JPH04275785A - 固体撮像装置 - Google Patents
固体撮像装置Info
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- JPH04275785A JPH04275785A JP3037482A JP3748291A JPH04275785A JP H04275785 A JPH04275785 A JP H04275785A JP 3037482 A JP3037482 A JP 3037482A JP 3748291 A JP3748291 A JP 3748291A JP H04275785 A JPH04275785 A JP H04275785A
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Links
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Landscapes
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、再生画像の画質を向上
せしめた固体撮像装置に関する。
せしめた固体撮像装置に関する。
【0002】
【従来の技術】CCD等の固体撮像素子は撮像管に比べ
小型化、軽量化が容易なのでホームビデオ等の民生用の
撮像機器に多く用いられている。更に近年のIC製造技
術の発展に伴いその高精細化、低雑音化も進んでいる。 図17はこのような固体撮像素子を用いた撮像機器の自
動絞り機構の原理を示す図である。
小型化、軽量化が容易なのでホームビデオ等の民生用の
撮像機器に多く用いられている。更に近年のIC製造技
術の発展に伴いその高精細化、低雑音化も進んでいる。 図17はこのような固体撮像素子を用いた撮像機器の自
動絞り機構の原理を示す図である。
【0003】固体撮像素子51に入射した光はそこで電
気信号53に変換され、この電気信号53は外部のマイ
クロプロセッサ55に送られる。このマイクロプロセッ
サ55は、画素面の一部、例えば、画素面の中央部の輝
度を計算することで基準輝度を求め、この基準輝度に対
応した制御信号57を固体撮像素子51に送る。そして
固体撮像素子51は制御信号57に従い絞りを調整する
。例えば、固体撮像素子51がCCD撮像素子の場合に
は、制御信号57は基板バイアス信号として与えられ、
この基板バイアス信号に応じた量の電荷を各画素から一
様に基板を通して引きぬくことで絞り調整を行っている
。
気信号53に変換され、この電気信号53は外部のマイ
クロプロセッサ55に送られる。このマイクロプロセッ
サ55は、画素面の一部、例えば、画素面の中央部の輝
度を計算することで基準輝度を求め、この基準輝度に対
応した制御信号57を固体撮像素子51に送る。そして
固体撮像素子51は制御信号57に従い絞りを調整する
。例えば、固体撮像素子51がCCD撮像素子の場合に
は、制御信号57は基板バイアス信号として与えられ、
この基板バイアス信号に応じた量の電荷を各画素から一
様に基板を通して引きぬくことで絞り調整を行っている
。
【0004】しかしながら、従来の固体撮像装置には次
のような問題があった。即ち、従来の固体撮像装置の自
動絞り機構では、基準輝度の対象となる部分である中央
部の画素には適正な絞り機構が働くが、その周辺部で基
準輝度と大幅に異なる輝度の画素には適正な絞りが働か
ないので再生画像の画質が低下するという問題があった
。
のような問題があった。即ち、従来の固体撮像装置の自
動絞り機構では、基準輝度の対象となる部分である中央
部の画素には適正な絞り機構が働くが、その周辺部で基
準輝度と大幅に異なる輝度の画素には適正な絞りが働か
ないので再生画像の画質が低下するという問題があった
。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く従来の固体
撮像装置では、その自動絞り機構が画素面の一部領域に
おける輝度を基準輝度として用いているので、基準輝度
と異なる輝度を有する画素には適正な絞りが働かなかっ
た。その結果、再生画像の画質が低下するいという問題
があった。本発明は、上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、画素面全体に有効に働く
絞り機構を有する固体撮像装置を提供することにある。
撮像装置では、その自動絞り機構が画素面の一部領域に
おける輝度を基準輝度として用いているので、基準輝度
と異なる輝度を有する画素には適正な絞りが働かなかっ
た。その結果、再生画像の画質が低下するいという問題
があった。本発明は、上記事情を考慮してなされたもの
で、その目的とするところは、画素面全体に有効に働く
