JPH04252493A - Semiconductor memory device - Google Patents
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- JPH04252493A JPH04252493A JP3008208A JP820891A JPH04252493A JP H04252493 A JPH04252493 A JP H04252493A JP 3008208 A JP3008208 A JP 3008208A JP 820891 A JP820891 A JP 820891A JP H04252493 A JPH04252493 A JP H04252493A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は半導体記憶装置に関し、
特に大容量のランダム・アクセス・メモリに関する。[Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device.
Particularly regarding large capacity random access memories.
【0002】0002
【従来の技術】従来、1トランジスタ型ダイナミック・
ランダム・アクセス・メモリ(以下、DRAMと称す)
は、スイッチトランジスタを介してメモリセルのストレ
ージ容量に貯わえられた電荷をビット線に伝え、その信
号を高感度のセンス増幅器で増幅して出力信号にすると
同時に、前記メモリセルに増幅された信号を再書込みす
る方式が用いられている。このDRAMはメモリセルを
小型化できる利点を生かして大容量の最先端にあるメモ
リとして開発されている。しかしながら、DRAMは大
容量化とともに高性能化を実現するため、センス増幅器
の改良が盛んに行われている。[Prior Art] Conventionally, one-transistor type dynamic
Random access memory (hereinafter referred to as DRAM)
transmits the charge stored in the storage capacity of the memory cell to the bit line via the switch transistor, and amplifies the signal with a highly sensitive sense amplifier to produce an output signal. A method of rewriting the signal is used. This DRAM has been developed as a high-capacity, cutting-edge memory that takes advantage of the ability to miniaturize memory cells. However, in order to increase the capacity and performance of DRAMs, improvements in sense amplifiers are being actively carried out.
【0003】かかる高性能DRAMの例としては、例え
ば1989年5月に開催された1989年シンポジウム
・オンVLSI回路(1989 SYMPOSIUM
ONVLSI CIRCUITS)のダイジェス
ト・オブ・テクニカル・ペーパーズ(DIGEST
OF TECHNICAL PAPERS)の第1
13〜114頁(1989年5月会議時に同時頒布)に
掲載された″AN EXPERIMENTAL 1
6Mb DRAM WITH REDUCED
PEAK−CURRENT NOISE″と題する
論文等に紹介されている。An example of such a high-performance DRAM is the 1989 Symposium on VLSI Circuits held in May 1989.
ONVLSI CIRCUITS) Digest of Technical Papers (DIGEST)
OF TECHNICAL PAPERS) 1st
"AN EXPERIMENTAL 1" published on pages 13-114 (distributed simultaneously at the May 1989 conference)
6Mb DRAM WITH REDUCED
It is introduced in a paper entitled "PEAK-CURRENT NOISE".
【0004】図4はかかる従来の一例を示す半導体記憶
装置の回路図である。図4に示すように、この半導体記
憶装置はXデコーダ1およびYデコーダ8と、ビット線
対BL,BL(−)(−は反転信号を示す。以下同じ)
およびワード線W1,W2間にそれぞれ接続される同数
且つ複数個のメモリセル4,5と、センス活性化信号S
E,SE(−)で制御されるnMOSFETQ1,pM
OSFETQ21およびビット線対BL,BL(−)間
に接続されるフリップフロップ構成のセンス増幅器2と
、相補入出力データ線I/O,I/O(−)およびビッ
ト線対BL,BL(−)間に接続されるスイッチング用
nMOSFETQ4,Q5とを有する。また、センス増
幅器2はnMOSFETQ2,Q3とpMOSFETQ
22,Q23から構成され、メモリセル4はワード線W
1,ビット線BLに接続され、メモリセル5はワード線
W2,ビット線BL(−)に接続されている。FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing an example of such a conventional device. As shown in FIG. 4, this semiconductor memory device includes an X decoder 1, a Y decoder 8, and a bit line pair BL, BL(-) (- indicates an inverted signal. The same applies hereinafter).
