JPH0423633B2 - - Google Patents

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JPH0423633B2
JPH0423633B2 JP58172787A JP17278783A JPH0423633B2 JP H0423633 B2 JPH0423633 B2 JP H0423633B2 JP 58172787 A JP58172787 A JP 58172787A JP 17278783 A JP17278783 A JP 17278783A JP H0423633 B2 JPH0423633 B2 JP H0423633B2
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JP
Japan
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thin film
refractive index
film layer
heat ray
ray shielding
Prior art date
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JP58172787A
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Japanese (ja)
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JPS6064843A (en
Inventor
Tadayoshi Ito
Yasunori Taga
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Toyota Central R&D Labs Inc
Original Assignee
Toyota Central R&D Labs Inc
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Application filed by Toyota Central R&D Labs Inc filed Critical Toyota Central R&D Labs Inc
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Publication of JPS6064843A publication Critical patent/JPS6064843A/en
Publication of JPH0423633B2 publication Critical patent/JPH0423633B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/3411Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of inorganic materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/70Properties of coatings
    • C03C2217/73Anti-reflective coatings with specific characteristics
    • C03C2217/734Anti-reflective coatings with specific characteristics comprising an alternation of high and low refractive indexes

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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は熱線遮蔽積層体、特に多層膜の干渉に
よる色むら発生を防止しかつ可視域における透過
率を任意の値に設定可能な改良された熱線遮蔽積
層体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION Field of Industrial Application The present invention provides a heat ray shielding laminate, particularly an improved heat ray shielding layer that prevents the occurrence of color unevenness due to interference between multilayer films and allows the transmittance in the visible range to be set to an arbitrary value. Relating to a shielding laminate.

背景技術 可視光透過性基板、例えばガラス板あるいはプ
ラスチツク板は通常良好な可視光透過性を有する
が半面において可視領域より長波長側の光線(赤
外線)に対しても良好な透過性を有し、このため
基板を透過した熱線のエネルギーを適当な手段に
より処理する必要が種々生じていた。
BACKGROUND ART A visible light transmitting substrate, such as a glass plate or a plastic plate, usually has good visible light transmittance, but on the other hand, it also has good transmittance to light rays with wavelengths longer than the visible region (infrared rays). For this reason, it has become necessary to process the energy of the heat rays transmitted through the substrate by appropriate means.

例えば、この種の基板を自動車用ガラスに用い
た場合には、太陽光による室内温度上昇などが問
題となり、このため大容量の冷房装置を必要とす
る等の欠点があつた。
For example, when this type of substrate is used for automobile glass, there are problems such as an increase in indoor temperature due to sunlight, which has the disadvantage of requiring a large-capacity cooling device.

このため、従来よりこの種の基板に所定のコー
テイングを施して熱線を反射又は吸収しての遮蔽
を行うものが実用化されている。例えば、ガラ
ス、プラスチツクなどの透明な基板上に、赤外線
反射条件を満たす膜厚のTiO2又はCeO2などから
成る高屈折率透明誘電体薄膜層と、赤外線反射条
件を満たす膜厚約のSiO2、MgF2又はCeF3などか
ら成る低屈折率透明誘電体薄膜層とを交互に積層
した熱線遮蔽積層体が周知であり、この積層体は
優れた可視光透過性及び熱線反射特性を有するこ
とから、自動車及び建築物の窓ガラス及びその他
の用途に幅広く用いられている。
For this reason, it has conventionally been put into practical use that this type of substrate is coated with a predetermined coating to reflect or absorb heat rays and shield them. For example, on a transparent substrate such as glass or plastic, a high refractive index transparent dielectric thin film layer made of TiO 2 or CeO 2 with a thickness that satisfies infrared reflection conditions, and a SiO 2 film with a thickness of approximately A heat ray shielding laminate in which low refractive index transparent dielectric thin film layers made of , MgF 2 or CeF 3 are alternately laminated is well known, and this laminate has excellent visible light transmittance and heat ray reflection properties. It is widely used in automobile and building window glass and other applications.

しかし、この様な従来の熱線遮蔽積層体は、基
板表面に積層された多層膜内において光干渉作用
による色むらが生じ該積層体を自動車、建築物用
のガラス上に成膜し使用すると、反射光による周
辺環境への光公害を引き起し、更にガラス表面の
色釈が周囲の者に不快感を与える等の問題を引き
起しその有効な対策が望まれていた。
However, in such conventional heat ray shielding laminates, color unevenness occurs due to light interference in the multilayer film laminated on the surface of the substrate, and when the laminate is used as a film on glass for automobiles and buildings, Reflected light causes light pollution to the surrounding environment, and furthermore, the discoloration of the glass surface causes discomfort to people nearby, and effective countermeasures have been desired.

また、熱線遮蔽の対象となる太陽光の熱エネル
ギーは可視域に約50パーセント、赤外域に約50パ
ーセント存在している。従つて、熱線遮蔽積層体
の可視光透過率を向上することはその半面ガラス
基板を介して熱エネルギーの内部への侵入を増加
につながる。
Additionally, approximately 50% of the solar thermal energy that is subject to heat ray shielding exists in the visible range and 50% in the infrared range. Therefore, improving the visible light transmittance of the heat ray shielding laminate leads to an increase in the penetration of thermal energy into the interior through the half glass substrate.

しかし、従来の熱線遮蔽積層体は、赤外域の熱
エネルギーを効率良く遮蔽するが、可視域の熱エ
ネルギーはほとんどこれを透過させてしまい、そ
のため熱線遮蔽特性に限界があるという欠点があ
つた。
However, although conventional heat ray shielding laminates efficiently shield thermal energy in the infrared region, most of the thermal energy in the visible region is transmitted through them, which has the drawback of limiting their heat ray shielding properties.