絞り機構を有する固体撮像装置を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明の固体撮像装置は、マトリクス配列された
信号電荷蓄積部が複数ブロックに分けられ、各ブロック
にはその中の一点の輝度を検出してその輝度に応じた制
御信号を出力する画素信号処理部が設けられている。一
方、各信号電荷蓄積部にはそれぞれ信号電荷引き抜き部
が設けられ、この信号電荷引き抜き部がブロック毎に画
素信号処理部から得られる制御信号により制御されて各
ブロック内の輝度に応じて過剰な信号電荷が引き抜かれ
る。また、隣接した画素信号処理部は、結合素子を介し
て接続されていることが望ましい場合がある。
めに、本発明の固体撮像装置は、マトリクス配列された
信号電荷蓄積部が複数ブロックに分けられ、各ブロック
にはその中の一点の輝度を検出してその輝度に応じた制
御信号を出力する画素信号処理部が設けられている。一
方、各信号電荷蓄積部にはそれぞれ信号電荷引き抜き部
が設けられ、この信号電荷引き抜き部がブロック毎に画
素信号処理部から得られる制御信号により制御されて各
ブロック内の輝度に応じて過剰な信号電荷が引き抜かれ
る。また、隣接した画素信号処理部は、結合素子を介し
て接続されていることが望ましい場合がある。
【0007】
【作用】本発明の固体撮像装置によれば、画素面が複数
ブロックに分割されて各ブロック毎に検出された輝度に
応じた量の信号電荷がそれぞれブロック内の信号電荷蓄
積部から引き抜かれるので従来に比べてより適正な絞り
調整が行われる。
ブロックに分割されて各ブロック毎に検出された輝度に
応じた量の信号電荷がそれぞれブロック内の信号電荷蓄
積部から引き抜かれるので従来に比べてより適正な絞り
調整が行われる。
【0008】また、隣接した画素信号処理部が結合素子
を介して接続されると、各ブロック内の信号電荷引き抜
き部には、各ブロックの近傍箇所の平均輝度も考慮した
制御信号が導入される。その結果、画素信号処理部の平
均輝度が不連続に変化しても制御信号は滑らかに変化す
るので再生画面の画質を劣化を防止できる。
を介して接続されると、各ブロック内の信号電荷引き抜
き部には、各ブロックの近傍箇所の平均輝度も考慮した
制御信号が導入される。その結果、画素信号処理部の平
均輝度が不連続に変化しても制御信号は滑らかに変化す
るので再生画面の画質を劣化を防止できる。
【0009】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明する
。図1には本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の
概略構成図が示されている。
。図1には本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の
概略構成図が示されている。
【0010】この固体撮像装置の画素面は、複数の画素
部5がマトリクス配列されてなり、各画素部5は、それ
ぞれ、例えば、光電変換して信号電荷を蓄積するフォト
ダイオ−ドと、このフォトダイオ−ドの信号電荷を転送
して読出すCCDを含む。
部5がマトリクス配列されてなり、各画素部5は、それ
ぞれ、例えば、光電変換して信号電荷を蓄積するフォト
ダイオ−ドと、このフォトダイオ−ドの信号電荷を転送
して読出すCCDを含む。
【0011】画素面は、複数のブロックに分けられてお
り、各ブロックに一つずつ、画素信号処理部3が設けら
れている。画素信号処理部3は、その点の輝度を検出し
て、各ブロック内の画素部5の信号電荷の過剰分を引抜
く制御を行う。したがって、各画素部5には、後述のよ
うに信号電荷引き抜き部が設けられている。
り、各ブロックに一つずつ、画素信号処理部3が設けら
れている。画素信号処理部3は、その点の輝度を検出し
て、各ブロック内の画素部5の信号電荷の過剰分を引抜
く制御を行う。したがって、各画素部5には、後述のよ
うに信号電荷引き抜き部が設けられている。
【0012】画素信号処理部3は、図2に示されるよう
に、一端が高電位の電源電位VDDに接続されたMOS
トランジスタTr1a,Tr1b,Tr1cが直列接続
してなる負荷用トランジスタTr1と、コレクタが負荷
用トランジスタTr1の他端に接続されエミッタが低電
位の電源電位VSSに接続されているフォトトランジス
タTr2と、このフォトトランジスタTr2のエミッタ
とコレクタとの間に直列接続された抵抗素子Rとキャパ
シタCとからなる。なお、MOSトランジスタTr1a
,Tr1b,Tr1cはダイオ−ド接続されている。
に、一端が高電位の電源電位VDDに接続されたMOS
トランジスタTr1a,Tr1b,Tr1cが直列接続
