JPH04265186A - Wet scrubber of glass ampule - Google Patents
Wet scrubber of glass ampuleInfo
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Abstract
Description
【０００１】0001
【産業上の利用分野】本発明はガラスアンプル洗浄装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass ampoule cleaning device.
【０００２】0002
【従来の技術】近年電子工業特に半導体製造用に使用さ
れている各種化学薬品の高純度化が著しく進み、いわゆ
る無塵室内で合成し、容器に収納して出荷する工程が一
般化してきている。この場合液体の薬品をガラスアンプ
ルに封入する必要がある。[Prior Art] In recent years, the purity of various chemicals used in the electronics industry, particularly semiconductor manufacturing, has progressed significantly, and the process of synthesizing them in a so-called dust-free room, storing them in containers, and shipping them has become commonplace. . In this case, it is necessary to seal the liquid medicine in a glass ampoule.
【０００３】しかしながらこの様な半導体製造用高純度
薬品用のガラスアンプルを無塵室内で洗浄するための、
１槽で複数の洗浄液又は純水を使用可能であり、かつ洗
浄後直ちに空気乾燥可能な洗浄装置がなかった。However, in order to clean such glass ampoules for high-purity chemicals for semiconductor manufacturing in a dust-free room,
There was no cleaning device that could use multiple cleaning solutions or pure water in one tank and air dry immediately after cleaning.
【０００４】0004
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題を解
決するために、自動的に動作し、１槽で複数の洗浄液又
は純水を使用可能であり、かつ洗浄後直ちに空気乾燥可
能なガラスアンプル洗浄装置を提供することを目的とす
る。[Problems to be Solved by the Invention] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a glass that operates automatically, can use a plurality of cleaning solutions or pure water in one tank, and can be air-dried immediately after cleaning. The purpose of the present invention is to provide an ampoule cleaning device.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明において、ガラス
アンプルを洗浄液中において超音波を用いて洗浄するガ
ラスアンプル自動洗浄装置において、該槽に該槽を上部
と下部とに分割する仕切り板と、該仕切り板に下端が該
槽の下部に開口するように固設され、上端が該槽の上部
に開口し、ガラスアンプルを支持する支持筒と、該槽の
下部に開口する空気抜き口と、該槽の下部に開口し熱風
を流入させる熱風流入口と、該槽に洗浄液を流入させる
洗浄液流入口と、該槽の上部に開口し洗浄液を流出させ
る上部洗浄液流出口と、該槽の下部に開口し洗浄液を流
出させる下部洗浄液流出口とが設けられていることを特
徴とするガラスアンプル洗浄装置を構成した。[Means for Solving the Problems] In the present invention, an automatic glass ampoule cleaning device for cleaning glass ampules in a cleaning liquid using ultrasonic waves includes a partition plate in the tank that divides the tank into an upper part and a lower part; a support tube fixed to the partition plate with a lower end opening at the bottom of the tank, an upper end opening at the top of the tank and supporting a glass ampoule; an air vent opening at the bottom of the tank; A hot air inlet that opens at the bottom of the tank and lets hot air flow in; a cleaning liquid inlet that opens at the top of the tank and lets the cleaning liquid flow out; a cleaning liquid inlet that opens at the top of the tank and lets the cleaning liquid flow out; and an opening at the bottom of the tank. A glass ampoule cleaning device is provided, which is characterized in that it is provided with a lower cleaning liquid outlet through which the cleaning liquid flows out.
【０００６】[0006]
【作用】本発明によるガラスアンプル洗浄装置は、１槽
で複数の洗浄液又は純水を使用可能であり、かつガラス
アンプルを洗浄後直ちに空気乾燥が可能である。[Function] The glass ampoule cleaning device according to the present invention can use a plurality of cleaning liquids or pure water in one tank, and can air-dry the glass ampoule immediately after cleaning.