特に近年自動車、建築物用の窓ガラス等を介し
て侵入する太陽光熱エネルギーを極力遮蔽し、熱
負荷の低域を図ろうとする動きが非常に活発であ
るが、従来の熱線遮蔽積層体では、以上説明した
ような熱線遮蔽効果の限界があり、その有効な対
策が望まれていた。
In particular, in recent years there has been a very active movement to reduce the heat load by shielding as much as possible the solar heat energy that enters through the window glass of automobiles and buildings, but with conventional heat ray shielding laminates, As explained above, there is a limit to the heat ray shielding effect, and effective countermeasures have been desired.

発明の目的 本発明はこの様な従来の課題に鑑み為されたも
のであり、その目的は、多層膜の干渉による色む
らの発生を防止し、かつ使用目的に応じて可視光
透過率を任意の値に設定可能な熱線遮蔽積層体を
提供することにある。
Purpose of the Invention The present invention was made in view of the above-mentioned conventional problems, and its purpose is to prevent the occurrence of color unevenness due to interference in multilayer films, and to adjust the visible light transmittance to any value depending on the purpose of use. The object of the present invention is to provide a heat ray shielding laminate that can be set to a value of .

発明の構成 本発明の積層体は、可視光透過性基板の熱源側
表面に、可視光透過性物質からなる高屈折率薄膜
層及び低屈折率薄膜層を交互に積層し、最表面の
薄膜層は低屈折率薄膜層とするとともに低屈折率
薄膜層に所定の金属を添加し、可視光透過率を任
意の値に設定することを特徴とする。
Structure of the Invention The laminate of the present invention has high refractive index thin film layers and low refractive index thin film layers made of a visible light transparent material alternately laminated on the heat source side surface of a visible light transparent substrate, and the outermost thin film layer is characterized by forming a low refractive index thin film layer, adding a predetermined metal to the low refractive index thin film layer, and setting the visible light transmittance to an arbitrary value.

この様に本発明によれば、低屈折率薄膜層に所
定の金属を添加することにより赤外域の干渉反射
特性を維持しつつ、可視域の透過率をその使用目
的に応じて任意の値に設定することが可能とな
る。
As described above, according to the present invention, by adding a predetermined metal to the low refractive index thin film layer, while maintaining the interference reflection characteristics in the infrared region, the transmittance in the visible region can be adjusted to any value depending on the purpose of use. It becomes possible to set.

また、この際添加する金属の種類及び状態を制
御することにより積層体表面の色合いを調整し該
積層体の設けられたガラス基板などの付加価値を
向上することが可能となる。
Furthermore, by controlling the type and state of the metal added at this time, it is possible to adjust the color tone of the surface of the laminate and improve the added value of the glass substrate or the like on which the laminate is provided.

実施例 次に本発明の好適な実施例を図面に基づき説明
する。
Embodiments Next, preferred embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

本発明は、可視光透過性基板の熱源側表面に、
可視光透過性物質から成る高屈折率薄膜層と、可
視光透過性物質から成る低屈折率薄膜とを交互に
積層して熱線遮蔽積層体を形成したものである。
In the present invention, on the heat source side surface of the visible light transmitting substrate,
A heat ray shielding laminate is formed by alternately laminating high refractive index thin film layers made of a visible light transparent material and low refractive index thin films made of a visible light transparent material.

実施例において可視光透過性基板は、例えばガ
ラスやプラスチツク等からなり、該基板の熱源側
表面に被覆された各高屈折率薄膜層は、赤外線反
射条件を満たす膜厚のTiO2、CeO2、ZnS、CdS
又はZrO2を用いて形成されている。また、この
高屈折率薄膜層と交互に積層される低屈折率薄膜
層は、赤外線反射条件を満たす膜厚のSiO2
MgF2、LiF、CeF3又はCaF2を用いて形成されて
いる。
In the examples, the visible light transmitting substrate is made of, for example, glass or plastic, and each high refractive index thin film layer coated on the heat source side surface of the substrate is made of TiO 2 , CeO 2 , ZnS, CdS
Or it is formed using ZrO 2 . In addition, the low refractive index thin film layers, which are alternately laminated with the high refractive index thin film layers, are made of SiO 2 with a film thickness that satisfies the infrared reflection condition.
It is formed using MgF 2 , LiF, CeF 3 or CaF 2 .

本発明の第1の特徴的事項はこの様にして交互
に積層された多層膜の最表面薄膜層を低屈折率薄
膜層とすることにある。
The first characteristic feature of the present invention is that the outermost thin film layer of the multilayer films alternately laminated in this manner is a low refractive index thin film layer.

実施例において、この最表面の低屈折率薄膜層
は、可視光の反射防止条件を満たす膜厚のSiO2
MgF2、LiF、CeF3又はCaF2を用いて形成されて
いる。
In the example, this low refractive index thin film layer on the outermost surface is made of SiO 2 with a film thickness that satisfies the anti-reflection condition for visible light;
It is formed using MgF 2 , LiF, CeF 3 or CaF 2 .

以上の構成とすることにより、本発明の熱線遮
蔽積層体は、赤外線反射率をほとんど低下させる
ことなく、多層膜の干渉反射による色むらの発生
を抑制することが可能となる。
With the above configuration, the heat ray shielding laminate of the present invention can suppress the occurrence of color unevenness due to interference reflection of the multilayer film without substantially reducing the infrared reflectance.

基本構成例 第1図には本発明の熱線遮蔽積層体の基本構成
例が示されている。この例の熱線遮蔽積層体は、
厚さ0.8mm、屈折率約1.5でかつ可視域及び近赤外
線領域で透明なコーニング社製No.7059ガラスから
成る基板10の熱源側表面に、TiO2から成る高
屈折率薄膜層20,22,24とSiO2から成る
低屈折率薄膜層30,32とを交互に積層被覆
し、最表面に更にSiO2から成る低屈折率薄膜層
40を干渉反射防止層として積層被覆して、計6
層の多層膜構造に形成されている。
Basic Configuration Example FIG. 1 shows a basic configuration example of the heat ray shielding laminate of the present invention. The heat ray shielding laminate in this example is
On the heat source side surface of the substrate 10 made of Corning No. 7059 glass with a thickness of 0.8 mm and a refractive index of about 1.5 and transparent in the visible and near-infrared regions, high refractive index thin film layers 20, 22, made of TiO2 , 24 and low refractive index thin film layers 30 and 32 made of SiO 2 are alternately laminated and coated, and a low refractive index thin film layer 40 made of SiO 2 is further laminated and coated on the outermost surface as an interference anti-reflection layer.
It is formed into a multilayer film structure.