and the same number and plurality of memory cells 4 and 5 connected between word lines W1 and W2, respectively, and a sense activation signal S.
nMOSFETQ1,pM controlled by E,SE(-)
A sense amplifier 2 having a flip-flop configuration connected between OSFETQ21 and bit line pair BL, BL(-), complementary input/output data lines I/O, I/O(-) and bit line pair BL, BL(-) It has switching nMOSFETs Q4 and Q5 connected between them. In addition, the sense amplifier 2 is composed of nMOSFETQ2, Q3 and pMOSFETQ.
22, Q23, and the memory cell 4 is connected to the word line W.
1, is connected to the bit line BL, and the memory cell 5 is connected to the word line W2, the bit line BL(-).
【0005】上述した半導体記憶装置としてのDRAM
は、まずメモリ動作の開始とともに、Xデコーダ1で選
択されたワード線、例えばW1が高レベル電圧になると
、選択されたメモリセル4の情報がビット線BLに読出
される。尚、このとき他方のビット線BL(−)はプリ
チャージ電圧を保つ。この結果、ビット線対BL,BL
(−)の間に、メモリセル容量(Cs)とビット線容量
(Cb)の容量分割で決まる微小な電位差が生じるので
、センス増幅器2を活性化し、微小電位差が増幅される
。DRAM as the above-mentioned semiconductor memory device
First, at the start of memory operation, when the word line selected by the X decoder 1, for example W1, becomes a high level voltage, the information of the selected memory cell 4 is read out to the bit line BL. Note that at this time, the other bit line BL(-) maintains the precharge voltage. As a result, bit line pair BL, BL
(-), a minute potential difference determined by the capacitance division between the memory cell capacitance (Cs) and the bit line capacitance (Cb) is generated, so the sense amplifier 2 is activated and the minute potential difference is amplified.
【0006】その後、Yデコーダ8によって選択された
コラム選択線Y1が高レベルに上昇するので、メモリセ
ル4の情報がビット線BL,BL(−)から入出力デー
タ線I/O,I/O(−)に伝えられ、読出が完了する
。ここで、センス増幅器2を活性化するには、センス活
性化信号SEを高レベル電圧にして、nMOSFETQ
1を導通状態にすればよい。すなわち、nMOSFET
Q2,Q3の共通ソース端子N1の電圧を下げ、センス
活性化信号SE(−)を低レベル電圧、pMOSFET
Q21を導通状態にしてpMOSペアFETQ22,Q
23の共通ソース端子N3の電圧を上げることにより行
われる。このとき、センス活性化信号SE,SE(−)
の駆動源をワード線W1,W2の駆動源と同方向に配置
することにより、ワード線W1,W2に信号伝搬遅延時
間がある場合でも、メモリセル4および5からの信号読
出とセンス増幅器2の活性化とが同じ時間遅れを持って
行われる。従って、動作マージンが広く、高速の信号読
出を行うことができる。After that, the column selection line Y1 selected by the Y decoder 8 rises to a high level, so that the information in the memory cell 4 is transferred from the bit lines BL, BL(-) to the input/output data lines I/O, I/O. (-), and reading is completed. Here, in order to activate the sense amplifier 2, the sense activation signal SE is set to a high level voltage, and the nMOSFETQ
1 should be made conductive. That is, nMOSFET
Lower the voltage of the common source terminal N1 of Q2 and Q3, and set the sense activation signal SE (-) to a low level voltage, pMOSFET.
