JPH04246910A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH04246910A
JPH04246910A JP3032437A JP3243791A JPH04246910A JP H04246910 A JPH04246910 A JP H04246910A JP 3032437 A JP3032437 A JP 3032437A JP 3243791 A JP3243791 A JP 3243791A JP H04246910 A JPH04246910 A JP H04246910A
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JP
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output
circuit
semiconductor integrated
integrated circuit
voltage
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JP3032437A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaki Iida
正樹 飯田
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NEC Corp
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NEC Corp
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Publication date
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Publication of JPH04246910A publication Critical patent/JPH04246910A/en
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Abstract

PURPOSE:To prevent an overshoot phenomenon or an undershoot phenomenon from generating at an output signal due to an impedance inconsistency with an outside circuit at the time of the high speed operation of a semiconductor integrated circuit. CONSTITUTION:A depression type NMOS transistor 5 is provided between the output terminal of an output buffer circuit whose output stage is constituted of transistors 3 and 4, and an output terminal 7. The gate voltage of the depression type NMOS transistor 5 is controlled by a control voltage inputted to a control voltage input terminal 6. Therefore, the output impedance of the semiconductor integrated circuit can be matched with the input impedance of the outside circuit.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路に関し、
特に、出力段がCMOS回路で構成された出力バッファ
回路を有する半導体集積回路に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to semiconductor integrated circuits.
In particular, the present invention relates to a semiconductor integrated circuit having an output buffer circuit whose output stage is constituted by a CMOS circuit.

【0002】0002

【従来の技術】従来、半導体集積回路(以下、LSIと
いう)はその入力端子及び出力端子に他の種々のLSI
、回路又は素子等が信号線を介して接続され、これによ
り所望のシステムが構成される。LSIはその出力部に
CMOS回路で構成された出力バッファ回路が設けられ
ており、その電気的特性がCMOS回路を構成するPチ
ャネルMOSトランジスタ(以下、PMOSトランジス
タという)及びNチャネルMOSトランジスタ(以下、
NMOSトランジスタという)により決定される。 この電気的特性にはトランジスタを流れる電源電流、ト
ランジスタのスイッチングスピード、回路形成時に決ま
るVt値及び容量値等がある。また、LSIから外部回
路に伝達される信号は、特にLSIが高速動作をする場
合、LSIの内部における出力端子までの配線の特性及
び出力端子から外部回路までの配線の特性により影響さ
れる。
[Prior Art] Conventionally, semiconductor integrated circuits (hereinafter referred to as LSIs) have various other LSIs at their input terminals and output terminals.
, circuits, elements, etc. are connected via signal lines, thereby configuring a desired system. An LSI is provided with an output buffer circuit composed of a CMOS circuit in its output section, and its electrical characteristics are similar to that of a P-channel MOS transistor (hereinafter referred to as a PMOS transistor) and an N-channel MOS transistor (hereinafter referred to as a PMOS transistor) that constitute a CMOS circuit.
(referred to as an NMOS transistor). These electrical characteristics include the power supply current flowing through the transistor, the switching speed of the transistor, the Vt value and the capacitance value determined at the time of circuit formation. Further, the signals transmitted from the LSI to the external circuit are influenced by the characteristics of the wiring inside the LSI up to the output terminal and the characteristics of the wiring from the output terminal to the external circuit, especially when the LSI operates at high speed.

【0003】図6は従来の半導体集積回路を示す回路図
である。出力バッファ回路は以下に示すように構成され
ている。電源VDDと接地GNDとの間には、PMOS
トランジスタ3及びNMOSトランジスタ4が直列に接
続されており、このトランジスタ3,4は駆動回路2の
出力により駆動する。駆動回路2は入力端子1とPMO
Sトランジスタ3のゲートとの間に縦続接続されたイン
バータ2a,2b及び入力端子1とNMOSトランジス
タ4のゲートとの間に縦続接続されたインバータ2c,
2dにより構成されていて、入力端子1から入力される
LSIの内部出力信号S1 に応じて信号を発生させ、
この信号をトランジスタ3,4の各ゲートに供給する。 そして、上述の出力バッファ回路の出力端、即ちトラン
ジスタ3,4の相互接続点にはLSIの出力端子12が
設けられていて、この出力端子12に外部回路13が接
続されている。
FIG. 6 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor integrated circuit. The output buffer circuit is configured as shown below. There is a PMOS between the power supply VDD and the ground GND.
A transistor 3 and an NMOS transistor 4 are connected in series, and the transistors 3 and 4 are driven by the output of the drive circuit 2. Drive circuit 2 connects input terminal 1 and PMO
Inverters 2a and 2b are cascade-connected between the gate of the S transistor 3 and an inverter 2c is cascade-connected between the input terminal 1 and the gate of the NMOS transistor 4.
2d, which generates a signal according to the internal output signal S1 of the LSI input from input terminal 1,
This signal is supplied to each gate of transistors 3 and 4. An output terminal 12 of the LSI is provided at the output end of the above-mentioned output buffer circuit, that is, at the interconnection point of the transistors 3 and 4, and an external circuit 13 is connected to this output terminal 12.

