JPH04236308A - レーザ干渉歪計 - Google Patents
レーザ干渉歪計Info
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- JPH04236308A JPH04236308A JP1819991A JP1819991A JPH04236308A JP H04236308 A JPH04236308 A JP H04236308A JP 1819991 A JP1819991 A JP 1819991A JP 1819991 A JP1819991 A JP 1819991A JP H04236308 A JPH04236308 A JP H04236308A
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- Japan
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- reflective
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- laser
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- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims abstract description 41
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 5
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000007373 indentation Methods 0.000 description 9
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は光学式歪計(ISDG)
のうちレーザ光を用いたレーザ干渉歪計の改良に関する
。
のうちレーザ光を用いたレーザ干渉歪計の改良に関する
。
【0002】
【従来の技術】材料の引張り強度試験等において歪を測
定する場合、非接触で歪を測定することがある。図6は
かかる状態で歪測定を行うレーザ干渉歪計の構成図であ
る。試験片1には図7に示すようにマイクロビッカース
硬度計の各圧子痕2、3が形成されている。これら圧子
痕2、3は試験片1に歪を生じさせるための引張り方向
(イ)と同一方向に例えば 0.2mmだけ間隔をおい
て形成されている。そして、これら圧子痕2、3は反射
回折面が4面形成されている。一方、He−Neレーザ
発振装置4が備えられ、このレーザ発振装置4からレー
ザ光5が出力されて各圧子痕2、3に照射される。レー
ザ光5が各圧子痕2、3に照射されると、これら圧子痕
2、3によりそれぞれ4方向に向かって回折光が生じる
。これら回折光は各方向ごとに干渉し、その干渉光6、
7、8、9として各方向に進む。そして、試験片1に引
張り力が加わると各圧子痕2、3は変位するので、この
変位に応じて各干渉光6、7、8、9の干渉縞は移動す
る。 しかるに、各干渉光6、7、8、9の進行方向には光セ
ンサ10、11が配置され、これら光センサ10、11
により各干渉光6、8の干渉縞の移動が検出される。こ
れら干渉縞の移動が検出されることにより試験片1の歪
εが求められる。すなわち、干渉縞の移動距離をx、干
渉縞の間隔をω、レーザ光の波長をλ、引張り力を加え
る前の各圧子痕2、3の間隔をd0 、試験片1から光
センサ10、11までの距離をL、入射レーザ光5に対
する干渉光6、7の角度をαとすると、各圧子痕2、3
の間隔の伸縮Δdは Δd=(x/ω)・(λ/ sinα)=d0 ・x/
(Ltan α) となり、歪εは ε=Δd/d0 により求められる。
定する場合、非接触で歪を測定することがある。図6は
かかる状態で歪測定を行うレーザ干渉歪計の構成図であ
る。試験片1には図7に示すようにマイクロビッカース
硬度計の各圧子痕2、3が形成されている。これら圧子
痕2、3は試験片1に歪を生じさせるための引張り方向
(イ)と同一方向に例えば 0.2mmだけ間隔をおい
て形成されている。そして、これら圧子痕2、3は反射
回折面が4面形成されている。一方、He−Neレーザ
発振装置4が備えられ、このレーザ発振装置4からレー
ザ光5が出力されて各圧子痕2、3に照射される。レー
ザ光5が各圧子痕2、3に照射されると、これら圧子痕
2、3によりそれぞれ4方向に向かって回折光が生じる
。これら回折光は各方向ごとに干渉し、その干渉光6、
