same countermeasures as in the first embodiment are taken. In other words, the dropping of the chemical solution is stopped and the temperature inside the tank is lowered.

【0041】また、モニタリング時には各反応槽の攪拌
機構から、攪拌のための回転トルクが通知されるが、実
験の進行に伴いある反応槽で粘度が大きく変化し、この
回転トルクが異常回転トルク値を超えると、制御器CP
U2はこの反応槽への薬液の滴下を中止する。
Furthermore, during monitoring, the rotational torque for stirring is notified from the stirring mechanism of each reaction tank, but as the experiment progresses, the viscosity changes significantly in a certain reaction tank, and this rotational torque becomes an abnormal rotational torque value. If it exceeds the controller CP
U2 stops dropping the chemical into this reaction tank.

【0042】各反応槽における槽内温度、薬液滴下量、
回転トルク値は、小型コンピュータで計測する、各反応
槽における実験開始からの経過時間と組にして、各反応
槽ごとに記憶される(ただし、本実施例においては、最
大48時間まで)。このデータは、モニタリング実行中
も、モニタ装置に出力表示することができるし、プリン
タ装置から出力することもできる。また、実験終了後も
、データは保存され、所望のときに出力できる。
[0042] The temperature inside each reaction tank, the amount of chemical solution dropped,
The rotational torque value is stored for each reaction tank in combination with the elapsed time from the start of the experiment in each reaction tank, which is measured by a small computer (however, in this example, up to 48 hours). This data can be output and displayed on a monitor device even during monitoring execution, and can also be output from a printer device. Furthermore, even after the experiment is finished, the data is saved and can be output when desired.

【0043】こうして、8槽の反応槽で反応が終了した
なら、各反応槽内の生成物を収集検査すると共に、制御
器CPU2に記憶されるデータを整理した後、器具を洗
浄するなどの後片付けを行えば、実験が終了する。この
実験を行った際の反応条件の設定値は制御器CPU2に
記憶保存しておくことができ(ただし、最大99パター
ンまで)、所望のときに呼び出して、同じ条件で実験を
行うことができる。
[0043] When the reactions have finished in the eight reaction vessels, the products in each reaction vessel are collected and inspected, and the data stored in the controller CPU 2 is organized, and the equipment is cleaned up afterward. If you do this, the experiment will end. The reaction condition settings used when conducting this experiment can be stored in the controller CPU 2 (up to 99 patterns), and can be recalled at any time to perform the experiment under the same conditions. .

【0044】図5及び図6に示す第3実施例は、複数の
反応槽で同種の実験を行う際の、反応温度と薬液滴下条
件、反応槽内の圧力、反応槽内の窒素分圧を管理するこ
とを目的とする。
In the third embodiment shown in FIGS. 5 and 6, when conducting the same type of experiment in a plurality of reaction vessels, the reaction temperature, chemical solution dropping conditions, pressure in the reaction vessels, and nitrogen partial pressure in the reaction vessels are adjusted. The purpose is to manage.

【0045】1台の制御器CPU3に連繋して、5機の
重合試験装置Q’・R’・…が設置される。この重合試
験装置は、轟産業社製の重合試験システム(型式番号;
DS−1)に、3系統の薬液滴下機構と窒素流量制御機
構を追加したものを採用している。なお、この重合試験
システムは、反応槽と冷却機構、加熱機構、真空圧制御
機構によって構成されるものである。
Five polymerization test apparatuses Q', R', . . . are installed in connection with one controller CPU3. This polymerization test device is a polymerization test system manufactured by Todoroki Sangyo Co., Ltd. (model number;
DS-1) with the addition of three systems of chemical liquid dripping mechanisms and a nitrogen flow rate control mechanism. Note that this polymerization test system is composed of a reaction tank, a cooling mechanism, a heating mechanism, and a vacuum pressure control mechanism.

【0046】以下、重合試験装置Q’を例にとって、こ
の重合試験装置を説明する。
The polymerization test apparatus will be explained below by taking the polymerization test apparatus Q' as an example.

【0047】重合試験システムに組み込まれる冷却機構
は、槽内の温度をリアルタイムで計測する温度センサQ
0、及び冷却ファンQ14によって構成される空冷式で
ある。また、加熱機構は、前記温度センサQ0と、熱媒
体を蓄えて反応槽を温める、昇降自在の加熱槽Q22に
よって構成されるオイルバス方式である。重合試験シス
テムに組み込まれる反応槽Qは、冷却ファンQ14の直
前に位置し、必要なときに冷風を送風されることができ
るが、一方ではまた、反応槽Qが加熱槽の上方に位置し
ており、制御器CPU3の指令によって下方の加熱槽Q
22が上昇してきて、加熱槽Q22内の熱媒体に漬かり
、槽内の温度を上昇させることもできる。
The cooling mechanism built into the polymerization test system includes a temperature sensor Q that measures the temperature inside the tank in real time.
0 and a cooling fan Q14. Further, the heating mechanism is an oil bath type that is composed of the temperature sensor Q0 and a heating tank Q22 that can be raised and lowered to store a heat medium and warm the reaction tank. The reaction tank Q incorporated in the polymerization test system is located just before the cooling fan Q14 and can be blown with cold air when necessary, but on the other hand, the reaction tank Q is also located above the heating tank. The lower heating tank Q
22 rises and is immersed in the heat medium inside the heating tank Q22, thereby raising the temperature inside the tank.

【0048】また、重合試験システムに組み込まれる真
空圧制御機構は、真空圧センサQ51と真空器Q52、
真空電磁弁Q53、気密管路Q54によって構成される
。真空圧センサQ51は測定した真空圧を制御器CPU
3に通信し、制御器CPU3はこの測定真空圧に基づい
て、真空電磁弁Q53を操作するのである。
The vacuum pressure control mechanism incorporated in the polymerization test system includes a vacuum pressure sensor Q51, a vacuum device Q52,
It is composed of a vacuum solenoid valve Q53 and an airtight conduit Q54. The vacuum pressure sensor Q51 sends the measured vacuum pressure to the controller CPU.
3, and the controller CPU3 operates the vacuum solenoid valve Q53 based on this measured vacuum pressure.