ここにおいて各薄膜層20,22,24,3
0,32,40の膜厚は、予め実測したTiO2
あるいはSiO2膜の屈折率及び干渉反射しようと
する赤外線の中心波長(λ=1000nm)などを考
慮して、計算機シユミレーシヨンにより推定さ
れ、TiO2薄膜層20,22,24は103±5nmの
範囲に設定され、同様にSiO2薄膜層30,32
は172±8nm、最表面のSiO2薄膜層40は86±5n
mの範囲に設定されている。
Here, each thin film layer 20, 22, 24, 3
The film thicknesses of 0, 32, and 40 were estimated by computer simulation, taking into account the previously measured refractive index of the TiO 2 film or SiO 2 film and the center wavelength (λ = 1000 nm) of the infrared rays to be interfered and reflected. The TiO 2 thin film layers 20, 22, 24 are set to a range of 103±5 nm, and the SiO 2 thin film layers 30, 32 are similarly set to a range of 103±5 nm.
is 172±8nm, and the outermost SiO 2 thin film layer 40 is 86±5nm.
The range is set to m.

この例の熱線遮蔽積層体の製造に際しては、基
板10はRFスパツタ法により十分に洗浄される。
その後、該基板10表面に高屈折率薄膜層20,
22,24及び低屈折率薄膜層30,32,40
が交互に順次積層被覆して形成される。
In manufacturing the heat ray shielding laminate of this example, the substrate 10 is thoroughly cleaned by RF sputtering.
Thereafter, a high refractive index thin film layer 20,
22, 24 and low refractive index thin film layers 30, 32, 40
are formed by alternately and sequentially laminating them.

ここにおいて、高屈折率薄膜層20、すなわち
TiO2薄膜層は、TiO2ターゲツトを用い、5パー
セントの酸素を含む全圧2×10-2TORRのアルゴ
ン雰囲気中で特別な基板加熱をせずにRFスパツ
タ法により形成される。
Here, the high refractive index thin film layer 20, i.e.
The TiO 2 thin film layer is formed by RF sputtering using a TiO 2 target in an argon atmosphere containing 5 percent oxygen and a total pressure of 2×10 −2 TORR without any special substrate heating.

また、低屈折率薄膜層30、すなわちSiO2
膜層は、高屈折率薄膜層20の形成後、その真空
を破ることなく、TiO2膜の成膜条件と同一の条
件の下で、SiO2ターゲツトを用いて形成される。
Furthermore, after the formation of the high refractive index thin film layer 20, the low refractive index thin film layer 30, that is, the SiO 2 thin film layer, is formed using SiO 2 under the same conditions as the TiO 2 film forming conditions without breaking the vacuum. created using a target.

この様な成膜手順を繰返し、基板10上に
TiO2から成る高屈折率薄膜層20,22,24
及びSiO2から成る低屈折率薄膜層30,32,
40を順次積層被覆してTiO2/SiO26層膜を形成
する。
By repeating this film forming procedure, the film is formed on the substrate 10.
High refractive index thin film layers 20, 22, 24 made of TiO 2
and low refractive index thin film layers 30, 32, made of SiO 2 ,
40 is sequentially laminated and coated to form a six-layer TiO 2 /SiO 2 film.

第2図には、この様にして形成されたこの例の
熱線遮蔽積層体の分光特性、すなわち波長に対す
る透過率の特性が示されている。
FIG. 2 shows the spectral characteristics, that is, the transmittance characteristics with respect to wavelength, of the heat ray shielding laminate of this example formed in this manner.

比較例 次に、本発明の熱線遮蔽積層体の特性を、従来
の熱線遮蔽積層体の特性と対比して説明する。
Comparative Example Next, the characteristics of the heat ray shielding laminate of the present invention will be explained in comparison with the characteristics of a conventional heat ray shielding laminate.

第3図には、従来の熱線遮蔽積層体が示されて
おり、この熱線遮蔽積層体は、前記第1図に示す
実施例と同一のガラス基板10の熱源側表面に本
実施例の場合と同一の高屈折率薄膜層20,2
2,24及び低屈折率薄膜層30,32を交互に
5層積層被覆して形成されている。従つて、この
従来の熱線遮蔽積層体は、その最表面に高屈折率
薄膜層24が積層被覆して形成されている。
FIG. 3 shows a conventional heat ray shielding laminate, and this heat ray shielding laminate is attached to the heat source side surface of the same glass substrate 10 as in the embodiment shown in FIG. Same high refractive index thin film layer 20, 2
2 and 24 and low refractive index thin film layers 30 and 32 are alternately laminated and coated in five layers. Therefore, this conventional heat ray shielding laminate is formed with a high refractive index thin film layer 24 laminated and coated on its outermost surface.

ここにおいて、各薄膜層20,22,24およ
び30,32の膜厚及び製法は前記第1図に示す
本発明の実施例と同じである。
Here, the thickness and manufacturing method of each thin film layer 20, 22, 24 and 30, 32 are the same as in the embodiment of the present invention shown in FIG. 1 above.

第4図には、前記第3図に示す比較例の分光特
性すなわち波長に対する透過率特性が示されてい
る。
FIG. 4 shows the spectral characteristics of the comparative example shown in FIG. 3, that is, the transmittance characteristics with respect to wavelength.