7、8、9として各方向に進む。そして、試験片1に引
張り力が加わると各圧子痕2、3は変位するので、この
変位に応じて各干渉光6、7、8、9の干渉縞は移動す
る。 しかるに、各干渉光6、7、8、9の進行方向には光セ
ンサ10、11が配置され、これら光センサ10、11
により各干渉光6、8の干渉縞の移動が検出される。こ
れら干渉縞の移動が検出されることにより試験片1の歪
εが求められる。すなわち、干渉縞の移動距離をx、干
渉縞の間隔をω、レーザ光の波長をλ、引張り力を加え
る前の各圧子痕2、3の間隔をd0 、試験片1から光
センサ10、11までの距離をL、入射レーザ光5に対
する干渉光6、7の角度をαとすると、各圧子痕2、3
の間隔の伸縮Δdは Δd=(x/ω)・(λ/ sinα)=d0 ・x/
(Ltan α) となり、歪εは ε=Δd/d0 により求められる。
【0003】ところで、上記歪計では測定に使用できる
干渉光は、上記のように引張り力の加わる方向と同一方
向に反射・回折する各干渉光6、8のみとなる。このた
め、各干渉光6、8の光強度は全体の2分の1となり、
例えば試験片1の材料の反射率が低くかったり、又各圧
子痕2、3の形状を小さくする必要がある場合には各干
渉光6、8の光強度が低く測定困難となることがある。
干渉光は、上記のように引張り力の加わる方向と同一方
向に反射・回折する各干渉光6、8のみとなる。このた
め、各干渉光6、8の光強度は全体の2分の1となり、
例えば試験片1の材料の反射率が低くかったり、又各圧
子痕2、3の形状を小さくする必要がある場合には各干
渉光6、8の光強度が低く測定困難となることがある。
【0004】又、マイクロビッカース硬度計の各圧子痕
2、3により生じる各干渉光6、8はレーザ光5に対し
て角度約44°の方向に進む。このため、試験機に対し
て正面側から測定したい場合、又はレーザ干渉歪計の寸
法を縮小させる必要がある場合にはレーザ光5に対する
干渉光6、8の角度を小さくする必要がある。
2、3により生じる各干渉光6、8はレーザ光5に対し
て角度約44°の方向に進む。このため、試験機に対し
て正面側から測定したい場合、又はレーザ干渉歪計の寸
法を縮小させる必要がある場合にはレーザ光5に対する
干渉光6、8の角度を小さくする必要がある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】以上のように光強度が
低く測定困難となることがあったり、又レーザ光5に対
する干渉光6、8の角度を小さくする必要がある。
低く測定困難となることがあったり、又レーザ光5に対
する干渉光6、8の角度を小さくする必要がある。
【0006】そこで本発明は、干渉光の光強度を高くで
きるとともに反射回折光の反射角度を小さくして小形化
できるレーザ干渉歪計を提供することを目的とする。
きるとともに反射回折光の反射角度を小さくして小形化
できるレーザ干渉歪計を提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、試験片の歪方
向と同一方向に取り付けられかつ試験片面に対して僅か
な角度に形成された少なくとも1面の反射回折面を有す
る一対の反射マークと、これら反射マークにレーザ光を
照射するレーザ発振装置と、試験片が歪を生じていると
きに一対の反射マークにより生じる干渉縞の移動間隔の
変化を検出して試験片の歪を求める歪算出手段とを備え
て上記目的を達成しようとするレーザ干渉歪計である。
向と同一方向に取り付けられかつ試験片面に対して僅か
な角度に形成された少なくとも1面の反射回折面を有す
る一対の反射マークと、これら反射マークにレーザ光を
照射するレーザ発振装置と、試験片が歪を生じていると
きに一対の反射マークにより生じる干渉縞の移動間隔の
変化を検出して試験片の歪を求める歪算出手段とを備え
て上記目的を達成しようとするレーザ干渉歪計である。
【0008】
【作用】このような手段を備えたことにより、試験片に
歪を加える方向と同一方向に取り付けられかつ試験片面
に対して僅かな角度に形成された少なくとも1面の反射
回折面を有する反射マークに対してレーザを照射し、こ
のときに反射マークにより生じる回折縞の移動を歪算出
手段により検出して試験片の歪を求める。
歪を加える方向と同一方向に取り付けられかつ試験片面
に対して僅かな角度に形成された少なくとも1面の反射
回折面を有する反射マークに対してレーザを照射し、こ
のときに反射マークにより生じる回折縞の移動を歪算出
手段により検出して試験片の歪を求める。
【0009】
【実施例】以下、本発明の第1実施例について図面を参
