JPH0423221A - Surface treatment of substrate for hard disk - Google Patents

Surface treatment of substrate for hard disk

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JPH0423221A
JPH0423221A JP12683590A JP12683590A JPH0423221A JP H0423221 A JPH0423221 A JP H0423221A JP 12683590 A JP12683590 A JP 12683590A JP 12683590 A JP12683590 A JP 12683590A JP H0423221 A JPH0423221 A JP H0423221A
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JP
Japan
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layer
substrate
plating
aluminum
zincate
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Application number
JP12683590A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Mihashi
裕之 三橋
Kazuo Yokoyama
横山 一男
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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Publication of JPH0423221A publication Critical patent/JPH0423221A/en
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Abstract

PURPOSE:To enhance the adhesive strength of an Ni-P plating film to a substrate and to obtain the substrate for hard disks which can improve surface characteristics by immersing the substrate essentially consisting of aluminum into a zincate liquid, then immersing the substrate into an acetic acid soln. and subjecting the substrate to Ni-P plating. CONSTITUTION:The zincate liquid is first filled into a bath tank consisting of enamel, ceramics or metals, etc., and the disk-shaped aluminum substrate 1 is immersed into this zincate liquid. Consequently, the surface of the aluminum substrate 1 is substd. with Zn and a Zn layer 2 is formed on the surface of the substrate 1. The surface of the Zn layer 2 of this time is zinc hydroxide. The substrate 1 is then immersed into the acetic acid soln. Consequently, the zinc hydroxide layer 2a formed on the surface of the Zn layer 2 is removed. The zinc hydroxide does no longer exist on the surface of the Zn layer 2 at all and only the Zn layer 2 having the excellent surface characteristics is exposed. The substrate 1 is then immersed into an Ni-P plating bath and is subjected to electroless plating. Consequently, the Ni-P plating precipitates on the Zn layer 2 and the Ni-P plating film 3 is formed. The film 3 formed at this time is directly formed on the Zn layer 2 and, therefore, the peeling of the film 3 from the Zn layer 2 does not arise.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明は、磁性層形成前にアルミニウムを主体とする基
板に対して行うハードディスク用基板の表面処理方法に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a method for surface treatment of a hard disk substrate, which is performed on a substrate mainly made of aluminum before forming a magnetic layer.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、磁性層形成前にアルミニウムを主体とする基
板に対して行うハードディスク用基板の表面処理方法に
おいて、アルミニウムを主体とする基板をジンケート液
に浸漬した後、酢酸溶液中に浸漬し、その後Ni−Pメ
ッキすることにより、基板に対するNi−Pメッキ被膜
の付着力を高めるとともに、Ni−Pメッキ被膜の表面
性を向上させようとするものである。
The present invention provides a surface treatment method for a hard disk substrate that is performed on a substrate mainly made of aluminum before forming a magnetic layer, in which the substrate mainly made of aluminum is immersed in a zincate solution, and then immersed in an acetic acid solution. By performing Ni--P plating, the adhesion of the Ni--P plating film to the substrate is increased, and the surface properties of the Ni--P plating film are improved.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

例えば、コンピュータ等の記憶媒体としては、ランダム
アクセスが可能な円板状の磁気ディスクが広く用いられ
ており、なかでも応答性に優れること、記憶容量が多い
ことから、基板にアルミニウムやアルミニウム合金等の
硬質材料を用いた磁気ディスクが固定ディスクあるいは
外部ディスクとして使用されるようになっている。
For example, disc-shaped magnetic disks that can be randomly accessed are widely used as storage media for computers, etc., and because they have excellent responsiveness and large storage capacity, aluminum or aluminum alloys are used as substrates. Magnetic disks made of hard materials have come to be used as fixed disks or external disks.