【0004】このように構成される半導体集積回路にお
いては、内部出力信号S1 に応じてPMOSトランジ
スタ3及びNMOSトランジスタ4のいずれか一方がオ
ン状態になり、出力端子12及び信号線を介して外部出
力信号S2 が外部回路13に伝達される。
In the semiconductor integrated circuit configured as described above, either the PMOS transistor 3 or the NMOS transistor 4 is turned on in response to the internal output signal S1, and an external output is provided via the output terminal 12 and the signal line. Signal S2 is transmitted to external circuit 13.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体集積回路においては、外部出力信号S2
 の立ち上がり又は立ち下がりのスピードが約10n秒
以下と遅い場合は、伝送路の特性が外部出力信号S2 
に殆ど影響しないものの、信号のスピードが約10n秒
を超えて速くなると、伝送路の特性による外部出力信号
S2 への影響が無視できなくなる。即ち、LSIの出
力インピーダンスZ0 と外部回路13の入力インピー
ダンスZi とが不一致(不整合)となる場合、LSI
と外部回路13との間の伝送路上で外部出力信号S2 
に反射現象が生じ、その結果、外部出力信号S2 の出
力波形が乱れ、所謂オーバーシュート現象又はアンダー
シュート現象が発生するという問題点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in the conventional semiconductor integrated circuit described above, the external output signal S2
If the rising or falling speed of S2 is slow, approximately 10 ns or less, the characteristics of the transmission path are not suitable for external output signal S2.
However, when the signal speed increases beyond about 10 ns, the influence of the characteristics of the transmission path on the external output signal S2 cannot be ignored. That is, if the output impedance Z0 of the LSI and the input impedance Zi of the external circuit 13 do not match (mismatch), the LSI
The external output signal S2 is transmitted on the transmission path between the external circuit 13 and
There is a problem in that a reflection phenomenon occurs, and as a result, the output waveform of the external output signal S2 is disturbed, resulting in a so-called overshoot phenomenon or undershoot phenomenon.

【0006】図7及び図8は夫々図6に示す半導体集積
回路におけるオーバーシュート現象及びアンダーシュー
ト現象を示す波形図である。なお、図7は入力端子1に
ローレベルの内部出力信号S1 を入力したときの出力
端子12における外部出力信号S2 の波形を示し、図
8は入力端子1にハイレベルの内部出力信号S1 を入
力したときの出力端子12における外部出力信号S2 
の波形を示す。
FIGS. 7 and 8 are waveform charts showing overshoot and undershoot phenomena in the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 6, respectively. Note that FIG. 7 shows the waveform of the external output signal S2 at the output terminal 12 when the low-level internal output signal S1 is input to the input terminal 1, and FIG. 8 shows the waveform of the external output signal S2 at the output terminal 12 when the high-level internal output signal S1 is input to the input terminal 1. External output signal S2 at output terminal 12 when
The waveform of is shown.

【0007】この図7及び図8に示すように、信号スピ
ードが速くなると、外部出力信号S2 の波形は内部出
力信号S1 の波形に比して著しく変動する。このため
、LSIの内部出力信号S1 を外部回路13に正確に
伝達することができない。
As shown in FIGS. 7 and 8, as the signal speed increases, the waveform of the external output signal S2 changes significantly compared to the waveform of the internal output signal S1. Therefore, the internal output signal S1 of the LSI cannot be accurately transmitted to the external circuit 13.