Q21 is made conductive and pMOS pair FETQ22,Q
This is done by increasing the voltage at the common source terminal N3 of 23. At this time, sense activation signals SE, SE(-)
By arranging the drive sources for the word lines W1 and W2 in the same direction as the drive sources for the word lines W1 and W2, even if there is a signal propagation delay time on the word lines W1 and W2, the signal reading from the memory cells 4 and 5 and the sense amplifier 2 can be easily read out. Activation is performed with the same time delay. Therefore, the operating margin is wide and high-speed signal reading can be performed.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の半導体
記憶装置、特に大容量のDRAMは、集積度をできるだ
け大きくするために、メモリセルが高密度にレイアウト
される。また同時に、センス増幅器に対しても、レイア
ウト上のピッチをメモリセルに合わせるため、ワード線
方向のレイアウトピッチを小さくする必要がある。In the above-mentioned conventional semiconductor memory devices, especially large-capacity DRAMs, memory cells are laid out at a high density in order to maximize the degree of integration. At the same time, it is necessary to reduce the layout pitch of the sense amplifier in the word line direction in order to match the layout pitch with the memory cell.
【0008】しかしながら、図4の従来例においては、
センス増幅器2とnMOSFETQ1およびpMOSF
ETQ21をメモリセルと同じレイアウトピッチに配置
することが非常に困難である。強いて、同じピッチにレ
イアウトしようとすると、センス増幅器2のビット線方
向のレイアウト長を通常以上に長くしたり、あるいは隣
接するビット線対毎にセンス増幅器2を左右に分けて配
置しなければならず、却って、DRAMチップ全体のサ
イズを増加させてしまうという欠点がある。However, in the conventional example shown in FIG.
Sense amplifier 2 and nMOSFETQ1 and pMOSF
It is very difficult to arrange the ETQ21 at the same layout pitch as the memory cells. If you are forced to layout them at the same pitch, you will have to make the layout length of the sense amplifier 2 in the bit line direction longer than usual, or you will have to arrange the sense amplifier 2 separately on the left and right for each adjacent bit line pair. However, it has the disadvantage of increasing the overall size of the DRAM chip.
【0009】本発明の目的は、このセンス増幅器の回路
が複雑になってもセンス増幅器のレイアウトピッチを緩
めることのできる半導体記憶装置を提供することにある
。An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device in which the layout pitch of the sense amplifiers can be relaxed even if the sense amplifier circuits become complicated.
【0010】0010
【課題を解決するための手段】本発明の半導体記憶装置
は、マトリックス状に配置した複数のメモリセルと、X
デコーダと、前記Xデコーダに接続され且つ前記メモリ
セルのスイッチゲートを縦方向に接続する複数本のワー
ド線と、前記メモリセルのビット端子を横方向に接続す
る複数のビット線対と、前記複数のビット線対のうち1
対を選択するためのYデコーダと、前記複数のビット線
対にそれぞれ接続され且つペアトランジスタで構成した
フリップフロップを備える複数のセンス増幅器と、トラ
ンジスタを介して前記ワード線に並行に配置された第一
のセンスソース端子線と、フリップフロプを構成する前
記ペアトランジスタの共通ソース端子を隣接する前記複
数のセンス増幅器に対して共通接続した第二のセンスソ
ース端子線とを有して構成される。[Means for Solving the Problems] A semiconductor memory device of the present invention includes a plurality of memory cells arranged in a matrix,
a decoder, a plurality of word lines connected to the X decoder and vertically connecting switch gates of the memory cells, a plurality of bit line pairs horizontally connecting bit terminals of the memory cells; One of the bit line pairs of
a Y decoder for selecting a pair; a plurality of sense amplifiers each connected to the plurality of bit line pairs and each including a flip-flop configured with pair transistors; The device includes one sense source terminal line and a second sense source terminal line in which the common source terminals of the pair of transistors constituting the flip-flop are commonly connected to the plurality of adjacent sense amplifiers.
