JPH04265829A - 計量システムのためのディスク形状トランスデューサ - Google Patents

計量システムのためのディスク形状トランスデューサ

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JPH04265829A
JPH04265829A JP3281459A JP28145991A JPH04265829A JP H04265829 A JPH04265829 A JP H04265829A JP 3281459 A JP3281459 A JP 3281459A JP 28145991 A JP28145991 A JP 28145991A JP H04265829 A JPH04265829 A JP H04265829A
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クラウス マシアス
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、互いに平行且つ測定さ
れるパワーの作用方向に対して平行に延在する表面を具
え、前記表面の少なくとも一つに、パワーに依存する奇
形を有効な信号に変換するための検出素子を設けている
計量システムのためのディスク形状トランスデューサに
関するものである。
【0002】この種のトランスデューサは、検出素子を
具え、せん断応力の原理に従って作動する、計量システ
ムのためのロードセルの一部を構成する。
【0003】
【従来の技術】この種のロードセルは、例えば刊行物 
” Compression Load Cells,
1986 ”,   Revere Corp.of 
Europe GmbH,6382 Friedric
hsdorf 2,DE より既知である。この引用刊
行物に記載されているSSB タイプのロードセルは、
測定されるパワーの作用方向に対して直交する方向に開
口を有する圧縮的な付加をかけられた部材を具え、この
ほぼ中心にトランスデューサを配置している。したがっ
て、トランスデューサは、2個の対称的なチャンバーに
分離する仕切りを形成する。ディスク形状トランスデュ
ーサの表面のほぼ中心に、検出素子として機能するひづ
みゲージを設ける。ひづみゲージを電気的に接続するた
めに、測定されるパワーの作用方向に平行に延在するト
ランスデューサの中心線に沿って、開口を設ける。これ
らの開口は、トランスデューサのスチフネスを調整する
役割も果たす。
【0004】このようなロードセルの動作の正確性は、
トランスデューサの線形性、及び特にヒステリシスに依
存している。線形性は、実質的に幾何学的な構造によっ
てのみ決定される。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ヒステ
リシス、すなわち奇形した部材の出力信号が先の奇形プ
ロセス、特に奇形の量及び方向に依存するということは
、材料の特性であり、したがって、材料に依存している
。材料に依存するヒステリシス成分は、たとえ材料を注
意深く選択したとしても完全に取り除くことはできない
ため、既知のロードセルの正確性は、かなり制限されて
いた。このような欠点は、特に校正を行わなければなら
ない場合に顕著である。
【0006】更に既知のロードセルには、過負荷の場合
に所望の正確性を喪失してしまうという欠点がある。
【0007】本発明の目的は、少なくとも1個の検出素
子を用いて検出を行う場合、準ヒステリシス解放状態の
校正可能有効信号を供給する、計量システムのためのト
ランスデューサを提供せんとするにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明は、互いに平行且つ測定されるパワーの作用方
向に対して平行に延在する表面を具え、前記表面の少な
くとも一つに、パワーに依存する奇形を有効な信号に変
換するための検出素子を設けている計量システムのため
のディスク形状トランスデューサにおいて、該トランス
デューサが、パワーの作用方向に平行な中心線と、これ
に直交する中心線とによって形成される4個のサブ・フ
ェイスを具え、一点のみで互いに隣接する前記サブ・フ
ェイスの中の少なくとも2個が、それぞれに小断面積部
分を具え、ヒステリシス効果を補償することを特徴とす
る。
【0009】注目すべきことには、小断面積部分又は厚
さの薄い部分を具えている本発明によるトランスデュー
サの構成が、トランスデューサ内のパワーフラックスの
偏向度及び/又は集中度による材質依存ヒステリシスの
低減を行うのに好適であることを、試験によって確かめ
た。更に、本発明によるトランスデューサが、過負荷の
影響を特に受けないことが、過負荷試験によって確かめ
られた。このため、校正が必要とされる場合に極めて好
適に用いることのできるトランスデューサを実現するこ
とができる。
【0010】本発明による他の例では、最大パワーフラ
ックス領域に位置する前記サブ・フェイスが、それぞれ
小断面積部分を具えることができる。ヒステリシス補償
効果を高めるために、択一的に前記サブ・フェイスの4
個すべてが、小断面積部分を具えていることができる。 本発明によるこのようなトランスデューサが、単に材質
依存ヒステリシス効果の補償を可能にするのみならず、