【０００７】[0007]
【実施例】本発明の一実施例を図１〜図９により説明す
る。図１は本実施例の断面図、図２は同平面図、図３は
配管図、図４はブロック図、図５はガラスアンプルの支
持された状態を示す断面図、図６は支持筒のキャップの
斜視図、図７及び図８は液の流れを説明する図、図９は
フローチャートである。[Embodiment] An embodiment of the present invention will be explained with reference to FIGS. 1 to 9. FIG. 1 is a sectional view of this embodiment, FIG. 2 is a plan view, FIG. 3 is a piping diagram, FIG. 4 is a block diagram, FIG. 5 is a sectional view showing a supported state of the glass ampoule, and FIG. 6 is a support cylinder. A perspective view of the cap, FIGS. 7 and 8 are diagrams explaining the flow of liquid, and FIG. 9 is a flow chart.
【０００８】本実施例の構造を第１図及び第２図により
説明する。槽（１）は直方体の水槽である。大きさは幅
８０×奥行５０×深さ４０ｃｍ、ステンレス製である。
ガラスアンプルの搬送の時開放可能な蓋（不図示）を有
している。槽（１）には下面より３ｃｍ上方に、槽（１
）を上部（１ａ）と下部（１ｂ）とに分離する仕切り板
（２）が設けられている。仕切り板（２）の上面にはガ
ラスアンプルを支持する中空の支持筒（３）が上端を開
口して上向きに直立して固設されている。支持筒（３）
の仕切り板（２）に固設されている下端は開口している
。従って槽（１）の上部（１ａ）と下部（１ｂ）とは仕
切り板（２）により分離されているが、支持筒（３）を
介して流通可能になっている。支持筒（３）は内径３ｍ
ｍ、外径５ｍｍ、長さ２５ｃｍのステンレス製管であり
、幅方向に６本、奥行方向に４本、計２４本等間隔に設
置されている。槽（１）の幅方向両側には周波数２６ｋ
Ｈｚ、出力６００ワットの超音波発振器（６）が設置さ
れている。又ガラスアンプル用の搬送器（不図示）が設
置され、ガラスアンプルを搬送して支持筒（３）に支持
させ、又除去するようになっている。The structure of this embodiment will be explained with reference to FIGS. 1 and 2. Tank (1) is a rectangular parallelepiped water tank. The size is 80 cm wide x 50 cm deep x 40 cm deep, and it is made of stainless steel. It has a lid (not shown) that can be opened when transporting the glass ampoule. In the tank (1), there is a tank (1) 3 cm above the bottom surface.
) is provided with a partition plate (2) that separates it into an upper part (1a) and a lower part (1b). On the upper surface of the partition plate (2), a hollow support tube (3) for supporting a glass ampoule is fixedly fixed with its upper end open and facing upward. Support tube (3)
The lower end, which is fixed to the partition plate (2), is open. Therefore, although the upper part (1a) and lower part (1b) of the tank (1) are separated by the partition plate (2), they are allowed to flow through the support tube (3). The support tube (3) has an inner diameter of 3 m.
The tubes are made of stainless steel and have an outer diameter of 5 mm and a length of 25 cm, and are installed at equal intervals, 6 in the width direction and 4 in the depth direction, for a total of 24 tubes. A frequency of 26k is installed on both sides of the tank (1) in the width direction.
An ultrasonic oscillator (6) with a frequency of Hz and an output of 600 watts is installed. A conveyor (not shown) for glass ampoules is also installed, and the glass ampoules are conveyed, supported by the support tube (3), and removed.
【０００９】次に使用する副資材について述べる。洗浄
液は高純度の界面活性材を使用し、微細な塵を除去した
ｐＨ１２のアルカリ性液である。純水は半導体製造仕様
のイオン交換水である。空気は加温空気用のクリーンル
ーム空調用高性能フィルターを使用し微細な塵を除去し
た空気を８０度に加熱し、１００リットル／ｍｉｎの風
量で送風器（１６）により送風される。Next, the auxiliary materials used will be described. The cleaning solution is an alkaline solution with a pH of 12 that uses a high-purity surfactant to remove fine dust. The pure water is ion-exchanged water with specifications for semiconductor manufacturing. The air is heated to 80 degrees from which fine dust has been removed using a high-performance clean room air conditioning filter for heated air, and is blown by a blower (16) at a flow rate of 100 liters/min.
