JPH0423375A - Solid laser - Google Patents

Solid laser

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JPH0423375A
JPH0423375A JP12457090A JP12457090A JPH0423375A JP H0423375 A JPH0423375 A JP H0423375A JP 12457090 A JP12457090 A JP 12457090A JP 12457090 A JP12457090 A JP 12457090A JP H0423375 A JPH0423375 A JP H0423375A
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JP
Japan
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lamp
voltage
solid
tube
frequency
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JP12457090A
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Japanese (ja)
Inventor
Nobuaki Iehisa
信明 家久
Norio Karube
規夫 軽部
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Fanuc Corp
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Fanuc Corp
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Abstract

PURPOSE:To prevent electrodes from being sputtered and to prolong semipermanently the life of an exciting lamp by a method wherein the electrodes are respectively provided outside of both ends of the lamp and the lamp is discharged by applying a highfrequency voltage to the electrodes. CONSTITUTION:A DC power supply part 1 rectifies a commercial power supply and stabilizes to feed a DC voltage to a high-frequency inverter 2. The inverter 2 is constituted of 4 pieces of switching elements 3a to 3d and outputs a high-frequency voltage by making a group of the elements 3a and 3d and a group of the elements 3b and 3c turnON alternately. The output of the high-frequency voltage from the inverter 2 is fed to an exciting lamp 5 through a transformer 4. There are electrodes 11 and 12 at both ends of the lamp 5 and electrode supports 13 and 14 are respectively provided outside of the electrodes 11 and 12. Diluent gas, such as krypton gas, exnon gas or the like, is encapsulated in the lamp 5. High-frequency discharge is performed in the lamp 5 by applying the high-frequency voltage to the electrodes 11 and 12 via the supports 13 and 14 and light for laser excitation use is emitted.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は固体レーザ装置に関し、特に固体レーザを励起
する為に用いられる励起ランプの構造と放電方式に関す
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a solid-state laser device, and more particularly to the structure and discharge method of an excitation lamp used to excite a solid-state laser.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

Nd ;YAG (ネオジムをドープしたイツトリウム
・アルミニウム・ガーネット、以下YAGと表す)レー
ザ装置は、発振波長が近赤外光(1゜06μi)−であ
ることから光通信用に多く用いられている石英製ファイ
バを通してレーザ光を自由に導けること、レーザ加工対
象物となっている金属材料の光吸収率がCO。レーザの
発振波長である10.6μiより数倍高いことから、レ
ーザ加工に近年YAGレーザ装置が多く使用されるよう
になってきた。
Nd; YAG (yttrium aluminum garnet doped with neodymium, hereinafter referred to as YAG) laser device uses quartz, which is often used for optical communications because its oscillation wavelength is near-infrared light (1°06 μi). The laser beam can be guided freely through the manufactured fiber, and the optical absorption rate of the metal material that is the object to be laser processed is CO. In recent years, YAG laser devices have been increasingly used for laser processing because the wavelength is several times higher than the laser oscillation wavelength of 10.6 μi.

一般にYAGレーザ装置では、励起ランプに励起電圧を
印加して、励起ランプの管壁内部の電極間の放電による
光によって、YAGロッドを励起して、レーザ光を出力
している。
Generally, in a YAG laser device, an excitation voltage is applied to an excitation lamp, and a YAG rod is excited by light generated by a discharge between electrodes inside a tube wall of the excitation lamp, thereby outputting laser light.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし、上記したような励起ランプと励起電源の組み合
わせ構成では、放電方式が直流放電にしろ交流放電にし
ろ、励起ランプの管壁内部に挿入されている電極が放電
によりスパッタし、電極近傍の管壁に付着する。この付
着したスパッタ物質が放射光を吸収し局所的に温度が上
昇する。この結果、スパッタが付着した8分のみ歪みが
発生し、最悪の場合にはランプが破壊するという事故に
もつながる。また、スパッタ物質が励起ランプの内壁を
被うので発光効率も低下する。
However, in the combination configuration of an excitation lamp and an excitation power source as described above, whether the discharge method is DC discharge or AC discharge, the electrode inserted inside the tube wall of the excitation lamp will sputter due to the discharge, and the tube near the electrode will become sputtered. Stick to the wall. This attached sputtered material absorbs the radiation, causing a local temperature rise. As a result, distortion occurs only in the 8 minutes that spatter adheres, and in the worst case, it may lead to an accident in which the lamp is destroyed. Furthermore, since the sputtered material covers the inner wall of the excitation lamp, the luminous efficiency is also reduced.

