JPH0426045A - Charged particle energy analyzing device - Google Patents

Charged particle energy analyzing device

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JPH0426045A
JPH0426045A JP2130040A JP13004090A JPH0426045A JP H0426045 A JPH0426045 A JP H0426045A JP 2130040 A JP2130040 A JP 2130040A JP 13004090 A JP13004090 A JP 13004090A JP H0426045 A JPH0426045 A JP H0426045A
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JP
Japan
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ion beam
electrodes
charged particle
electric field
energy
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JP2130040A
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Japanese (ja)
Inventor
Yoshio Kita
好夫 北
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Toshiba Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

PURPOSE:To provide a high energy resolution without causing a large sized construction of the device concerned, by furnishing an electrostatic lens for beam deceleration, decelerating an ion beam incident to between flat plate electrodes in parallel arrangement, and at the same time, suppressing dispersion of the beam. CONSTITUTION:An ion beam consisting of charged particles having passed through plasma is left incident between parallel electrodes 10a, 10b on which a specified voltage is impressed 11, and the energy of charged particles is analyzed on the basis of the distance at which the ion beam deflected by the electric field thus generated has attained. In this device, a beam decelerating electrostatic lens 12 is provided consisting of a plurality of electrodes to generate an electric field E2 which decelerates the ion beam and suppresses its spread along the incident path when ion beam is cast onto the parallel electrodes 10a, 10b. Because ion beam is decelerated, it is no more needed to lengthen the ion beam attaining distance. This provides a high energy resolution without causing the device to be constructed in a large size.

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的コ 〔産業上の利用分野〕 本発明は、プラズマ中を通過させた荷電粒子のエネルギ
ーを分析できて、プラズマの空間電場の測定に用いられ
る荷電粒子エネルギー分析装置に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Purpose of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention is capable of analyzing the energy of charged particles passed through a plasma, and is capable of analyzing the energy of charged particles used for measuring the spatial electric field of the plasma. Regarding analysis equipment.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、プラズマの各種パラメータを測定でき、特にプラ
ズマの空間電位を直接かつ局所的に測定できる装置とし
て荷電粒子エネルギー分析装置が知られている。
2. Description of the Related Art Charged particle energy analyzers are conventionally known as devices that can measure various parameters of plasma, and in particular can directly and locally measure the spatial potential of plasma.

荷電粒子エネルギー分析装置を備えた重イオンビームプ
ローブ装置の概念図を第3図に示す。この装置は、イオ
ン発生部]で生成されたイオンビームがスイーププレー
ト2で所定の入射角に調整されて、プラズマ3中に入射
される。プラズマ3中に入射したイオンビームはプラズ
マとの相互作用(電子衝突、イオン化反応)によって−
価の重イオンビームが二価あるいはそれ以上の荷電数を
持った二次イオンビームとなって飛出し、荷電粒子エネ
ルギー分析装置4に入射して、そこでエネルギー分析さ
れる。プラズマ3を通過したイオンビームの強度、エネ
ルギー、運動量にはプラズマの状態を示す種々のパラメ
ータ情報が含まれる。
FIG. 3 shows a conceptual diagram of a heavy ion beam probe device equipped with a charged particle energy analyzer. In this device, an ion beam generated in an ion generating section is adjusted to a predetermined angle of incidence by a sweep plate 2 and is made incident into a plasma 3. The ion beam that entered the plasma 3 undergoes − due to interaction with the plasma (electron collision, ionization reaction).
The valence heavy ion beam emerges as a secondary ion beam having a charge number of two or more, and enters the charged particle energy analyzer 4, where its energy is analyzed. The intensity, energy, and momentum of the ion beam that has passed through the plasma 3 contain various parameter information indicating the state of the plasma.

そこで、プラズマ3に入射させるイオンビームのエネル
ギーと入射角とを調整して任意の観測点にイオンビーム
を入射させ、その部分を通過したイオンビームのエネル
ギー分析を行うことによりプラズマの局所的な空間電位
を測定でき、プラズマ断面にわたってイオンビームを入
射させれば、二次元的な観測が可能となる。
Therefore, by adjusting the energy and angle of incidence of the ion beam that is incident on the plasma 3 and making the ion beam incident on an arbitrary observation point, the energy analysis of the ion beam that has passed through that part can be performed to obtain a local space of the plasma. The potential can be measured, and two-dimensional observation becomes possible by injecting an ion beam across the plasma cross section.