【００１０】次に本実施例の配管構造を第３図により説
明する。洗浄液については、槽（１）に洗浄液流入口（
８）、洗浄液流出口（９）、洗浄液流出口（１０）が設
けられている。洗浄液を流入させる洗浄液流入口（８）
は洗浄液タンク（７）に管（８ａ）により接続している
。管（８ａ）にはバルブ（Ｂ１）が設けられている。洗
浄液を流出させる洗浄液流出口（９）は槽（１）の上部
（１ａ）に開口し洗浄液タンク（７）に管（９ａ）によ
り接続している。管（９ａ）にはバルブ（Ｂ２）が設け
られている。又洗浄液を流出させる洗浄液流出口（１０
）は槽（１）の下部（１ｂ）にも開口し洗浄液タンク（
７）に管（１０ａ）により接続している。管（１０ａ）
にはバルブ（Ｂ３）が設けられている。Next, the piping structure of this embodiment will be explained with reference to FIG. For cleaning liquid, there is a cleaning liquid inlet (
8), a cleaning liquid outlet (9), and a cleaning liquid outlet (10). Cleaning liquid inlet (8) that allows cleaning liquid to flow in
is connected to the cleaning liquid tank (7) by a pipe (8a). The tube (8a) is provided with a valve (B1). A cleaning liquid outlet (9) through which the cleaning liquid flows out is opened at the upper part (1a) of the tank (1) and connected to the cleaning liquid tank (7) by a pipe (9a). The pipe (9a) is provided with a valve (B2). There is also a cleaning liquid outlet (10
) is also opened at the bottom (1b) of the tank (1) and is connected to the cleaning liquid tank (
7) by a pipe (10a). Pipe (10a)
is provided with a valve (B3).
【００１１】洗浄の仕上げの濯ぎに使用する純水につい
ては、槽（１）に純水流入口（１１）、純水流出口（１
２）、純水流出口（１３）が設けられている。純水を流
入させる純水流入口（１１）は純水タンク（１１ｂ）に
管（１１ａ）により接続している。管（１１ａ）にはバ
ルブ（Ｂ４）が設けられている。 使用した純水を流
出させる純水流出口（１２）は槽（１）の上部（１ａ）
に開口し排水口（１２ｂ）に管（１２ａ）により接続し
ている。管（１２ａ）にはバルブ（Ｂ５）が設けられて
いる。又使用した純水を流出させる純水流出口（１３）
は槽（１）の下部（１ｂ）にも開口し排水口（１３ｂ）
に管（１３ａ）により接続している。管（１３ａ）には
バルブ（Ｂ６）が設けられている。Regarding the pure water used for final rinsing, the tank (1) has a pure water inlet (11) and a pure water outlet (11).
2) A pure water outlet (13) is provided. A pure water inlet (11) through which pure water flows is connected to a pure water tank (11b) through a pipe (11a). The pipe (11a) is provided with a valve (B4). The pure water outlet (12) through which the used pure water flows out is located at the top (1a) of the tank (1).
It opens to the drain port (12b) and is connected to the drain port (12b) by a pipe (12a). The pipe (12a) is provided with a valve (B5). Also, a pure water outlet (13) that drains the used pure water.
It also opens at the bottom (1b) of the tank (1) and has a drain port (13b).
It is connected to by a pipe (13a). The pipe (13a) is provided with a valve (B6).
【００１２】空気については、槽（１）に空気抜き口（
１４）、熱風流入口（１５）が設けられている。槽（１
）の下部（１ｂ）の空気抜きをする空気抜き管（４）が
槽（１）の下部（１ｂ）の空気抜き口（１４）にその一
端が接続している。空気抜き管（４）の他端は液面の最
上面よりも上方に開口している。空気抜き管（４）には
バルブ（Ｂ８）が設けられている。又槽（１）の下部（
１ｂ）に熱風を流入させる熱風流入口（１５）が開口し
、管（１５ａ）により送風機（１６）に接続している。
管（１５ａ）にはバルブ（Ｂ７）が設けられている。Regarding air, there is an air vent (
14), a hot air inlet (15) is provided. Tank (1
An air vent pipe (4) for venting air from the lower part (1b) of the tank (1) is connected at one end to an air vent port (14) at the lower part (1b) of the tank (1). The other end of the air vent pipe (4) opens above the top of the liquid level. The air vent pipe (4) is provided with a valve (B8). Also, the lower part of tank (1) (
A hot air inlet (15) for allowing hot air to flow into 1b) is open and connected to a blower (16) via a pipe (15a). The pipe (15a) is provided with a valve (B7).