ところで、このようなハードディスクにあっては、磁気
へノドとの接触による衝撃等に耐えられるように、通常
、記録層たる磁性層とアルミニウム基板との間にNi−
Pメッキ被膜等のある程度硬度の高い膜を記録層の下地
膜として設けるようにしている。Ni−Pメッキ被膜は
、通常、アルミニラム基板をジンケート処理、すなわち
アルミニウム基板をジンケート液に浸漬し、該アルミニ
ウム基板上に亜鉛を置換してZn層を形成した後、その
上にNi−Pメッキをして作製される。
By the way, in such hard disks, Ni-Ni- is usually placed between the magnetic layer, which is the recording layer, and the aluminum substrate, so that it can withstand shocks caused by contact with the magnetic node.
A film having a certain degree of hardness, such as a P plating film, is provided as a base film for the recording layer. The Ni-P plating film is usually produced by zincating an aluminum substrate, that is, by immersing the aluminum substrate in a zincate solution, replacing zinc with a Zn layer on the aluminum substrate, and then applying Ni-P plating on top of the Zn layer. It is made by

この場合、Zn層とアルミニウム基板との間ではメタル
結合であるため、その結合力が高くなっている。これに
対して、Zn層の表面は水酸化亜鉛となっており、Zn
層と水酸化亜鉛層との結合力は比較的弱いものとなって
いる。このため、水酸化亜鉛層上に形成されたNi−P
メッキ被膜は、前記Zn層より剥がれ昌くなっており、
前記アルミニウム基板に対するメッキ膜の付着力が低下
している。
In this case, since metal bonding is used between the Zn layer and the aluminum substrate, the bonding strength is high. On the other hand, the surface of the Zn layer is zinc hydroxide;
The bond between the zinc hydroxide layer and the zinc hydroxide layer is relatively weak. For this reason, the Ni-P formed on the zinc hydroxide layer
The plating film has peeled off from the Zn layer,
The adhesion of the plating film to the aluminum substrate is reduced.

また、Ni−Pメッキ被膜を形成するときには、Zn層
の表面にある水酸化亜鉛層が部分的に溶は出し、その上
にNi−Pメッキすることになるので、当該Ni−Pメ
ッキ被膜の表面粗度が悪くなる傾向にある。
In addition, when forming a Ni-P plating film, the zinc hydroxide layer on the surface of the Zn layer is partially dissolved and Ni-P plating is applied on top of it, so the Ni-P plating film is Surface roughness tends to deteriorate.

〔発明が解決しようとするil!!り そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案された
ものであり、基板に対するNi−Pメッキ被膜の付着力
を高めるとともに、Ni−Pメッキ被膜表面の表面性を
向上させることが可能なハードディスク用基板の製造方
法を提供することを目的とするものである。
[il the invention tries to solve! ! Therefore, the present invention was proposed in view of the conventional situation, and is capable of increasing the adhesion of the Ni-P plating film to the substrate and improving the surface properties of the Ni-P plating film surface. The object of the present invention is to provide a method for manufacturing a hard disk substrate.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明のハードディスク用基板の表面処理方法は、上述
の目的を達成するために提案されたものであって、アル
ミニウムを主体とする基板をジンケート液に浸漬した後
、酢酸溶液中に浸漬し、その後Ni−Pメッキすること
を特徴とするものである。
The surface treatment method for a hard disk substrate of the present invention has been proposed to achieve the above-mentioned object, and includes immersing a substrate mainly made of aluminum in a zincate solution, then immersing it in an acetic acid solution, and then It is characterized by Ni-P plating.

〔作用〕[Effect]

アルミニウムを主体とする基板をジンケート液中に浸漬
すると、基板表面がZnと置換され、該アルミニウム基
板表面にZn層が形成される。このZn層は、その表面
が水酸化亜鉛とされる。
When a substrate mainly made of aluminum is immersed in a zincate solution, the surface of the substrate is replaced with Zn, and a Zn layer is formed on the surface of the aluminum substrate. The surface of this Zn layer is made of zinc hydroxide.