【0008】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、高速動作時のインピーダンス不整合により
出力信号にオーバーシュート現象及びアンダーシュート
現象が発生することを防止できる半導体集積回路を提供
することを目的とする。
The present invention has been made in view of such problems, and provides a semiconductor integrated circuit that can prevent overshoot and undershoot phenomena from occurring in output signals due to impedance mismatch during high-speed operation. The purpose is to

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明に係る半導体集積
回路は、そのソースが出力バッファ回路の出力端に接続
されそのドレインが出力端子に接続された少なくとも1
個のデプレッション形MOSトランジスタと、このデプ
レッション形MOSトランジスタのゲート電圧を制御す
る電圧制御手段とを有することを特徴とする。
Means for Solving the Problems A semiconductor integrated circuit according to the present invention has at least one semiconductor integrated circuit whose source is connected to the output terminal of an output buffer circuit and whose drain is connected to an output terminal.
A depletion type MOS transistor, and a voltage control means for controlling the gate voltage of the depletion type MOS transistor.

【0010】0010

【作用】本発明においては、出力バッファ回路の出力端
と出力端子との間に少なくとも1個のデプレッション形
MOSトランジスタが接続されており、このデプレッシ
ョン形MOSトランジスタは所定の電圧制御手段により
ゲート電圧が制御される。このため、前記デプレッショ
ン形MOSトランジスタのゲート電圧を制御することに
より、前記出力バッファ回路の出力端と出力端子との間
の抵抗値を変化させることができる。これにより、前記
出力端子における半導体集積回路の出力インピーダンス
を変化させることができるので、半導体集積回路の出力
インピーダンスと前記出力端子に接続される外部回路の
入力インピーダンスとを整合させることができる。従っ
て、半導体集積回路の高速動作時においてインピーダン
ス不整合が生じることはなく、その出力信号にオーバー
シュート現象及びアンダーシュート現象が発生すること
を防止できる。
[Operation] In the present invention, at least one depletion type MOS transistor is connected between the output terminal and the output terminal of the output buffer circuit, and the gate voltage of this depletion type MOS transistor is controlled by a predetermined voltage control means. controlled. Therefore, by controlling the gate voltage of the depletion type MOS transistor, the resistance value between the output terminal and the output terminal of the output buffer circuit can be changed. Thereby, the output impedance of the semiconductor integrated circuit at the output terminal can be changed, so that the output impedance of the semiconductor integrated circuit and the input impedance of an external circuit connected to the output terminal can be matched. Therefore, impedance mismatch does not occur during high-speed operation of the semiconductor integrated circuit, and overshoot and undershoot phenomena can be prevented from occurring in the output signal.

【0011】[0011]

【実施例】次に、本発明の実施例について添付の図面を
参照して説明する。
Embodiments Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

【0012】図1は本発明の第1の実施例に係る半導体
集積回路を示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【0013】出力バッファ回路は以下に示すように構成
されている。電源VDDと接地GNDとの間には、PM
OSトランジスタ3及びNMOSトランジスタ4が直列
に接続されており、このトランジスタ3,4は駆動回路
2の出力により駆動する。駆動回路2は入力端子1とP
MOSトランジスタ3のゲートとの間に縦続接続された
インバータ2a,2b及び入力端子1とNMOSトラン
ジスタ4のゲートとの間に縦続接続されたインバータ2
c,2dにより構成されていて、入力端子1から入力さ
れるLSIの内部出力信号に応じて信号を発生させ、こ
の信号をトランジスタ3,4の各ゲートに供給する。な
お、トランジスタ3,4は負荷に対する駆動能力が同等
のものである。
The output buffer circuit is constructed as shown below. There is no PM between the power supply VDD and the ground GND.
An OS transistor 3 and an NMOS transistor 4 are connected in series, and these transistors 3 and 4 are driven by the output of the drive circuit 2. Drive circuit 2 has input terminal 1 and P
Inverters 2a and 2b are cascade-connected between the gate of the MOS transistor 3, and inverter 2 is cascade-connected between the input terminal 1 and the gate of the NMOS transistor 4.
2d, which generates a signal in response to an internal output signal of the LSI input from input terminal 1, and supplies this signal to each gate of transistors 3 and 4. Note that the transistors 3 and 4 have the same ability to drive a load.