従って、励起ランプの寿命が200〜500時間程度の
短時間で、励起ランプを新しいものと交換しなければな
らないという問題があった。すなわち、従来この励起ラ
ンプは消耗品とされていた。
Therefore, there is a problem in that the excitation lamp has a short lifespan of about 200 to 500 hours and must be replaced with a new one. That is, in the past, this excitation lamp was considered a consumable item.

また、励起ランプはレーザ出力が1〜2KWタイプ1台
のYAGレーザ装置で10〜20本程度使用する必要が
あり、1本当たりのコストも高く、YAGレーザ装置の
大きな問題となっている。
Furthermore, it is necessary to use about 10 to 20 excitation lamps in one YAG laser device with a laser output of 1 to 2 KW, and the cost per lamp is high, which is a major problem with YAG laser devices.

本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、励
起ランプの電極をチューブの外側に設け、励起ランプの
発光放電方式を高周波放電方式にした固体レーザ装置を
提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of these points, and it is an object of the present invention to provide a solid-state laser device in which the electrode of the excitation lamp is provided outside the tube and the emission discharge method of the excitation lamp is a high-frequency discharge method. .

また、本発明の他の目的は高周波放電の電界周波数をイ
オントラップ現象あるいは電子トラップ現象が発生する
周波数とすることにより、より効率的な励起放電を得る
ようにした固体レーザ装置を提供することである。
Another object of the present invention is to provide a solid-state laser device that can obtain more efficient excited discharge by setting the electric field frequency of high-frequency discharge to a frequency at which an ion trap phenomenon or an electron trap phenomenon occurs. be.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明では上記課題を解決するために、希ガスが封入さ
れた励起ランプを放電により発光させ、発光された光に
より固体レーザ活性媒質を励起させレーザ発振を行うよ
うに構成された固体レーザ装置において、直流電圧を供
給する直流電源部と、前記直流電圧を高周波電圧に変換
するインバータと、前記高周波電圧が印加される電極部
をチューブの外部に設けた前記励起ランプと、を有する
ことを特徴とする固体レーザ装置が、提供される。
In order to solve the above problems, the present invention provides a solid-state laser device configured to emit light by discharging an excitation lamp filled with a rare gas, and excite a solid-state laser active medium with the emitted light to perform laser oscillation. , characterized in that it has a DC power supply section that supplies a DC voltage, an inverter that converts the DC voltage into a high frequency voltage, and the excitation lamp in which an electrode section to which the high frequency voltage is applied is provided outside the tube. A solid state laser device is provided.

〔作用〕[Effect]

インバータからの高周波電圧は励起ランプのチューブの
外側に設けられた電極に印加される。励起ランプの放電
はこの外側の電極に印加された高周波電圧によって放電
して、発光する。従って、スパッタやスパッタ物質によ
る悪影響が全くなくなる。この結果、励起ランプの寿命
が半永久的になる。
The high frequency voltage from the inverter is applied to electrodes provided on the outside of the tube of the excitation lamp. The discharge of the excitation lamp is caused by the high frequency voltage applied to this outer electrode, and light is emitted. Therefore, there is no adverse effect caused by sputtering or sputtered materials. As a result, the life of the excitation lamp becomes semi-permanent.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は本発明の一実施例によるYAGレーザ装置のレ
ーザ励起ランプ駆動用の高周波電源回路部とレーザ励起
ランプ部を示す図である。直流電源B1は商用電源を整
流し、安定化して直流電圧を高周波インバータ2に供給
する。高周波インバ−夕2は4個のスイッチング素子3
a、3b、3C及び3dから構成されており、スイッチ
ング素子3aと3dの組と、スイッチング素子3bと3
0の組が交互にオンすることにより、高周波電圧を出力
する。スイッチング素子3a〜3dにはFET等が使用
される。高周波インバータ2の高周波電圧出力はトラン
ス4を通して、励起ランプ5に供給される。
FIG. 1 is a diagram showing a high frequency power supply circuit section for driving a laser excitation lamp and a laser excitation lamp section of a YAG laser device according to an embodiment of the present invention. The DC power supply B1 rectifies and stabilizes the commercial power supply and supplies the DC voltage to the high frequency inverter 2. The high frequency inverter 2 has four switching elements 3
a, 3b, 3C, and 3d, a pair of switching elements 3a and 3d, and a pair of switching elements 3b and 3d.
A high frequency voltage is output by alternately turning on the sets of 0's. FETs or the like are used as the switching elements 3a to 3d. The high frequency voltage output of the high frequency inverter 2 is supplied to an excitation lamp 5 through a transformer 4.