次いで、これを酢酸溶液中に浸漬すると、上記Zn層表
面の水酸化亜鉛が除去される。
Next, when this is immersed in an acetic acid solution, zinc hydroxide on the surface of the Zn layer is removed.

そして、このアルミニウム基板に対してNi−Pメッキ
を行うと、Zn層上にNi−Pメッキ被膜が形成される
Then, when Ni--P plating is performed on this aluminum substrate, a Ni--P plating film is formed on the Zn layer.

このようにして得られたNi−Pメッキ被膜は、Zn層
上に直接形成されるため、これらNi −Pメッキ被膜
とZn層がメタル結合し、付着力が確保される。
Since the Ni--P plating film thus obtained is formed directly on the Zn layer, the Ni--P plating film and the Zn layer are metal-bonded to ensure adhesion.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明を適用したハードディスク用基板の表面処
理方法の具体的な実施例について説明する。
Hereinafter, specific examples of a method for surface treatment of a hard disk substrate to which the present invention is applied will be described.

ハードディスク用基板を表面処理するには、以下の工程
順にしたがって行う。
Surface treatment of a hard disk substrate is carried out in the following order of steps.

先ず、ホウロウやセラミックスあるいは金属等よりなる
浴槽内にジンケート液を満たす。
First, a bath made of enamel, ceramics, metal, etc. is filled with a zincate solution.

ジンケート液には、従来よりこの種の分野で用いられて
いるものがいずれも適用でき、例えば、水酸化ナトリウ
ム、酸化亜鉛、ロンセル塩、硝酸ソーダ、塩化第二鉄等
を純水に溶かしたものが使用される。特に、本例では、
Zn層に対するNiPメッキ被膜の付着力の向上及びN
i−Pメッキ被膜の磁化防止並びにジンケート液の高寿
命化を図るため、前記ジンケート液中にグルコン酸を添
加したものを使用した。これまでのジンケート液では、
アルミニウム基板表面へのZn置換反応時にジンケート
液中のFe”がFe”となり、Fe”の増加により、前
記Zn層に対するN】Pメッキ被膜の付着力が低下する
。したがって、自ずとジンケート液の寿命が規定されて
しまう。
Any zincate solution that has been conventionally used in this type of field can be used, such as sodium hydroxide, zinc oxide, Roncel salt, sodium nitrate, ferric chloride, etc. dissolved in pure water. is used. In particular, in this example,
Improving the adhesion of the NiP plating film to the Zn layer and
In order to prevent magnetization of the i-P plating film and to extend the life of the zincate solution, gluconic acid was added to the zincate solution. With conventional zincate solutions,
During the Zn substitution reaction on the aluminum substrate surface, Fe" in the zincate solution becomes Fe", and as the amount of Fe" increases, the adhesion of the N]P plating film to the Zn layer decreases. Therefore, the life of the zincate solution is naturally shortened. It will be prescribed.

また、Fe”のアルミニウム基板表面への析出量が増大
することにより、Ni−Pメンキ被膜が磁化する。しか
し、ジンケート液中に適量のグルコン酸を添加すれば、
当該ジンケート液中のFe’・とグルコン酸が配位結合
し、Zn置換反応時におけるFe”からFe”への反応
が抑制される。したがって、Zn層に対するNi−Pメ
ッキ被膜の付着力が向上するとともに、当該Ni−Pメ
ッキ被膜は磁化され難くなる。また、これによりジンケ
ート液の寿命も延びる。特に、メンキの前処理液中でジ
ンケート液のコストの占める割合が高い(通常、60%
程度)ので、ジンケート液の長寿命化によるコストの低
減が図れる。
In addition, the Ni-P coating becomes magnetized by increasing the amount of Fe" precipitated on the aluminum substrate surface. However, if an appropriate amount of gluconic acid is added to the zincate solution,
Fe′· in the zincate solution forms a coordinate bond with gluconic acid, and the reaction from Fe” to Fe” during the Zn substitution reaction is suppressed. Therefore, the adhesion of the Ni--P plating film to the Zn layer is improved, and the Ni--P plating film is less likely to be magnetized. This also extends the life of the zincate solution. In particular, the cost of the zincate solution in the pretreatment solution for menki is high (usually 60%).
degree), it is possible to reduce costs by extending the life of the zincate solution.