【0014】デプレッション形NMOSトランジスタ5
はそのソースが出力信号線9を介してトランジスタ3,
4の相互接続点に接続され、そのドレインが出力端子6
に接続されている。デプレッション形NMOSトランジ
スタ5のゲートには制御電圧入力端子6が接続されてい
て、この制御信号入力端子6から入力される制御信号に
応じてデプレッション形NMOSトランジスタ5が駆動
する。制御信号入力端子6には分圧回路8が接続されて
いて、この分圧回路8は電源VDDと接地GNDとの間
に接続された可変抵抗器8aにより構成されており、0
乃至VDD(V)の任意の電圧を印加することが可能で
ある。なお、出力端子7には外部回路等が接続される。
Depletion type NMOS transistor 5
is connected to the transistor 3, whose source is connected to the transistor 3 via the output signal line 9.
4 and its drain is connected to the interconnection point of output terminal 6.
It is connected to the. A control voltage input terminal 6 is connected to the gate of the depletion type NMOS transistor 5, and the depletion type NMOS transistor 5 is driven in accordance with a control signal input from the control signal input terminal 6. A voltage dividing circuit 8 is connected to the control signal input terminal 6, and this voltage dividing circuit 8 is composed of a variable resistor 8a connected between the power supply VDD and the ground GND.
It is possible to apply any voltage between VDD (V) and VDD (V). Note that an external circuit or the like is connected to the output terminal 7.

【0015】次に、本実施例に係る半導体集積回路の動
作について説明する。例えば、外部回路としてLSI検
査装置(以下、テスターという)を接続した場合、通常
、テスターの入力インピーダンスは50Ωとなっている
が、LSIの出力インピーダンスは特に決まった値はな
く製品によって異なっている。例えば、LSIの出力イ
ンピーダンスが20Ωである場合、テスターとLSIと
の間のインピーダンス整合がとれていないので、前述の
如くLSIの出力波形に悪影響を及ぼす。
Next, the operation of the semiconductor integrated circuit according to this embodiment will be explained. For example, when an LSI testing device (hereinafter referred to as a tester) is connected as an external circuit, the input impedance of the tester is usually 50Ω, but the output impedance of the LSI has no fixed value and varies depending on the product. For example, when the output impedance of the LSI is 20Ω, impedance matching between the tester and the LSI is not achieved, which adversely affects the output waveform of the LSI as described above.

【0016】しかしながら、本実施例においては、LS
Iの出力バッファ回路の出力端、即ちトランジスタ3,
4の相互接続点と出力端子6との間にデプレッション形
NMOSトランジスタ5が設けられており、分圧回路8
の出力電圧によりデプレッション形NMOSトランジス
タ5のゲート電圧を制御できるようになっている。この
デプレッション形NMOSトランジスタ5のゲート電圧
を制御することにより、LSIの出力バッファ回路の出
力端と出力端子7との間の抵抗値を変化させることがで
きる。これにより、外部回路の入力インピーダンスとL
SIの出力インピーダンスとを整合させることができる
。このため、半導体集積回路の高速動作時においてイン
ピーダンス不整合が生じることはなく、その出力信号に
オーバーシュート現象及びアンダーシュート現象が発生
することを防止できる。
However, in this embodiment, the LS
The output terminal of the output buffer circuit of I, that is, the transistor 3,
A depletion type NMOS transistor 5 is provided between the interconnection point of 4 and the output terminal 6, and a voltage dividing circuit 8
The gate voltage of the depletion type NMOS transistor 5 can be controlled by the output voltage of the depletion type NMOS transistor 5. By controlling the gate voltage of this depletion type NMOS transistor 5, the resistance value between the output terminal of the output buffer circuit of the LSI and the output terminal 7 can be changed. As a result, the input impedance of the external circuit and L
It is possible to match the output impedance of the SI. Therefore, impedance mismatch does not occur during high-speed operation of the semiconductor integrated circuit, and overshoot and undershoot phenomena can be prevented from occurring in the output signal.

【0017】図2はデプレッション形NMOSトランジ
スタの電気的特性を示す波形図であって、縦軸がドレイ
ン・ソース間電流ID を示し、横軸がドレイン・ソー
ス間電圧VDSを示す。
FIG. 2 is a waveform diagram showing the electrical characteristics of a depletion type NMOS transistor, in which the vertical axis shows the drain-source current ID, and the horizontal axis shows the drain-source voltage VDS.