【0049】この真空圧制御機構に対して、追加設備さ
れる窒素流量制御機構が、真空圧の調節に共働的に動作
する。窒素流量制御機構は、質量流量計Q71、流量制
御バルブQ72、真空電磁弁Q73、気送パイプQ74
、定圧弁Q75によって、構成される。しかして、前記
真空圧制御機構の気密管路Q54と窒素流量制御機構の
気送パイプQ74が合流し、反応槽Q内へと繋がる。真
空センサQ51は、気密管路Q54に設けられた真空電
磁弁Q53と気送パイプQ74に設けられた真空電磁弁
Q73とによって、同一真空圧状態に区切られた、反応
槽Qを含む領域内に設けられており、ここで真空圧を測
定して、制御器CPU3に通信する。制御器CPU3は
、この測定真空圧に従って真空電磁弁Q53を操作して
真空圧を一定に保つと共に、質量流量計Q71から気送
パイプQ74内の単位時間当り窒素流量の現在値を通信
されて、流量制御バルブQ72、真空電磁弁Q73を操
作して窒素流量を制御し、反応によって発生した酸素が
反応槽Q内に危険な程残留しないようにする。また、定
圧弁Q75は窒素の気送パイプQ74への給気圧を一定
に保つ。
[0049] A nitrogen flow rate control mechanism which is additionally provided with this vacuum pressure control mechanism operates in cooperation with the vacuum pressure control mechanism. The nitrogen flow control mechanism includes a mass flow meter Q71, a flow control valve Q72, a vacuum solenoid valve Q73, and a pneumatic pipe Q74.
, a constant pressure valve Q75. Thus, the airtight pipe Q54 of the vacuum pressure control mechanism and the pneumatic pipe Q74 of the nitrogen flow rate control mechanism merge and are connected into the reaction tank Q. The vacuum sensor Q51 is located within an area including the reaction tank Q that is divided into the same vacuum pressure state by a vacuum solenoid valve Q53 provided in the airtight pipe Q54 and a vacuum solenoid valve Q73 provided in the pneumatic pipe Q74. The vacuum pressure is measured here and communicated to the controller CPU3. The controller CPU3 operates the vacuum solenoid valve Q53 according to this measured vacuum pressure to keep the vacuum pressure constant, and is also informed of the current value of the nitrogen flow rate per unit time in the pneumatic pipe Q74 from the mass flowmeter Q71, The flow rate control valve Q72 and the vacuum solenoid valve Q73 are operated to control the nitrogen flow rate so that the oxygen generated by the reaction does not remain in the reaction tank Q to a dangerous extent. Further, the constant pressure valve Q75 keeps the supply pressure of nitrogen to the pneumatic pipe Q74 constant.

【0050】更に、追加設備される薬液滴下機構は、第
1実施例同様、3種の添加薬液を蓄えた3つの貯蔵容器
Q31と、各容器内の薬液を反応槽内に送り込む薬液路
Q32、貯蔵容器の重量を測定する電子天秤Q33、薬
液ポンプQ34によって構成されている。このうち、薬
液ポンプには、第1実施例と同様に、轟産業社製の定量
滴下ポンプ(型式番号;CP1−1)を採用しており、
制御器CPU3の指令に従って滴下スピードを変化させ
、あるいは、電子天秤Q33から容器の重量変化を送知
されて所定時間当たりの薬液滴下量を積算し、この積算
値を制御器CPU3へ報知させることができる。
Furthermore, as in the first embodiment, the chemical liquid dripping mechanism that is additionally installed includes three storage containers Q31 storing three types of additive chemical liquids, a chemical liquid path Q32 for feeding the chemical liquid in each container into the reaction tank, It is composed of an electronic balance Q33 that measures the weight of the storage container and a chemical liquid pump Q34. Among these, as the chemical liquid pump, a metered drip pump (model number: CP1-1) manufactured by Todoroki Sangyo Co., Ltd. is used, as in the first embodiment.
It is possible to change the dropping speed according to a command from the controller CPU3, or to integrate the amount of drug solution dropped per predetermined time based on a change in the weight of the container sent from the electronic balance Q33, and to notify this integrated value to the controller CPU3. can.

【0051】一方、制御器CPU3は、■  日本電気
社製  32ビット小型コンピュータ型式番号;PC−
9801DX2 ■  日本電気社製  モニタ装置 型式番号;PC−KD882 ■  日本電気社製  プリンタ装置 型式番号;PC−PR101GS ■  I・Oデータ社製のメモリ装置 型式番号PIO−9234G−4ML ■  CONTEC社製  IF回路付アナログ−デジ
タル変換器 型式番号;AD12−16TA(98)■  日本電気
社製  IF回路付通信ケーブルRS232C 型式番号PC−9861K によって構成されている。
On the other hand, the controller CPU 3 is a 32-bit small computer manufactured by NEC Corporation, model number: PC-
9801DX2 ■ Monitor device model number made by NEC Corporation; PC-KD882 ■ Printer device model number made by NEC Corporation; PC-PR101GS ■ Memory device model number PIO-9234G-4ML made by I・O Data Corporation ■ IF circuit made by CONTEC Corporation Analog-to-digital converter model number: AD12-16TA (98) ■ Consists of a communication cable with IF circuit RS232C manufactured by NEC Corporation, model number PC-9861K.

【0052】このうち、小型コンピュータには、予じめ
、実験開始温度及び実験温度と許容温度差、異常判定温
度、更に、薬液滴下量と滴下種、実験真空圧を入力設定
できる。実験開始温度は実験を開始するときの温度であ
り、予じめ、槽内はこの温度に保たれる。また、実験真
空圧は、反応槽内において、実験を開始するときから実
験中ずっと保たれるべき値であって、実際には、制御器
CPU3が真空器を操作することによって、槽内真空圧
が、実験真空圧値を中心とする所定真空圧域内に保たれ
る。更に、薬液滴下量は、各滴下種ごとに、モニタに表
示される、縦軸に滴下量を横軸に経過時間を取ったグラ
フに入力できるもので、実験開始からの時間経過にした
がって、滴下量が変化するように設定することもできる
Among these, the experiment start temperature, the allowable temperature difference between the experiment temperature and the allowable temperature difference, the abnormality judgment temperature, the amount of the chemical solution to be dropped, the type of the drop, and the experimental vacuum pressure can be input and set in advance into the small computer. The experiment start temperature is the temperature at which the experiment starts, and the inside of the tank is kept at this temperature in advance. Further, the experimental vacuum pressure is a value that should be maintained in the reaction tank from the time of starting the experiment throughout the experiment, and in reality, the vacuum pressure in the tank is controlled by the controller CPU3 operating the vacuum device. is maintained within a predetermined vacuum pressure range centered around the experimental vacuum pressure value. Furthermore, the amount of chemical solution dropped can be entered into a graph displayed on the monitor for each type of drop, with the vertical axis showing the drop amount and the horizontal axis showing the elapsed time. It can also be set so that the amount changes.

【0053】実際に実験開始を制御器CPU3に指令す
ると、制御器CPU3は、5機の重合試験装置の内、1
機から、実験開始操作を行う。まず、制御器CPU3が
、最初に開始操作を行う重合試験装置への通信回線を開
き、当該装置へ制御命令を通信する。この制御器CPU
3からの制御命令によって、重合試験装置では、0時間
における設定薬液滴下が開始されると共に、加熱機構ま
たは冷却機構が作動して槽内温度が実験温度に近づき、
反応槽での実験が開始される。本第3実施例においても
、重合試験装置への実験開始操作は、最初の0.15秒
間に行われ、0.15秒経過すると、他の4機の重合試
験装置に対し、0.15秒ごとに順繰りに各重合試験装
置へ通信回線を切り換えながら、それぞれに対し、実験
開始操作を行う。
When the controller CPU3 is actually instructed to start the experiment, the controller CPU3 selects one of the five polymerization test apparatuses.
Perform the experiment start operation from the machine. First, the controller CPU3 opens a communication line to the polymerization test device that performs the starting operation first, and communicates a control command to the device. This controller CPU
In response to the control command from 3, in the polymerization test apparatus, the set chemical solution drop at time 0 is started, and the heating mechanism or cooling mechanism is activated so that the temperature inside the tank approaches the experimental temperature.
Experiments begin in the reaction tank. In this third embodiment as well, the experiment start operation for the polymerization test apparatus is performed during the first 0.15 seconds, and after 0.15 seconds, the experiment start operation for the other four polymerization test apparatuses is performed for 0.15 seconds. While switching the communication line to each polymerization test device in turn, perform the experiment start operation for each.

