JPH04230999A - プラズマ発生器 - Google Patents
プラズマ発生器Info
- Publication number
- JPH04230999A JPH04230999A JP3097992A JP9799291A JPH04230999A JP H04230999 A JPH04230999 A JP H04230999A JP 3097992 A JP3097992 A JP 3097992A JP 9799291 A JP9799291 A JP 9799291A JP H04230999 A JPH04230999 A JP H04230999A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plasma generator
- conductor
- induction coil
- capacitor
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004020 conductor Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 33
- 230000006698 induction Effects 0.000 claims description 25
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 6
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 claims description 3
- 239000002826 coolant Substances 0.000 claims description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 3
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 claims 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 abstract description 3
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 abstract description 3
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 abstract description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 230000010360 secondary oscillation Effects 0.000 description 3
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000011067 equilibration Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000012809 cooling fluid Substances 0.000 description 1
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/321—Radio frequency generated discharge the radio frequency energy being inductively coupled to the plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03B—GENERATION OF OSCILLATIONS, DIRECTLY OR BY FREQUENCY-CHANGING, BY CIRCUITS EMPLOYING ACTIVE ELEMENTS WHICH OPERATE IN A NON-SWITCHING MANNER; GENERATION OF NOISE BY SUCH CIRCUITS
- H03B5/00—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input
- H03B5/18—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance
- H03B5/1817—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance the frequency-determining element being a cavity resonator
- H03B5/1835—Generation of oscillations using amplifier with regenerative feedback from output to input with frequency-determining element comprising distributed inductance and capacitance the frequency-determining element being a cavity resonator the active element in the amplifier being a vacuum tube
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、誘導コイル中にプラズ
マ放電を発生させるために同調4分の1波長共振系を有
する発振回路が設けられているプラズマ発生器であって
、分光器により分析すべき物質を含有するエーロゾルを
加熱するためにこのプラズマ発生器により誘導コイルに
給電するようになっている当該プラズマ発生器に関する
ものである。
マ放電を発生させるために同調4分の1波長共振系を有
する発振回路が設けられているプラズマ発生器であって
、分光器により分析すべき物質を含有するエーロゾルを