ジンケート液に添加するグルコン酸の添加量としては、
例えば、ジンケート液ll中に5g〜100gとするこ
とが望ましい、グルコン酸の添加量が5g/j!未満と
なると、ジンケート液中にFe”が多くなる。逆に、グ
ルコン酸の添加量が100 g/ffiを越えるとZn
の置換反応速度が遅(なり、生産性が悪くなる。なお、
グルコン酸をジンケート液に添加することによるNi−
Pメッキ被膜への悪影響はない。
The amount of gluconic acid added to the zincate solution is as follows:
For example, the amount of gluconic acid added is preferably 5 g/j to 100 g per liter of zincate solution! If the amount of gluconic acid added exceeds 100 g/ffi, Fe'' will increase in the zincate solution.On the other hand, if the amount of gluconic acid added exceeds 100 g/ffi,
The substitution reaction rate becomes slow (and productivity deteriorates.
Ni− by adding gluconic acid to the zincate solution
There is no adverse effect on the P plating film.

次に、第1図に示すような、円板状のアルミニウム基板
(1)を前記ジンケート液に浸漬する。
Next, a disc-shaped aluminum substrate (1) as shown in FIG. 1 is immersed in the zincate solution.

このときのジンケート処理の条件は、特に限定されるこ
とはなく、従来よりこの種の分野で行われている条件が
採用できる。また、アルミニウム基板(1)には、例え
ば純Al基板、、l!合金基板5Af−Mg合金基板等
が使用される。
The conditions for the zincate treatment at this time are not particularly limited, and conditions conventionally used in this type of field can be employed. Further, the aluminum substrate (1) may be, for example, a pure Al substrate, l! Alloy substrate 5Af-Mg alloy substrate or the like is used.

この結果、第2図に示すように、前記アルミニウム基板
(1)の表面がZnで置換され、当該基板(1)の表面
上にZn層(2)が形成される。このときのZn層(2
)の表面は、水酸化亜鉛となっている。すなわち、Zn
層(2)は、その表面に水酸化亜鉛層(2a)を有した
形となる。
As a result, as shown in FIG. 2, the surface of the aluminum substrate (1) is substituted with Zn, and a Zn layer (2) is formed on the surface of the substrate (1). At this time, the Zn layer (2
) is made of zinc hydroxide. That is, Zn
The layer (2) has a zinc hydroxide layer (2a) on its surface.

次に、上記アルミニウム基板(1)を酢酸溶液中に浸漬
する。
Next, the aluminum substrate (1) is immersed in an acetic acid solution.

酢酸溶液としては、酢酸を純水で溶かしたものが使用さ
れる。酢酸の濃度としては、体積比で5%〜100%程
度が好ましく、作業性を考慮すると10%程度がより好
ましい、酢酸濃度が5%未満であると、水酸化亜鉛を除
去するのに時間がかかり生産性の面で不利となる。
The acetic acid solution used is acetic acid dissolved in pure water. The concentration of acetic acid is preferably about 5% to 100% by volume, and more preferably about 10% in consideration of workability. If the acetic acid concentration is less than 5%, it takes a long time to remove zinc hydroxide. This is disadvantageous in terms of productivity.