【0054】こうして、全重合試験装置で実験が開始さ
れると、制御器CPU3は、再び、最初に実験開始した
重合試験装置への通信回路を開き、当該装置から、測定
槽内温度、薬液滴下量、真空圧値を通信され、このデー
タを、当該重合試験装置における実験開始からの経過時
間と組にして記憶する。このモニタリングも0.15秒
間で行われ、モニタリング開始から0.15秒経過する
と、他の4機の重合試験装置に対し、0.15秒ごとに
順繰りに各装置へ通信回線を切り換えながら、モニタリ
ングを行うのである。また、本第3実施例においても、
4機すべての重合試験装置に対するモニタリングが終了
すると、初めに戻って、5機の重合試験装置に対し、0
.15秒ごとに順番に実験終了までモニタリングを繰り
返す。また、所定時間が経過すると薬液滴下量を変化さ
せるように予じめ設定されているときは、各重合試験装
置での実験開始操作から一定時間経過して後、当該装置
への最初の通信再開のときに、重合試験装置に新しい制
御指令を送って滴下量を変化させる。
[0054] When the experiment is started in the total polymerization test device, the controller CPU3 again opens the communication circuit to the polymerization test device where the experiment was first started, and the temperature inside the measuring tank and the dropping of the chemical solution are transmitted from the device. This data is stored in combination with the elapsed time from the start of the experiment in the polymerization test apparatus. This monitoring is also carried out for 0.15 seconds, and after 0.15 seconds have passed from the start of monitoring, the other four polymerization test devices are monitored while switching the communication line to each device in turn every 0.15 seconds. This is what we do. Also, in the third embodiment,
When the monitoring of all four polymerization test devices is completed, return to the beginning and set 0 to 5 polymerization test devices.
.. Monitoring is repeated every 15 seconds until the end of the experiment. In addition, if the drop amount of the chemical solution is set in advance to change after a predetermined period of time has elapsed, the initial communication to each polymerization test device will be restarted after a certain period of time has elapsed from the experiment start operation in each polymerization test device. At this time, a new control command is sent to the polymerization test device to change the dripping amount.

【0055】さて、実験の進行に伴い、ある重合試験装
置で反応槽の槽内温度が変化すると、制御器CPU3は
、当該重合試験装置のモニタリングのときに、槽内温度
の測定値を通信され、測定温度が設定された実験温度よ
りも許容温度差以上高ければ、このモニタリング時間の
間に冷却機構を作動させる指令を発する。また、逆に、
測定温度が設定実験温度よりも許容温度差以上低ければ
加熱機構を作動させる指令を発する。この後、0.15
秒のモニタリング時間が終われば、他の4機のモニタリ
ングを行い、0.60秒後に再びこの重合試験装置のモ
ニタリングを行う。今回のモニタリングの際にも、槽内
温度の測定値を通信され、この測定値に基づいて、適当
な制御指令を発する。しかして、この冷却機構、加熱機
構の制御の繰り返しにより、槽内温度が調節されるので
ある。
Now, as the experiment progresses, when the temperature inside the reaction tank changes in a certain polymerization test device, the controller CPU 3 receives the measured value of the temperature inside the tank when monitoring the polymerization test device. If the measured temperature is higher than the set experimental temperature by more than an allowable temperature difference, a command is issued to operate the cooling mechanism during this monitoring time. Also, conversely,
If the measured temperature is lower than the set experimental temperature by more than an allowable temperature difference, a command is issued to activate the heating mechanism. After this, 0.15
When the monitoring time of seconds is over, the other four devices are monitored, and after 0.60 seconds, this polymerization test device is monitored again. During this monitoring, the measured value of the temperature inside the tank is also communicated, and appropriate control commands are issued based on this measured value. By repeating this control of the cooling mechanism and heating mechanism, the temperature inside the tank is adjusted.

【0056】また、もし、実験途中に、ある重合試験装
置の反応槽の槽内温度が異常判定値よりも高くなったと
きは、当該重合試験装置モニタリングのときにこれを発
見し、すぐさま、薬液滴下を中止し、冷却機構を作動さ
せ、反応を停止させるべく指令を発する。
[0056] Additionally, if during an experiment, the temperature inside the reaction tank of a certain polymerization test device becomes higher than the abnormality judgment value, this will be discovered during monitoring of the polymerization test device, and the chemical solution will be immediately removed. A command is issued to stop the dripping, activate the cooling mechanism, and stop the reaction.

【0057】更に、実験途中に、ある重合試験装置の反
応槽の槽内真空圧が、設定された実験真空圧を中心とす
る所定の真空圧域内から外れたときには、当該重合試験
装置のモニタリング時に、制御器CPU3はこれを発見
し、同モニタリング時間中に真空電磁弁Q53を操作す
る。勿論、槽内真空圧が設定真空圧より高いときは減圧
するように、槽内真空圧が設定真空圧より低いときは増
圧するように、真空電磁弁Q53を操作するのである。 この操作は、当該重合試験装置の次回のモニタリングの
ときまで有効であり、新しいモニタリングの際には、制
御器CPU3がもう一度槽内真空圧を通知されて、必要
なら新らたな操作を行う。
Furthermore, if during an experiment, the internal vacuum pressure of the reaction tank of a certain polymerization test device deviates from the predetermined vacuum pressure range centered on the set experiment vacuum pressure, when monitoring the polymerization test device, , the controller CPU3 discovers this and operates the vacuum solenoid valve Q53 during the same monitoring period. Of course, the vacuum solenoid valve Q53 is operated to reduce the pressure when the vacuum pressure inside the tank is higher than the set vacuum pressure, and to increase the pressure when the vacuum pressure inside the tank is lower than the set vacuum pressure. This operation remains valid until the next time of monitoring of the polymerization test apparatus, and at the time of new monitoring, the controller CPU3 is once again notified of the vacuum pressure in the tank and performs a new operation if necessary.

【0058】制御器CPU3は、同時に、反応槽内の窒
素分圧をも制御する。槽内温度と真空圧変化、流入窒素
量から発生気体量を推定し、発生した気体が実験の支承
になる量にまで蓄積されないように、真空圧制御機構で
反応槽から抜き出す気体量と窒素流量制御機構で反応槽
内に流入させる窒素流量を決定して、流量制御バルブ、
真空電磁弁などを操作するのである。
The controller CPU3 simultaneously controls the nitrogen partial pressure within the reaction tank. The amount of gas generated is estimated from the temperature and vacuum pressure changes in the chamber, and the amount of nitrogen flowing in, and the amount of gas and nitrogen flow rate to be extracted from the reaction chamber by the vacuum pressure control mechanism is determined to prevent the generated gas from accumulating in an amount that will support the experiment. The control mechanism determines the flow rate of nitrogen flowing into the reaction tank, and the flow rate control valve,
It operates vacuum solenoid valves, etc.

【0059】また、各重合試験装置からの反応槽の槽内
温度、薬液滴下量、槽内真空圧などのデータは、小型コ
ンピュータで処理され、各重合試験装置における実験開
始からの経過時間と組にして、各重合試験装置ごとに記
憶される(ただし、本実施例においては、最大48時間
分のデータまで)。このデータは、モニタリング実行中
も、モニタ装置に出力表示することができるし、プリン
タ装置から出力することもできる。また、実験終了後も
、データは保存され、所望のときに出力できる。
[0059] In addition, data such as the temperature inside the reaction tank, the amount of chemical solution dropped, and the vacuum pressure inside the tank from each polymerization test device are processed by a small computer and combined with the elapsed time from the start of the experiment in each polymerization test device. and stored for each polymerization test apparatus (however, in this example, up to 48 hours' worth of data). This data can be output and displayed on a monitor device even during monitoring execution, and can also be output from a printer device. Furthermore, even after the experiment is finished, the data is saved and can be output when desired.