【0011】[0011]
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。Embodiments Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
【0012】図1は本発明の概略的な半導体記憶装置の
回路図である。図1に示すように、本発明の半導体記憶
装置は入出力データ線およびYデコーダを省略しており
、DRAMの一部を構成するXデコーダ1と、ビット線
対BL1,BL1(−)およびBL2,BL2(−)に
接続されるセンス増幅器2,3と、ビット線対BL1,
BL1(−),BL2,BL2(−)およびワード線W
1,W2間に接続される互いに同数且つ複数個のメモリ
セル4〜7と、節点N1,N2とGND間に接続され且
つセンス活性化信号SEにより制御されるnMOSFE
TQ1とを示している。尚、上述したメモリセル4,5
はワード線W1,W2およびビット線対BL1,BL1
(−)にそれぞれ接続され、メモリセル6,7はワード
線W1,W2およびビット線BL2,BL2(−)にそ
れぞれ接続されている。このDRAMにおいて、センス
増幅器2,3は前述した従来例(図4)のDRAMにお
けるセンス増幅器2と同じフリップフロップ回路から構
成される。このセンス増幅器2においては、後述するn
MOSペアFETの共通ソース端子がN1、同様にセン
ス増幅器3の後述するnMOSペアFETの共通ソース
端子がN2である。それらは互いに共通に接続され、n
MOSFETQ1を介して接地電圧GNDに接続されて
いる。FIG. 1 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device according to the present invention. As shown in FIG. 1, the semiconductor memory device of the present invention omits input/output data lines and Y decoders, and includes an , BL2(-) and the bit line pair BL1,
BL1(-), BL2, BL2(-) and word line W
The same number of memory cells 4 to 7 are connected between nodes N1 and W2, and nMOSFEs are connected between nodes N1 and N2 and GND and are controlled by a sense activation signal SE.
TQ1 is shown. Note that the memory cells 4 and 5 mentioned above
are word lines W1, W2 and bit line pair BL1, BL1
(-), and memory cells 6 and 7 are connected to word lines W1 and W2 and bit lines BL2 and BL2 (-), respectively. In this DRAM, sense amplifiers 2 and 3 are constructed from the same flip-flop circuit as the sense amplifier 2 in the conventional DRAM (FIG. 4) described above. In this sense amplifier 2, n
The common source terminal of the MOS pair FET is N1, and similarly the common source terminal of the later-described nMOS pair FET of the sense amplifier 3 is N2. They are commonly connected to each other and n
It is connected to ground voltage GND via MOSFET Q1.
【0013】上述したDRAMの動作は、基本的には従
来例と同様であるが、センス増幅器2,3を活性化する
場合、センス活性化信号SEを高レベル電圧にしてnM
OSFETQ1を導通状態にすると、センス増幅器2お
よび3の共通ソース端子N1とN2の電圧が同時に低レ
ベルになり、ビット線対間のセンス増幅が行われる点が
異なっている。また、メモリ動作の動作マージンおよび
読出速度に関しては、従来例とほとんど変らない。The operation of the DRAM described above is basically the same as that of the conventional example, but when activating the sense amplifiers 2 and 3, the sense activation signal SE is set to a high level voltage and nM
The difference is that when OSFET Q1 is made conductive, the voltages at the common source terminals N1 and N2 of sense amplifiers 2 and 3 go low at the same time, and sense amplification between the bit line pair is performed. Furthermore, the operating margin and read speed of memory operations are almost the same as in the conventional example.
【0014】しかし、本発明におけるDRAMでは、セ
ンス増幅器2,3の活性化用スイッチFETQ1がセン
ス増幅器2と3に共用されるため、1つのビット線対当
りに用いられるセンス増幅器用のスイッチFETの数が
減少し、センス増幅器2,3のレイアウト設計が容易に
なる。この結果、センス増幅器2,3のワード線方向の
レイアウトピッチをメモリセル4〜7のレイアウトピッ
チに合わせるこのが容易に行えるようになり、センス増
幅器2,3のレイアウトを小面積で行うことができ、D
RAMチップ全体のサイズを小さくすることができる。However, in the DRAM of the present invention, since the activation switch FET Q1 of the sense amplifiers 2 and 3 is shared by the sense amplifiers 2 and 3, the switch FET for the sense amplifier used per one bit line pair is The number of sense amplifiers 2 and 3 is reduced, and the layout design of the sense amplifiers 2 and 3 becomes easier. As a result, it becomes easy to match the layout pitch of the sense amplifiers 2 and 3 in the word line direction to the layout pitch of the memory cells 4 to 7, and the layout of the sense amplifiers 2 and 3 can be done in a small area. ,D
The overall size of the RAM chip can be reduced.