照して説明する。なお、図6と同一部分には同一符号を
付してその詳しい説明は省略する。図1はレーザ干渉歪
計の構成図である。試験片1には図2に示すように反射
マーク10、11が取り付けられている。これら反射マ
ーク10、11は試験片1に引張り力の加わる方向(イ
)と同一方向に所定間隔例えば間隔 0.2mmだけお
いて配置されている。又、これら反射マーク10、11
はそれぞれ引張り力の加わる方向(イ)と同一方向に2
つの反射回折面を形成している。すなわち、反射マーク
10は反射回折面10a、10bから形成され、又反射
マーク11は反射回折面11a、11bから形成されて
いる。そして、これら反射回折面10a、10bは図3
に示すようにレーザ光の照射方向(ロ)に対して角度8
5°に形成されている。なお、反射回折面11a、11
bは図示しないが反射回折面10a、10bと同様な角
度に形成されている。これら反射マーク10、11によ
り生じる各回折光の反射方向にはそれぞれ光センサ12
、13が配置されている。そして、これら光センサ12
、13には歪算出装置14が接続されている。歪算出装
置14は試験片1に引張り力を加えているときの各反射
マーク10、11からの各回折光により生じる各干渉縞
の移動間隔の変化から試験片1の歪を求める機能を有し
ている。
照して説明する。なお、図6と同一部分には同一符号を
付してその詳しい説明は省略する。図1はレーザ干渉歪
計の構成図である。試験片1には図2に示すように反射
マーク10、11が取り付けられている。これら反射マ
ーク10、11は試験片1に引張り力の加わる方向(イ
)と同一方向に所定間隔例えば間隔 0.2mmだけお
いて配置されている。又、これら反射マーク10、11
はそれぞれ引張り力の加わる方向(イ)と同一方向に2
つの反射回折面を形成している。すなわち、反射マーク
10は反射回折面10a、10bから形成され、又反射
マーク11は反射回折面11a、11bから形成されて
いる。そして、これら反射回折面10a、10bは図3
に示すようにレーザ光の照射方向(ロ)に対して角度8
5°に形成されている。なお、反射回折面11a、11
bは図示しないが反射回折面10a、10bと同様な角
度に形成されている。これら反射マーク10、11によ
り生じる各回折光の反射方向にはそれぞれ光センサ12
、13が配置されている。そして、これら光センサ12
、13には歪算出装置14が接続されている。歪算出装
置14は試験片1に引張り力を加えているときの各反射
マーク10、11からの各回折光により生じる各干渉縞
の移動間隔の変化から試験片1の歪を求める機能を有し
ている。
【0010】次に上記の如く構成された歪計の作用につ
いて説明する。
いて説明する。
【0011】レーザ発振装置4から出力されたレーザ光
5は各反射マーク10、11に照射される。このレーザ
光5が各反射マーク10、11に照射されると、これら
反射マーク10、11の各反射回折面10a、10b及
び反射回折面11a、11bによりそれぞれ2方向に回
折光が生じる。これら回折光は各方向ごとに干渉し、そ
の干渉光16、17として各方向に進む。そして、試験
片1に引張り力が加わると各反射マーク10、11は変
位するので、この変位に応じて各干渉光16、17の干
渉縞は移動する。しかるに、各干渉光16、17の進行
方向にはそれぞれ光センサ12、13が配置され、これ
ら光センサ12、13により各干渉光16、17の干渉
縞の移動が検出される。これら光センサ12、13から
出力される移動検出信号は歪算出装置14に送られる。 これら歪算出装置14は干渉縞の移動間隔の変化により
試験片1の歪εを求める。すなわち、上記の如く干渉縞
の移動距離をx、干渉縞の間隔をω、レーザ光5の波長
をλ、引張り力を加える前の各反射マーク10、11の
間隔をd0 、試験片1から光センサ12、13までの
距離をL、入射レーザ光5に対する干渉光16、17の
角度をαとすると、各反射マーク10、11の間隔の伸
縮Δdは Δd=(x/ω)・(λ/ sinα)=d0 ・x/
(Ltan α) となり、試験片1の歪εは ε=Δd/d0 により求められる。
5は各反射マーク10、11に照射される。このレーザ
光5が各反射マーク10、11に照射されると、これら
反射マーク10、11の各反射回折面10a、10b及
び反射回折面11a、11bによりそれぞれ2方向に回
折光が生じる。これら回折光は各方向ごとに干渉し、そ
の干渉光16、17として各方向に進む。そして、試験
片1に引張り力が加わると各反射マーク10、11は変
位するので、この変位に応じて各干渉光16、17の干