【0060】こうして、5機の重合試験装置で反応が終
了したなら、各重合試験装置の反応槽内の生成物を収集
検査すると共に、制御器CPU3に記憶されるデータを
整理した後、器具を洗浄するなどの後片付けを行えば、
実験が終了する。この実験を行った際の反応条件の設定
値は制御器CPU3に記憶保存しておくことができ(た
だし、最大99パターンまで)、所望のときに呼び出し
て、同じ条件で実験を行うことができる。
[0060] When the reactions in the five polymerization test apparatuses are completed in this way, the products in the reaction vessels of each polymerization test apparatus are collected and inspected, and the data stored in the controller CPU3 is organized, and then the instruments are removed. If you clean up afterward, such as washing,
The experiment ends. The reaction condition settings used when conducting this experiment can be stored in the controller CPU 3 (up to 99 patterns), and can be recalled at any time to perform the experiment under the same conditions. .

【0061】図7、図8に示す第4実施例は、複数の反
応槽で複数種の実験を行う際の、反応温度、薬液滴下条
件、反応槽内の液体の粘度、槽内真空圧、槽内窒素分圧
を管理することを目的とする。
The fourth embodiment shown in FIG. 7 and FIG. 8 shows the reaction temperature, chemical drop conditions, viscosity of the liquid in the reaction tank, vacuum pressure in the tank, The purpose is to control the nitrogen partial pressure inside the tank.

【0062】1台の制御器CPU4には、5台の自動反
応装置V’・W’・…が接続されている。この自動反応
装置は、轟産業社製であって(型式番号TDML−1)
、ジャケット型反応槽、冷却機構、加熱機構、3系統の
薬液滴下機構、攪拌機構、真空圧制御機構、PH管理機
構、窒素流量制御機構から構成される。
Five automatic reaction devices V', W', . . . are connected to one controller CPU4. This automatic reaction device is manufactured by Todoroki Sangyo Co., Ltd. (model number TDML-1).
It consists of a jacket-type reaction tank, a cooling mechanism, a heating mechanism, three systems of chemical liquid dropping mechanisms, a stirring mechanism, a vacuum pressure control mechanism, a PH management mechanism, and a nitrogen flow rate control mechanism.

【0063】以下、自動反応装置V’を例にとって、こ
れら自動反応装置について説明する。
[0063] These automatic reaction apparatuses will be explained below, taking automatic reaction apparatus V' as an example.

【0064】自動反応装置に備えられる冷却機構は、槽
内の温度をリアルタイムで計測する温度センサV0、及
び電子冷熱装置V1と、電子冷熱装置V1によって供給
される水を反応槽周囲のジャケット内に導く水路V2、
更に水路V2に設けられる循環ポンプV3、それに反応
槽周囲に冷気を送風する冷却ファンV14によって構成
される。
The cooling mechanism installed in the automatic reaction device includes a temperature sensor V0 that measures the temperature inside the tank in real time, an electronic cooling device V1, and water supplied by the electronic cooling device V1 into a jacket around the reaction tank. Guiding waterway V2,
Furthermore, it is composed of a circulation pump V3 provided in the waterway V2, and a cooling fan V14 that blows cold air around the reaction tank.

【0065】また、加熱機構は、前記温度センサV0と
電子冷熱装置V1、水路V2、循環ポンプV3、それに
電気加熱機V21と加熱機V21で作られた熱媒体を蓄
えて反応槽を温める加熱槽V22によって構成される。
The heating mechanism includes the temperature sensor V0, the electronic cooling device V1, the water channel V2, the circulation pump V3, and a heating tank that stores the heat medium produced by the electric heater V21 and the heater V21 to warm the reaction tank. Constructed by V22.

【0066】しかして、自動反応装置においては、第3
実施例同様、加熱槽V22が昇降して加熱を受けたり、
冷却ファンV14に風を当てられたりして、槽内の温度
を制御される。また、これに加えて、電子冷熱装置V1
により作られた冷水あるいは温水をジャケット内に導か
れて、温度調節されることもある。
[0066] However, in the automatic reaction device, the third
As in the embodiment, the heating tank V22 is raised and lowered to receive heat,
The temperature inside the tank is controlled by blowing air from the cooling fan V14. In addition to this, electronic cooling device V1
In some cases, cold or hot water produced by a jacket is guided into the jacket and its temperature is regulated.

【0067】一方、3系統の薬液滴下機構は、3つの貯
蔵容器V31と容器内の薬液を反応槽V内に送り込む薬
液路V32、それに貯蔵容器V31の重量を測定する電
子天秤V33と薬液ポンプV34によって構成されてい
る。この薬液ポンプV34は、制御器CPU4の指令に
従って滴下スピードを変化させることができると共に、
電子天秤V33から容器の重量変化を送知されて所定時
間当たりの薬液滴下量を積算し、この積算値を制御器C
PU4へ報知することもできる。
On the other hand, the three-system chemical liquid dropping mechanism includes three storage containers V31, a chemical liquid path V32 for feeding the chemical liquid in the containers into the reaction tank V, an electronic balance V33 for measuring the weight of the storage container V31, and a chemical liquid pump V34. It is made up of. This chemical pump V34 can change the dropping speed according to the commands of the controller CPU4, and
The change in the weight of the container is sent from the electronic balance V33, and the amount of drug solution dropped per predetermined time is integrated, and this integrated value is sent to the controller C.
It is also possible to notify the PU4.

【0068】また、攪拌機構は、反応槽内に収められる
攪拌シャフトV41と、攪拌シャフトV41を駆動する
電動回路V42によって構成される。電動回路V42は
、第2実施例同様、制御器CPU4に連繋されて制御さ
れると共に、攪拌シャフトV42が受ける攪拌抵抗を、
回路内の電流値と実効回転数から推定して、この推定値
を、制御器CPU4に送るようになっている。
The stirring mechanism is composed of a stirring shaft V41 housed in the reaction tank and an electric circuit V42 that drives the stirring shaft V41. As in the second embodiment, the electric circuit V42 is connected to and controlled by the controller CPU4, and controls the stirring resistance that the stirring shaft V42 receives.
The estimated value is estimated from the current value in the circuit and the effective rotational speed, and is sent to the controller CPU4.

【0069】真空圧制御機構は、第3実施例同様、真空
圧センサV51と真空器V52、真空電磁弁V53、気
密管路V54によって構成される。真空圧センサV51
は測定した真空圧を制御器CPU4に通信し、制御器C
PU4はこの測定真空圧に基づいて、真空電磁弁V53
を操作するのである。
As in the third embodiment, the vacuum pressure control mechanism is composed of a vacuum pressure sensor V51, a vacuum device V52, a vacuum solenoid valve V53, and an airtight conduit V54. Vacuum pressure sensor V51
communicates the measured vacuum pressure to the controller CPU4, and
Based on this measured vacuum pressure, PU4 activates the vacuum solenoid valve V53.
to operate.