第4図に示す比較例の分光特性から従来の熱線
遮蔽積層体は380〜780nmの可視域の平均透過率
が約81パーセント程度でかつ1000nmにおける赤
外線反射率が約86パーセントの良好な熱線反射特
性を有することが理解される。
From the spectral characteristics of the comparative example shown in Figure 4, the conventional heat ray shielding laminate has good heat ray reflection properties with an average transmittance of about 81% in the visible range from 380 to 780 nm and an infrared reflectance of about 86% at 1000 nm. It is understood that

しかしこの熱線遮蔽積層体は、第4図に示すご
とく可視域内において透過率の変動が見られる。
ここにおいて、高屈折率薄膜層20,22,24
を形成するTiO2薄膜及び低屈折率薄膜層30,
32を形成するSiO2薄膜自体には、可視光に対
しなんらの吸収特性がないので第4図に見られる
透過率の極小は反射率の極大を意味する。
However, as shown in FIG. 4, this heat ray shielding laminate exhibits variations in transmittance within the visible range.
Here, high refractive index thin film layers 20, 22, 24
TiO 2 thin film and low refractive index thin film layer 30 forming
Since the SiO 2 thin film forming 32 itself does not have any absorption characteristics for visible light, the minimum transmittance shown in FIG. 4 means the maximum reflectance.

この様に、従来の熱線遮蔽積層体は、可視域の
特定な波長の光を反射するため、多層膜表面に色
むらの発生を引起こし、従つてこの様な熱線遮蔽
積層体を自動車、建築用ガラス上に成膜し使用す
る場合に、該色むらの発生は、反射光による周辺
環境への光公害を引起こし、時としてガラス表面
の色彩が不快感を与える色彩となり膜の付加価値
低下を引起こしていた。
In this way, conventional heat ray shielding laminates reflect light of specific wavelengths in the visible range, causing color unevenness on the multilayer film surface. When a film is formed and used on commercial glass, the occurrence of color unevenness causes light pollution to the surrounding environment due to reflected light, and sometimes the color of the glass surface becomes unpleasant, reducing the added value of the film. was causing

これに対し、基本構成例の熱線遮蔽積層体は、
第2図に示す分光特性からも明らかなごとく、
380〜780nmの可視域においてほぼフラツトな透
過率を示すため色むらの発生が十分抑制されてい
る。また、可視光透過率も平均91パーセント以上
を示し、更に赤外線反射率は1000nmで83パーセ
ントを維持している。
On the other hand, the heat ray shielding laminate of the basic configuration example is
As is clear from the spectral characteristics shown in Figure 2,
Since it exhibits a substantially flat transmittance in the visible range of 380 to 780 nm, the occurrence of color unevenness is sufficiently suppressed. The visible light transmittance also shows an average of 91% or more, and the infrared reflectance maintains 83% at 1000 nm.

この様に、本発明の熱線遮蔽積層体では、最表
面の薄膜層を低屈折率薄膜層40とすることによ
り、赤外線反射率をほとんど低下させることなく
可視光の透過率を向上させ、しかも色むらの発生
を効果的に抑制できるので例えば、自動車、建築
物窓ガラス及びその他の用途に幅広く適用可能で
あることが理解される。
As described above, in the heat ray shielding laminate of the present invention, by making the outermost thin film layer the low refractive index thin film layer 40, the visible light transmittance is improved without substantially reducing the infrared reflectance, and the color It is understood that since the occurrence of unevenness can be effectively suppressed, it can be widely applied to, for example, automobiles, building window glass, and other uses.

実施例 次に本発明の実施例を図面に基づき説明する。Example Next, embodiments of the present invention will be described based on the drawings.

本基本構成例は、前記実施例と同様に可視光透
過性基板の熱源側表面に、可視光透過性物質から
成る高屈折率薄膜層及び低屈折率薄膜層を交互に
積層し、最表面の薄膜層は低屈折率薄膜層とする
ものである。
In this basic configuration example, high refractive index thin film layers and low refractive index thin film layers made of a visible light transparent material are alternately laminated on the heat source side surface of a visible light transparent substrate, as in the above embodiment, and The thin film layer is a low refractive index thin film layer.

本発明の特徴的事項は、この様にして形成され
た薄膜層の、低屈折率薄膜層に所定金属を添加し
たことにある。
A feature of the present invention is that a predetermined metal is added to the low refractive index thin film layer of the thin film layer formed in this manner.

この様に、低屈折率薄膜層に異種金属元素を添
加することにより、該金属添加量又は金属が添加
された薄膜層の成膜条件を調整し熱線遮蔽積層体
の可視光透過率を任意の値に設定することが可能
となる。
In this way, by adding a different metal element to a low refractive index thin film layer, the visible light transmittance of the heat ray shielding laminate can be adjusted to an arbitrary value by adjusting the amount of the metal added or the deposition conditions of the thin film layer to which the metal is added. It is possible to set it to a value.

特に、低屈折率薄膜層に金属元素を添加したた
め、金属元素の添加による可視光吸収波長の設定
自由度が大きくなり、透過光の色調を任意のもの
に設定することができる。
In particular, since a metal element is added to the low refractive index thin film layer, the degree of freedom in setting the visible light absorption wavelength is increased by adding the metal element, and the color tone of transmitted light can be set to an arbitrary value.

ここにおいて、低屈折率薄膜層に添加する金属
としては、Ag、Pd、Au、Co、Fe、又はCuなど
の金属元素が好適であり、実施例においてはこの
様な金属元素の添加量を1〜10aパーセントの範
囲で調整し、可視光透過率を任意の値に設定して
いる。
Here, the metal added to the low refractive index thin film layer is preferably a metal element such as Ag, Pd, Au, Co, Fe, or Cu, and in the examples, the amount of such metal element added is 1. The visible light transmittance is set to an arbitrary value by adjusting in the range of ~10A%.

第5図には、この様な本発明の具体的な実施例
が示されており、実施例の熱線遮蔽積層体は、ガ
ラス基板10の熱源側表面に可視光透過性物質か
らなる高屈折率薄膜層20,22,24及び低屈
折率薄膜層30,32,40を交互に6層積層
し、前記実施例同様最表面の薄膜層40を低屈折
率薄膜層としたものである。
FIG. 5 shows such a specific embodiment of the present invention, and the heat ray shielding laminate of the embodiment has a high refractive index made of a visible light transmitting material on the heat source side surface of the glass substrate 10. Six thin film layers 20, 22, 24 and low refractive index thin film layers 30, 32, 40 are alternately laminated, and the outermost thin film layer 40 is the low refractive index thin film layer as in the previous embodiment.