渉縞は移動する。しかるに、各干渉光16、17の進行
方向にはそれぞれ光センサ12、13が配置され、これ
ら光センサ12、13により各干渉光16、17の干渉
縞の移動が検出される。これら光センサ12、13から
出力される移動検出信号は歪算出装置14に送られる。 これら歪算出装置14は干渉縞の移動間隔の変化により
試験片1の歪εを求める。すなわち、上記の如く干渉縞
の移動距離をx、干渉縞の間隔をω、レーザ光5の波長
をλ、引張り力を加える前の各反射マーク10、11の
間隔をd0 、試験片1から光センサ12、13までの
距離をL、入射レーザ光5に対する干渉光16、17の
角度をαとすると、各反射マーク10、11の間隔の伸
縮Δdは Δd=(x/ω)・(λ/ sinα)=d0 ・x/
(Ltan α) となり、試験片1の歪εは ε=Δd/d0 により求められる。
【0012】このように上記一実施例においては、試験
片1に歪を加える方向と同一方向でかつ試験片1の面に
対して僅かな角度に形成された各反射回折面10a、1
0b及び11a、11bを有する一対の反射マーク10
、11に対してレーザ光5を照射し、このときに反射回
折面10a、10b及び11a、11bにより生じる回
折縞の移動を検出して試験片1の歪を求めるようにした
ので、干渉縞の光強度を高くできる。これにより試験片
1の材料の反射率が低くかったり、又各反射マーク10
、11の形状を小さくする必要がある場合でも試験片1
の歪測定ができる。又、各反射マーク10、11は各反
射回折面10a、10b及び11a、11bを試験片1
の面に対して任意に形成できるので、各光センサ12、
13の配置位置を任意に設定できるとともにレーザ光5
に対して小さい角度に配置でき、歪計全体を小形化でき
る。
片1に歪を加える方向と同一方向でかつ試験片1の面に
対して僅かな角度に形成された各反射回折面10a、1
0b及び11a、11bを有する一対の反射マーク10
、11に対してレーザ光5を照射し、このときに反射回
折面10a、10b及び11a、11bにより生じる回
折縞の移動を検出して試験片1の歪を求めるようにした
ので、干渉縞の光強度を高くできる。これにより試験片
1の材料の反射率が低くかったり、又各反射マーク10
、11の形状を小さくする必要がある場合でも試験片1
の歪測定ができる。又、各反射マーク10、11は各反
射回折面10a、10b及び11a、11bを試験片1
の面に対して任意に形成できるので、各光センサ12、
13の配置位置を任意に設定できるとともにレーザ光5
に対して小さい角度に配置でき、歪計全体を小形化でき
る。
【0013】次に本発明の第2実施例について説明する
。図4はレーザ干渉歪計の構成図であって、特に反射マ
ーク20、21を示している。これら反射マーク20、
21は試験片1に引張り力の加わる方向(イ)と同一方
向に所定間隔例えば間隔 0.2mmだけおいて配置さ
れており、図5に示すように反射回折面20a、21a
を1面形成したものである。そして、これら反射回折面
20a、21bは試験片1の面に対して角度10°以内
に形成されている。
。図4はレーザ干渉歪計の構成図であって、特に反射マ
ーク20、21を示している。これら反射マーク20、
21は試験片1に引張り力の加わる方向(イ)と同一方
向に所定間隔例えば間隔 0.2mmだけおいて配置さ
れており、図5に示すように反射回折面20a、21a
を1面形成したものである。そして、これら反射回折面
20a、21bは試験片1の面に対して角度10°以内
に形成されている。
【0014】かかる構成であれば、レーザ光5が各反射
マーク20、21に照射されると、これら反射マーク2
0、21の各反射回折面20a、21bによりそれぞれ
1方向に回折光が生じる。これら回折光は各方向ごとに
干渉し、その干渉光22として各方向に進む。そして、
試験片1に引張り力が加わると各反射マーク20、21
は変位するので、この変位に応じて干渉光22の干渉縞
は移動する。しかるに、干渉光22の進行方向には光セ
ンサ12が配置され、この光センサ12により干渉光2
2の干渉縞の移動が検出される。この光センサ12から
出力される移動検出信号は歪算出装置に送られ、この歪
算出装置により試験片1の歪εが求められる。
マーク20、21に照射されると、これら反射マーク2
0、21の各反射回折面20a、21bによりそれぞれ
1方向に回折光が生じる。これら回折光は各方向ごとに
干渉し、その干渉光22として各方向に進む。そして、
試験片1に引張り力が加わると各反射マーク20、21
は変位するので、この変位に応じて干渉光22の干渉縞