また、酢酸溶液の温度は、5°C〜50°C程度が好ま
しく、より好ましくは25°C程度とする。酢酸溶液の
温度が5°C未満であると、反応が遅くなり生産性が低
下する。逆に50°Cを越えると、反応が速過ぎてコン
トロールし難くなり、局部的にエツチングされる可能性
がある。また、処理時間は、20秒〜5分程度とし、よ
り好ましくは1分程度とする。処理時間が20秒未満で
あると、水酸化亜鉛を確実に除去することができず、逆
に5分を越えると、Zn層(2)までもがエンチングさ
れることになる。
Further, the temperature of the acetic acid solution is preferably about 5°C to 50°C, more preferably about 25°C. If the temperature of the acetic acid solution is less than 5°C, the reaction will be slow and productivity will decrease. On the other hand, if the temperature exceeds 50°C, the reaction will be too fast and difficult to control, leading to the possibility of local etching. Further, the processing time is about 20 seconds to 5 minutes, more preferably about 1 minute. If the treatment time is less than 20 seconds, zinc hydroxide cannot be reliably removed, and if it exceeds 5 minutes, even the Zn layer (2) will be etched.

この結果、第3図に示すように、前記Zn層(2)の表
面に形成されていた水酸化亜鉛層(2a)が除去される
。したがって、上記Zn層(2)の表面には、水酸化亜
鉛が一切なくなり、表面性に優れたZn層(2)のみが
露出する。
As a result, as shown in FIG. 3, the zinc hydroxide layer (2a) formed on the surface of the Zn layer (2) is removed. Therefore, no zinc hydroxide is present on the surface of the Zn layer (2), and only the Zn layer (2) with excellent surface properties is exposed.

そして、上記アルミニウム基板(1)をNi−Pメッキ
浴中に浸漬し、無電解メッキする。
Then, the aluminum substrate (1) is immersed in a Ni--P plating bath and subjected to electroless plating.

Ni−Pメッキ浴としては、特に限定されず、従来より
公知の例えばニッケル水溶性塩と次亜リン酸塩と錆化剤
、必要により安定剤、その他の添加剤よりなるNi−P
メッキ浴が使用できる。また、メッキ処理の条件も同様
、従来この種の分野で行われている条件が採用される。
The Ni-P plating bath is not particularly limited, and may be a Ni-P plating bath made of a conventionally known water-soluble nickel salt, hypophosphite, a rusting agent, a stabilizer if necessary, and other additives.
A plating bath can be used. Similarly, the conditions for plating treatment are the same as those conventionally used in this type of field.

この結果、上記Zn層(2)上にNi−Pメッキが析出
し、第4図に示すように、Ni−Pメッキ被11(3)
が形成される。
As a result, Ni-P plating is deposited on the Zn layer (2), and as shown in FIG.
is formed.

ここで形成されるNi−Pメッキ被膜(3)は、Zn層
(2)上に直接形成されることから、該Zn層(2) 
に対してメタル結合となる。したがって、前記Zn層(
2)に対するNi−Pメッキ被膜(3)の付着力が向上
し、当該Ni−Pメッキ被!l!(3)の前記Zn層(
2)からの膜剥がれがなくなる。また、ジンケート液中
には、グルコン酸が含有されているので、Ni−Pメッ
キ被膜(3)の付着力がより高まる。
Since the Ni-P plating film (3) formed here is directly formed on the Zn layer (2), the Zn layer (2)
It becomes a metal bond. Therefore, the Zn layer (
The adhesion of the Ni-P plating film (3) to 2) is improved, and the Ni-P plating film (3) is improved! l! (3) The Zn layer (
2) No more peeling of the film. Furthermore, since the zincate solution contains gluconic acid, the adhesion of the Ni-P plating film (3) is further enhanced.

さらに、Ni−Pメッキ被膜(3)は、表面が平滑とさ
れたZn層(2)上に直接形成されるため、当gLNi
−Pメッキ被II(3)の表面性が向上する。
Furthermore, since the Ni-P plating film (3) is directly formed on the smooth Zn layer (2), the gLNi
- The surface properties of the P-plated object II (3) are improved.