第4図に荷電粒子エネルギー分析装置4のエネルギー分
析原理を示す。
FIG. 4 shows the energy analysis principle of the charged particle energy analyzer 4.

互いに平行に対向配置された平行平板電極5a5bに偏
向用高圧電源6による電圧を印加して、平行平板電極5
a、5b間に電界Eを発生させ、この電界Eか発生して
いる平行平板電極5a。
A voltage from the high-voltage power source 6 for deflection is applied to the parallel plate electrodes 5a5b which are arranged parallel to each other to face each other.
A parallel plate electrode 5a generates an electric field E between a and 5b.

5b間にイオンビームを入射させる。平行平板電極5a
、5b間に入射したイオンビームは電界Eによって偏向
して図中破線で示す放物線状の軌跡を描いて入射位置か
ら所定距離X離れた位置に到達する。電界Eによって偏
向を受けたイオンビームの予定到達位置には、第5図に
示すような電気的に接離して近接配置された2枚の金属
プレート7a、7bを備えたビーム位置検出器7が設置
されている。金属プレート7a、7b上に形成されるイ
オンビームのビームプロファイルは到達距離に応じて図
中左右方向へ移動するので、ビームプロファイルの形成
比率に応じて金属プレート7a。
An ion beam is made to enter between 5b and 5b. Parallel plate electrode 5a
. At the expected arrival position of the ion beam deflected by the electric field E, there is a beam position detector 7 equipped with two metal plates 7a and 7b arranged close to each other and electrically connected to each other as shown in FIG. is set up. Since the beam profile of the ion beam formed on the metal plates 7a and 7b moves in the left and right directions in the figure depending on the reach distance, the beam profile of the ion beam formed on the metal plates 7a and 7b moves in the left and right directions in the figure depending on the beam profile formation ratio.

7bからそれぞれ出力される電流をアンプ8で増幅した
後、測定系へ導きそこで2つの信号の比からイオンビー
ムの到達距離を求める。イオンビームの到達距離Xはイ
オンビームのエネルギーUに比例するので、検出された
到達距離Xからイオンビームのエネルギーが検出できる
After amplifying the current output from each of the currents 7b with an amplifier 8, the currents are led to a measurement system, where the distance traveled by the ion beam is determined from the ratio of the two signals. Since the travel distance X of the ion beam is proportional to the energy U of the ion beam, the energy of the ion beam can be detected from the detected travel distance X.

ところで、重イオンビームによるプラズマポテンシャル
の測定には、一般に10−6のエネルギー分解能が要求
される。上記した荷電粒子エネルギー分析装置のエネル
ギー分解能はビーム位置検出器7の空間分解能に依存す
る。また、平行平板電極5a、5b間に印加する電界E
を弱くして到達距離Xをn倍にすれば、同じ分解能の検
出器であってもそのエネルギー分解能はn倍に向上する
Incidentally, measurement of plasma potential using a heavy ion beam generally requires an energy resolution of 10-6. The energy resolution of the charged particle energy analyzer described above depends on the spatial resolution of the beam position detector 7. In addition, the electric field E applied between the parallel plate electrodes 5a and 5b
If the distance X is increased by a factor of n by weakening the energy, the energy resolution will be improved by a factor of n even if the detector has the same resolution.

しかし、分析装置自体もn倍の到達距離に応した十分の
大きさが必要となる。
However, the analyzer itself needs to be large enough to accommodate the n-times the reach distance.

10−6のエネルギー分解能を実現するためには、例え
ばビーム到達距離(X)を500 m mとした場合、 5001.0−6−51.0−7μm −0,5μmの
空間分解能が必要となり、現実にはこの様な分解能の実
現は極めて困難である。
In order to achieve an energy resolution of 10-6, for example, if the beam reach distance (X) is 500 mm, a spatial resolution of 5001.0-6-51.0-7 μm -0.5 μm is required, In reality, it is extremely difficult to achieve such resolution.