【0070】また、第3実施例と同様に、この真空圧制
御機構に対して、窒素流量制御機構が、真空圧の調節に
共働的に動作する。窒素流量制御機構は、質量流量計V
71、流量制御バルブV72、真空電磁弁V73、気送
パイプV74、定圧弁V75によって、構成される。し
かして、前記真空圧制御機構の気密管路V54と窒素流
量制御機構の気送パイプV74が合流し、反応槽V内へ
と繋がる。真空センサV51は、気密管路V54に設け
られた真空電磁弁V53と気送パイプV74に設けられ
た真空電磁弁V73とによって、同一真空圧状態に区切
られた、反応槽Vを含む領域内に設けられており、ここ
で真空圧を測定して、制御器CPU4に通信する。制御
器CPU4は、この測定真空圧に従って真空電磁弁V5
3を操作して真空圧を一定に保つと共に、質量流量計V
71から単位時間当り窒素流量の現在値を通信され、流
量制御バルブV72、真空電磁弁V73を操作して、反
応によって発生した酸素が反応槽V内に危険な程残留し
ないようにする。また、定圧弁V75は窒素の気送パイ
プV74への給気圧を一定に保つ。
Further, as in the third embodiment, a nitrogen flow rate control mechanism operates in cooperation with this vacuum pressure control mechanism to adjust the vacuum pressure. The nitrogen flow control mechanism is a mass flowmeter V
71, a flow rate control valve V72, a vacuum solenoid valve V73, a pneumatic pipe V74, and a constant pressure valve V75. Thus, the airtight pipe V54 of the vacuum pressure control mechanism and the pneumatic pipe V74 of the nitrogen flow rate control mechanism merge and are connected into the reaction tank V. The vacuum sensor V51 is located within an area including the reaction tank V that is divided into the same vacuum pressure state by a vacuum solenoid valve V53 provided in the airtight pipe V54 and a vacuum solenoid valve V73 provided in the pneumatic pipe V74. The vacuum pressure is measured here and communicated to the controller CPU4. The controller CPU4 controls the vacuum solenoid valve V5 according to this measured vacuum pressure.
3 to keep the vacuum pressure constant, and mass flowmeter V
The current value of the nitrogen flow rate per unit time is communicated from 71, and the flow rate control valve V72 and the vacuum solenoid valve V73 are operated to prevent oxygen generated by the reaction from remaining in the reaction tank V to a dangerous extent. Further, the constant pressure valve V75 keeps the supply pressure of nitrogen to the pneumatic pipe V74 constant.

【0071】PH管理機構は、酸性添加液を反応槽に滴
下する装置と塩基性添加液を反応槽に滴下する装置、そ
れにpHセンサーV61とによって構成される。酸性添
加液滴下装置と塩基性添加液滴下装置は、どちらも薬液
滴下機構同様、貯蔵容器V61a・V61b と薬液路
V62a ・V62b、電子天秤V63a ・V63b
 、薬液ポンプV64a・V64b によって構成され
る。しかして、pHセンサーV61は、反応槽内の現在
pH値を制御器CPU4へ通知し、酸性添加液滴下装置
と塩基性添加液滴下装置は、制御器CPU4に制御され
て、適宜添加液を槽内に滴下する。
The pH control mechanism is composed of a device for dropping an acidic additive into the reaction tank, a device for dropping a basic additive into the reaction tank, and a pH sensor V61. Both the acidic additive dropping device and the basic additive dropping device have storage containers V61a and V61b, chemical channels V62a and V62b, and electronic balances V63a and V63b, similar to the chemical dropping mechanism.
, chemical liquid pumps V64a and V64b. Therefore, the pH sensor V61 notifies the controller CPU4 of the current pH value in the reaction tank, and the acidic additive liquid dropping device and the basic additive liquid dropping device are controlled by the controller CPU4 to appropriately supply the additive liquid to the tank. drip inside.

【0072】また、制御器CPU4としては、■  日
本電気社製  32ビット小型コンピュータ型式番号;
PC−9801DX2 ■  日本電気社製  モニタ装置 型式番号;PC−KD882 ■  日本電気社製  プリンタ装置 型式番号;PC−PR101GS ■  I・Oデータ社  メモリ装置 型式番号;PIO−9234G−4ML■  日本電気
社製  IF回路付通信ケーブルRS232C 型式番号;PC−9861K などが採用される。
[0072] As the controller CPU 4, ■ 32-bit small computer model number manufactured by NEC Corporation;
PC-9801DX2 ■ Manufactured by NEC Corporation Monitor device model number; PC-KD882 ■ Manufactured by NEC Corporation Printer device model number; PC-PR101GS ■ I・O Data Corporation Memory device model number; PIO-9234G-4ML ■ Manufactured by NEC Corporation Communication cable with IF circuit RS232C model number: PC-9861K etc. are adopted.

【0073】当然、この小型コンピュータには、事前に
、実験開始温度、実験温度と許容温度差及び異常判定温
度、薬液滴下量と滴下種、異常回転トルク値、異常回転
トルク発生時対処方法、最適pH値、窒素理想流量が入
力設定されなければならない。この実験の条件設定は、
各自動反応装置ごとに行われる。つまり、各自動反応装
置ごとに異なった条件設定ができるのである。
Naturally, this small computer has information in advance such as the experiment start temperature, the allowable temperature difference between the experiment temperature and the abnormality judgment temperature, the amount and type of chemical solution to be dropped, the abnormal rotational torque value, the method to be used when abnormal rotational torque occurs, and the optimum The pH value and ideal nitrogen flow rate must be input and set. The conditions for this experiment are:
This is done for each automatic reactor. In other words, different conditions can be set for each automatic reaction device.

【0074】実際に制御器CPU4へ実験開始を指令す
ると、第1〜第3実施例同様、まず1つの反応槽で実験
開始操作を行う。つまり、ある1つの自動反応装置へ、
薬液滴下、温度管理などの指令を発するのである。この
実験開始操作は、第1〜第3実施例同様、0.15秒の
間に行われるが、次の反応槽での実験開始に関しては、
第1〜第3実施例と少し異なる。即ち、第1〜第3実施
例においては、同じ反応条件で実験を行っていたので、
同じ実験開始操作が行えたのに対し、第4実施例におい
ては、各反応槽ごとに反応条件を変えて実験を行うので
、初めの自動反応装置とは違った条件指令の下に開始操
作を行わなければならないのである。したがって、制御
器CPU4は、1番目の自動反応装置で実験開始操作し
た後、2番目の自動反応装置で実験開始操作するために
、1番目の反応条件設定値に替えて2番目の反応条件設
定値を呼び起こし、その後、この反応条件設定値に基づ
いて2番目の自動反応装置に対し、0.15秒間で実験
開始の操作を行うのである。この後、残る3つの自動反
応装置に対しても、同様に実験開始操作を行う。
When the controller CPU 4 is actually instructed to start the experiment, the experiment start operation is first performed in one reaction tank, as in the first to third embodiments. In other words, to one automatic reaction device,
It issues commands such as dropping chemical liquids and controlling temperature. This experiment start operation is performed within 0.15 seconds as in the first to third examples, but regarding the start of the experiment in the next reaction tank,
This is slightly different from the first to third embodiments. That is, in Examples 1 to 3, experiments were conducted under the same reaction conditions, so
Whereas the same experiment starting operation could be performed, in the fourth example, the experiment was conducted with different reaction conditions for each reaction tank, so the starting operation was performed under different condition commands than the first automatic reaction device. It must be done. Therefore, in order to start the experiment in the second automatic reaction device after starting the experiment in the first automatic reaction device, the controller CPU 4 sets the second reaction condition setting value in place of the first reaction condition setting value. After recalling the values, the second automatic reaction device is operated to start the experiment in 0.15 seconds based on the reaction condition set values. After this, the experiment start operation is performed in the same manner for the remaining three automatic reaction devices.