【0018】この図2に示すように、デプレッション形
NMOSトランジスタ5は非飽和領域(図2における破
線Aの左側)ではドレイン・ソース間電圧VDSに比例
してドレイン・ソース間電流ID が増加する。即ち、
デプレッション形NMOSトランジスタ5の抵抗値は非
飽和領域では一定である。しかしながら、ドレイン・ソ
ース間電圧VDSが一定であっても、ゲート電圧に印加
する電圧VGSを変化させることにより、ドレイン・ソ
ース間電流ID が変化し、デプレッション形NMOS
トランジスタ5の抵抗値が変化する。従って、デプレッ
ション形NMOSトランジスタ5のゲート電圧を制御す
ることにより、デプレッション形NMOSトランジスタ
5のソース・ドレイン間の抵抗値を変化させることがで
きる。なお、デプレッション形NMOSトランジスタ5
は飽和領域(図2における破線Aの右側)ではドレイン
・ソース間電圧VDSに拘らずドレイン・ソース間電流
ID が一定である。このため、デプレッション形NM
OSトランジスタ5の抵抗値は飽和領域ではドレイン・
ソース間電圧VDSに応じて変化する。
As shown in FIG. 2, in the depletion type NMOS transistor 5, the drain-source current ID increases in proportion to the drain-source voltage VDS in the non-saturation region (to the left of the broken line A in FIG. 2). That is,
The resistance value of the depletion type NMOS transistor 5 is constant in the non-saturation region. However, even if the drain-source voltage VDS is constant, by changing the voltage VGS applied to the gate voltage, the drain-source current ID changes, resulting in a depletion type NMOS.
The resistance value of transistor 5 changes. Therefore, by controlling the gate voltage of the depletion type NMOS transistor 5, the resistance value between the source and drain of the depletion type NMOS transistor 5 can be changed. Note that the depletion type NMOS transistor 5
In the saturation region (to the right of the broken line A in FIG. 2), the drain-source current ID is constant regardless of the drain-source voltage VDS. For this reason, depression type NM
In the saturation region, the resistance value of the OS transistor 5 is
It changes depending on the source-to-source voltage VDS.

【0019】図3は図1に示す半導体集積回路の出力バ
ッファ回路の入力端子1における入力電圧VINを示す
波形図、図4は入力電圧VINと出力線9における出力
応答電圧VOUT と間の入出力特性を示す波形図であ
る。なお、図4は出力バッファ回路の電源電圧及び接地
電圧を夫々VDD(V)及び0(V)としたときのもの
である。
FIG. 3 is a waveform diagram showing the input voltage VIN at the input terminal 1 of the output buffer circuit of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. FIG. 3 is a waveform diagram showing characteristics. Note that FIG. 4 is a diagram when the power supply voltage and ground voltage of the output buffer circuit are set to VDD (V) and 0 (V), respectively.

【0020】この図3及び図4から明らかなように、入
力端子1の入力電圧VINが0(V)からVDD(V)
に変化すると、出力線9の出力応答電圧VOUT は入
力電圧VINの変化に応じて連続的に変化する。このよ
うな出力応答電圧VOUT を出力端子7に接続される
外部回路に正確に伝達するには、出力応答電圧VOUT
 (=デプレッション形NMOSトランジスタ5のソー
スへの入力電圧)がVDD(V)から0(V)に変化し
ても、デプレッション形NMOSトランジスタ5の抵抗
値が一定でなければならない。従って、デプレッション
形NMOSトランジスタ5は非飽和領域(図2参照)で
使用する必要がある。
As is clear from FIGS. 3 and 4, the input voltage VIN of input terminal 1 varies from 0 (V) to VDD (V).
When the input voltage VIN changes, the output response voltage VOUT of the output line 9 changes continuously in accordance with the change in the input voltage VIN. In order to accurately transmit such an output response voltage VOUT to the external circuit connected to the output terminal 7, the output response voltage VOUT
Even if (=the input voltage to the source of the depletion type NMOS transistor 5) changes from VDD (V) to 0 (V), the resistance value of the depletion type NMOS transistor 5 must remain constant. Therefore, the depletion type NMOS transistor 5 must be used in a non-saturation region (see FIG. 2).