励起ランプ5の両端電極11及び12があり、その外側
に電極サポート13及び14が設けられている。励起ラ
ンプ5内にはクリプトン、キセノン等の希ガスが封入さ
れている。
There are electrodes 11 and 12 at both ends of the excitation lamp 5, and electrode supports 13 and 14 are provided on the outside thereof. The excitation lamp 5 is filled with a rare gas such as krypton or xenon.

高周波電圧が電極サポート13.14を介して、電極1
1及び12に印加されることにより、励起ランプ内で高
周波放電を行い、レーザ励起用の光を放出する。
A high frequency voltage is applied to the electrode 1 via the electrode support 13.14.
1 and 12, a high-frequency discharge is caused within the excitation lamp, and light for laser excitation is emitted.

第2図は励起ランプの構造の詳細を示す図である。なお
、励起ランプ5は対称な構造であるので、その片側の詳
細のみ示している。励起ランプ5のチューブ5aは石英
等で構成され、その端部には電極11がメタライズによ
って接着されている。
FIG. 2 is a diagram showing details of the structure of the excitation lamp. Note that, since the excitation lamp 5 has a symmetrical structure, only the details of one side thereof are shown. The tube 5a of the excitation lamp 5 is made of quartz or the like, and an electrode 11 is bonded to the end thereof by metallization.

その外側には電極11を冷却する水冷式の電極サポート
13があり、電極サポートには高周波電圧を印加する電
線18が接続されている。また、電極サポート13には
冷却水用のパイプ15及び16が接続されており、冷却
水17が供給されて、電極11を冷却する構成となって
いる。
On the outside thereof, there is a water-cooled electrode support 13 that cools the electrode 11, and an electric wire 18 that applies a high-frequency voltage is connected to the electrode support. Further, pipes 15 and 16 for cooling water are connected to the electrode support 13, and cooling water 17 is supplied to cool the electrode 11.

なお励起ランプは電極が接着されている端部での厚みは
0.1〜0.3mmである。励起ランプ5のチューブ5
aの長さ、すなわち放電路の長さは30mm、内径は6
mmで内部にKr(クリプトン)が760To r r
の圧力で封入されている。
The excitation lamp has a thickness of 0.1 to 0.3 mm at the end to which the electrodes are bonded. Tube 5 of excitation lamp 5
The length of a, that is, the length of the discharge path is 30 mm, and the inner diameter is 6
760 Torr of Kr (krypton) inside
sealed under pressure.

ここで、クリプトンイオン(Kr+)の移動度μiが0
℃、760To r rにおいて、17 (cm/se
c/v/cm)である。
Here, the mobility μi of krypton ion (Kr+) is 0
℃, 760 Torr, 17 (cm/se
c/v/cm).

ここで、発光効率を上げるために、イオントラップを発
生させる。このためには、高周波インバータの出力周波
数f1は以下の値以上にする必要がある。すなわち、μ
iをチューブ5a内のイオン速度、Emを電界強度、L
をチューブ5aの放電距離、πを円周率として、イオン
トラップ条件を表す式、 f1≧〔(μe・Eつ)/(π・L) を満足する周波数f1にする必要がある。
Here, in order to increase luminous efficiency, an ion trap is generated. For this purpose, the output frequency f1 of the high frequency inverter needs to be equal to or higher than the following value. That is, μ
i is the ion velocity in the tube 5a, Em is the electric field strength, L
It is necessary to set the frequency f1 to satisfy the following equation expressing the ion trap condition: f1≧[(μe·E)/(π·L), where is the discharge distance of the tube 5a and π is the circumference.