してなる負荷用トランジスタTr1と、コレクタが負荷
用トランジスタTr1の他端に接続されエミッタが低電
位の電源電位VSSに接続されているフォトトランジス
タTr2と、このフォトトランジスタTr2のエミッタ
とコレクタとの間に直列接続された抵抗素子Rとキャパ
シタCとからなる。なお、MOSトランジスタTr1a
,Tr1b,Tr1cはダイオ−ド接続されている。
【0013】このように構成された画素信号処理部3に
光が照射されると、フォトトランジスタTr2の光電変
換でもってそのコレクタ−エミッタ間に電流Iが流れる
。この場合、電流Iは小さいのでMOSトランジスタT
r1a,Tr1b,Tr1cはサブスレッシュホ−ルド
領域で動作することになる。したがって、エミッタとソ
−スとの接続ノ−ドNoの電圧は近似的に式(1)のよ
うに表すことができる。 Vo=VDD−KlogI
・・・・・・・・・・(1)ここで
Kは比例係数である。この電圧Voは抵抗素子Rとキャ
パシタCとからなる積分回路により時間的に平均化され
た後、制御電圧として画素部5に導入される。図3は画
素部5の平面図、図4は同画素部5のA−A´断面図で
ある。
光が照射されると、フォトトランジスタTr2の光電変
換でもってそのコレクタ−エミッタ間に電流Iが流れる
。この場合、電流Iは小さいのでMOSトランジスタT
r1a,Tr1b,Tr1cはサブスレッシュホ−ルド
領域で動作することになる。したがって、エミッタとソ
−スとの接続ノ−ドNoの電圧は近似的に式(1)のよ
うに表すことができる。 Vo=VDD−KlogI
・・・・・・・・・・(1)ここで
Kは比例係数である。この電圧Voは抵抗素子Rとキャ
パシタCとからなる積分回路により時間的に平均化され
た後、制御電圧として画素部5に導入される。図3は画
素部5の平面図、図4は同画素部5のA−A´断面図で
ある。
【0014】画素部5は半導体基板のp型ウェル7内に
形成されている。光電変換部兼信号電荷蓄積部は、n+
層からなるフォトダイオ−ド13で構成されている。 信号電荷読出し部は、CCDチャネル16と、フォトダ
イオ−ド13の信号電荷をCCDチャネル16に転送す
る第1の転送ゲ−ト15とで構成されている、そして信
号電荷引き抜き部は、各フォトダイオ−ド13のCCD
チャネル16の反対側に隣接して設けられた所定の電圧
が印加されている高濃度のn+ 層からなるバイアスノ
−ド9と、このバイアスノ−ド9とフォトダイオ−ド1
3の間に設けられて画素信号処理部3からの制御信号電
圧Voにより制御される第2の転送ゲ−ト11とで構成
されている。
形成されている。光電変換部兼信号電荷蓄積部は、n+
層からなるフォトダイオ−ド13で構成されている。 信号電荷読出し部は、CCDチャネル16と、フォトダ
イオ−ド13の信号電荷をCCDチャネル16に転送す
る第1の転送ゲ−ト15とで構成されている、そして信
号電荷引き抜き部は、各フォトダイオ−ド13のCCD
チャネル16の反対側に隣接して設けられた所定の電圧
が印加されている高濃度のn+ 層からなるバイアスノ
−ド9と、このバイアスノ−ド9とフォトダイオ−ド1
3の間に設けられて画素信号処理部3からの制御信号電
圧Voにより制御される第2の転送ゲ−ト11とで構成
されている。
【0015】図5,図6はこのように構成された固体撮
像装置に光が照射されているときに、第1の転送ゲ−ト
15を転送状態(オン)にした場合の画素部5内のポテ
ンシャル分布を示す図である。
像装置に光が照射されているときに、第1の転送ゲ−ト
15を転送状態(オン)にした場合の画素部5内のポテ
ンシャル分布を示す図である。
【0016】図中、ESS,EDDは、それぞれVo=
VSS,Vo=VDDにおける第2の転送ゲ−ト11の
下のポテンシャルレベルを示している。また、斜線部D
は、フォトダイオ−ド13で発生した電荷を示している
。なお、第2の転送ゲ−ト11の下のポテンシャルレベ
ルからESSを引いた値は、第2の転送ゲ−ト11に画
素信号処理部3の出力電圧Voが印加されているため、
画素信号処理部3の出力電圧に比例した値、即ち、lo
gIに比例した値になる。
VSS,Vo=VDDにおける第2の転送ゲ−ト11の
下のポテンシャルレベルを示している。また、斜線部D
は、フォトダイオ−ド13で発生した電荷を示している
。なお、第2の転送ゲ−ト11の下のポテンシャルレベ
ルからESSを引いた値は、第2の転送ゲ−ト11に画
素信号処理部3の出力電圧Voが印加されているため、
画素信号処理部3の出力電圧に比例した値、即ち、lo
gIに比例した値になる。
【0017】図5は、フォトダイオ−ド13に照射され
るが光量Qが少ない場合を示している。即ち、光量Q1