【0075】こうして、全自動反応装置で実験が開始さ
れると、制御器CPU4は、再び、最初の自動反応装置
用の反応条件設定値を呼び起こすと共に、当該自動反応
装置から、測定槽内温度、薬液滴下量、槽内液体の推定
粘度、槽内真空圧、槽内液体のpH値、窒素流量現在値
などを通信され、このデータを、当該自動反応装置にお
ける実験開始からの経過時間と組にして記憶する。この
モニタリングもやはり0.15秒間で行われ、モニタリ
ング開始から0.15秒経過すると、他の4機の自動反
応装置に対し、それぞれの反応条件設定値を呼び起こし
てから、0.15秒間でモニタリングを行うのである。 こうして、5機すべての自動反応装置に対してモニタリ
ングが終了すれ、また元に戻って順番にモニタリングす
ることはいうまでもない。
[0075] When the experiment is started in the fully automatic reaction apparatus, the controller CPU 4 again calls up the reaction condition setting values for the first automatic reaction apparatus, and also reads the temperature inside the measurement tank from the automatic reaction apparatus. The amount of chemical solution dropped, the estimated viscosity of the liquid in the tank, the vacuum pressure in the tank, the pH value of the liquid in the tank, the current flow rate of nitrogen, etc. are communicated, and this data is combined with the elapsed time from the start of the experiment in the automatic reaction device. memorize it. This monitoring is also performed for 0.15 seconds, and after 0.15 seconds have elapsed from the start of monitoring, the other four automatic reaction devices are called up to their respective reaction condition settings, and then monitoring is performed for 0.15 seconds. This is what we do. In this way, monitoring of all five automatic reaction devices has been completed, and needless to say, we will go back and monitor them in order.

【0076】しかるに、実験の進行に伴いある自動反応
装置の反応槽で槽内温度が変化すると、制御器CPU4
は、当該自動反応槽のモニタリングのときに、槽内温度
の測定値を通信され、測定温度が当該自動反応槽用に設
定された実験温度よりも許容温度差以上高ければ、この
モニタリング時間の間に、冷却機構を作動させる指令を
発する。また、逆に、測定温度が設定実験温度よりも許
容温度差以上低ければ、加熱機構を作動させる指令を発
する。また、当該自動反応槽の次回のモニタリングのと
きにも、適宜制御を行い、結果として、第1〜第3実施
例同様に温度制御が実行されるのである。
However, when the temperature inside the reaction tank of an automatic reaction device changes as the experiment progresses, the controller CPU 4
is communicated the measured value of the temperature inside the tank when monitoring the automatic reaction tank, and if the measured temperature is higher than the experimental temperature set for the automatic reaction tank by more than the allowable temperature difference, , a command is issued to activate the cooling mechanism. Conversely, if the measured temperature is lower than the set experimental temperature by more than the allowable temperature difference, a command to operate the heating mechanism is issued. Further, the next monitoring of the automatic reaction tank is also controlled appropriately, and as a result, temperature control is executed in the same manner as in the first to third embodiments.

【0077】また、特定の自動反応装置において、薬液
滴下量が時間と共に変化するように設定されているとき
は、当該自動反応装置における実験開始からの時間経過
と共に、当該自動反応装置のモニタリング時に薬液滴下
量を変化させるべく、薬液滴下機構を制御することがで
きる。
[0077] In addition, if a specific automatic reaction device is set so that the amount of the chemical solution dropped changes with time, the amount of the chemical solution dropped during monitoring of the automatic reaction device will change as time elapses from the start of the experiment in the automatic reaction device. The drug solution dropping mechanism can be controlled to change the amount of drops.

【0078】更に、実験の進行に伴い、特定の自動反応
装置において、反応槽ないの液体の粘度が大きく変化し
、攪拌のための攪拌トルクが異常回転トルク値を超える
と、モニタリング時にこの異常粘度が通知され、制御器
CPU4は、設定条件に基づいて、当該自動反応装置へ
薬剤滴下量を減少させる制御を行う。
Furthermore, as the experiment progresses, in a particular automatic reaction device, if the viscosity of the liquid in the reaction tank changes significantly and the stirring torque for stirring exceeds the abnormal rotational torque value, this abnormal viscosity will be detected during monitoring. is notified, and the controller CPU 4 performs control to reduce the amount of medicine dripped into the automatic reaction device based on the setting conditions.

【0079】また、反応槽内の真空圧制御は、第3実施
例とほぼ同じである。つまり、実験途中にある自動反応
装置の反応槽の槽内真空圧が、当該自動反応装置に設定
された実験真空圧を中心とする所定の真空圧域内から外
れたときには、当該自動反応装置のモニタリング時に、
制御器CPU4がこれを発見し、同モニタリング時間中
に真空器を操作する。勿論、槽内真空圧が設定真空圧よ
り高いときは減圧するように、槽内真空圧が設定真空圧
より低いときは増圧するように、真空器を操作する。
Further, the vacuum pressure control inside the reaction tank is almost the same as in the third embodiment. In other words, if the internal vacuum pressure of the reaction tank of an automatic reaction device during an experiment deviates from a predetermined vacuum pressure range centered on the experimental vacuum pressure set for the automatic reaction device, the automatic reaction device will be monitored. Sometimes,
The controller CPU4 discovers this and operates the vacuum device during the same monitoring time. Of course, the vacuum device is operated to reduce the pressure when the vacuum pressure inside the tank is higher than the set vacuum pressure, and to increase the pressure when the vacuum pressure inside the tank is lower than the set vacuum pressure.

【0080】更に、制御器CPU4は、第3実施例同様
、反応槽内の窒素分圧をも制御する。槽内温度と真空圧
変化、流入窒素量から発生気体量を推定し、発生した気
体が実験の支承になる量にまで蓄積されないように、真
空圧制御機構で反応槽から抜き出す気体量と窒素流量制
御機構で反応槽内に流入させる窒素流量を決定して、流
量制御バルブ、真空電磁弁などを操作するのである。
Furthermore, the controller CPU4 also controls the nitrogen partial pressure within the reaction tank, as in the third embodiment. The amount of gas generated is estimated from the temperature and vacuum pressure changes in the chamber, and the amount of nitrogen flowing in, and the amount of gas and nitrogen flow rate to be extracted from the reaction chamber by the vacuum pressure control mechanism is determined to prevent the generated gas from accumulating in an amount that will support the experiment. The control mechanism determines the flow rate of nitrogen flowing into the reaction tank and operates the flow control valve, vacuum solenoid valve, etc.

【0081】また、制御器CPU4は、各自動反応装置
のモニタリング時に、各反応槽の槽内液体のpH値を通
知される。しかして、このpH値が、当該自動反応装置
に対して設定されたpH値よりも一定値以上大きければ
、同モニタリング中に、PH管理機構の酸性添加液滴下
装置を作動させて、酸性添加液を槽内に滴下し、槽内の
pH値を下げる。また、逆に、測定pH値が、設定pH
値よりも一定値以上小さければ、塩基性添加液滴下装置
を作動させて、槽内に塩基性添加液を滴下し、槽内のp
H値を上げる。この操作により、反応槽内のpH値は、
設定pH値を中心とするある域内に収まるように制御さ
れるのである。
Further, the controller CPU 4 is notified of the pH value of the liquid in each reaction tank when monitoring each automatic reaction device. If this pH value is greater than a certain value than the pH value set for the automatic reaction device, the acidic additive liquid dripping device of the PH control mechanism is activated during the same monitoring, and the acidic additive liquid is is dropped into the tank to lower the pH value in the tank. Conversely, if the measured pH value is the set pH
If the value is smaller than the specified value, the basic additive liquid dripping device is activated to drop the basic additive liquid into the tank, and the pH in the tank is reduced.
Increase H value. With this operation, the pH value in the reaction tank is
It is controlled to stay within a certain range around the set pH value.