また、電子トラップの発生する周波数以上にすれば発光
効率はさらに上昇する。すなわち、μ8をチューブ5a
内の電子速度として式、f2≧〔(μe・Em)/(π
・L) を満足する周波数f2を選べは電子トラップを発生させ
ることができる。
Moreover, if the frequency is set to be higher than the frequency at which electron traps occur, the luminous efficiency will further increase. In other words, μ8 is connected to tube 5a
As the electron velocity within the equation, f2≧[(μe・Em)/(π
・L) By selecting a frequency f2 that satisfies the following, it is possible to generate an electron trap.

一般に、 μe〉μi であるので、f2>fl である。従って、 f 2>f>f 1 の周波数fではイオントラップのみ発生し、f>f 2 の周波数fでは、イオントラップと、電子トラップの両
方を発生させることができる。これらのどちらを選択す
るかは、高周波インバータ2のスイッチング素子3a〜
3dの周波数特性等によって決定される。
Generally, since μe>μi, f2>fl. Therefore, at a frequency f where f2>f>f1, only an ion trap is generated, and at a frequency f, where f>f2, both an ion trap and an electron trap can be generated. Which of these should be selected depends on the switching elements 3a to 3 of the high frequency inverter 2.
It is determined by the 3D frequency characteristics, etc.

次に動作について説明する。直流電源部1の直流出力電
圧を高周波インバータ2で2 M Hzにチョッピング
し、高周波電圧を発生させトランス4により励起ランプ
5の電気特性に合わせ300V程度に昇圧する。ただし
、放電開始時においては2〜3KVにまで昇圧させる。
Next, the operation will be explained. The DC output voltage of the DC power source 1 is chopped to 2 MHz by a high frequency inverter 2 to generate a high frequency voltage, which is boosted to about 300 V by a transformer 4 in accordance with the electrical characteristics of the excitation lamp 5. However, at the start of discharge, the voltage is increased to 2 to 3 KV.

ここで、昇圧された電圧が励起ランプ5の両端に設けら
れた電極11.12に電気的に結合された電極サポート
13.14に印加される。励起ランプ5の管壁厚み0.
1〜0.3mmをキャパシティブな電気誘電体して励起
ランプ5のチューブ5aの両端に設けられた一対の電極
1112間で十分な放電電流が流れると励起ランプ5が
発光し、YAGレーザロッドがこの励起光を吸収しYA
Gレーザが発振する。
Here, an increased voltage is applied to an electrode support 13.14 which is electrically coupled to electrodes 11.12 provided at both ends of the excitation lamp 5. The tube wall thickness of the excitation lamp 5 is 0.
When a sufficient discharge current flows between a pair of electrodes 1112, which are made of a capacitive electric dielectric with a thickness of 1 to 0.3 mm and provided at both ends of the tube 5a of the excitation lamp 5, the excitation lamp 5 emits light, and the YAG laser rod emits light. YA absorbs excitation light
G laser oscillates.

また、励起ランプ5に与える高周波電圧を制御すること
により、フラッシュランプまたはアークランプとして動
作させることができる。
Further, by controlling the high frequency voltage applied to the excitation lamp 5, it can be operated as a flash lamp or an arc lamp.

次にYAGレーザ装置の概略について説明する。Next, the outline of the YAG laser device will be explained.

第3図はYAGレーザ装置の概略の構成図である。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of the YAG laser device.