【００１３】液面計（１７）は槽（１）の上部（１ａ）
支持筒（３）の上端より高く、洗浄に充分な液面の位置
に設置されている。[0013] The liquid level gauge (17) is located at the upper part (1a) of the tank (1).
It is installed at a position higher than the upper end of the support cylinder (3) and at a sufficient liquid level for cleaning.
【００１４】次にブロック図について説明する。図４に
示すよに、洗浄動作を制御する中央制御装置（ＣＰＵ）
（１８）が設置され、搬送器（５）及び超音波発振器（
６）の制御をするほか、液面計（１７）その他の情報に
よりバルブ（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）、
（Ｂ５）、（Ｂ６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）の開閉を制御
する。Next, a block diagram will be explained. As shown in Figure 4, the central control unit (CPU) controls the cleaning operation.
(18) is installed, a carrier (5) and an ultrasonic oscillator (
6), valves (B1), (B2), (B3), (B4),
Controls opening and closing of (B5), (B6), (B7), and (B8).
【００１５】次にガラスアンプルの洗浄及び乾燥につい
て説明する。搬送器（５）によりガラスアンプル（１９
）が支持筒（３）に支持されると、ガラスアンプル（１
９）は図５に示すように口部（１９ｃ）を下に、底部（
１９ｂ）を上にして、頸部（１９ａ）の中に支持筒（３
）が挿入し支持筒（３）の先端部（３ａ）において支持
される。支持筒（３）の先端は図６に示すような弗素樹
脂製のキャップ（２０）により、ガラスアンプル（１９
）を支持筒（３）との接触による超音波振動の破損から
保護する。キャップ（２０）は筒状でありかつ切れ目（
２１）が設けられて液体及び空気の流通を良くしている
。Next, cleaning and drying of the glass ampoule will be explained. The glass ampoule (19) is transported by the carrier (5).
) is supported by the support tube (3), the glass ampoule (1
9) with the mouth (19c) facing down and the bottom (
Insert the support tube (3) into the neck (19a) with the side (19b) facing up.
) is inserted and supported at the tip (3a) of the support tube (3). The tip of the support tube (3) is secured to a glass ampoule (19) by a fluororesin cap (20) as shown in Figure 6.
) from being damaged by ultrasonic vibrations due to contact with the support tube (3). The cap (20) is cylindrical and has a cut (
21) is provided to improve the flow of liquid and air.
【００１６】支持筒（３）に支持されたガラスアンプル
（１９）の周辺の液体及び空気の流通は図７及び図８に
示す通りである。当初空気に満たされたガラスアンプル
（１９）の外側が洗浄液により満たされると、洗浄液は
ガラスアンプル（１９）の口部（１９ｃ）と支持筒（３
）との間よりガラスアンプル（１９）内に流入し空気を
押し出す。押し出された空気は支持筒（３）の中に先端
部（３ａ）より入り、通過して槽（１）の下部（１ｂ）
に入る。槽（１）の下部（１ｂ）の空気抜き口（１４）
よりバルブ（Ｂ８）が開かれた空気抜き管（４）を通り
、他端の開口より放散される。洗浄液はガラスアンプル
（１９）の内部より槽（１）の下部（１ｂ）及び空気抜
き管（４）に満ちる。この充満した状態で超音波発振器
（６）が発振しガラスアンプル（１９）が洗浄される。The flow of liquid and air around the glass ampoule (19) supported by the support tube (3) is as shown in FIGS. 7 and 8. When the outside of the glass ampoule (19), which was initially filled with air, is filled with cleaning liquid, the cleaning liquid flows into the mouth (19c) of the glass ampoule (19) and the support tube (3).