ここにおいて、基板10及び各薄膜の20,2
2,24及び30,32,40構成、材料等は基
本的に前記第1図に示す実施例の場合と同様であ
り、従つて高屈折率薄膜層20,22,24は
TiO2薄膜層からなり、低屈折率薄膜層30,3
2,40はSiO2薄膜層となる。
Here, the substrate 10 and each thin film 20, 2
The configurations, materials, etc. of 2, 24 and 30, 32, 40 are basically the same as those of the embodiment shown in FIG.
Consisting of TiO 2 thin film layer, low refractive index thin film layer 30,3
2 and 40 are SiO 2 thin film layers.

本実施例の特徴的事項は、SiO2からなる低屈
折率薄膜層30,32及び40内に、1atパーセ
ントの金属Agを添加したことにある。
A feature of this embodiment is that 1 at percent metal Ag is added to the low refractive index thin film layers 30, 32, and 40 made of SiO2 .

実施例の熱線遮蔽積層体の製造に際しては、基
板10上に、TiO2ターゲツトを用いたRFスパツ
タ法により5パーセントの酸素を含む全圧2×
10-2TORRのアルゴン雰囲気中でTiO2からなる
高屈折率薄膜層20を膜厚103±5nmの範囲で成
膜する。
In manufacturing the heat ray shielding laminate of the example, a total pressure of 2× containing 5% oxygen was deposited on the substrate 10 by RF sputtering using a TiO 2 target.
A high refractive index thin film layer 20 made of TiO 2 is formed in a film thickness range of 103±5 nm in an argon atmosphere of 10 -2 TORR.

これに続いて、真空を破ることなく、SiO2
ーゲツト上に金属片Agを面積比で1対0.0017の
割合で均一に配置し、5パーセントの酸素を含む
アルゴン雰囲気中でRFスパツタし、Agを約1at
パーセント含有する低屈折率薄膜層、すなわち
SiO2薄膜層30を膜厚約172±8nmの範囲で成膜
する。
Following this, without breaking the vacuum, metal pieces of Ag were uniformly placed on the SiO 2 target at an area ratio of 1:0.0017, and RF sputtering was performed in an argon atmosphere containing 5% oxygen to remove the Ag. Approximately 1at
A low refractive index thin film layer containing percent i.e.
A SiO 2 thin film layer 30 is formed to a thickness of about 172±8 nm.

この様な成膜動作を繰返し、基板10の表面に
高屈折率薄膜層20,22,24及び金属元素
Agを含む低屈折率薄膜層30,32,40を交
互に積層被覆する。
By repeating this film forming operation, the high refractive index thin film layers 20, 22, 24 and the metal element are formed on the surface of the substrate 10.
Low refractive index thin film layers 30, 32, and 40 containing Ag are alternately laminated and coated.

なお、最表面の低屈折率薄膜層40はその膜厚
が前記実施例の場合と同様86±5nmの範囲で成
膜される。
Note that the low refractive index thin film layer 40 on the outermost surface is formed to have a thickness within the range of 86±5 nm as in the above embodiment.

第6図にはこの様にして形成された本実施例の
熱線遮蔽積層体の分光特性、すなわち波長に対す
る透過率特性が示されている。
FIG. 6 shows the spectral characteristics, that is, the transmittance characteristics with respect to wavelength, of the heat ray shielding laminate of this example formed in this manner.

同図からも明らかなように、本実施例によつて
得られた熱線遮蔽積層体は、約1000nmにおける
赤外線反射率を損うことなく、しかも波長380〜
780nmの可視域における透過率がほぼフラツト
であり、透過率変動により引き起される色むらを
効果的に抑制することができる。
As is clear from the figure, the heat ray shielding laminate obtained in this example does not impair the infrared reflectance at about 1000 nm, and the wavelength range is 380 nm to 380 nm.
The transmittance in the visible range of 780 nm is almost flat, and color unevenness caused by transmittance fluctuations can be effectively suppressed.

これに加え、本実施例の熱線遮蔽積層体では、
可視域の平均透過率を77パーセントまで抑制する
ことが理解される。
In addition to this, in the heat ray shielding laminate of this example,
It is understood that the average transmittance in the visible range is suppressed by up to 77%.

すなわち、本実施例のごとく、低屈折率薄膜層
30,32,40に1atパーセント金属を添加し
た熱線遮蔽積層体では、これら金属を何等添加し
ない前記基本構成例の積層体に比し、可視光透過
率が約14パーセント以上低下し、可視域に含まれ
る熱エネルギーの遮蔽率が14パーセント以上向上
していることが理解される。
That is, in the heat ray shielding laminate in which 1 at percent metal is added to the low refractive index thin film layers 30, 32, and 40 as in this example, the visible light is lower than that in the laminate of the basic configuration example described above in which no metal is added. It is understood that the transmittance has decreased by about 14% or more, and the shielding rate for thermal energy contained in the visible range has improved by more than 14%.

なお、この様な可視光透過率の低下は主として
金属Agを含む低屈折率薄膜層30,32,40
の吸収により生じている。このため、この熱吸収
がこれら各薄膜層30,32,40、すなわちガ
ラス基板10の表面温度の上昇を招き熱線反射特
性を若干低下させることも考えられるが、この様
な熱線反射特性の低下は実用上全く問題とはなら
ず無視することができる。
Note that this decrease in visible light transmittance is mainly due to the low refractive index thin film layers 30, 32, 40 containing metal Ag.
This is caused by the absorption of Therefore, it is conceivable that this heat absorption causes an increase in the surface temperature of each of these thin film layers 30, 32, 40, that is, the glass substrate 10, and slightly reduces the heat ray reflection characteristics. This does not pose any practical problem and can be ignored.