を第2の転送ゲ−ト11下のポテンシャルより低いエ
ネルギ−の電子がフォトダイオ−ド13で発生する光量
とすると、Q≦Q1 の場合には、斜線部Dの電荷は全
て第1の転送ゲ−ト15を通ってCCDチャネル16に
転送される。その結果、図7に示されるように光量Q(
Q≦Q1 )に線形的な信号電荷LCTL がフォトダ
イオ−ド13から得られる。
るが光量Qが少ない場合を示している。即ち、光量Q1
を第2の転送ゲ−ト11下のポテンシャルより低いエ
ネルギ−の電子がフォトダイオ−ド13で発生する光量
とすると、Q≦Q1 の場合には、斜線部Dの電荷は全
て第1の転送ゲ−ト15を通ってCCDチャネル16に
転送される。その結果、図7に示されるように光量Q(
Q≦Q1 )に線形的な信号電荷LCTL がフォトダ
イオ−ド13から得られる。
【0018】また、図6は、フォトダイオ−ド13に照
射される光の量が中程度の場合である。画素信号処理部
3からの制御信号電圧Voが低下して第2の転送ゲ−ト
11下のポテンシャルがQ≦Q1 の場合より低下して
いる(バリアが高くなっている)とき、斜線部D2 の
電荷は、第2の転送ゲ−ト11下のポテンシャルバリア
を越えて第2の転送ゲ−ト11を介してバイアスノ−ド
9に流れ込む。残りの斜線部D1 の電荷は第1の転送
ゲ−ト15を介して信号電荷としてCCDチャネル16
に流れ込む。
射される光の量が中程度の場合である。画素信号処理部
3からの制御信号電圧Voが低下して第2の転送ゲ−ト
11下のポテンシャルがQ≦Q1 の場合より低下して
いる(バリアが高くなっている)とき、斜線部D2 の
電荷は、第2の転送ゲ−ト11下のポテンシャルバリア
を越えて第2の転送ゲ−ト11を介してバイアスノ−ド
9に流れ込む。残りの斜線部D1 の電荷は第1の転送
ゲ−ト15を介して信号電荷としてCCDチャネル16
に流れ込む。
【0019】第2の転送ゲ−ト11により読出される電
荷の量は、第2の転送ゲ−ト11の下のポテンシャルレ
ベルからEssを引いた値がlogIに比例するため、
フォトダイオ−ド13に照射される光量の対数に比例す
ることになる。したがって、図7に示されるように光量
Q(Q1 <Q<Q2 )に対数的な信号電荷LCTL
がフォトダイオ−ド13から引き抜かれる。
荷の量は、第2の転送ゲ−ト11の下のポテンシャルレ
ベルからEssを引いた値がlogIに比例するため、
フォトダイオ−ド13に照射される光量の対数に比例す
ることになる。したがって、図7に示されるように光量
Q(Q1 <Q<Q2 )に対数的な信号電荷LCTL
がフォトダイオ−ド13から引き抜かれる。
【0020】また、フォトダイオ−ド13に照射される
光の量が更に多い場合、即ち、飽和状態の場合は、図7
に示されるように光量Q(Q≧Q2 )によらず一定量
の信号電荷LCTL がフォトダイオ−ド13からCC
Dチャネル16に読出される。
光の量が更に多い場合、即ち、飽和状態の場合は、図7
に示されるように光量Q(Q≧Q2 )によらず一定量
の信号電荷LCTL がフォトダイオ−ド13からCC
Dチャネル16に読出される。
【0021】このように各画素信号処理部3に照射され
る光の量に応じて各ブロック単位での絞り調整が行われ
るので画質が良い再生画像が得られる。更に、本実施例
では上述したように信号電荷LCTL のレベルを光量
に応じて線形的,対数的に変化させて輝度信号圧縮を行
ったので、従来のように線形的に変化させただけに比べ
て絞り調整ができる範囲が広くなる。
る光の量に応じて各ブロック単位での絞り調整が行われ
るので画質が良い再生画像が得られる。更に、本実施例
では上述したように信号電荷LCTL のレベルを光量
に応じて線形的,対数的に変化させて輝度信号圧縮を行
ったので、従来のように線形的に変化させただけに比べ
て絞り調整ができる範囲が広くなる。
【0022】かくして本実施例では、各画素信号処理部
3に照射された光の量に応じた制御電圧Voを画素部5
に送り、この制御Voに応じた量の信号電荷を各ブロッ
クの画素部5のフォトダイオ−ド13から引き抜きぬく
ことで絞り調整を行うので全画素上で輝度が異なる部分
があっても画質の低下を招かない小型で安価な固体撮像
装置を得ることができる。
3に照射された光の量に応じた制御電圧Voを画素部5
に送り、この制御Voに応じた量の信号電荷を各ブロッ
クの画素部5のフォトダイオ−ド13から引き抜きぬく
ことで絞り調整を行うので全画素上で輝度が異なる部分
があっても画質の低下を招かない小型で安価な固体撮像
装置を得ることができる。
【0023】図8には本発明の第2の実施例に係る固体
撮像装置の概略構成が示されている。なお、図1と対応
する部分には図1と同一符号を付して詳細な説明は省略
する。