【0082】また、制御器CPU4に通知される測定槽
内温度、薬液滴下量、槽内液体の推定粘度、槽内真空圧
、槽内液体のpH値、窒素流量現在値などは、各自動反
応装置ごとに、実験開始からの時間、各反応槽における
設定反応条件と共に、制御器CPU4に記憶され、必要
なときにモニタ装置あるいはプリンタ装置から出力でき
る。
In addition, the temperature inside the measurement tank, the amount of chemical solution dropped, the estimated viscosity of the liquid inside the tank, the vacuum pressure inside the tank, the pH value of the liquid inside the tank, the current value of the nitrogen flow rate, etc. that are notified to the controller CPU 4 are determined by each automatic reaction. For each apparatus, the time from the start of the experiment and the set reaction conditions for each reaction tank are stored in the controller CPU 4, and can be output from a monitor or printer when necessary.

【0083】[0083]

【発明の効果】以上、実施例を以て説明したとおり、本
発明の化学反応自動管理システムによれば、複数の反応
槽における化学反応を無人で一度に管理できるので、特
に、多数の実験を同時に行うときには、非常な省力化が
行える。また、その反応管理は、各種反応条件、各種デ
ータ記録保存、安全管理など多岐にわたり、真に実用的
である。
[Effects of the Invention] As explained above with reference to the embodiments, the automatic chemical reaction management system of the present invention allows chemical reactions in multiple reaction vessels to be managed at once unattended, making it especially possible to conduct many experiments simultaneously. In some cases, significant labor savings can be achieved. In addition, the reaction management is truly practical, covering a wide range of areas including various reaction conditions, various data recording storage, and safety management.

【0084】このように、本発明の化学反応自動管理シ
ステムは、産業上の利用価値が頗る高い。
As described above, the chemical reaction automatic management system of the present invention has great industrial utility value.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】第1実施例における、全体の概略的なブロック
線図である。
FIG. 1 is an overall schematic block diagram in a first embodiment.

【図2】第1実施例における反応槽の周辺システムを説
明する、部分的なブロック線図である。
FIG. 2 is a partial block diagram illustrating a peripheral system of a reaction tank in the first embodiment.

【図3】第2実施例における、全体の概略的なブロック
線図である。
FIG. 3 is an overall schematic block diagram in a second embodiment.

【図4】第2実施例における反応槽の周辺システムを説
明する、部分的なブロック線図である。
FIG. 4 is a partial block diagram illustrating a peripheral system of a reaction tank in a second embodiment.

【図5】第3実施例における、全体の概略的なブロック
線図である。
FIG. 5 is an overall schematic block diagram in a third embodiment.

【図6】第3実施例における重合試験装置を説明する、
部分的なブロック線図である。
FIG. 6 illustrates the polymerization test apparatus in the third example.
FIG. 2 is a partial block diagram.

【図7】第4実施例における、全体の概略的なブロック
線図である。
FIG. 7 is an overall schematic block diagram in a fourth embodiment.

【図8】第4実施例における自動反応装置を説明する、
部分的なブロック線図である。
FIG. 8 illustrates an automatic reaction device in the fourth embodiment,
FIG. 2 is a partial block diagram.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

CPU1        制御器 A’・B’・…  実験装置 CPU2        制御器 I’・J’・…  実験装置 CPU3        制御器 Q’・R’・…  重合試験装置 CPU4        制御器 V’・W’・…  自動反応装置 CPU1 Controller A'・B'... Experimental equipment CPU2 Controller I’・J’・… Experimental equipment CPU3 Controller Q’・R’・…Polymerization test device CPU4 Controller V’・W’・… Automatic reaction device