YAGレーザロッド23の結晶の中心軸の延長線上の両
端に中心軸(光軸)と直角な面に光共振器を構成するリ
ア鏡27および出力鏡21が置かれている。YAGレー
ザロッド23は、励起ランプ5で照射されてエネルギが
注入される。この時、励起用ランプ5のエネルギを効率
良<YAGレーザロッド23に吸収させるために、YA
Gレーザロッド23と励起ランプ5とを囲んで図示され
ていない集光用の反射鏡が励起キャビティ31の内部に
設けられている。
At both ends of the YAG laser rod 23 on an extension of the central axis of the crystal, a rear mirror 27 and an output mirror 21 forming an optical resonator are placed on a plane perpendicular to the central axis (optical axis). The YAG laser rod 23 is irradiated with an excitation lamp 5 and energy is injected therein. At this time, in order to efficiently absorb the energy of the excitation lamp 5 into the YAG laser rod 23,
A condensing reflector (not shown) is provided inside the excitation cavity 31 surrounding the G laser rod 23 and the excitation lamp 5.

さらに、パルス発振を可能にするQスイッチモジュール
24、ランダム偏光を直線偏光にする直線偏光ユニット
と安全保護装置としてのメカニカルシャッタユニットを
一体にしたユニット25、レーザ光の横モードを選択す
るモードセレクタ26が設けられている。
Furthermore, a Q switch module 24 that enables pulse oscillation, a unit 25 that integrates a linear polarization unit that converts random polarization into linear polarization and a mechanical shutter unit as a safety protection device, and a mode selector 26 that selects the transverse mode of the laser beam. is provided.

また、第3図には描かれていないが、YAGレーザでは
励起ランプ5へ注入されたエネルギがレーザ光へ変換さ
れる効率が3〜4%程度であるので、励起ランプ5に注
入されるエネルギは相当大きな値になり、そこで消費さ
れる熱を効率よく冷却する必要がある。また、YAGレ
ーザロッド23および励起キャビティ31も水冷され、
レーザ出力の安定性を維持する為に冷却水の温度管理を
精度よく行う必要がある。
Although not shown in FIG. 3, in the case of a YAG laser, the efficiency with which the energy injected into the excitation lamp 5 is converted into laser light is about 3 to 4%, so the energy injected into the excitation lamp 5 is is a fairly large value, and it is necessary to efficiently cool the heat consumed there. In addition, the YAG laser rod 23 and the excitation cavity 31 are also water-cooled,
In order to maintain the stability of laser output, it is necessary to accurately manage the temperature of the cooling water.

このように、励起ランプの外側に設けられた一対の電極
を介して高周波放電を形成し励起ランプ内に封入された
希ガスを励起し発光させることを実現した。この結果、
励起ランプの電極の消耗や、スパッタ物の管壁への付着
の問題が完全に解消され、半永久的な寿命を有する励起
ランプを提供できる。
In this way, a high-frequency discharge was generated through a pair of electrodes provided on the outside of the excitation lamp to excite the rare gas sealed within the excitation lamp and cause it to emit light. As a result,
The problems of wear of the electrodes of the excitation lamp and adhesion of sputtered materials to the tube wall are completely eliminated, and an excitation lamp with a semi-permanent life can be provided.

また、励起ランプを構成する石英製チューブの外部に電
極をメタライズ製法により製作したが、電極を構成する
金属ロッドの表面に石英製チューブと材質の異なる物質
をコーティングした電極ロッドを石英チューブに接合さ
せて電極を構成することもできる。
In addition, an electrode was fabricated using a metallization method on the outside of the quartz tube that makes up the excitation lamp, but the surface of the metal rod that made up the electrode was coated with a substance different from that of the quartz tube, and the electrode rod was bonded to the quartz tube. It is also possible to construct an electrode using the same method.