は移動する。しかるに、干渉光22の進行方向には光セ
ンサ12が配置され、この光センサ12により干渉光2
2の干渉縞の移動が検出される。この光センサ12から
出力される移動検出信号は歪算出装置に送られ、この歪
算出装置により試験片1の歪εが求められる。
【0015】このように上記第2実施例においては、反
射マーク20、21の反射回折面を一面としたので、上
記第1実施例と同様の効果を奏することができるととも
に、さらに干渉縞の光強度を高くできる。
射マーク20、21の反射回折面を一面としたので、上
記第1実施例と同様の効果を奏することができるととも
に、さらに干渉縞の光強度を高くできる。
【0016】
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、干
渉光の光強度を高くできるとともに反射回折光の反射角
度を小さくして小形化できるレーザ干渉歪計を提供でき
る。
渉光の光強度を高くできるとともに反射回折光の反射角
度を小さくして小形化できるレーザ干渉歪計を提供でき
る。
【図1】本発明に係るレーザ干渉歪計の第1実施例を示
す構成図。
す構成図。
【図2】同実施例における反射マークの構成図。
【図3】同実施例における反射マークの反射回折面の形
成角度を示す図。
成角度を示す図。
【図4】本発明に係るレーザ干渉歪計の第2実施例を示
す構成図。
す構成図。
【図5】同実施例における反射マークの構成図。
【図6】従来におけるレーザ干渉歪計の構成図。
【図7】同歪計における圧子痕の構成図。
1…試験片、4…レーザ発振装置、10,11,20,
21…反射マーク、10a,10b,11a,11b,
20a,21a…反射回折面、12,13…光センサ、
14…歪算出装置。
21…反射マーク、10a,10b,11a,11b,
20a,21a…反射回折面、12,13…光センサ、
14…歪算出装置。
Claims (1)
- 【請求項1】 試験片の歪方向と同一方向に取り付け
られかつ前記試験片面に対して僅かな角度に形成された
少なくとも1面の反射回折面を有する一対の反射マーク
と、これら反射マークにレーザ光を照射するレーザ発振
装置と、前記試験片が歪を生じているときに一対の前記
反射マークにより生じる干渉縞の移動間隔の変化を検出
して前記試験片の歪を求める歪算出手段とを具備したこ
とを特徴とするレーザ干渉歪計。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1819991A JPH04236308A (ja) | 1991-01-19 | 1991-01-19 | レーザ干渉歪計 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1819991A JPH04236308A (ja) | 1991-01-19 | 1991-01-19 | レーザ干渉歪計 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04236308A true JPH04236308A (ja) | 1992-08-25 |
Family
ID=11964966
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1819991A Pending JPH04236308A (ja) | 1991-01-19 | 1991-01-19 | レーザ干渉歪計 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04236308A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160065106A (ko) | 2013-09-30 | 2016-06-08 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 리튬 이온 이차 전지용 전극 및 리튬 이온 이차 전지 |
-
1991
- 1991-01-19 JP JP1819991A patent/JPH04236308A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160065106A (ko) | 2013-09-30 | 2016-06-08 | 도판 인사츠 가부시키가이샤 | 리튬 이온 이차 전지용 전극 및 리튬 이온 이차 전지 |
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