【0015】図2は本発明の第一の実施例を示す半導体
記憶装置の回路図である。図2に示すように、本実施例
は図1の回路をより詳細に示し、さらにデコーダ8と、
相補入出力データ線I/O,I/O(−)と、nMOS
FETQ4,Q5,Q8,Q9と、nMOSスイッチF
ETQ1およびpMOSFETQ21とを付加し、セン
ス増幅器2,3をフリップフロップ構成で示している。
本実施例のDRAMはセンス増幅器2,3のnMOSペ
アFETQ2,Q3およびQ6,Q7の共通ソース端子
N1,N2が共通接続され、nMOSスイッチFETQ
1を介して接地電圧GNDに接続される。同様に、セン
ス増幅器2,3のpMOSペアFETQ22,Q23お
よびQ24,Q25の共通ソース端子N3,N4も共通
接続され、pMOSスイッチFETQ21を介して電源
電圧VCCに接続される。FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 2, this embodiment shows the circuit of FIG. 1 in more detail, and further includes a decoder 8,
Complementary input/output data lines I/O, I/O(-) and nMOS
FETQ4, Q5, Q8, Q9 and nMOS switch F
ETQ1 and pMOSFETQ21 are added, and sense amplifiers 2 and 3 are shown in a flip-flop configuration. In the DRAM of this embodiment, the common source terminals N1 and N2 of the nMOS pair FETQ2, Q3 and Q6, Q7 of the sense amplifiers 2 and 3 are commonly connected, and the nMOS switch FETQ
1 to the ground voltage GND. Similarly, the common source terminals N3, N4 of the pMOS pairs FETQ22, Q23 and Q24, Q25 of the sense amplifiers 2, 3 are also commonly connected and connected to the power supply voltage VCC via the pMOS switch FETQ21.
【0016】かかるDRAMの動作は、基本的には前述
した従来例(図4)と同様であり、本実施例では図1の
概略回路にセンス増幅器2,3のpMOSペアFETQ
22〜Q25の共通ソース端子を共通接続する回路を示
している。すなわち、本実施例のDRAMも、センス増
幅器2,3の活性化用スイッチFETQ1,Q21がセ
ンス増幅器2,3に共用されるため、1つのビット線対
当りに用いられるセンス増幅器のスイッチの数も減少さ
せることができ、センス増幅器2,3のレイアウトを小
面積で行うことができる。The operation of such a DRAM is basically the same as that of the conventional example (FIG. 4) described above, and in this embodiment, the pMOS pair FETQ of the sense amplifiers 2 and 3 is added to the schematic circuit of FIG.
A circuit for commonly connecting the common source terminals of Q22 to Q25 is shown. That is, in the DRAM of this embodiment, the activation switches FETQ1 and Q21 of the sense amplifiers 2 and 3 are shared by the sense amplifiers 2 and 3, so the number of sense amplifier switches used per one bit line pair is also reduced. The sense amplifiers 2 and 3 can be laid out in a small area.