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】  複数の化学反応槽内の反応条件を同時
に管理するシステムであって、槽内で化学反応を実行す
るための基本温度を設定できると共に、各槽に配設され
る温度センサーから槽内温度を受信し、受信槽内温度が
前記基本温度に対して上方に乖離したときに、当該槽内
温度を送信した反応槽に配設される冷却機構の作動を制
御することにより、当該反応槽の槽内温度を一定温度以
下に保つことを特徴とする化学反応自動管理システム。 【請求項2】  複数の化学反応槽内の反応条件を同時
に管理するシステムであって、槽内で化学反応を実行す
るための基本温度を設定できると共に、各槽に配設され
る温度センサーから槽内温度を受信し、受信槽内温度が
前記基本温度に対し下方に乖離したときに、当該槽内温
度を送信した反応槽に配設される加熱機構の作動を制御
することにより、当該反応槽の槽内温度を一定温度以上
に保つことを特徴とする化学反応自動管理システム。 【請求項3】  複数の化学反応槽内の反応条件を同時
に管理するシステムであって、槽内で化学反応を実行す
るための基本温度を設定できると共に、各槽に配設され
る温度センサーから槽内温度を受信し、受信槽内温度が
前記基本温度に対し下方に乖離したときには、当該槽内
温度を送信した反応槽に配設される加熱機構の作動を制
御して、当該反応槽の槽内温度を上げ、受信槽内温度が
前記基本温度に対し上方に乖離したときには、当該槽内
温度を送信した反応槽に配設される冷却機構の作動を制
御して、当該反応槽の槽内温度を下げることを特徴とす
る化学反応自動管理システム。 【請求項4】  冷却開始、あるいは加熱開始のための
、基本温度と槽内温度の差の条件を、設定できるように
なっている請求項3に記載の化学反応自動管理システム
。 【請求項5】  複数の化学反応槽に配設される温度セ
ンサーから送られてくる槽内温度を一定時間置きに各々
の反応槽ごとに記憶すると共に、槽ごとの記憶温度を所
定時間刻みに平均してその平均値を記憶、出力すること
を特徴とする請求項1から請求項4の何れかに記載の化
学反応自動管理システム。 【請求項6】  異常温度を設定できると共に、反応槽
から送られてくる槽内温度が設定異常温度を超えたとき
には、当該反応槽の加熱機構を停止し、冷却機構を作動
させるようになっていることを特徴とする請求項3に記
載の化学反応自動管理システム。 【請求項7】  複数の化学反応槽内の反応条件を同時
に管理するシステムであって、反応経過時間と薬液投入
量との組を複数設定できると共に、システムが認識する
反応開始時間から所定の時間が経過したときに、各反応
槽に備えられる薬液滴下機構を操作することによって、
所定量の薬液を各槽内に滴下するようになっていること
を特徴とする化学反応自動管理システム。 【請求項8】  複数の化学反応槽内の反応条件を同時
に管理するシステムであって、反応経過時間と薬液種、
薬液投入量が複数設定でき、システムが認識する反応開
始時間から所定の時間が経過したときに、各反応槽に備
えられる所定の薬液滴下機構を操作することによって、
所定種、所定量の薬液を各槽内に滴下せしめるようにな
っていることを特徴とする化学反応自動管理システム。 【請求項9】  各反応槽に対応して設けられる薬液貯
蔵槽下の電子天秤から薬液貯蔵槽の現在重量を送られ、
この現在重量の変化から各反応槽に滴下された薬液量を
判断して薬液滴下機構の滴下流量を加減調節することを
特徴とする請求項7または請求項8に記載の化学反応自
動管理システム。 【請求項10】  各化学反応槽の槽内液体を攪拌する
攪拌機構から、各反応槽内の攪拌機構の回転トルクの算
定値を受信する機能を有し、予じめ与えられた設定パタ
ーンに従い、前記回転トルク算定値に基づいて、薬液の
滴下種、滴下量を調節することを特徴とする請求項7か
ら請求項9の何れかに記載の化学反応自動管理システム
。 【請求項11】  各化学反応槽の槽内液体を攪拌する
攪拌機構から、各反応槽内の攪拌機構の回転トルクの算
定値を電気的に伝達され、この伝達情報を記憶、出力す
ることを特徴とする請求項1から請求項10の何れかに
記載の化学反応自動管理システム。 【請求項12】  複数の化学反応槽内の反応条件を同
時に管理するシステムであって、槽内で化学反応を実行
するための基本真空圧を設定できると共に、各化学反応
槽に設けられる真空圧制御機構から反応槽内の現在圧情
報を送られ、この圧力情報値が設定基本真空圧から一定
値以上高いときは、当該真空圧制御機構を操作して減圧
し、圧力情報値が設定基本真空圧から一定値以上低いと
きは、当該真空圧制御機構を操作して増圧することを特
徴とする化学反応自動管理システム。 【請求項14】  各化学反応槽に設けられた反応条件
変更機構、計器類から情報を送られるに当り、システム
自体は常にある1つの化学反応槽の情報を受け取るよう
になっており、一定時間刻みで情報を送る反応槽が所定
順番で交代していくようになっていることを特徴とする
請求項1から請求項14の何れかに記載の化学反応自動
管理システム。 【請求項15】  予じめ設定された情報に基づいて各
化学反応槽の反応条件を管理するに当り、管理の基準と
なる情報を各化学反応槽ごとに別々に設定できるように
なっていることを特徴とする請求項1から請求項14の
何れかに記載の化学反応自動管理システム。
[Scope of Claims] [Claim 1] A system for simultaneously managing reaction conditions in a plurality of chemical reaction vessels, which can set a basic temperature for carrying out chemical reactions in the vessels, and also Receives the temperature inside the tank from a temperature sensor provided, and when the temperature inside the receiving tank deviates upward from the basic temperature, activates the cooling mechanism installed in the reaction tank that transmitted the temperature inside the tank. An automatic chemical reaction management system characterized by controlling the temperature inside the reaction tank to maintain it below a certain temperature. [Claim 2] A system that simultaneously manages reaction conditions in a plurality of chemical reaction tanks, which can set a basic temperature for carrying out chemical reactions in the tanks, and can also control the reaction conditions from a temperature sensor installed in each tank. When the temperature inside the tank is received and the temperature inside the receiving tank deviates downward from the basic temperature, the reaction is started by controlling the operation of the heating mechanism installed in the reaction tank that sent the temperature inside the tank. An automatic chemical reaction management system that maintains the internal temperature of the tank above a certain temperature. [Claim 3] A system for simultaneously managing reaction conditions in multiple chemical reaction tanks, which can set a basic temperature for carrying out chemical reactions in the tanks, and can also control the temperature from a temperature sensor installed in each tank. When the temperature inside the tank is received and the temperature inside the receiving tank deviates downward from the basic temperature, the operation of the heating mechanism installed in the reaction tank that sent the temperature inside the tank is controlled to control the temperature of the reaction tank. When the temperature inside the tank is increased and the temperature inside the receiving tank deviates upward from the basic temperature, the operation of the cooling mechanism installed in the reaction tank that sent the temperature inside the tank is controlled, and the temperature inside the receiving tank is increased. A chemical reaction automatic management system that lowers the internal temperature. 4. The automatic chemical reaction management system according to claim 3, wherein a condition for the difference between the basic temperature and the temperature in the tank for starting cooling or starting heating can be set. 5. Storing the internal temperature of each reaction tank sent from a temperature sensor installed in a plurality of chemical reaction tanks at fixed time intervals, and storing the stored temperature of each tank at predetermined time intervals. The chemical reaction automatic management system according to any one of claims 1 to 4, wherein the average value is stored and outputted. [Claim 6] An abnormal temperature can be set, and when the temperature inside the tank sent from the reaction tank exceeds the set abnormal temperature, the heating mechanism of the reaction tank is stopped and the cooling mechanism is activated. The chemical reaction automatic management system according to claim 3, characterized in that: 7. A system that simultaneously manages reaction conditions in a plurality of chemical reaction tanks, which allows setting of multiple sets of reaction elapsed time and chemical solution input amount, and also allows a predetermined period of time from the reaction start time recognized by the system to be set. When the time period has elapsed, by operating the chemical solution dripping mechanism provided in each reaction tank,
An automatic chemical reaction management system characterized by dripping a predetermined amount of chemical solution into each tank. 8. A system for simultaneously managing reaction conditions in a plurality of chemical reaction vessels, the system comprising:
Multiple chemical solution input amounts can be set, and when a predetermined time has elapsed from the reaction start time recognized by the system, by operating a predetermined chemical solution dripping mechanism provided in each reaction tank,
An automatic chemical reaction management system characterized by dropping a predetermined amount of chemical solution of a predetermined type into each tank. 9. The current weight of the chemical solution storage tank is sent from an electronic balance under the chemical solution storage tank provided corresponding to each reaction tank,
9. The automatic chemical reaction management system according to claim 7, wherein the amount of the chemical solution dropped into each reaction tank is determined based on the change in the current weight, and the dripping flow rate of the chemical solution dropping mechanism is adjusted. 10. It has a function of receiving the calculated value of the rotational torque of the stirring mechanism in each reaction tank from the stirring mechanism that stirs the liquid in the tank of each chemical reaction tank, and according to a predetermined setting pattern. 10. The automatic chemical reaction management system according to claim 7, wherein the type and amount of the chemical solution to be dropped are adjusted based on the rotational torque calculation value. 11. The calculated value of the rotational torque of the stirring mechanism in each reaction tank is electrically transmitted from the stirring mechanism that stirs the liquid in the tank of each chemical reaction tank, and this transmitted information is stored and output. A chemical reaction automatic management system according to any one of claims 1 to 10. 12. A system for simultaneously managing reaction conditions in a plurality of chemical reaction vessels, which can set the basic vacuum pressure for carrying out chemical reactions in the vessels, and also control the vacuum pressure provided in each chemical reaction vessel. Current pressure information in the reaction tank is sent from the control mechanism, and if this pressure information value is higher than the set basic vacuum pressure by a certain value or more, operate the vacuum pressure control mechanism to reduce the pressure and the pressure information value becomes the set basic vacuum. An automatic chemical reaction management system characterized in that when the pressure is lower than a certain value, the vacuum pressure control mechanism is operated to increase the pressure. Claim 14: When information is sent from the reaction condition changing mechanism and instruments installed in each chemical reaction tank, the system itself always receives information from one chemical reaction tank, and 15. The automatic chemical reaction management system according to claim 1, wherein the reaction vessels that send information in increments are alternated in a predetermined order. [Claim 15] When managing the reaction conditions of each chemical reaction tank based on preset information, information serving as a management standard can be set separately for each chemical reaction tank. The chemical reaction automatic management system according to any one of claims 1 to 14, characterized in that:
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