この様に、本発明によれば、低屈折率薄膜層3
0,32,40を成膜するに際し添加する金属添
加量及び成膜中のガス組成を制御することにより
その可視光透過率を任意の値に設定することが可
能であり、例えばSiO2膜厚を430nmとしこれに
添加するAg量を1atパーセントから10atパーセン
トに増加することにより、その可視光透過率を75
〜30パーセントの範囲で制御することができる。
Thus, according to the present invention, the low refractive index thin film layer 3
It is possible to set the visible light transmittance to an arbitrary value by controlling the amount of metal added when forming SiO 2 , 32, and 40 films and the gas composition during film formation. By increasing the amount of Ag added to 430nm from 1at% to 10at%, the visible light transmittance can be increased to 75nm.
Can be controlled in the range of ~30%.

従つて、本発明の熱線遮蔽積層体は、該積層体
が被覆されるガラス基板の目的及び用途に応じて
可視光透過率を任意の値に設定することが可能で
ありその応用は極めて広範囲であると言える。
Therefore, the visible light transmittance of the heat ray shielding laminate of the present invention can be set to any value depending on the purpose and use of the glass substrate covered with the laminate, and its application is extremely wide. I can say that there is.

例えば、自動車用ムーンルーフ、建築用窓ガラ
スの可視光透過率には法定基準はなく、むしろ車
室内、住居内の秘密を守る目的からは可視光透過
率が50パーセント以下の方が望ましい場合もあ
る。この様な場合に、本発明による熱線遮蔽積層
体を用いれば、可視光透過率が所望の値に設定さ
れた熱線遮蔽ガラスを得ることができる。
For example, there is no legal standard for the visible light transmittance of automobile moonroofs and architectural window glass; in fact, it may be desirable for the visible light transmittance to be 50% or less for the purpose of protecting the secrets of the interior of a vehicle or residence. be. In such a case, by using the heat ray shielding laminate according to the present invention, it is possible to obtain a heat ray shielding glass whose visible light transmittance is set to a desired value.

また、この様にして得られた熱線遮蔽ガラスは
前述したごとく優れた赤外線遮蔽特性を有し、更
に可視域での熱線も任意の割合で遮蔽できること
から車室内、住居内の冷房熱負荷の低減に優れた
効果を発揮することが可能となる。
In addition, the heat ray shielding glass obtained in this way has excellent infrared shielding properties as mentioned above, and can also shield heat rays in the visible range at any rate, reducing the heat load for cooling inside vehicles and residences. It becomes possible to exhibit excellent effects.

また、本実施例のように低屈折率薄膜層30,
32,40に金属Agが添加された熱線遮蔽積層
体は、全体として美しいブロンズ色を呈すること
が実験より確認された。
Further, as in this embodiment, the low refractive index thin film layer 30,
It was confirmed through experiments that the heat ray shielding laminate in which metal Ag was added to Nos. 32 and 40 exhibited a beautiful bronze color as a whole.

この着色機構は低屈折率薄膜層30,32,4
0、すなわちSiO2薄膜中に分散するAg粒子によ
る吸収作用に基因すると推定され、この様にして
得られた色調は、自動車用ブロンズガラスのそれ
と酷似しており深みのある格調を有することから
その利用価値は非常に高いものと考えられる。
This coloring mechanism is based on the low refractive index thin film layers 30, 32, 4.
0, that is, it is presumed to be due to the absorption effect of Ag particles dispersed in the SiO 2 thin film, and the color tone obtained in this way is very similar to that of bronze glass for automobiles, and has a deep and dignified appearance. The utility value is considered to be very high.

すなわち、ここ2〜3年ブロンズ色ガラスを装
備した自動車は急増する傾向にあり高級車のシン
ボルとなりつつある。半面、現実にはガラス素材
に極微量のSe、Cd等を添加して着色する号口ブ
ロンズガラスは、色調の統一が困難なこと、添加
物の歩留が不安定であることから非常に高価なも
のとなつている。
In other words, the number of cars equipped with bronze-colored glass has been rapidly increasing in the past few years, and they are becoming a symbol of luxury cars. On the other hand, in reality, bronze glass, which is colored by adding minute amounts of Se, Cd, etc. to the glass material, is very expensive because it is difficult to unify the color tone and the yield of additives is unstable. It has become a thing.

しかし、前述したように本実施例の熱線遮蔽積
層体では、従来の自動車用ブロンズガラスとほぼ
同様の色調を有し、かつ安全運転上自動車用窓ガ
ラスに求められる可視光透過率の最低基準75パー
セントを十分に上回つている。従つて、本実施例
の熱線遮蔽積層体をガラス表面に積層被覆するだ
けで、号口の自動車用ブロンズガラスと全く遜色
のない格調を有し、高級感溢れた自動車用ガラス
を得ることができる。
However, as mentioned above, the heat ray shielding laminate of this example has almost the same color tone as conventional bronze glass for automobiles, and also has a visible light transmittance of 75, which is the minimum standard required for automobile window glass for safe driving. well above the percentage. Therefore, by simply laminating and coating the glass surface with the heat ray shielding laminate of this example, it is possible to obtain automotive glass that has a classy feel that is completely comparable to the bronze automotive glass mentioned above. .

更に、本発明においては、低屈折率薄膜層に添
加する金属、実施例においてはAgの添加量を制
御することにより再現性よくその色調を揃えるこ
とが可能であり、かつ単に薄膜をガラス表面に積
層被覆することによりこれらの色調を得ることが
できることから、本発明の熱線遮蔽積層体を自動
車用ブロンズガラスに適用した場合には、従来の
自動車用ブロンズガラスを製造する場合に比し大
幅なコストダウンを図ることが可能となる。
Furthermore, in the present invention, by controlling the amount of metal added to the low refractive index thin film layer, in the example, Ag, it is possible to make the color tone uniform with good reproducibility, and by simply applying the thin film to the glass surface. Since these color tones can be obtained by laminated coating, when the heat ray shielding laminate of the present invention is applied to bronze glass for automobiles, the cost is significantly lower than when manufacturing conventional bronze glass for automobiles. It becomes possible to aim down.