負のヒステリシス特性であるかのような検出素子特性を
実現できること明らかである。
【0011】ヒステリシスを低減することによって、完
全な線形特性からの変位が極めて小さなトランスデュー
サを実現することができる。このことは、校正可能なト
ランスデューサの場合特に有利である。
【0012】本発明による好適例では、トランスデュー
サが、円形形状部を有することができる。すなわち、ト
ランスデューサが、前記直交中心線の方向に互いに整列
している半円部分を具えることができる。
【0013】円形断面を有する開口が前記小断面積部分
を構成することが好ましい。前記開口のそれぞれの中心
点が、前記中心線のいずれか一方に対して45度±15
度の角度をなす半径上に位置することが好ましい。前記
サブ・フェイス内の前記開口の直径が、前記円形トラン
スデューサ又は前記半円部分の直径の10%〜30%で
あることが好ましい。
【0014】本発明による好適例では、パワーの作用方
向に平行に延在する中心線上の、前記トランスデューサ
の中心点の両側の縁部に、開口を設けることができる。 これらの開口のヒステリシス補償効果は限られたもので
ある。しかし、これらの開口は、トランスデューサの両
側の表面に配置することのできる、例えばひづみゲージ
として構成される検出素子のリード線のような、接続手
段を受け入れることができる。これらの開口は、トラン
スデューサのスチフネス、又は感度の調整も行う。この
ため、これらの開口の直径が、最大で前記円形トランス
デューサ又は前記半円部分の直径の40%であることが
好ましい。
【0015】本発明による好適例では、トランスデュー
サが、円形トランスデューサを二分した2個の半円に対
応する2個の半円部分の間に、長方形部分を具えている
。本発明によるこの例では、中心線と、これと45度の
角度をなす半径と、前記長方形部分の対角線と、該対角
線から半径へと続く前記半円部分の円弧部分とで囲まれ
る領域内の、対応するサブ・フェイスに前記開口の中心
を設けることができる。
【0016】好適例では、検出素子は、測定ブリッジ回
路として構成され、例えば薄膜技術を用いてひづみゲー
ジとしてトランスデューサの表面に設け、トランスデュ
ーサそれ自体を高品質材料で作ることができる。
【0017】更に、本発明によるトランスデューサを、
すべての実用的なせん断応力ロードセルに用いることが
でき、またロードセルに統合することができる。
【0018】
【実施例】以下図面を参照して本発明を実施例につき説
明するに、図1は、本発明によるディスク形状のトラン
スデューサを示す図である。このトランスデューサを、
ロードセル12の開口11の縁部に配置する。図示され
ているロードセル12は、パワーFを受けるせん断応力
セルである。溶接、接着、圧着などによって、トランス
デューサ10を、ロードセル12の開口11に固定する
。またこのトランスデューサ10は、相互に平行な表面
14の各々のほぼ中心に、それぞれ検出素子13を具え
ている。トランスデューサ10とロードセル12とを統
合して構成することもできる。
【0019】検出素子13を測定ブリッジ回路として構
成し、例えば薄膜技術を用いて、ひずみゲージとしてト
ランスデューサ10の表面14上にたい積させる。これ
らは、圧縮力による負荷を受けている部材、すなわちロ
ードセル12からトランスデューサ10に伝達されるパ
ワーに依存する奇形を、好適な電気的に有用な信号に変
換する役割を果たす。2個の表面14上に検出素子13
を接続するために、慣例の開口15を、パワーFの作用
方向に平行に延在する中心線17に沿って、トランスデ
ューサ10の中心点16の両側に設ける。開口15を、
トランスデューサ10の縁部領域に設けることが好まし
い。このようにして、これらは、トランスデューサ10
のスチフネス又は感度を調整する。開口15の直径18
は、最大で、好適円形トランスデューサ10の半径19
(図2参照)の40%であることが好ましい。
【0020】トランスデューサ10を、中心線17と、
これに直交する中心線20とで4個のサブ・フェイス2
1に細分化する。互いに中心点16でのみ接触している
、すなわち互いに一点でのみ隣接している少なくとも2
個のサブ・フェイス21は、小断面積部分又は断面の厚
さが薄い部分を有している。トランスデューサ10それ
自体の断面22は、一定の厚さである(図2参照)。
【0021】少なくとも、パワーFの作用による、最大
パワーフラックスを受けるサブ・フェイス21は、小断
面積部分をそれぞれ有しているのが好ましい。4個のサ
ブ・フェイス21すべてに、小断面積部分を設けること
も効果的である。その理由は、このようにすることで、
所望のヒステリシス低減効果を増大させることができる
からである。
【0022】トランスデューサ10の小断面積部分を、
断面が円形の開口23として形成することが好ましい。 開口23の中心点を、中心線17又は20に対する角度
25が45度±15度である半径24上に配置すること
が好ましい。この領域を、図1及び図4において斜線に
て示す。サブ・フェイス21の開口23の直径26は、
円形トランスデューサ10又は半円部分27の直径19
の10%〜30%であることが好ましい。
【0023】図2は、図1のラインB−Bにおける断面
図である。図2は、トランスデューサ10を配置し固定