撮像装置の概略構成が示されている。なお、図1と対応
する部分には図1と同一符号を付して詳細な説明は省略
する。
【0024】この固体撮像装置が第1の実施例で説明し
た固体撮像装置と異なる点は、隣接する画素信号処理部
3を結合素子、例えば、抵抗素子17を介して接続し、
複数の画素信号処理部3の制御電圧Voにより画素部5
の信号電荷の引き抜き量を決めたことにある。
た固体撮像装置と異なる点は、隣接する画素信号処理部
3を結合素子、例えば、抵抗素子17を介して接続し、
複数の画素信号処理部3の制御電圧Voにより画素部5
の信号電荷の引き抜き量を決めたことにある。
【0025】画素信号処理部3は、図9中、一点鎖線で
囲まれて示されるように、一端(ドレイン)が高電位の
電源電位VDDに接続された3つのMOSトランジスタ
Tr1a,Tr1b,Tr1cが直列接続してなる負荷
用トランジスタTr1と、コレクタがこのトランジスタ
Tr1の他端(ソ−ス)に接続されエミッタが低電位の
電源電位VSSに接続されているフォトトランジスタT
r2と、このフォトトランジスタTr2のコレクタとト
ランジスタTr1cのソ−スとの接続ノ−ドNoに接続
されたバッファアンプ19と、このバッファアンプ19
に抵抗素子21を介して接続されたバッファアンプ23
とからなる。そして抵抗素子21とバッファアンプ23
との接続ノ−ドNp は抵抗素子17を介して隣接した
画素信号処理部3に接続されている。
囲まれて示されるように、一端(ドレイン)が高電位の
電源電位VDDに接続された3つのMOSトランジスタ
Tr1a,Tr1b,Tr1cが直列接続してなる負荷
用トランジスタTr1と、コレクタがこのトランジスタ
Tr1の他端(ソ−ス)に接続されエミッタが低電位の
電源電位VSSに接続されているフォトトランジスタT
r2と、このフォトトランジスタTr2のコレクタとト
ランジスタTr1cのソ−スとの接続ノ−ドNoに接続
されたバッファアンプ19と、このバッファアンプ19
に抵抗素子21を介して接続されたバッファアンプ23
とからなる。そして抵抗素子21とバッファアンプ23
との接続ノ−ドNp は抵抗素子17を介して隣接した
画素信号処理部3に接続されている。
【0026】このように構成された画素信号処理部3で
は、制御電圧信号はバッファアンプ19,抵抗素子21
,バッファアンプ23を介して画素部5に導入されるの
みならず、バッファアンプ19,抵抗素子21,抵抗素
子17を介して隣接した画素の画素部にも導入される。
は、制御電圧信号はバッファアンプ19,抵抗素子21
,バッファアンプ23を介して画素部5に導入されるの
みならず、バッファアンプ19,抵抗素子21,抵抗素
子17を介して隣接した画素の画素部にも導入される。
【0027】図10にはこのように構成された固体撮像
装置の等価回路網が示されている。この回路網は空間的
な低域通過フィルタとして知られているものである。こ
のような空間的な低域通過フィルタを1次元の場合につ
いて図11,図12を用いて説明する。
装置の等価回路網が示されている。この回路網は空間的
な低域通過フィルタとして知られているものである。こ
のような空間的な低域通過フィルタを1次元の場合につ
いて図11,図12を用いて説明する。
【0028】図中、電圧源S1〜S8は第1の実施例で
説明した画素信号処理部3に対応し、その出力電圧v1
〜v8は図2の接続ノ−ドNoの制御電圧Voに対応す
る。この回路網の各接続ノ−ドN1〜N8には、それぞ
れの接続ノ−ドに抵抗素子21を介して接続された電圧
源の電圧と、他の接続ノ−ドに接続された電圧源の電圧
とが印加される。
説明した画素信号処理部3に対応し、その出力電圧v1
〜v8は図2の接続ノ−ドNoの制御電圧Voに対応す
る。この回路網の各接続ノ−ドN1〜N8には、それぞ
れの接続ノ−ドに抵抗素子21を介して接続された電圧
源の電圧と、他の接続ノ−ドに接続された電圧源の電圧
とが印加される。
【0029】したがって、図12に示すように出力電圧
v1 ,v2 ,v3 ,v4 が低レベル、出力電圧
v5 ,v6 ,v7 ,v8 が高レベルの場合には
、接続ノ−ドN1,N2,N3の電圧u1 ,u2 ,
u3 は出力電圧v1 ,v2 ,v3 と同様に低レ
ベルになり、接続ノ−ドN6,N7,N8の電圧u6
,u7 ,u8 は出力電圧v6 ,v7 ,v8 と
同様に高レベルになり、そして接続ノ−ドN4,N5の
電圧u4,u5は、接続ノ−ドN4,N5の両端の電圧
源の出力電圧が異なるので中程度のレベルとなる。この
ように出力電圧が不連続に変化しても接続ノ−ドの電圧
は滑らかに変化する。
v1 ,v2 ,v3 ,v4 が低レベル、出力電圧
v5 ,v6 ,v7 ,v8 が高レベルの場合には