また、本実施例において、低屈折率薄膜層3
0,32,40、すなわちSiO2薄膜中に添加さ
れた金属Agを顕微鏡により観察すると、該金属
Agは大きさが約1nm程度の粒子として分散して
おりその量も少ないことが確認され、従つてこの
様にSiO2薄膜中に金属Agを添加することはSiO2
薄膜の耐食性、耐摩性、耐熱性に全く影響を与え
ず実用上差支えないことが理解される。
In addition, in this example, the low refractive index thin film layer 3
0,32,40, that is, when the metal Ag added to the SiO 2 thin film is observed with a microscope, the metal
It has been confirmed that Ag is dispersed as particles with a size of about 1 nm and the amount thereof is small. Therefore, adding metallic Ag to the SiO 2 thin film in this way does not
It is understood that it does not affect the corrosion resistance, abrasion resistance, and heat resistance of the thin film at all, and there is no problem in practical use.

しかし、本実施例の熱線遮蔽積層体が特別激し
い環境下で使用される場合には、前述したよう
に、各SiO2薄膜30,32,40の全てに均一
に金属Agを分散させず、ガラス基板10に近い
SiO2薄膜中にのみ金属Agを添加することが好ま
しい。例えばガラス基板10に近いSiO2薄膜3
0中にのみ3atパーセントのAgを添加すれば、約
170nmのSiO2薄膜で1atパーセントのAgを含む
430nmのSiO2薄膜に相当する透過率を得ること
ができる。
However, when the heat ray shielding laminate of this embodiment is used in a particularly harsh environment, as mentioned above, metal Ag is not uniformly dispersed in all of the SiO 2 thin films 30, 32, and 40, and the glass Close to board 10
It is preferable to add metal Ag only to the SiO 2 thin film. For example, a SiO 2 thin film 3 near the glass substrate 10
If 3at% Ag is added only in 0, approx.
170nm SiO2 thin film containing 1at% Ag
Transmittance equivalent to that of a 430 nm SiO 2 thin film can be obtained.

従つて、熱線遮蔽積層体が激しい環境下で使用
されることが予想される場合には、ガラス基板1
0に近い方のSiO2薄膜層に金属Agを添加する構
造とすることにより、Agを含むSiO2薄膜層が直
接外気に触れることが防止され、その特性劣化を
有効に防止することが可能となる。
Therefore, if the heat ray shielding laminate is expected to be used in a harsh environment, the glass substrate 1
By creating a structure in which metallic Ag is added to the SiO 2 thin film layer that is closer to 0, the SiO 2 thin film layer containing Ag is prevented from coming into direct contact with the outside air, and it is possible to effectively prevent the deterioration of its characteristics. Become.

また、前記実施例においては、熱線遮蔽積層体
をRFスパツタリング法を用いて形成したが、本
発明はこれに限らず、その他の手法、例えば真空
蒸着、イオンプレーテイング等の物理的手法や、
デイツピング法、スプレー法などの化学的手法に
より形成することも可能である。
Further, in the above embodiments, the heat ray shielding laminate was formed using the RF sputtering method, but the present invention is not limited to this, and the present invention is not limited to this.
It is also possible to form by a chemical method such as a dipping method or a spray method.

また、本発明において使用する基板10として
は、前記実施例のようにガラス基板以外に例えば
アクリル、ポリカーボネート等の透明樹脂基板を
用いることも可能である。
Further, as the substrate 10 used in the present invention, it is also possible to use a transparent resin substrate such as acrylic or polycarbonate, in addition to the glass substrate as in the above embodiment.

また、本実施例においては各薄膜の材料として
高屈折率薄膜層としてTiO2を用い、低屈折率薄
膜層としてSiO2を用いたが、本発明はこれに限
らず、例えば高屈折率薄膜層としてTiO2以外に、
CeO2、ZnS、CdS又はZrO2を用い、また低屈折
率薄膜層としてSiO2以外にCaF2、LiF、MgF2
はCeF3を用い、これらを適当に組合わせて干渉
条件を満たす膜厚に積層被覆し、前記実施例の場
合と同様の光学特性を得ることが可能である。
Furthermore, in this example, as the material of each thin film, TiO 2 was used for the high refractive index thin film layer and SiO 2 was used for the low refractive index thin film layer, but the present invention is not limited to this. Besides TiO2 as
CeO 2 , ZnS, CdS or ZrO 2 is used, and in addition to SiO 2 , CaF 2 , LiF, MgF 2 or CeF 3 is used as a low refractive index thin film layer, and these are appropriately combined to achieve a film thickness that satisfies the interference conditions. It is possible to perform a multilayer coating and obtain optical properties similar to those of the previous example.

また、前記実施例では、いづれも高屈折率薄膜
層及び低屈折率薄膜層を交互に6層積層して熱線
遮蔽積層体を形成したものを示したが、本発明は
これに限らず、使用目的に応じて任意の層数とす
ることが可能である。
Further, in each of the above examples, a heat ray shielding laminate is formed by laminating six high refractive index thin film layers and low refractive index thin film layers alternately, but the present invention is not limited to this. It is possible to have an arbitrary number of layers depending on the purpose.

また、前記各実施例は、SiO2薄膜に添加する
元素の種類とその量、RFスパツタリング諸条件
等の添加方法、膜厚と可視光透過率及び色調との
関係、等について極めて広範囲に行つた実験デー
タに基づき説明した。以上の説明から、本発明の
熱線遮蔽積層体では、可視光透過率を金属添加量
の調整により任意の値に設定可能であることが確
認された。しかし、これ以外にも、膜の色調につ
いては成膜条件によつてまた金属添加量及びその
分散状態、化学的結合状態により著しい影響を受
けることが確認されている。例えば、分散添加す
る金属元素としてはAg以外に、Au、Cu、Pd、
Co、Fe等を薄膜層の構成材料中に1〜10atパー
セントの範囲で金属そのものの状態で分散添加す
ることによりブロンズ色、黄色、赤茶色、青色、
等の色調を自由に得ることができる。
In addition, in each of the above-mentioned examples, a very wide range of studies were carried out regarding the types and amounts of elements added to the SiO 2 thin film, the addition method such as RF sputtering conditions, the relationship between the film thickness, visible light transmittance, and color tone, etc. The explanation was based on experimental data. From the above explanation, it was confirmed that in the heat ray shielding laminate of the present invention, the visible light transmittance can be set to an arbitrary value by adjusting the amount of metal added. However, in addition to this, it has been confirmed that the color tone of the film is significantly influenced by the film forming conditions, the amount of metal added, the state of its dispersion, and the state of chemical bonding. For example, in addition to Ag, metal elements to be dispersed include Au, Cu, Pd,
By dispersing and adding Co, Fe, etc. in the state of the metal itself in the range of 1 to 10 at% into the constituent materials of the thin film layer, bronze color, yellow, reddish brown, blue color,
You can freely obtain any color tone.