一方、ビーム位置検出器7は、上記したように近接配置
した2つの金属プレート7a、7bに入射するイオンビ
ームの電荷を電流として検出し、両金属プレート7a、
7bからそれぞれ出力される電流1.、I2の比から到
達位置を検出している。2つの金属プレー)7a、7b
上に形成されるビーム形状をaxaとした場合、到達位
置PはP= (a/2)(12II )/ (12子I
l)となる。このため、検出位置の精度は、アンプ8の
直線性やドリフト、さらに測定系に取り込むときのA/
D変換精度等により左右される。
On the other hand, the beam position detector 7 detects the charge of the ion beam incident on the two metal plates 7a and 7b arranged close to each other as a current as described above,
Currents 1.7b and 7b respectively output. , I2 is used to detect the reached position. 2 metal plays) 7a, 7b
When the beam shape formed above is axa, the arrival position P is P= (a/2) (12II)/(12I
l). Therefore, the accuracy of the detected position depends on the linearity and drift of the amplifier 8, as well as the A/
It depends on the D conversion accuracy etc.

例えば、電流II、I2の測定精度を5X101とし、
a−10mmとすると、測定精度(位置分解能)ΔPは
、 となる。
For example, if the measurement accuracy of currents II and I2 is 5X101,
When a-10 mm, the measurement accuracy (positional resolution) ΔP is as follows.

逆に、この位置分解能(1,75μm )で、1o−6
のエネルギー分解能を得るためには、ビーム到達距離X
を1750mmとする必要があり、この様に大型化され
た分析装置の組立て精度の悪化を考えると現実的でない
Conversely, with this position resolution (1.75 μm), 1o-6
In order to obtain an energy resolution of
needs to be 1750 mm, which is not realistic considering the deterioration in assembly accuracy of such a large analyzer.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

したがって、従来の荷電粒子エネルギー分析装置は、装
置の大きさを制限しながら高いエネルギー分解能を実現
するのが難しいという問題があった。
Therefore, conventional charged particle energy analyzers have a problem in that it is difficult to achieve high energy resolution while limiting the size of the device.

本発明は以上のような実情に鑑みてなされたもので、装
置を大型化することなく、ユO−6といった極めて高い
エネルギー分解能を実現できる荷電粒子エネルギー分析
装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a charged particle energy analyzer that can realize extremely high energy resolution such as U-O-6 without increasing the size of the device.

また、 [発明の構成コ 〔課題を解決するための手段〕 本発明は上記課題を解決するために、プラズマ中を通過
した荷電粒子からなるイオンビームを所定の電圧が印加
されている平行電極間に入射させ、この平行電極間に印
加されている電界によって偏向された前記イオンビーム
の到達距離に基づいて前記荷電粒子のエネルギーを分析
する荷電粒子エネルギー分析装置において、前記イオン
ビームが前記平行電極へ入射するときの入射経路に沿っ
て設けられ、前記イオンビームを減速し、かつその広が
りを抑制する電界を発生ずる複数の電極からなるビーム
減速用静電レンズを設けた構成とした。
[Structure of the Invention [Means for Solving the Problems]] In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides an ion beam consisting of charged particles that has passed through a plasma between parallel electrodes to which a predetermined voltage is applied. In a charged particle energy analyzer that analyzes the energy of the charged particles based on the reach of the ion beam, which is deflected by an electric field applied between the parallel electrodes, the ion beam is incident on the parallel electrodes. The beam deceleration electrostatic lens is provided along the incident path when the ion beam is incident, and includes a plurality of electrodes that generate an electric field that decelerates the ion beam and suppresses its spread.

〔作 用〕[For production]

本発明は、以上のような手段を講じたことにより、ビー
ム減速用静電レンズが発生する電界によって、平行電極
間に入射するイオンビームか減速され、かつその広がり
が抑制されて集束されたイオンビームとなる。このよう
にして減速されたイオンビームが平行電極間の電界によ
って偏向されて所定の位置に到達する。イオンビームか
減速されることから、イオンビームの到達距離を長くす
ることなく10−6のエネルギー分解能が得られるもの
となる。
By taking the above measures, the present invention decelerates the ion beam incident between the parallel electrodes by the electric field generated by the electrostatic lens for beam deceleration, suppresses its spread, and focuses the ions. Becomes a beam. The ion beam decelerated in this manner is deflected by the electric field between the parallel electrodes and reaches a predetermined position. Since the ion beam is decelerated, an energy resolution of 10-6 can be obtained without increasing the reach of the ion beam.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明装置の実施例について説明する。 Examples of the apparatus of the present invention will be described below.