するための開口11を中心に具えているロードセル12
を明りょうに示す断面図である。断面22、すなわちト
ランスデューサ10の厚さは、本来一定である。トラン
スデューサ10の各表面14の中心に、各々検出素子1
3を設ける。検出素子13の接続リード線(図示せず)
を、トランスデューサ10の両表面14に通すことがで
きるようにするために、図に示されているように、検出
素子13の上方と下方とに開口15を設ける。これらの
開口15は、トランスデューサ10のスチフネス又は感
度を調整するように機能する。図1から図3に示されて
いるロードセル12の形状は、単なる一例であって、本
発明によるトランスデューサ10を、例えば図4に示さ
れているような種々の形状の、他のロードセル12に用
いることができること明らかである。
【0024】図3は、図1及び2に示されているロード
セルにほぼ対応するが、直交中心線20の方向の両端に
半円部分27を有し、半円部分27の間に長方形部分2
8を有するトランスデューサ10を具えているロードセ
ル12を示す図である。このようなロードセル12は、
スチフネス又は感度の観点から特に有効であり、対応さ
せて拡大されたサブ・フェイス21内に、本発明による
開口23を設けることもできる。開口23の中心点を、
図3のサブ・フェイス21の斜線領域30、すなわち直
交中心線20と、これと45度をなす半径24と、区分
27の円弧部分と、長方形部分28の対角線とによって
囲まれる領域30内に配置することが好ましい。しかし
、長方形部分28の中心に配置される検出素子13の領
域は除外される。長方形部分28は、中心線20に沿っ
て長さ29を有する。
【0025】検出素子13の測定グリッド、すなわちこ
れらの内部構造に基づき、許容領域30内の開口23の
位置を最適なものとする。開口15を除き、図2は、図
3のラインC−Cにおける断面図と一致している。
【0026】既に述べたように、図4は、ロードセル1
2の他の変形例を示す図である。ここで、図に示されて
いるように、ロードセル12は、正方形の構造であるが
、円形構造とすることができ、また本発明によるトラン
スデューサ10を具えている。これは、いわゆるS字型
ロードセル12であり、圧縮力及び引張り力に対し特に
好適であり、このようなパワーをスリットに類似する凹
部31を介して、せん断負荷  (shearing 
load )に変換する。このせん断負荷は、図1に示
されているトランスデューサ10にほぼ一致する、中心
に配置されたトランスデューサ10に作用する。
【0027】検出素子13を、測定ブリッジ回路として
構成することができるとともに、これを、ひずみゲージ
として、例えば薄膜技術によりトランスデューサ10の
表面14上に設けることができ、トランスデューサそれ
自体を高品質材料で形成できること明らかである。
【0028】図5は、ヒステリシス誤差を縦座標にプロ
ットし、パワーFを横座標にプロットしている直交座標
系を示す図である。ヒステリシス誤差は、それぞれパワ
ーFの最終的な値に関係している。矢印Dは、通常のヒ
ステリシス誤差の変化、すなわち本発明によるトランス
デューサ以外のトランスデューサに負荷をかけた場合の
ヒステリシスを示している。矢印Eは、本発明によるト
ランスデューサのヒステリシス誤差の変化を示している
。ヒステリシス誤差の変化が、本発明によるトランスデ
ューサ10では、完全に逆のものとできることが明りょ
うに示されている。したがって、矢印Eによる変化は、
ヒステリシス効果の過剰補償を示している。これら2個
の極端な場合の間の任意の中間的な場合は、本発明によ
る構造、例えば開口23の配置によって実現される。す
なわち、このようにして矢印Gで示されているヒステリ
シス誤差の変化を実現することができ、トランスデュー
サ10を準ヒステリシス解放状態とすることができる。
【0029】結果的に、極めて小さな線形誤差を呈する
校正可能なロードセルを実現することができる。更に、
大きな過負荷も、ロードセルの正確性に影響を及ぼさな
い。すなわち通常、本発明によるトランスデューサ以外
のトランスデューサでは、このような過負荷によって、
ヒステリシスが永続的に増加してしまう。所定の大きさ
に対する感度を増加させるために、あらゆる場合におい
て開口15を設け、本発明による低ヒステリシス又はヒ
ステリシス解放ロードセルが、図1に示されているよう
に6個の開口を有するようにできることに注意する。
【0030】本発明は、ここに開示されている実施例に
限定されるものではなく、要旨を変更しない範囲内で種
々の変形又は変更が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による円形トランスデューサを具えてい
る計量システムのロードセルを示す図である。
【図2】図1のラインB−Bにおける断面図を示す図で
ある。
【図3】変更したトランスデューサを具えている変形ロ
ードセルを示す図である。
【図4】本発明による円形トランスデューサを具えてい
るS字型ロードセルを示す図である。
【図5】測定すべきパワーの関数としてのヒステリシス
誤差を示す図である。
【符号の説明】