【0017】図3は本発明の第二の実施例を示す半導体
記憶装置の回路図である。図3に示すように、本実施例
はDRAMの一部を構成するXデコーダ1およびYデコ
ーヂダ8と、ビット線対BL1,BL1(−)およびB
L2,BL2(−)と、センス増幅器2,3と、入出力
データ線I/O1,I/O1(−)およびI/O2,I
/O2(−)と、nMOSFETQ4,Q5,Q8,Q
9と、nMOSスイッチFETQ1,Q10と、センス
活性化nMOSFETQ31およびpMOSFETQ3
2とを有している。このセンス増幅器2,3のnMOS
ペアFETQ2,Q3およびQ6,Q7の共通ソース端
子N1,N2は共通接続され、しかもnMOSFETQ
1を介して第一のセンスソース端子線SANに接続され
るとともに、nMOSスイッチFETQ10をを介して
第二のセンスソース端子線すなわちGNDに接続される
。また、センス増幅器2,3のpMOSペアFETQ2
2,Q23およびQ24,Q25の共通ソース端子N3
およびN4は、第三のセンスソース端子線SAPに接続
される。これら第一,第三のセンスソース端子線SAN
,SAPはそれぞれnMOSスイッチFETQ11,p
MOSスイッチFETQ26を介して接地電圧GNDお
よび電源電圧VCCに接続される。FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing a second embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, this embodiment includes an X decoder 1 and a Y decoder 8 that constitute part of a DRAM, and bit line pairs BL1, BL1(-) and B
L2, BL2(-), sense amplifiers 2, 3, input/output data lines I/O1, I/O1(-) and I/O2, I
/O2(-) and nMOSFETQ4,Q5,Q8,Q
9, nMOS switch FETQ1, Q10, sense activation nMOSFETQ31 and pMOSFETQ3
2. nMOS of these sense amplifiers 2 and 3
The common source terminals N1, N2 of the pair FETs Q2, Q3 and Q6, Q7 are commonly connected, and the nMOSFETQ
1 to the first sense source terminal line SAN, and also to the second sense source terminal line, ie, GND, via the nMOS switch FETQ10. In addition, pMOS pair FETQ2 of sense amplifiers 2 and 3
2, common source terminal N3 of Q23 and Q24, Q25
and N4 are connected to the third sense source terminal line SAP. These first and third sense source terminal lines SAN
, SAP are nMOS switch FETQ11, p, respectively.
It is connected to ground voltage GND and power supply voltage VCC via MOS switch FETQ26.
【0018】上述した構成のDRAMのメモリ動作は、
以下のように行われる。まず、デコーダ1で選択された
ワード線、例えばW1が高レベル電圧になると、選択さ
れたメモリセル4,6の情報がビット線BL1およびB
L2に読出される。尚、他方のビット線BL1(−),
BL2(−)はプリチャージを保つ。この結果、ビット
線対BL1,BL1(−)およびBL2,BL2(−)
の間に微小な電位差が生じ、センス増幅器2,3を活性
化するので、この微小電位差が増幅される。その後、Y
デコーダ8によって選択されたコラム選択線Y1が高レ
ベルになり、メモリセル情報がビット線対BL1,BL
1(−)およびBL2,BL2(−)から入出力データ
線I/O1,I/O1(−)およびI/O2,I/O2
(−)に伝えられると、読出が完了する。ここで、セン
ス増幅器2,3を活性化するには、まずセンス活性化信
号SEを高レベル電圧にしてnMOSFETQ11を導
通状態にし、nMOSペアFETQ2,Q3およびQ6
,Q7の共通ソース端子N1,N2の電圧をゲートが電
源電圧VCCに接続されたnMOSFETQ1,第一の
センスソース端子線SANおよびnMOSFETQ11
を介して低レベルに下げる。一方、センス活性化信号S
E(−)を低レベル電圧に且つpMOSFETQ26を
導通状態にして、pMOSペアFETQ22〜Q25の
共通ソース端子N3,N4の電圧を第三のセンスソース
端子線SAPおよびpMOSFETQ26を介して高レ
ベルに上げる。これにより、センス増幅器2,3が活性
化される。更に、Yデコーダ8によってコラム選択線Y
1が高レベレ電圧に上がると、ビット線から入出力デー
タ線I/O,I/O(−)への信号伝達を高速に行うた
めに、nMOSスイッチFETQ10も導通状態になり
、共通ソース端子N1,N2の電圧が急速に低レベルに
下がるため、センス増幅動作が高速に行われる。The memory operation of the DRAM configured as described above is as follows:
This is done as follows. First, when the word line selected by the decoder 1, for example W1, becomes a high level voltage, the information of the selected memory cells 4 and 6 is transferred to the bit lines BL1 and B.