また、結果として余分なZn層が除去されること、およ
びジンケート中に含まれるFe”の量が少ないことから
、Ni−Pメッキ被膜(3)が磁化され難くなる。
Furthermore, since the excess Zn layer is removed as a result and the amount of Fe'' contained in the zincate is small, the Ni-P plating film (3) becomes difficult to magnetize.

ここで、実際に以下の条件に基づきハードディスク用基
板の表面処理を行った。
Here, the surface treatment of a hard disk substrate was actually performed based on the following conditions.

ス1111 先ず、 した。S1111 First of all, did.

ジンケート液の組成 水酸化ナトリウム 酸化亜鉛 ロッセル塩 硝酸ソーダ 塩化第二鉄 グルコン酸 純水 以下の組成よりなるジンケート液を作製120g/42 20 g#! 50g/1 1g/! 2g/j! 10g/l 残部 次に、上記ジンケート液中にアルミニウム基板を浸漬し
、このアルミニウム基板に対してジンケート処理を行っ
た。
Composition of zincate solution Sodium hydroxide Zinc oxide Rossel's salt Sodium nitrate Ferric chloride Gluconic acid Pure water A zincate solution with the following composition was prepared: 120 g/42 20 g #! 50g/1 1g/! 2g/j! 10 g/l remainder Next, an aluminum substrate was immersed in the above zincate solution, and the aluminum substrate was subjected to zincate treatment.

次いで、上記アルミニウム基板を純水に体積比で濃度l
O%となるように酢酸を溶かした酢酸溶液中に浸漬した
Next, the aluminum substrate was added to pure water at a concentration of l by volume.
It was immersed in an acetic acid solution in which acetic acid was dissolved so that the concentration was 0%.

なお、このときの酢酸溶液の温度を25°Cとし、処理
時間を1分とした。
Note that the temperature of the acetic acid solution at this time was 25° C., and the treatment time was 1 minute.

そして最後に、以下の組成よりなるメッキ浴中ニ前記ア
ルミニウム基板を浸漬し、当該アルミニウム基板に対し
て無電解メッキを行った。
Finally, the aluminum substrate was immersed in a plating bath having the following composition, and electroless plating was performed on the aluminum substrate.

メッキ浴の組成 硫酸ニッケル 次亜リン酸ソーダ リンゴ酸 コハク酸ナトリウム 塩化マグネシウム 25g/1 30g# 30 g / 1 16 g/42 19、6 g / 1 (Mg5g/lに相当) 此、、!IL グルコン酸を含まないジンケート液でジンケート処理を
行った他は、実施例1と同様とした。
Plating bath composition Nickel sulfate Sodium hypophosphite Malate Sodium succinate Magnesium chloride 25 g/1 30 g #30 g/1 16 g/42 19,6 g/1 (equivalent to Mg5 g/l) This...! IL The procedure was the same as in Example 1 except that the zincate treatment was performed with a zincate solution containing no gluconic acid.

此111λ 酢酸溶液中にアルミニウム基板を浸漬しなかった他は、
実施例1と同様とした。
This 111λ Except that the aluminum substrate was not immersed in the acetic acid solution,
The procedure was the same as in Example 1.

ル較貰ニ ゲルコン酸を含まないジンケート液でジンケート処理を
行い、酢酸溶液中にアルミニウム基板を浸漬せず、その
後直ちに無電解メッキを行った他は、実施例】と同様と
した。
The procedure was the same as in Example, except that the zincate treatment was performed with a zincate solution containing no gelconic acid, and the aluminum substrate was not immersed in the acetic acid solution, and electroless plating was performed immediately thereafter.

そして、得られたこれらアルミニウム基板の外周縁部を
二点支持して当該アルミニウム基板をおよそ180度に
折り曲げ、゛前記各Ni−Pメンキ被膜の膜剥がれを測
定した。
Then, the outer peripheral edge of each of the obtained aluminum substrates was supported at two points, and the aluminum substrates were bent at approximately 180 degrees, and the peeling of each of the Ni--P blank coatings was measured.