【0021】本実施例においては、例えば、LSIの出
力端子7に接続する外部回路の入力インピーダンスが約
50Ωである場合、デプレッション形NMOSトランジ
スタ5のゲート電圧が約4乃至5Vのときに出力インピ
ーダンス(抵抗値)が約50乃至100Ωになるように
設定する。この場合、分圧回路8の出力電圧を調整して
制御電圧入力端子6に適切な制御電圧を供給し、デプレ
ッション形NMOSトランジスタ5のゲート電圧を約4
Vに制御することにより、出力インピーダンスを約50
Ωにすることができる。これにより、外部回路の入力イ
ンピーダンスとLSIの出力インピーダンスとを整合さ
せることができる。なお、このとき、所定の箇所(例え
ば出力端子7)に測定器を接続し、このシステムを動作
させた状態で前記測定器により出力信号の波形を観測し
ながら制御電圧入力端子6への入力電圧を調整すれば、
より一層確実なインピーダンス整合が可能である。
In this embodiment, for example, when the input impedance of the external circuit connected to the output terminal 7 of the LSI is about 50Ω, the output impedance ( The resistance value is set to approximately 50 to 100Ω. In this case, the output voltage of the voltage divider circuit 8 is adjusted to supply an appropriate control voltage to the control voltage input terminal 6, and the gate voltage of the depletion type NMOS transistor 5 is set to approximately 4.
By controlling the output impedance to approximately 50 V
It can be made into Ω. Thereby, the input impedance of the external circuit and the output impedance of the LSI can be matched. At this time, a measuring device is connected to a predetermined location (for example, the output terminal 7), and while the system is operating, the input voltage to the control voltage input terminal 6 is measured while observing the waveform of the output signal with the measuring device. If you adjust
Even more reliable impedance matching is possible.

【0022】図5は本発明の第2の実施例に係る半導体
集積回路を示す回路図である。なお、本実施例は出力バ
ッファ回路の出力端と出力端子との間に複数個のデプレ
ッション形MOSトランジスタを設けたものであるので
、図5において図1と同一物には同一符号を付してその
部分の詳細な説明は省略する。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a plurality of depletion type MOS transistors are provided between the output terminal and the output terminal of the output buffer circuit, so in FIG. 5, the same components as those in FIG. 1 are given the same reference numerals. A detailed explanation of that part will be omitted.

【0023】デプレッション形NMOSトランジスタ5
a乃至5eはそのソースがトランジスタ3,4の相互接
続点に共通接続され、そのドレインが出力端子7に共通
接続されている。デプレッション形NMOSトランジス
タ5a乃至5eの各ゲートにはデコーダ10を介して制
御電圧入力端子6が接続されている。このデコーダ10
には選択信号入力端子11a乃至11cが接続されてお
り、デコーダ10は選択信号入力端子11a乃至11c
に入力される選択信号の組合せに応じて、デプレッショ
ン形NMOSトランジスタ5a乃至5eのいずれか1つ
に制御電圧を供給するようになっている。なお、デプレ
ッション形NMOSトランジスタ5a乃至5eは、各ゲ
ート電極に同条件の制御電圧を供給した場合に、その抵
抗値が相互に重複しないように設計され、LSI上に形
成されている。
Depletion type NMOS transistor 5
The sources a to 5e are commonly connected to the interconnection point of the transistors 3 and 4, and the drains are commonly connected to the output terminal 7. A control voltage input terminal 6 is connected to each gate of the depletion type NMOS transistors 5a to 5e via a decoder 10. This decoder 10
are connected to selection signal input terminals 11a to 11c, and the decoder 10 is connected to selection signal input terminals 11a to 11c.
A control voltage is supplied to any one of the depletion type NMOS transistors 5a to 5e depending on the combination of selection signals input to the . The depletion type NMOS transistors 5a to 5e are designed and formed on the LSI so that their resistance values do not overlap when the same control voltage is supplied to each gate electrode.