Read out to L2. Note that the other bit line BL1(-),
BL2(-) maintains precharge. As a result, bit line pairs BL1, BL1(-) and BL2, BL2(-)
A minute potential difference is generated between them and activates the sense amplifiers 2 and 3, so that this minute potential difference is amplified. After that, Y
The column selection line Y1 selected by the decoder 8 becomes high level, and the memory cell information is transferred to the bit line pair BL1, BL.
1(-) and BL2, BL2(-) to input/output data lines I/O1, I/O1(-) and I/O2, I/O2
(-), reading is completed. Here, in order to activate the sense amplifiers 2 and 3, first, the sense activation signal SE is set to a high level voltage to make the nMOSFETQ11 conductive, and the nMOS pair FETQ2, Q3 and Q6
, Q7's common source terminals N1 and N2 are connected to the nMOSFETQ1 whose gate is connected to the power supply voltage VCC, the first sense source terminal line SAN, and the nMOSFETQ11.
lower to a low level through. On the other hand, sense activation signal S
E(-) is set to a low level voltage and pMOSFET Q26 is made conductive, thereby raising the voltage of common source terminals N3 and N4 of pMOS pair FETs Q22 to Q25 to a high level via third sense source terminal line SAP and pMOSFET Q26. As a result, sense amplifiers 2 and 3 are activated. Further, the Y decoder 8 selects the column selection line Y.
1 rises to a high level voltage, the nMOS switch FETQ10 also becomes conductive in order to transmit signals from the bit line to the input/output data lines I/O and I/O(-) at high speed, and the common source terminal N1 , N2 quickly drop to a low level, so the sense amplification operation is performed at high speed.
【0019】かかる本実施例のDRAMも、センス増幅
器2,3の活性化用FETQ1,Q10がセンス増幅器
2,3に共用されるため、1つの1つのビット線対当り
に用いられるセンス増幅器2,3のトランジスタスイッ
チの数を減少させ、センス増幅器2,3のレイアウトを
小面積で行うことができる利点がある。Also in the DRAM of this embodiment, since the activation FETs Q1 and Q10 of the sense amplifiers 2 and 3 are shared by the sense amplifiers 2 and 3, the sense amplifiers 2 and 3 used for each bit line pair are There is an advantage that the number of transistor switches 3 can be reduced, and the layout of the sense amplifiers 2 and 3 can be made in a small area.
【0020】以上、二つの実施例では、センス増幅器の
共通ソース端子として、nMOSペアFETの共通ソー
ス端子が共通接続される場合を示したが、pMOSペア
FETの共通ソース端子を共通接続する場合や、両者を
別々に共通接続し且つnMOSスイッチFETやpMO
SスイッチFETを用いて接地電圧GNDか電源電圧V
CCに接続する場合も同様に可能である。更に、上述の
実施例では、共通ソース端子を共通接続するセンス増幅
器が2個の場合を示したが、3個以上の場合にも同様に
実現されることは言うまでもない。In the above two embodiments, the common source terminals of the nMOS pair FETs are commonly connected as the common source terminals of the sense amplifiers, but the common source terminals of the pMOS pair FETs may be commonly connected. , connect both separately and in common, and use nMOS switch FET or pMO
Ground voltage GND or power supply voltage V using S switch FET
The same is possible when connecting to CC. Further, in the above-described embodiment, the case where there are two sense amplifiers whose common source terminals are connected in common has been shown, but it goes without saying that the same can be realized in the case where there are three or more sense amplifiers.