また上記の説明では、YAGレーザ装置を例に説明した
が、他の励起ランプでレーザ励起する他の固体レーザ装
置にも適用できる。
Further, in the above description, the YAG laser device was used as an example, but the present invention can also be applied to other solid-state laser devices that pump the laser with other excitation lamps.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように本発明では、励起ランプの外側に電
極を設けて、高周波電圧を印加して、放電させるように
構成したので、電極のスパッタを防止でき、励起ランプ
の寿命を半永久的にすることができる。その結果、励起
ランプの交換が不要になり、費用も低減される。
As explained above, in the present invention, an electrode is provided on the outside of the excitation lamp, and a high frequency voltage is applied to cause discharge. Therefore, sputtering of the electrode can be prevented, and the life of the excitation lamp can be made semi-permanent. be able to. As a result, excitation lamps do not need to be replaced and costs are reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例のYAGレーザ装置のレーザ
励起ランプ駆動用の高周波インバータと励起ランプを示
す図、 第2図は励起ランプの構造の詳細を示す図、第3図はY
AGレーザ装置の概略の構成図である。 直流電源部 高周波インバータ 励起ランプ 電極 電極 電極サポート 電極サポート
Fig. 1 is a diagram showing a high frequency inverter and an excitation lamp for driving a laser excitation lamp of a YAG laser device according to an embodiment of the present invention, Fig. 2 is a diagram showing details of the structure of the excitation lamp, and Fig. 3 is a diagram showing a YAG laser device.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of an AG laser device. DC power supply section High frequency inverter Excitation lamp Electrode Electrode support Electrode support

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)希ガスが封入された励起ランプを放電により発光
させ、発光された光により固体レーザ活性媒質を励起さ
せレーザ発振を行うように構成された固体レーザ装置に
おいて、 直流電圧を供給する直流電源部と、 前記直流電圧を高周波電圧に変換するインバータと、 前記高周波電圧が印加される電極部をチューブの外部に
設けた前記励起ランプと、 を有することを特徴とする固体レーザ装置。
(1) In a solid-state laser device configured to cause an excitation lamp filled with rare gas to emit light by discharging it, and to excite a solid-state laser active medium with the emitted light to perform laser oscillation, a DC power supply that supplies a DC voltage is used. A solid-state laser device comprising: an inverter that converts the DC voltage into a high-frequency voltage; and an excitation lamp having an electrode portion to which the high-frequency voltage is applied provided outside the tube.
(2)前記電極部は前記チューブ管壁にメタライズ製法
により固着されたことを特徴とする請求項1記載のレー
ザ制御装置。
(2) The laser control device according to claim 1, wherein the electrode portion is fixed to the tube wall by a metallization method.
(3)前記電極の外側に冷却用の電極サポートを設けた
ことを特徴とする請求項2記載の固体レーザ装置。
(3) The solid-state laser device according to claim 2, further comprising a cooling electrode support provided outside the electrode.
(4)前記インバータの電圧出力周波数は、μ_iを前
記チューブ内のイオン速度、E_mを電界強度、Lを前
記チューブの放電距離、πを円周率として、イオントラ
ップ条件を表す式、 f≧〔(μ_i・E_m)/(π・L)〕 を満足する周波数であることを特徴とする請求項1記載
の固体レーザ装置。
(4) The voltage output frequency of the inverter is determined by the following formula expressing the ion trap conditions, where μ_i is the ion velocity in the tube, E_m is the electric field strength, L is the discharge distance of the tube, and π is pi. The solid-state laser device according to claim 1, characterized in that the frequency satisfies the following: (μ_i·E_m)/(π·L)].
(5)前記インバータの電圧出力周波数fは、μ_eを
前記チューブ内の電子速度、E_mを電界強度、Lを前
記チューブの放電距離、πを円周率として、電子トラッ
プ条件を表す式、 f≧〔(μ_e・E_m)/(π・L)〕 を満足する周波数であることを特徴とする請求項1記載
の固体レーザ装置。
(5) The voltage output frequency f of the inverter is expressed by the following formula, where μ_e is the electron velocity in the tube, E_m is the electric field strength, L is the discharge distance of the tube, and π is pi, expressing the electron trap condition, f≧ The solid-state laser device according to claim 1, characterized in that the frequency satisfies the following: [(μ_e·E_m)/(π·L)].
(6)前記励起ランプが、フラッシュランプまたはアー
クランプであることを特徴とする請求項1記載の固体レ
ーザ装置。
(6) The solid-state laser device according to claim 1, wherein the excitation lamp is a flash lamp or an arc lamp.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0887899A2 (en) * 1997-06-27 1998-12-30 Miyachi Technos Corporation Power supply apparatus for laser

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