、接続ノ−ドN1,N2,N3の電圧u1 ,u2 ,
u3 は出力電圧v1 ,v2 ,v3 と同様に低レ
ベルになり、接続ノ−ドN6,N7,N8の電圧u6
,u7 ,u8 は出力電圧v6 ,v7 ,v8 と
同様に高レベルになり、そして接続ノ−ドN4,N5の
電圧u4,u5は、接続ノ−ドN4,N5の両端の電圧
源の出力電圧が異なるので中程度のレベルとなる。この
ように出力電圧が不連続に変化しても接続ノ−ドの電圧
は滑らかに変化する。
【0030】このことを図10に示された2次元回路網
の破線で囲まれた領域で考えると、ブロック1aの画素
部3aには、ブロック1bの画素部3bの制御電圧,ブ
ロック1cの画素部3cの制御電圧,ブロック1dの画
素部3dの制御電圧,ブロック1eの画素部3eの制御
電圧が導入されて、画素部b,1c,1d,1eの輝度
も考慮した量の信号電荷が画素部3aのフォトダイオ−
ドから引き抜かれることを意味する。その結果、逆光な
どの影響で照射光が不連続に変化する領域が画素面上に
あっても、それが再生画像のムラとして現われるという
ことはない。
の破線で囲まれた領域で考えると、ブロック1aの画素
部3aには、ブロック1bの画素部3bの制御電圧,ブ
ロック1cの画素部3cの制御電圧,ブロック1dの画
素部3dの制御電圧,ブロック1eの画素部3eの制御
電圧が導入されて、画素部b,1c,1d,1eの輝度
も考慮した量の信号電荷が画素部3aのフォトダイオ−
ドから引き抜かれることを意味する。その結果、逆光な
どの影響で照射光が不連続に変化する領域が画素面上に
あっても、それが再生画像のムラとして現われるという
ことはない。
【0031】かくして本実施例では、抵抗素子17を介
して接続された画素部3をマトリクス状に配列している
ので、第1の実施例と同様な効果が得られるのは勿論の
こと、フォトダイオ−ドから引き抜く信号電荷の量はそ
の近傍の画素信号処理部に照射される光も考慮したもの
となるので、照射光が不連続に変化する領域があっても
再生画像の画質が劣化するという問題は低減される。図
13には本発明の第3の実施例に係る固体撮像装置の概
略構成が示されている。これが第2の実施例で説明した
固体撮像装置と異なる点は、画素信号処理部3と画素部
5とをそれぞれ別のウェル内25,27で形成したこと
にある。
して接続された画素部3をマトリクス状に配列している
ので、第1の実施例と同様な効果が得られるのは勿論の
こと、フォトダイオ−ドから引き抜く信号電荷の量はそ
の近傍の画素信号処理部に照射される光も考慮したもの
となるので、照射光が不連続に変化する領域があっても
再生画像の画質が劣化するという問題は低減される。図
13には本発明の第3の実施例に係る固体撮像装置の概
略構成が示されている。これが第2の実施例で説明した
固体撮像装置と異なる点は、画素信号処理部3と画素部
5とをそれぞれ別のウェル内25,27で形成したこと
にある。
【0032】このように構成された固体撮像装置でも、
第2の実施例と同様な効果が得られるのは勿論のこと、
画素信号処理部3のアナログ回路系と画素部5のCCD
系とのバイアスを別々に設定できるという利点がある。 また、画素信号処理部3の信号が画素部5に漏れ込んだ
り、逆に画素部5の信号が画素信号処理部3に漏れだ込
んだするという不都合も防止できる。図14には本発明
の第4の実施例に係る固体撮像装置の概略構成が示され
ている。
第2の実施例と同様な効果が得られるのは勿論のこと、
画素信号処理部3のアナログ回路系と画素部5のCCD
系とのバイアスを別々に設定できるという利点がある。 また、画素信号処理部3の信号が画素部5に漏れ込んだ
り、逆に画素部5の信号が画素信号処理部3に漏れだ込
んだするという不都合も防止できる。図14には本発明
の第4の実施例に係る固体撮像装置の概略構成が示され
ている。
【0033】この実施例が先に説明した第2の実施例と
異なる点は、画素信号処理部3と画素部5とを別のチッ
プ上に形成したことにある。このように構成された固体
撮像装置では、画素信号処理部3の接続ノ−ド数が少な
い場合、制御電圧信号が少なくてすむので容易に形成す
ることができるという利点がある。なお、この場合、図
15に示すように先に説明にした実施例と同様に、画素
信号処理部3と画素部5との両方に光を照射する構成に
しても良い。
異なる点は、画素信号処理部3と画素部5とを別のチッ
プ上に形成したことにある。このように構成された固体
撮像装置では、画素信号処理部3の接続ノ−ド数が少な
い場合、制御電圧信号が少なくてすむので容易に形成す
ることができるという利点がある。なお、この場合、図
15に示すように先に説明にした実施例と同様に、画素
信号処理部3と画素部5との両方に光を照射する構成に