発明の効果 以上説明したように、本発明によれば、前記多
層膜を形成する低屈折率薄膜層に所定金属を分散
添加することにより熱線遮蔽積層体の目的及び用
途に対応してその可視光透過率を任意の値に設定
し、有効な可熱線遮蔽効果を得ることが可能とな
る。
Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, a predetermined metal is dispersedly added to the low refractive index thin film layer forming the multilayer film, so that the visible light is It becomes possible to set the transmittance to an arbitrary value and obtain an effective heat-ray shielding effect.

更に、本発明によれば、低屈折率薄膜層への金
属添加により多層膜全体として深みのある所望の
色調を得ることができ、これにより熱線遮蔽積層
体が設けられたガラス基板の美観を高めその付加
価値を向上することが可能となる。特に、低屈折
率薄膜層への金属添加によれば、金属の添加量や
粒径によつて任意の色調を得ることができる。
Further, according to the present invention, by adding metal to the low refractive index thin film layer, it is possible to obtain a desired deep color tone as a whole of the multilayer film, thereby enhancing the aesthetic appearance of the glass substrate on which the heat ray shielding laminate is provided. It becomes possible to improve the added value. In particular, by adding metal to the low refractive index thin film layer, any color tone can be obtained depending on the amount of metal added and the particle size.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の熱線遮蔽積層体の基本構成例
を示す説明図、第2図は第1図に示す熱線遮蔽積
層体の分光特性図、第3図は比較例の構造説明
図、第4図は第3図に示す比較例の分光特性図、
第5図は本発明の熱線遮蔽積層体の実施例を示す
説明図、第6図は第5図に示す熱線遮蔽積層体の
分光特性図である。 10……基板、20……高屈折率薄膜層、22
……高屈折率薄膜層、24……高屈折率薄膜層、
30……低屈折率薄膜層、32……低屈折率薄膜
層、40……低屈折率薄膜層。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an example of the basic configuration of the heat ray shielding laminate of the present invention, FIG. 2 is a spectral characteristic diagram of the heat ray shielding laminate shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a structural explanatory diagram of a comparative example. Figure 4 is a spectral characteristic diagram of the comparative example shown in Figure 3;
FIG. 5 is an explanatory diagram showing an embodiment of the heat ray shielding laminate of the present invention, and FIG. 6 is a spectral characteristic diagram of the heat ray shielding laminate shown in FIG. 10...Substrate, 20...High refractive index thin film layer, 22
...High refractive index thin film layer, 24... High refractive index thin film layer,
30...Low refractive index thin film layer, 32...Low refractive index thin film layer, 40...Low refractive index thin film layer.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 可視光透過性基板の熱源側表面に、可視光透
過性物質からなる高屈折率薄膜層及び低屈折率薄
膜層を交互に積層し、最表面の薄膜層は低屈折率
薄膜層とするとともに低屈折率薄膜層に所定の金
属を添加し、可視光透過率を任意の値に設定する
ことを特徴とする熱線遮蔽積層体。 2 特許請求の範囲1記載の熱線遮蔽積層体にお
いて、低屈折率薄膜層にAg、Pd、Au、Co、Fe
又はCuの金属を添加し、該金属添加量を1〜
10atパーセントの範囲で調整し可視光透過率を90
〜30パーセントの範囲で任意の値に設定すること
を特徴とする熱線遮蔽積層体。 3 特許請求の範囲1、2のいずれかに記載の熱
線遮蔽積層体において、可視光透過性基板は、ガ
ラス又はプラスチツクを用いて形成され、高屈折
率薄膜層は、赤外線反射条件を満たす膜厚TiO2
CeO2、ZnS、CdS又はZrO2を用いて形成され、
低屈折率薄膜層は、最表面薄膜層のみが可視光反
射防止条件を満たす膜厚、他が赤外線反射条件を
満たす膜厚のSiO2、MgF2、LiF、CeF3又はCaF2
を用いて形成されたことを特徴とする熱線遮蔽積
層体。
[Claims] 1. High refractive index thin film layers and low refractive index thin film layers made of a visible light transparent material are alternately laminated on the heat source side surface of a visible light transparent substrate, and the outermost thin film layer has a low refractive index. 1. A heat ray shielding laminate characterized in that the visible light transmittance is set to an arbitrary value by adding a predetermined metal to the low refractive index thin film layer. 2. In the heat ray shielding laminate according to claim 1, the low refractive index thin film layer contains Ag, Pd, Au, Co, Fe.
Or add Cu metal and adjust the amount of the metal to 1~
Visible light transmittance adjusted in the range of 10at% to 90%
A heat ray shielding laminate characterized in that it can be set to any value in the range of ~30%. 3. In the heat ray shielding laminate according to claim 1 or 2, the visible light transmitting substrate is formed using glass or plastic, and the high refractive index thin film layer has a film thickness that satisfies the infrared reflection condition. TiO2 ,
Formed using CeO 2 , ZnS, CdS or ZrO 2 ,
The low refractive index thin film layer is made of SiO 2 , MgF 2 , LiF, CeF 3 or CaF 2 , with only the outermost thin film layer having a thickness that satisfies the visible light anti-reflection condition, and the other film thicknesses satisfying the infrared reflection condition.
A heat ray shielding laminate characterized in that it is formed using.
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