第1図は本実施例の荷電粒子エネルギーの検出原理を示
す図である。本実施例に係る装置は、平行平板電極10
g、10bにビーム偏向用高圧電源11が接続されてい
て、プラズマを通過したイオンビームの平行平板電極1
0a、1.Ob間への入射位置にはビーム減速用静電レ
ンズ12が設置されている。このビーム減速用静電レン
ズ12は、互いに所定距離隔てて配列された複数の環状
電極からなり、これら環状電極の中空円で形成されるト
ンネル内をイオンビームが通過するように配置されてい
る。各環状電極は互いに隣接する環状電極に抵抗を介し
て接続されていて、平行平板電極10bに最も近接した
一端の環状電極1.2 aが平行平板電極10bに接続
され、他端の環状電極がアースされている。この様に構
成されるビーム減速用静電レンズ12には、ビーム減速
用高圧電源13から電圧が印加される。
FIG. 1 is a diagram showing the principle of detecting charged particle energy in this embodiment. The device according to this embodiment has parallel plate electrodes 10
A high-voltage power supply 11 for beam deflection is connected to g and 10b, and the parallel plate electrode 1 of the ion beam that has passed through the plasma
0a, 1. An electrostatic lens 12 for beam deceleration is installed at a position of incidence between the beams. The beam deceleration electrostatic lens 12 is composed of a plurality of annular electrodes arranged at a predetermined distance from each other, and is arranged so that the ion beam passes through a tunnel formed by a hollow circle of these annular electrodes. Each annular electrode is connected to an adjacent annular electrode via a resistor, and the annular electrode 1.2a at one end closest to the parallel plate electrode 10b is connected to the parallel plate electrode 10b, and the annular electrode at the other end is connected to the parallel plate electrode 10b. It is grounded. A voltage is applied to the beam deceleration electrostatic lens 12 configured in this way from a beam deceleration high voltage power source 13.

一方、イオンビーム入射側となる平行平板電極10bの
ビーム予定到達位置にはビーム位置検出用ケイ光板14
が設けられている。このビーム位置検出用ケイ光板14
にはレンズ15が対向配置されていて、このレンズ15
の結像位置に2次元状に配列されたフォトセンサからな
るビーム位置検出器]6が設置されている。ビーム位置
検出器16からの出力信号はアンプ]7を介して測定系
へ導かれる構成となっている。
On the other hand, a beam position detection fluorescent plate 14 is located at the expected beam arrival position of the parallel plate electrode 10b on the ion beam incidence side.
is provided. This beam position detection fluorescent plate 14
A lens 15 is arranged facing each other, and this lens 15
A beam position detector] 6 consisting of two-dimensionally arranged photosensors is installed at the imaging position. The output signal from the beam position detector 16 is guided to the measurement system via an amplifier]7.

次に、この様に構成された本実施例の作用について説明
する。
Next, the operation of this embodiment configured in this manner will be explained.

ビーム減速用静電レンズ12に減速用高圧電源13から
電圧か印加されるとビーム減速用静電レンズ12の複数
の環状電極にて形成されるトンネル内にイオンビームの
入射方向と対向する方向に電界E2が発生する。これに
よってビーム減速用静電レンズ12の電界E2に入射し
たイオンビムは減速される。平行平板電極10a、10
b間に減速して入射したイオンビームは、平行平板電極
]、 Oa、  ]、 Ob間に印加されている電界E
]によって偏向しエネルギーに応して位置検出用ケイ光
板14が設置されている領域の所定到達位置に入射する
。このとき、位置検出用ケイ光板]4の設置箇所に入射
するイオビームは、そのビーム形状が拡散しないように
、ビーム減速用静電レンズ12のレンズ効果によってフ
ォーカスされる。なお、このレンズ効果は各環状電極間
の間隔や印加電圧等により決定される。
When a voltage is applied to the beam deceleration electrostatic lens 12 from the deceleration high-voltage power source 13, a beam is generated in the tunnel formed by the plurality of annular electrodes of the beam deceleration electrostatic lens 12 in a direction opposite to the direction of incidence of the ion beam. An electric field E2 is generated. As a result, the ion beam that has entered the electric field E2 of the electrostatic lens 12 for beam deceleration is decelerated. Parallel plate electrodes 10a, 10
The ion beam that is decelerated and enters between the parallel plate electrodes ], Oa, ], and the electric field E applied between Ob
], and depending on the energy, the light beam enters a predetermined position in the area where the position detection fluorescent plate 14 is installed. At this time, the ion beam incident on the installation location of the position detection fluorescent plate 4 is focused by the lens effect of the beam deceleration electrostatic lens 12 so that the beam shape is not diffused. Note that this lens effect is determined by the distance between each annular electrode, applied voltage, and the like.