加熱するためにこのプラズマ発生器により誘導コイルに
給電するようになっている当該プラズマ発生器に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】このようなプラズマ発生器は欧州特許第
EP22404号明細書に記載されている。この欧州特
許明細書に記載された装置には、送信管と、プラズマが
形成される誘導コイルに例えば約40〜60MHzの高
周波共振振動信号を供給する4分の1波長共振系を有す
る発振器とが設けられている。この欧州特許明細書に開
示されたプラズマ発生器には、その大きさを減少させる
とともに特に供給する加熱用の電流を減少させる目的で
、1つのみの送信管が設けられ、この送信管の陽極が4
分の1波長共振系の第1(能動)導体に誘導的に結合さ
れ、一方共振系の第2(受動)導体が送信管の陽極に容
量的に結合されている。
EP22404号明細書に記載されている。この欧州特
許明細書に記載された装置には、送信管と、プラズマが
形成される誘導コイルに例えば約40〜60MHzの高
周波共振振動信号を供給する4分の1波長共振系を有す
る発振器とが設けられている。この欧州特許明細書に開
示されたプラズマ発生器には、その大きさを減少させる
とともに特に供給する加熱用の電流を減少させる目的で
、1つのみの送信管が設けられ、この送信管の陽極が4
分の1波長共振系の第1(能動)導体に誘導的に結合さ
れ、一方共振系の第2(受動)導体が送信管の陽極に容
量的に結合されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】このようなプラズマ発
生器には、特に4分の1波長導体が比較的長くなる(例
えば40MHzの場合その長さは1.5 mよりも長く
なる)為にプラズマ発生器が比較的大型となるという欠
点がある。又、4分の1波長共振系の2つの導体の相対
的な平衡は特に時間に対して測定してしばしば所望値か
らずれる。
生器には、特に4分の1波長導体が比較的長くなる(例
えば40MHzの場合その長さは1.5 mよりも長く
なる)為にプラズマ発生器が比較的大型となるという欠
点がある。又、4分の1波長共振系の2つの導体の相対
的な平衡は特に時間に対して測定してしばしば所望値か
らずれる。
【0004】本発明の目的は、特に上述した欠点を無く
することにある。
することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は、誘導コイル中
にプラズマ放電を発生させるために同調4分の1波長共
振系を有する発振回路が設けられているプラズマ発生器
であって、分光器により分析すべき物質を含有するエー
ロゾルを加熱するためにこのプラズマ発生器により誘導
コイルに給電するようになっている当該プラズマ発生器
において、4分の1波長導体を折り返すことにより複数
の区分に分割し、相互平衡をとるためにこれら区分の少
なくとも1つが、接地電位点に接続された高周波発生器
の構成素子に容量的に結合されていることを特徴とする
。
にプラズマ放電を発生させるために同調4分の1波長共
振系を有する発振回路が設けられているプラズマ発生器
であって、分光器により分析すべき物質を含有するエー
ロゾルを加熱するためにこのプラズマ発生器により誘導
コイルに給電するようになっている当該プラズマ発生器
において、4分の1波長導体を折り返すことにより複数
の区分に分割し、相互平衡をとるためにこれら区分の少
なくとも1つが、接地電位点に接続された高周波発生器
の構成素子に容量的に結合されていることを特徴とする
。
【0006】本発明によるプラズマ発生器では、4分の
1波長導体が直線に沿って位置するものではない為、こ
のプラズマ発生器をよりコンパクトな構成にでき、異な
る導体区分に追加の機能を与えることにより平衡化を改
善しうる。
1波長導体が直線に沿って位置するものではない為、こ
のプラズマ発生器をよりコンパクトな構成にでき、異な
る導体区分に追加の機能を与えることにより平衡化を改
善しうる。
【0007】本発明によるプラズマ発生器には1つの送
信管を設け、4分の1波長共振系の受動導体に可変キャ
パシタンスを加え、この可変キャパシタンスにより双方
の導体間の対称性を常に補正しうる。特に、固定のキャ
パシタンスと可変のキャパシタスンとを有する受動導体
を導体共振系の中心零点に結合する。
信管を設け、4分の1波長共振系の受動導体に可変キャ
パシタンスを加え、この可変キャパシタンスにより双方
の導体間の対称性を常に補正しうる。特に、固定のキャ
パシタンスと可変のキャパシタスンとを有する受動導体
を導体共振系の中心零点に結合する。
【0008】平衡化の正確な設定を行なうために、平衡
化操作に際し最小輝度に調整しうる小型の白熱電球を設
けるのが好ましい。
化操作に際し最小輝度に調整しうる小型の白熱電球を設
けるのが好ましい。
【0009】更に、誘導コイルが設けられた二次共振回
路に可変キュパシタンスを設け、誘導コイルを有しプラ
ズマ放電を行なう二次共振回路が発振周波数に最適に適
合されるようにするのが好ましい。好適例では、この可
変キャパシタンスを固定キャパシタと可変キャパシタと
を以って構成し、種々の特性の物質を分析するのに必要
な平衡化の正確な設定を達成しうるようにする。
路に可変キュパシタンスを設け、誘導コイルを有しプラ
ズマ放電を行なう二次共振回路が発振周波数に最適に適
合されるようにするのが好ましい。好適例では、この可
変キャパシタンスを固定キャパシタと可変キャパシタと
を以って構成し、種々の特性の物質を分析するのに必要
な平衡化の正確な設定を達成しうるようにする。
【0010】他の好適例では、誘導コイルの高さを所望
の周波数の設定と平衡化とが妨害されることなく二次共
振回路全体と一緒に調整しうるようにする。このように
することにより、例えばプラズマ誘導コイルの位置を分
光器の所定の位置に最適に適合せしめうるようになる。 この高さの調整を4分の1波長ケーブル系の均質路に制
限することにより同調妨害を減少せしめる。この高さの
調整中は摺動接点又は可撓性接続手段により4分の1波
長ケーブル系の中央の接地部への直流接続が保持される