しても良い。
【0034】また、図16に示すように画素部5のみに
光を照射させ、この画素部5で得られた輝度信号ILU
M を画素信号処理部3に送り、この画素信号処理部3
で得られた帰還信号ICTL を元に画素部5のフォト
ダイオ−ドの引き抜き電荷量を決める構成にしても良い
。
光を照射させ、この画素部5で得られた輝度信号ILU
M を画素信号処理部3に送り、この画素信号処理部3
で得られた帰還信号ICTL を元に画素部5のフォト
ダイオ−ドの引き抜き電荷量を決める構成にしても良い
。
【0035】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。上記実施例では1個の画素信号処理部
で24個の画素部を制御したが、1個の画素信号処理部
で1個の画素部を制御する構成にしてもよい。この場合
、更に適正な絞り調整を行うことができる。
るものではない。上記実施例では1個の画素信号処理部
で24個の画素部を制御したが、1個の画素信号処理部
で1個の画素部を制御する構成にしてもよい。この場合
、更に適正な絞り調整を行うことができる。
【0036】また、実施例では光量が中程度の場合には
光量と対数的な関係を持つように制御電圧のレベルを変
化させたが、輝度信号圧縮ができるなら他の関係でもっ
て制御電圧のレベルを変化させてもよい。
光量と対数的な関係を持つように制御電圧のレベルを変
化させたが、輝度信号圧縮ができるなら他の関係でもっ
て制御電圧のレベルを変化させてもよい。
【0037】更にまた、抵抗素子の代わりにそれと同様
な機能を持つ回路で画素信号処理部間を接続して良い。 なお、光電変換素子としてフォトダイオ−ド以外のもの
を用いても良いことはいうまでもない。その他、本発明
の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施できる。
な機能を持つ回路で画素信号処理部間を接続して良い。 なお、光電変換素子としてフォトダイオ−ド以外のもの
を用いても良いことはいうまでもない。その他、本発明
の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施できる。
【0038】
【発明の効果】以上述べたように本発明の固体撮像装置
によれば、各ブロックの輝度に対応した量の信号電荷を
そのブロック内の信号電荷蓄積部から引き抜くことで絞
り調節を行っているので、画素面上で輝度が大きく異な
る領域があっても適正な絞り調整が行われて画質の良い
再生画像を得ることができる。
によれば、各ブロックの輝度に対応した量の信号電荷を
そのブロック内の信号電荷蓄積部から引き抜くことで絞
り調節を行っているので、画素面上で輝度が大きく異な
る領域があっても適正な絞り調整が行われて画質の良い
再生画像を得ることができる。
【図1】本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の概
略構成図。
略構成図。
【図2】本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の制
御電圧生成部を説明するための図。
御電圧生成部を説明するための図。
【図3】本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の制
御電流生成部の平面図。
御電流生成部の平面図。
【図4】本発明の第1の実施例に係る固体撮像装置の制
御電流生成部のA−A´断面図。
御電流生成部のA−A´断面図。
【図5】画素部のポテンシャル分布を示す図。
【図6】画素部のポテンシャル分布を示す図。
【図7】光量と信号電荷との関係を示す図。
【図8】本発明の第2の実施例に係る固体撮像装置の概
略構成図。
略構成図。
【図9】本発明の第2の実施例に係る固体撮像装置の画
素信号処理部。
素信号処理部。
【図10】本発明の第2の実施例に係る固体撮像装置の
画素信号処理部の等価回路網。
画素信号処理部の等価回路網。
【図11】1次元の低域通過フィルタを示す図。
【図12】1次元の低域通過フィルタの機能を説明する
図。
図。
【図13】本発明の第3の実施例に係る固体撮像装置の
概略構成図。
概略構成図。
【図14】本発明の第4の実施例に係る固体撮像装置の
概略構成図。
概略構成図。
【図15】本発明の第4の実施例に係る固体撮像装置に
おける画素部の一つの制御方法を示す図。
おける画素部の一つの制御方法を示す図。
【図16】本発明の第4の実施例に係る固体撮像装置に
おける画素部の他の制御方法を示す図。
おける画素部の他の制御方法を示す図。
【図17】従来の固体撮像装置の自動絞り機構の原理を
示す図。
示す図。