ここで、ビーム減速用静電レンズ12によるイオンビー
ムの減速によって、そのエネルギーU。
Here, the energy U of the ion beam is reduced by deceleration of the ion beam by the beam deceleration electrostatic lens 12.

が1 / nになったとすると、そのときのエネルギー
分解能ΔUと空間分解能ΔXとの関係は、ΔU/(Uo
/n)−ΔX/X 、、  ΔU/Uo−n−’−ΔX/Xしたがって、 ΔU/Uo−10 ΔX/X=1.75μm1500mm −3,5X 1
0−6の時には、n−3,5とすれば、]0−6のエネ
ルギー分解能と1,75μmの空間分解能を実現できる
becomes 1/n, then the relationship between energy resolution ΔU and spatial resolution ΔX is ΔU/(Uo
/n) -ΔX/X ,, ΔU/Uo-n-'-ΔX/X Therefore, ΔU/Uo-10 ΔX/X=1.75μm1500mm -3,5X 1
0-6, if n-3.5, an energy resolution of ]0-6 and a spatial resolution of 1.75 μm can be achieved.

一方、平行平板電極10a、10b間で偏向したイオン
ビームが所定の到達位置に入射すると、位置検出用ケイ
光板14の到達位置が発光する。
On the other hand, when the ion beam deflected between the parallel plate electrodes 10a and 10b enters a predetermined arrival position, the arrival position of the position detection fluorescent plate 14 emits light.

この光像はレンズ15によってビーム位置検出器16の
受光面に結像され、この光像が光電変換された到達位置
検出信号がアンプ17で増幅された後、測定系へ送信さ
れる。測定系では、到達位置検出信号からイオンビーム
の到達位置を判断する。
This optical image is formed by the lens 15 on the light receiving surface of the beam position detector 16, and the arrival position detection signal obtained by photoelectrically converting this optical image is amplified by the amplifier 17 and then transmitted to the measurement system. The measurement system determines the arrival position of the ion beam from the arrival position detection signal.

この様な本実施例によれば、ビーム減速用静電レンズ1
2によって平行平板電極10a、10b間に入射するイ
オンビームを減速し、かつビーム拡散を抑制するように
したので、装置を大型化することなく、位置検出器の分
解能に対する要求を低減でき、容易に10−6のエネル
ギー分解能を実現できる。
According to this embodiment, the beam deceleration electrostatic lens 1
2, the ion beam incident between the parallel plate electrodes 10a and 10b is decelerated and beam dispersion is suppressed, so the requirement for the resolution of the position detector can be reduced without increasing the size of the device, and it can be easily An energy resolution of 10-6 can be achieved.

また、到達位置検出部においては、位置検出用ケイ光板
14を備え、この位置検出用ケイ光板14の発光を検出
するようにしたので、レンズ15、位置検出器16.ア
ンプ17等の到達位置検出系は高電圧が印加されている
平行平板電極10bからは絶縁されることとなり、従来
のように平行平板電極10bに電気的に接続された到達
位置検出系を高電位に浮かせる等の対策を講する必要が
なくコストダウンを図ることができる。しかも、レンズ
15の倍率を上げることにより、位置分解能の向上を図
ることができ、より高精度なエネルギー分析が可能とな
る。
Further, the reached position detecting section is provided with a position detecting fluorescent plate 14, and the light emitted from the position detecting fluorescent plate 14 is detected, so that the lens 15, the position detector 16. The reached position detection system such as the amplifier 17 is insulated from the parallel plate electrode 10b to which a high voltage is applied, and the reached position detection system electrically connected to the parallel plate electrode 10b as in the conventional case is There is no need to take countermeasures such as floating the vehicle, and costs can be reduced. Furthermore, by increasing the magnification of the lens 15, it is possible to improve the positional resolution, and more accurate energy analysis is possible.