【0024】本実施例においては、出力端子7に接続さ
れる外部回路の入力インピーダンスが種々異なる場合に
おいても、選択信号入力端子11a乃至11cに入力す
る選択信号の組合せにより、適切な抵抗値を有するデプ
レッション形NMOSトランジスタを選択することがで
きる。そして、選択したデプレッション形NMOSトラ
ンジスタのゲート電圧を制御することにより、第1の実
施例に比して更に正確なインピーダンス整合が可能とな
るため、汎用性が高い。
In this embodiment, even if the input impedances of the external circuits connected to the output terminal 7 are different, an appropriate resistance value can be obtained by combining the selection signals input to the selection signal input terminals 11a to 11c. A depletion type NMOS transistor can be selected. Furthermore, by controlling the gate voltage of the selected depletion type NMOS transistor, more accurate impedance matching can be achieved than in the first embodiment, so this embodiment has high versatility.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、出
力バッファ回路と出力端子との間に少なくとも1個のデ
プレッション形MOSトランジスタを接続し、所定の電
圧制御手段により前記デプレッション形MOSトランジ
スタのゲート電圧を制御するから、半導体集積回路の出
力インピーダンスと前記出力端子に接続される外部回路
の入力インピーダンスとを整合させることができる。こ
のため、半導体集積回路の高速動作時においてインピー
ダンス不整合が生じることはなく、その出力信号にオー
バーシュート現象及びアンダーシュート現象が発生する
ことを防止できる。
As explained above, according to the present invention, at least one depletion type MOS transistor is connected between an output buffer circuit and an output terminal, and the depletion type MOS transistor is controlled by a predetermined voltage control means. Since the gate voltage is controlled, the output impedance of the semiconductor integrated circuit and the input impedance of the external circuit connected to the output terminal can be matched. Therefore, impedance mismatch does not occur during high-speed operation of the semiconductor integrated circuit, and overshoot and undershoot phenomena can be prevented from occurring in the output signal.

【0026】従って、本発明によれば、半導体集積回路
の出力信号を外部回路に正確に伝達することができ、安
定した高速動作を可能にすることができるという効果を
奏する。
Therefore, according to the present invention, the output signal of the semiconductor integrated circuit can be accurately transmitted to the external circuit, and stable high-speed operation can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の第1の実施例に係る半導体集積回路を
示す回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a first embodiment of the present invention.

【図2】デプレッション形NMOSトランジスタの電気
的特性を示す波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram showing electrical characteristics of a depletion type NMOS transistor.

【図3】図1に示す半導体集積回路の出力バッファ回路
の入力電圧を示す波形図である。
FIG. 3 is a waveform diagram showing the input voltage of the output buffer circuit of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1;

【図4】図1に示す半導体集積回路の出力バッファ回路
の入力電圧と出力応答電圧との間の入出力特性を示す波
形図である。
FIG. 4 is a waveform diagram showing input/output characteristics between the input voltage and the output response voltage of the output buffer circuit of the semiconductor integrated circuit shown in FIG. 1;

【図5】本発明の第2の実施例に係る半導体集積回路を
示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit according to a second embodiment of the present invention.

【図6】従来の半導体集積回路を示す回路図である。FIG. 6 is a circuit diagram showing a conventional semiconductor integrated circuit.

【図7】図6の半導体集積回路におけるオーバーシュー
ト現象を示す波形図である。
7 is a waveform diagram showing an overshoot phenomenon in the semiconductor integrated circuit of FIG. 6. FIG.

【図8】図6の半導体集積回路におけるアンダーシュー
ト現象を示す波形図である。
8 is a waveform diagram showing an undershoot phenomenon in the semiconductor integrated circuit of FIG. 6; FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1;入力端子 2;駆動回路 2a,2b,2c,2d;インバータ 3;PMOSトランジスタ 4;NMOSトランジスタ 5,5a乃至5e;デプレッション形MOSトランジス
タ 6;制御電圧入力端子 7,12;出力端子 8;分圧回路 8a;可変抵抗器 9;出力信号線 10;デコーダ 11a,11b,11c;選択信号入力端子13;外部
回路
1; Input terminal 2; Drive circuit 2a, 2b, 2c, 2d; Inverter 3; PMOS transistor 4; NMOS transistor 5, 5a to 5e; Depletion type MOS transistor 6; Control voltage input terminal 7, 12; Output terminal 8; Voltage circuit 8a; variable resistor 9; output signal line 10; decoder 11a, 11b, 11c; selection signal input terminal 13; external circuit

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  そのソースが出力バッファ回路の出力
端に接続されそのドレインが出力端子に接続された少な
くとも1個のデプレッション形MOSトランジスタと、
このデプレッション形MOSトランジスタのゲート電圧
を制御する電圧制御手段とを有することを特徴とする半
導体集積回路。
1. At least one depletion type MOS transistor whose source is connected to an output terminal of an output buffer circuit and whose drain is connected to an output terminal;
A semiconductor integrated circuit comprising voltage control means for controlling the gate voltage of the depletion type MOS transistor.
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