) flows into the glass ampoule (19) and pushes out the air. The pushed out air enters the support tube (3) from the tip (3a) and passes through the bottom (1b) of the tank (1).
to go into. Air vent (14) at the bottom (1b) of tank (1)
The air passes through the air vent pipe (4) with the valve (B8) opened, and is emitted from the opening at the other end. The cleaning liquid fills the lower part (1b) of the tank (1) and the air vent tube (4) from the inside of the glass ampoule (19). In this filled state, the ultrasonic oscillator (6) oscillates to clean the glass ampoule (19).
【００１７】空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ８）が閉じ
られ、バルブ（Ｂ４）が開かれ、槽（１）の下部（１ｂ
）の純水流入口（１１）より純水が流入するときは、純
水は支持筒（３）内を上昇し、ガラスアンプル（１９）
の内面を濯いだ後ガラスアンプル（１９）の外側に出る
。The valve (B8) of the air vent pipe (4) is closed, the valve (B4) is opened, and the lower part (1b) of the tank (1) is closed.
) When pure water flows in from the pure water inlet (11), the pure water rises inside the support tube (3) and flows into the glass ampoule (19).
After rinsing the inner surface of the ampoule (19), it comes out of the glass ampoule (19).
【００１８】空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ８）が閉じ
られ、バルブ（Ｂ７）が開かれ、槽（１）の下部（１ｂ
）の熱風吹込口（１５）より熱風が吹き込まれると、熱
風は支持筒（３）内を上昇し、ガラスアンプル（１９）
の内面を乾燥した後ガラスアンプル（１９）の外側に出
る。The valve (B8) of the air vent pipe (4) is closed, the valve (B7) is opened, and the lower part (1b) of the tank (1) is closed.
) When hot air is blown in from the hot air inlet (15), the hot air rises inside the support tube (3) and blows into the glass ampoule (19).
After drying the inner surface of the ampoule (19), it comes out of the glass ampoule (19).
【００１９】次に本実施例の動作を図９のフローチャー
トにより説明する。スタートにおいては先ずバルブ（Ｂ
１）、（Ｂ２）、（Ｂ３）、（Ｂ４）、（Ｂ５）、（Ｂ
６）、（Ｂ７）、（Ｂ８）は全部閉じた状態にある。次
にステップ１において空気抜き管（４）のバルブ（Ｂ８
）を開く。この時（１ｂ）は空気で満たされている。
次にステップ２において搬送器（５）によりガラスアン
プル（１９）が支持筒（３）に支持される。次にステッ
プ３においてバルブ（Ｂ１）が開き洗浄液が流入開始す
る。ステップ４において洗浄液が流入し所定の高さまで
満たされた時、液面計（１７）から信号が発せられ、バ
ルブ（Ｂ１）が閉じ洗浄液の流入が停止する。次にステ
ップ５において超音波発振器（６）が作動を開始し、所
定時間作動した後ステップ６において停止する。これに
よりガラスアンプル（１９）は充分に洗浄される。Next, the operation of this embodiment will be explained with reference to the flowchart of FIG. When starting, first turn on the valve (B
1), (B2), (B3), (B4), (B5), (B
6), (B7), and (B8) are all in a closed state. Next, in step 1, the valve (B8) of the air vent pipe (4)
)open. At this time (1b) is filled with air. Next, in step 2, the glass ampoule (19) is supported by the support tube (3) by the carrier (5). Next, in step 3, the valve (B1) is opened and the cleaning liquid starts flowing in. In step 4, when the cleaning liquid flows in and reaches a predetermined height, a signal is issued from the liquid level gauge (17), and the valve (B1) closes to stop the cleaning liquid from flowing in. Next, in step 5, the ultrasonic oscillator (6) starts operating, and after operating for a predetermined time, stops in step 6. As a result, the glass ampoule (19) is thoroughly cleaned.