なお、本発明は上記一実施例に限定されるものではない
。例えば、到達位置検出系における位置検出器7、アン
プ8.A/D変換機能を備えた電気/光変換器21を平
行平板電極10bと同じ高電位とし、アース電位となる
光/電気変換器22へは光ケーブル23を介して検出信
号を伝送するように構成することもでき、装置を大型化
することなく要求に応え得る高いエネルギー分解能を実
現できるといった本発明の効果を得ることかできる。
Note that the present invention is not limited to the above embodiment. For example, the position detector 7, amplifier 8. The electrical/optical converter 21 with an A/D conversion function is set to the same high potential as the parallel plate electrode 10b, and the detection signal is transmitted via an optical cable 23 to the optical/electrical converter 22, which is at ground potential. It is also possible to obtain the effects of the present invention, such as realizing a high energy resolution that meets the requirements without increasing the size of the device.

[発明の効果コ 以上詳記したように本発明によれば、装置を大型化する
ことなく、10−6といった極めて高いエネルギー分解
能を実現できる荷電粒子エネルギー分析装置を提供でき
る。
[Effects of the Invention] As detailed above, according to the present invention, it is possible to provide a charged particle energy analyzer that can realize an extremely high energy resolution of 10-6 without increasing the size of the device.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の実施例に係る荷電粒子エネルギー分析
の原理図、第2図は同実施例の到達位置検出系の変形部
分の構成図、第3図は従来よりある重イオンビームプロ
ーブ装置の概念図、第4図は従来の荷電粒子エネルギー
分析の原理図、第5図は位置検出器のビーム受光面を示
す図である。 10a、10b・・・平行平板電極、11・・・ビーム
偏光用高圧電源、12・・・減速用静電レンズ、13・
・・ビーム減速用高圧電源、14・・・位置検出用ケイ
光板、15・・・レンズ、16・・・位置検出器、17
・・アンプ。
Fig. 1 is a diagram of the principle of charged particle energy analysis according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a configuration diagram of a modified part of the arrival position detection system of the same embodiment, and Fig. 3 is a conventional heavy ion beam probe device. FIG. 4 is a diagram showing the principle of conventional charged particle energy analysis, and FIG. 5 is a diagram showing a beam receiving surface of a position detector. 10a, 10b... Parallel plate electrodes, 11... High voltage power source for beam polarization, 12... Electrostatic lens for deceleration, 13.
... High-voltage power supply for beam deceleration, 14 ... Luminescent plate for position detection, 15 ... Lens, 16 ... Position detector, 17
··Amplifier.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)プラズマ中を通過した荷電粒子からなるイオンビ
ームを所定の電圧が印加されている平行電極間に入射さ
せ、この平行電極間に印加されている電界によって偏向
された前記イオンビームの到達距離に基づいて前記荷電
粒子のエネルギーを分析する荷電粒子エネルギー分析装
置において、前記イオンビームが前記平行電極へ入射す
るときの入射経路に沿って設けられ、前記イオンビーム
を減速し、かつその広がりを抑制する電界を発生する複
数の電極からなるビーム減速用静電レンズを設けたこと
を特徴とする荷電粒子エネルギー分析装置。
(1) An ion beam consisting of charged particles that has passed through a plasma is made incident between parallel electrodes to which a predetermined voltage is applied, and the distance traveled by the ion beam is deflected by the electric field applied between the parallel electrodes. In a charged particle energy analyzer that analyzes the energy of the charged particles based on A charged particle energy analyzer characterized by being provided with a beam deceleration electrostatic lens consisting of a plurality of electrodes that generate an electric field.
(2)前記イオンビームの予定到達位置に設置され前記
到達位置に対応する箇所を発光させる位置検出用ケイ光
板と、この位置検出用ケイ光板による光像を所定の結像
位置に結像するレンズと、このレンズの結像位置に設置
され前記光像を光電変換した到達位置検出信号を出力す
る光位置検出器とを備えたことを特徴とする請求項1記
載の荷電粒子エネルギー分析装置。
(2) A position detection fluorescent plate installed at the expected arrival position of the ion beam and emitting light at a location corresponding to the arrival position, and a lens that forms a light image from this position detection fluorescent plate at a predetermined imaging position. 2. The charged particle energy analyzer according to claim 1, further comprising: an optical position detector installed at the imaging position of the lens and outputting an arrival position detection signal obtained by photoelectrically converting the optical image.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102251598A (en) * 2011-04-28 2011-11-23 山东汇星科技开发有限公司 Isolated fireproof heat insulation plate and manufacturing process thereof
WO2021060634A1 (en) * 2019-09-25 2021-04-01 한국표준과학연구원 Delay energy analyzer

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