【0021】[0021]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体記
憶装置は動作性能を維持したままセンス増幅器のスイッ
チトランジスタの数を減少させ、センス増幅器のレイア
ウトを小面積で行うことができるとともに、メモリチッ
プ全体のサイズを小さくできるという効果がある。As explained above, the semiconductor memory device of the present invention reduces the number of switch transistors in the sense amplifier while maintaining operational performance, allows the sense amplifier to be laid out in a small area, and improves memory efficiency. This has the effect of reducing the overall size of the chip.
【図1】本発明の概略的な半導体記憶装置の回路図であ
る。FIG. 1 is a schematic circuit diagram of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図2】本発明の第一の実施例を示す半導体記憶装置の
回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing a first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第二の実施例を示す半導体記憶装置の
回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing a second embodiment of the present invention.
【図4】従来の一例を示す半導体記憶装置の回路図であ
る。FIG. 4 is a circuit diagram of a semiconductor memory device showing a conventional example.
1 Xデコーダ
2,3 センス増幅器
4〜7 メモリセル
8 Yデコーダ
BL1,BL1(−),BL2,BL2(−BL1,B
L1(−),BL2,BL2(−)) ビット線
W1,W2 ワード線
Q1〜Q11 nMOSトランジスタ(FET)
Q21〜Q26 pMOSトランジスタ(FET
)I/O,I/O(−) 入出力データ線SE,
SE(−) センス活性化信号SAN,SAP
センスソース線Y1,Y2 コラム選択線
VCC 電源電圧
GND 接地電圧1
L1(-), BL2, BL2(-)) Bit lines W1, W2 Word lines Q1 to Q11 nMOS transistor (FET)
Q21~Q26 pMOS transistor (FET
) I/O, I/O(-) Input/output data line SE,
SE(-) Sense activation signal SAN, SAP
Sense source lines Y1, Y2 Column selection line VCC Power supply voltage GND Ground voltage
Claims (1)
リセルと、Xデコーダと、前記Xデコーダに接続され且
つ前記メモリセルのスイッチゲートを縦方向に接続する
複数本のワード線と、前記メモリセルのビット端子を横
方向に接続する複数のビット線対と、前記複数のビット
線対のうち1対を選択するためのYデコーダと、前記複
数のビット線対にそれぞれ接続され且つペアトランジス
タで構成したフリップフロップを備える複数のセンス増
幅器と、トランジスタを介して前記ワード線に並行に配
置された第一のセンスソース端子線と、フリップフロプ
を構成する前記ペアトランジスタの共通ソース端子を隣
接する前記複数のセンス増幅器に対して共通接続した第
二のセンスソース端子線とを有することを特徴とする半
導体記憶装置。1. A plurality of memory cells arranged in a matrix, an X decoder, a plurality of word lines connected to the X decoder and vertically connecting switch gates of the memory cells, A plurality of bit line pairs connecting bit terminals in the horizontal direction, a Y decoder for selecting one of the plurality of bit line pairs, and a pair of transistors each connected to the plurality of bit line pairs. a plurality of sense amplifiers including flip-flops; a first sense source terminal line arranged in parallel to the word line via a transistor; A semiconductor memory device comprising a second sense source terminal line commonly connected to the amplifier.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3008208A JPH04252493A (en) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | Semiconductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3008208A JPH04252493A (en) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | Semiconductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04252493A true JPH04252493A (en) | 1992-09-08 |
Family
ID=11686830
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP3008208A Pending JPH04252493A (en) | 1991-01-28 | 1991-01-28 | Semiconductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04252493A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6088270A (en) * | 1992-11-12 | 2000-07-11 | United Memories, Inc. | Sense amplifier with local write drivers |
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1991
- 1991-01-28 JP JP3008208A patent/JPH04252493A/en active Pending
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