【００２０】次にステップ７においてバルブ（Ｂ２）、
（Ｂ３）が開き洗浄液の流出が開始する。洗浄液の流出
が完了するとステップ８においてバルブ（Ｂ２）、（Ｂ
３）が閉じる。次にステップ９においてバルブ（Ｂ４）
が開き純水の流入が開始する。所定時間後純水による濯
ぎが完全に行われた時、ステップ１０においてバルブ（
Ｂ４）が閉じられ純水の流入が停止する。次にステップ
１１においてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が開き純水の流
出が開始する。純水の流出が完了するとステップ１２に
おいてバルブ（Ｂ５）、（Ｂ６）が閉じられる。Next, in step 7, the valve (B2),
(B3) opens and the cleaning liquid starts flowing out. When the outflow of the cleaning liquid is completed, in step 8, the valves (B2) and (B
3) closes. Next, in step 9, the valve (B4)
opens and pure water starts flowing in. When rinsing with pure water has been completed after a predetermined period of time, the valve (
B4) is closed and the flow of pure water is stopped. Next, in step 11, the valves (B5) and (B6) are opened and pure water starts flowing out. When the flow of pure water is completed, the valves (B5) and (B6) are closed in step 12.
【００２１】次にステップ１３において空気抜き管（４
）のバルブ（Ｂ８）を閉じる。そしてステップ１４にお
いてバルブ（Ｂ７）を開き、熱風が流入する。所定時間
作動した後ステップ１５においてバルブ（Ｂ７）が閉じ
られ熱風の流入が停止する。これによりガラスアンプル
（１５）は充分に乾燥される。次にステップ１６におい
て搬送器（５）によりガラスアンプル（１９）が支持筒
（３）より除去され終了する。除去されたガラスアンプ
ル（１９）は完全に清浄になっている。Next, in step 13, the air vent pipe (4
) close the valve (B8). Then, in step 14, the valve (B7) is opened and hot air flows in. After operating for a predetermined period of time, the valve (B7) is closed in step 15 and the inflow of hot air is stopped. As a result, the glass ampoule (15) is sufficiently dried. Next, in step 16, the glass ampoule (19) is removed from the support tube (3) by the carrier (5), and the process ends. The removed glass ampoule (19) is completely clean.
【００２２】尚、洗浄液流入口（８）が槽（１）の上部
（１ａ）に開口しているが、槽（１）の下部（１ｂ）に
開口させること、及び純水流入口（１１）が槽（１）の
下部（１ｂ）に開口しているが、槽（１）の上部（１ａ
）に開口させることが可能なことは言うまでもない。
又洗浄液流入口（８）と純水流入口（１１）、洗浄液流
出口（９）と純水流出口（１２）、洗浄液流出口（１０
）と純水流出口（１３）とがそれぞれ共用可能なことは
言うまでもない。[0022]Although the cleaning liquid inlet (8) is opened at the upper part (1a) of the tank (1), it is possible to open at the lower part (1b) of the tank (1) and the pure water inlet (11) is opened at the lower part (1b) of the tank (1). It opens at the bottom (1b) of tank (1), but it opens at the top (1a) of tank (1).
), it goes without saying that it is possible to open the opening. In addition, there are a cleaning liquid inlet (8), a pure water inlet (11), a cleaning liquid outlet (9), a pure water outlet (12), and a cleaning liquid outlet (10).
) and the pure water outlet (13) can be used in common.
【００２３】[0023]
【発明の効果】本発明により、１槽で複数の洗浄液又は
純水を使用可能であり、かつ洗浄後直ちにガラスアンプ
ルを空気乾燥が可能である。According to the present invention, a plurality of cleaning solutions or pure water can be used in one tank, and the glass ampoule can be air-dried immediately after cleaning.
【図１】本実施例の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of this embodiment.
【図２】同平面図である。FIG. 2 is a plan view of the same.
【図３】配管図である。FIG. 3 is a piping diagram.
【図４】ブロック図である。FIG. 4 is a block diagram.
【図５】ガラスアンプルの支持された状態を示す断面図
である。FIG. 5 is a sectional view showing a supported state of the glass ampoule.