その結果、実施例1及び比較例1では、アルミニウム基
板15枚のうち1枚しか膜剥がれを生じなかったが、比
較例2及び比較例3ではアルミニウム基板15枚中9枚
も膜剥がれを生じた。
As a result, in Example 1 and Comparative Example 1, film peeling occurred on only one out of 15 aluminum substrates, but in Comparative Example 2 and Comparative Example 3, film peeling occurred on 9 out of 15 aluminum substrates. .

さらに、実施例1及び比較例3のアルミニウム基板を2
90°Cで1時間加熱し、その後のNiPメッキ被膜の
帯磁特性を調べた。
Furthermore, the aluminum substrates of Example 1 and Comparative Example 3 were
After heating at 90°C for 1 hour, the magnetic properties of the NiP plating film were examined.

その結果を第5図及び第6図に示す。なお、第5図は、
比較例3におけるNi−Pメ、キ被膜の帯磁特性を示し
、第6図は実施例1におけるNiPメッキ被膜の帯磁特
性を示す。
The results are shown in FIGS. 5 and 6. In addition, Fig. 5 shows
The magnetization characteristics of the Ni-P plated film in Comparative Example 3 are shown, and FIG. 6 shows the magnetization characteristics of the NiP plated film in Example 1.

これら第5図及び第6図かられかるように、グルコン酸
を添加したジンケート液を用いてジンケート処理を行い
、酢酸溶液中にアルミニウム基板を浸漬した場合(実施
例])には、はとんど磁化されなかったが、これらをい
ずれも行わなかった場合(比較例3)には、飽和磁束密
度Bs約5ガウス程度を示し、帯磁することが確認され
た。
As can be seen from these Figures 5 and 6, when zincate treatment is performed using a zincate solution to which gluconic acid is added and an aluminum substrate is immersed in an acetic acid solution (Example), Although it was not demagnetized, in the case where none of these steps were carried out (Comparative Example 3), the saturation magnetic flux density Bs was approximately 5 Gauss, and it was confirmed that magnetization occurred.

〔発明の効果] 以上の説明からも明らかなように、本発明の方法におい
ては、アルミニウムを主体とする基板をジンケート処理
した後、酢酸溶液中に浸漬しているので、Zn層表面上
に形成される水酸化亜鉛を除去することができ、その後
のNi−Pメンキ処理で当該Ni−Pメ、キ被膜とZn
層をメタル結合させることができる。
[Effects of the Invention] As is clear from the above explanation, in the method of the present invention, a substrate mainly made of aluminum is subjected to a zincate treatment and then immersed in an acetic acid solution, so that no damage is formed on the surface of the Zn layer. Zinc hydroxide can be removed, and the subsequent Ni-P coating can remove the Ni-P coating and the Zn coating.
The layers can be metal bonded.

したがって、前記Zn層に対するNi−Pメ。Therefore, the Ni-P layer for the Zn layer.

キ被膜の付着力を向上させることができ、これにより当
INi  Pメッキ被膜のアルミニウム基板からの膜剥
がれを防止することができる。
The adhesion of the INi P plating film can be improved, thereby preventing the INi P plating film from peeling off from the aluminum substrate.

また、本発明の方法においては、Zn層の表面に水酸化
亜鉛層が一切存在しないため、Ni−Pメッキ被膜を平
滑なZn層上に直接形成することができ、当該Ni−P
メッキ被膜の表面性を向上させることができる。
Furthermore, in the method of the present invention, since no zinc hydroxide layer exists on the surface of the Zn layer, the Ni-P plating film can be directly formed on the smooth Zn layer, and the Ni-P plating film can be directly formed on the smooth Zn layer.
The surface properties of the plating film can be improved.