C…キャパシタ、R…抵抗素子、S1〜S8…電圧源、
Tr1a,Tr1b,Tr1c…MOSトランジスタ、
Tr1…負荷用トランジスタ,Tr2…フォトトランジ
スタ、1…ブロック、3…画素信号処理部、5…画素部
、7…Pウェル、9…バイアスノ−ド、11…第1の転
送ゲ−ト、13…フォトダイオ−ド、15…第2の転送
ゲ−ト、16…CCDチャネル、17…抵抗素子、19
…バッファアンプ、21…抵抗素子、23…バッファア
ンプ、25…画素信号処理部用ウェル、27…画素部用
ウェル。
Tr1a,Tr1b,Tr1c…MOSトランジスタ、
Tr1…負荷用トランジスタ,Tr2…フォトトランジ
スタ、1…ブロック、3…画素信号処理部、5…画素部
、7…Pウェル、9…バイアスノ−ド、11…第1の転
送ゲ−ト、13…フォトダイオ−ド、15…第2の転送
ゲ−ト、16…CCDチャネル、17…抵抗素子、19
…バッファアンプ、21…抵抗素子、23…バッファア
ンプ、25…画素信号処理部用ウェル、27…画素部用
ウェル。
Claims (2)
- 【請求項1】半導体基板上に形成されて光電変換して発
生した信号電荷を蓄積するマトリクス配列された信号電
荷蓄積部と、前記信号電荷蓄積部の信号電荷を読出す信
号電荷読出し部と、前記信号電荷蓄積部の配列の複数個
に分けられたブロック内にそれぞれ設けられ、輝度を検
出してその輝度に応じた制御信号を出力する画素信号処
理部と、前記各信号電荷蓄積部に接して設けられ、前記
各ブロック毎にそのブロック内で得られる前記制御信号
により制御されて前記信号電荷蓄積部から過剰な信号電
荷を引き抜く信号電荷引き抜き部と、を有することを特
徴とする固体撮像装置。 - 【請求項2】前記各画素信号処理部は、互いに隣接する
もの同士が結合素子を介して接続されていることを特徴
とする請求項1に記載の固体撮像装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3037482A JPH04275785A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 固体撮像装置 |
US07/757,047 US5187581A (en) | 1990-09-11 | 1991-09-09 | Solid state image sensing device including nonlinear conversion processing of input light levels |
KR1019910015930A KR950013447B1 (ko) | 1990-03-04 | 1991-09-11 | 고체 촬상관 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3037482A JPH04275785A (ja) | 1991-03-04 | 1991-03-04 | 固体撮像装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04275785A true JPH04275785A (ja) | 1992-10-01 |
Family
ID=12498744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3037482A Pending JPH04275785A (ja) | 1990-03-04 | 1991-03-04 | 固体撮像装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04275785A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016159032A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2017-11-24 | 株式会社ニコン | 撮像素子および撮像装置 |
-
1991
- 1991-03-04 JP JP3037482A patent/JPH04275785A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2016159032A1 (ja) * | 2015-03-30 | 2017-11-24 | 株式会社ニコン | 撮像素子および撮像装置 |
US10298836B2 (en) | 2015-03-30 | 2019-05-21 | Nikon Corporation | Image sensor and image-capturing apparatus |
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