【図６】支持筒のキャップの斜視図である。FIG. 6 is a perspective view of the cap of the support tube.
【図７】液の流れを説明する図である。FIG. 7 is a diagram illustrating the flow of liquid.
【図８】液の流れを説明する図である。FIG. 8 is a diagram illustrating the flow of liquid.
【図９】フローチャートである。FIG. 9 is a flowchart.
１ 槽
１ａ 槽の上部
１ｂ 槽の下部
２ 仕切り板
３ 支持筒
４ 空気抜き管
５ 搬送器
６ 超音波発振器
７ 洗浄液タンク
８ 洗浄液流入口
９ 洗浄液流出口
１０ 洗浄液流出口
１１ 純水流入口
１２ 純水流出口
１３ 純水流出口
８ａ、９ａ、１０ａ、１１ａ、１２ａ、１３ａ 管１
１ｂ 純水タンク
１２ｂ、１３ｂ 排水口
１４ 空気抜き口
１５ 熱風流入口
１５ａ 管
１６ 送風機
１７ 液面計
１８ 中央制御装置（ＣＰＵ）
１９ ガラスアンプル
２０ キャップ
Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７、Ｂ８
バルブ1 Tank 1a Upper part of tank 1b Lower part of tank 2 Partition plate 3 Support cylinder 4 Air vent pipe 5 Carrier 6 Ultrasonic oscillator 7 Cleaning liquid tank 8 Cleaning liquid inlet 9 Cleaning liquid outlet 10 Cleaning liquid outlet 11 Pure water inlet 12 Pure water outlet 13 Pure water outlet 8a, 9a, 10a, 11a, 12a, 13a pipe 1
1b Pure water tank 12b, 13b Drain port 14 Air vent 15 Hot air inlet 15a Pipe 16 Air blower 17 Level gauge 18 Central control unit (CPU) 19 Glass ampoule 20 Cap B1, B2, B3, B4, B5, B6, B7, B8
valve
Claims (1)
超音波を用いて洗浄するガラスアンプル洗浄装置におい
て、該槽に該槽を上部と下部とに分割する仕切り板と、
該仕切り板に下端が該槽の下部に開口するように固設さ
れ、上端が該槽の上部に開口し、ガラスアンプルを支持
する支持筒と、該槽の下部に開口する空気抜き口と、該
槽の下部に開口し熱風を流入させる熱風流入口と、該槽
に洗浄液を流入させる洗浄液流入口と、該槽の上部に開
口し洗浄液を流出させる上部洗浄液流出口と、該槽の下
部に開口し洗浄液を流出させる下部洗浄液流出口とが設
けられていることを特徴とするガラスアンプル洗浄装置
。1. A glass ampoule cleaning device for cleaning a glass ampoule using ultrasonic waves in a cleaning liquid in a tank, comprising: a partition plate in the tank that divides the tank into an upper part and a lower part;
a support tube fixed to the partition plate with a lower end opening at the bottom of the tank, an upper end opening at the top of the tank and supporting a glass ampoule; an air vent opening at the bottom of the tank; A hot air inlet that opens at the bottom of the tank and lets hot air flow in; a cleaning liquid inlet that opens at the top of the tank and lets the cleaning liquid flow out; a cleaning liquid inlet that opens at the top of the tank and lets the cleaning liquid flow out; and an opening at the bottom of the tank. A glass ampoule cleaning device characterized in that a lower cleaning liquid outlet is provided for draining the cleaning liquid.
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP3044022A JP2890867B2 (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Glass ampoule cleaning equipment |
Applications Claiming Priority (1)
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|---|---|---|---|
| JP3044022A JP2890867B2 (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Glass ampoule cleaning equipment |
Publications (2)
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| JP2890867B2 JP2890867B2 (en) | 1999-05-17 |
Family
ID=12680039
Family Applications (1)
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| JP3044022A Expired - Lifetime JP2890867B2 (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Glass ampoule cleaning equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2890867B2 (en) |
Cited By (2)
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-
1991
- 1991-02-18 JP JP3044022A patent/JP2890867B2/en not_active Expired - Lifetime
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