10  トランスデューサ 11  開口 12  ロードセル 13  検出素子 14  表面 15  開口 16  トランスデューサ10の中心点17  中心線 18  開口15の直径 19  トランスデューサ10の直径 20  中心線17と直交する中心線 21  サブ・フェイス 22  トランスデューサ10の断面 23  開口 24  トランスデューサ10の半径 25  中心線17又は20に対してなす角度(45度
±15度)26  開口23の直径 27  半円部分 28  長方形部分 29  長方形部分28の中心線20に沿った長さ31
  凹部

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  互いに平行且つ測定されるパワーの作
    用方向に対して平行に延在する表面を具え、前記表面の
    少なくとも一つに、パワーに依存する奇形を有効な信号
    に変換するための検出素子を設けている計量システムの
    ためのディスク形状トランスデューサにおいて、該トラ
    ンスデューサ(10)が、パワー(F)の作用方向に平
    行な中心線(17)と、これに直交する中心線(20)
    とによって形成される4個のサブ・フェイス(21)を
    具え、一点のみで互いに隣接する前記サブ・フェイスの
    中の少なくとも2個が、それぞれに小断面積部分を具え
    、ヒステリシス効果を補償することを特徴とするトラン
    スデューサ。
  2. 【請求項2】  最大パワーフラックス領域に位置する
    2個の前記サブ・フェイス(21)が、それぞれ小断面
    積部分を具えていることを特徴とする請求項1に記載の
    トランスデューサ。
  3. 【請求項3】  前記サブ・フェイス(21)の4個す
    べてが、小断面積部分を具えていることを特徴とする請
    求項2に記載のトランスデューサ。
  4. 【請求項4】  前記トランスデューサ(10)が、前
    記直交中心線(20)の方向に互いに整列している半円
    部分(27)から成っていることを特徴とする請求項3
    に記載のトランスデューサ。
  5. 【請求項5】  円形断面を有する開口(23)が前記
    小断面積部分を構成し、前記開口(23)のそれぞれの
    中心点が、前記直交中心線(20)に対して45度±1
    5度の角度(25)をなす半径(24)上に位置するこ
    とを特徴とする請求項4に記載のトランスデューサ。
  6. 【請求項6】  前記サブ・フェイス(21)内の前記
    開口(23)の直径(26)が、前記半円部分(27)
    の直径の10%〜30%であることを特徴とする請求項
    5に記載のトランスデューサ。
  7. 【請求項7】  パワー(F)の作用方向に平行に延在
    する中心線(17)上の、前記トランスデューサ(10
    )の中心点の両側の縁部に、開口(15)を設け、表面
    (14)の両側に配置される検出素子(13)の接続リ
    ード線を受け入れるとともに、トランスデューサ(10
    )のスチフネス、又は感度を調整するように構成するこ
    とを特徴とする請求項6に記載のトランスデューサ。
  8. 【請求項8】  前記中心線(17)上の前記開口(1
    5)の直径(18)が、最大で前記半円部分(27)の
    直径の40%であることを特徴とする請求項7に記載の
    トランスデューサ。
  9. 【請求項9】  前記トランスデューサ(10)が、前
    記半円部分(27)の間に、長さ(29)を有する長方
    形部分(28)を具え、且つ中心線(20)と、これと
    45度の角度をなす半径(24)と、前記長方形部分(
    28)の対角線と、該対角線から半径(24)へと続く
    前記半円部分(27)の円弧部分とで囲まれる領域(3
    0)内の、対応して拡大されたサブ・フェイス(21)
    に前記開口(23)を設けることを特徴とする請求項1
    〜8のいずれか一項に記載のトランスデューサ。
JP28145991A 1990-10-31 1991-10-28 計量システムのためのディスク形状トランスデューサ Expired - Lifetime JP3184839B2 (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE40346293 1990-10-31
DE4034629A DE4034629A1 (de) 1990-10-31 1990-10-31 Scheibenfoermiger messwertaufnehmer fuer eine waegezelle

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JPH04265829A true JPH04265829A (ja) 1992-09-22
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US (1) US5670753A (ja)
EP (1) EP0483912B1 (ja)
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DE (2) DE4034629A1 (ja)

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