さらに、本発明の方法によれば、結果として余分なZn
層が除去されるとともに、Ni−Pメッキ被膜の磁化を
防止する上で有利である。
Furthermore, according to the method of the present invention, as a result, excess Zn
This layer is removed and is advantageous in preventing magnetization of the Ni-P plating.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図ないし第4図は本発明方法によりハードディスク
用基板を製造する工程を模式的に順次示す要部拡大断面
図であり、第1図は処理前のアルミニウム基板を示し、
第2図はジンケート処理工程、第3図は酢酸溶液浸漬工
程、第4図はNi〜Pメッキ工程をそれぞれ示す。 第5図は比較例3におけるNi−Pメッキ被膜の帯磁特
性を示す特性図、第6図は実施例1におけるNi−Pメ
ッキ被膜の帯磁特性を示す特性図である。 l・・・アルミニウム基板 2・・・Zn層 2a・・・水酸化亜鉛層 3・・・Ni−Pメッキ被膜 特許出願人   ソニー株式会社 代理人 弁理士 小 池   晃(他2名)第1図 2;1 第2図 第3図 第4図 第5図 第6図 手続補正書帽発) 平成 2年 8月27日 特許庁長官  植 松  敏 殿 1、事件の表示 平成2年 特許層 第126835号 2、発明の名称 ハードディスク用基板の表面処理方法 3、補正をする者 事件との関係  特許出願人 住所 東京部品用図化品用6丁目7番35号名称(21
8)ソニー株式会社 代表者 大 賀 典 雄 4、代理人 住所 〒105 東京都港区虎ノ門二丁目6番4号 第11森ビル11階 k (508) 8266■7゜ 補正の内容 第60を別紙の通り補正する。 以上
1 to 4 are enlarged cross-sectional views of main parts schematically sequentially showing the steps of manufacturing a hard disk substrate by the method of the present invention, and FIG. 1 shows an aluminum substrate before processing,
FIG. 2 shows the zincate treatment process, FIG. 3 shows the acetic acid solution immersion process, and FIG. 4 shows the Ni to P plating process. FIG. 5 is a characteristic diagram showing the magnetization characteristics of the Ni-P plating film in Comparative Example 3, and FIG. 6 is a characteristic diagram showing the magnetization characteristics of the Ni-P plating film in Example 1. l...Aluminum substrate 2...Zn layer 2a...Zinc hydroxide layer 3...Ni-P plating coating Patent applicant Sony Corporation representative Patent attorney Akira Koike (and 2 others) Figure 1 2; 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6 Procedural amendments issued by Toshi Uematsu August 27, 1990 Commissioner of the Japan Patent Office 1, Indication of the case 1990 Patent layer No. 126835 No. 2, Name of the invention Surface treatment method for hard disk substrates 3, Relationship with the case of the person making the amendment Patent applicant address No. 6-7-35, Tokyo Parts Designed Product Name (21
8) Sony Corporation Representative Norio Ohga 4, Agent address: 11th floor, Mori Building, 11th Mori Building, 2-6-4 Toranomon, Minato-ku, Tokyo 105 K (508) 8266■7゜Contents of amendment No. 60 attached. Correct as shown. that's all

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] アルミニウムを主体とする基板をジンケート液に浸漬し
た後、酢酸溶液中に浸漬し、その後Ni−Pメッキする
ことを特徴とするハードディスク用基板の表面処理方法
A method for surface treatment of a hard disk substrate, which comprises immersing a substrate mainly made of aluminum in a zincate solution, then immersing it in an acetic acid solution, and then plating it with Ni--P.
JP12683590A 1990-05-18 1990-05-18 Surface treatment of substrate for hard disk Pending JPH0423221A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019052327A (en) * 2017-09-12 2019-04-04 奥野製薬工業株式会社 Method of forming electroless nickel phosphorus plating coating on aluminum material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2019052327A (en) * 2017-09-12 2019-04-04 奥野製薬工業株式会社 Method of forming electroless nickel phosphorus plating coating on aluminum material

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