ようにするのが好ましい。この高さの調整は手動により
或いはモータ又は空気圧力起動により任意に行なうこと
ができる。
の周波数の設定と平衡化とが妨害されることなく二次共
振回路全体と一緒に調整しうるようにする。このように
することにより、例えばプラズマ誘導コイルの位置を分
光器の所定の位置に最適に適合せしめうるようになる。 この高さの調整を4分の1波長ケーブル系の均質路に制
限することにより同調妨害を減少せしめる。この高さの
調整中は摺動接点又は可撓性接続手段により4分の1波
長ケーブル系の中央の接地部への直流接続が保持される
ようにするのが好ましい。この高さの調整は手動により
或いはモータ又は空気圧力起動により任意に行なうこと
ができる。
【0011】プラズマ誘導コイルと二次共振回路のコイ
ルとを冷却する目的のために、これらの素子は中空パイ
プの形態にするのが好ましい。このパイプは、好ましく
は電気絶縁性の管を介して、冷却液源に結合する。これ
らの管は高さ調整中に変形するように変形可能な種類の
ものとする。この変形は管の材質又は形状のいずれかを
適切に選択することにより得られる。
ルとを冷却する目的のために、これらの素子は中空パイ
プの形態にするのが好ましい。このパイプは、好ましく
は電気絶縁性の管を介して、冷却液源に結合する。これ
らの管は高さ調整中に変形するように変形可能な種類の
ものとする。この変形は管の材質又は形状のいずれかを
適切に選択することにより得られる。
【0012】
【実施例】図1に示す本発明プラズマ発生器の発振回路
は、送信管1と、能動4分の1波長導体2と、受動4分
の1波長導体4と、格子回路6と、陰極回路8とを有す
る。送信管1は排気された容器10と、陽極12と、格
子14と、陰極16とを有する無線周波数管である。こ
の場合、陰極はその一方の側で接地され、他方の側でキ
ャパシタ18により大地から無線周波減結合されている
。格子回路6は自己インダクタンス22と、キャパシタ
24と、抵抗26と、任意ではあるが接地電位点に接続
された電流計28とを有している。前述したように抵抗
26は自己インダクタンス22とキャパシタ24との間
に配置しうるも、自己インダクタンス22と格子14と
の間に配置することもでき、この場合他のキャパシタを
設ける。陽極12は4分1波長共振系の能動4分の1波
長導体2の第1端部30に直流結合されている。受動4
分の1波長導体4の第1端部32はキャパシ34により
大地に結合されている。本発明によれば、能動および受
動4分の1波長導体をそれぞれ、この場合2つのほぼ等
しい部分31,33および35,37に分割する。受動
4分の1波長導体の第1端部32の付近にはキャパシタ
34に加えてキャパシタ39を設ける。導体部分33の
端部40と中心点42との間および導体部分37の第1
端部44と中心点42との間にはそれぞれ白熱電球50
および51を配置する。これら白熱電球が同じ最小の輝
度に設定されると、導体は互いに平衡化されたことにな
る。この目的のために、キャパシタ34および39のう
ちの一方を可変キャパシタとする。導体の第1端部40
および44はキャパシタ54、自己インダクタンス56
およびキャパシタ58を経て電源端子59に接続する。
は、送信管1と、能動4分の1波長導体2と、受動4分
の1波長導体4と、格子回路6と、陰極回路8とを有す
る。送信管1は排気された容器10と、陽極12と、格
子14と、陰極16とを有する無線周波数管である。こ
の場合、陰極はその一方の側で接地され、他方の側でキ
ャパシタ18により大地から無線周波減結合されている
。格子回路6は自己インダクタンス22と、キャパシタ
24と、抵抗26と、任意ではあるが接地電位点に接続
された電流計28とを有している。前述したように抵抗
26は自己インダクタンス22とキャパシタ24との間
に配置しうるも、自己インダクタンス22と格子14と
の間に配置することもでき、この場合他のキャパシタを
設ける。陽極12は4分1波長共振系の能動4分の1波
長導体2の第1端部30に直流結合されている。受動4
分の1波長導体4の第1端部32はキャパシ34により
大地に結合されている。本発明によれば、能動および受
動4分の1波長導体をそれぞれ、この場合2つのほぼ等
しい部分31,33および35,37に分割する。受動
4分の1波長導体の第1端部32の付近にはキャパシタ
34に加えてキャパシタ39を設ける。導体部分33の
端部40と中心点42との間および導体部分37の第1
端部44と中心点42との間にはそれぞれ白熱電球50
および51を配置する。これら白熱電球が同じ最小の輝
度に設定されると、導体は互いに平衡化されたことにな
る。この目的のために、キャパシタ34および39のう
ちの一方を可変キャパシタとする。導体の第1端部40
および44はキャパシタ54、自己インダクタンス56
およびキャパシタ58を経て電源端子59に接続する。
【0013】図2は一方の4分の1波長導体、特に発振
回路の能動4分の1波長導体を詳細に示している。第1
端部30は送信管1の高電圧陽極12に接続されている
。第1導体部分31は金属ストリップの形態で接地中央
スクリーン(遮蔽板)60に沿って平行で上方に延在し
ている。第1導体部分31の第2端部62はこれに適合
した幾何学的形状の金属ストリップ64を経て第2導体
部分33の第2端部66に接続され、この第2導体部分
33は中央スクリーンと対向して下方に延在しその他の
点に関しては第1導体部分と同じである。これらの導体
部分(ストリップ)31および33は絶縁性のスペーサ
68を用いて中央スクリーン60から一定の距離、例え
ば5cmに保たれている。第1導体部分の第1端部30
の付近にはキャパシタ46が設けられている。このキャ
パシタは第1導体部分と平行でこの第1導体部分と中央
スクリーンとの間に配置した金属プレートを以って構成
するのが好ましい。このキャパシタのキャパシタンスを
設定するために、このキャパシタの金属プレートと第1
導体部分との間の間隔を変えうるようにする。キャパシ
タ46を可変とすることにより4分1波長導体の周波数
整合を簡単に行ないうる。
回路の能動4分の1波長導体を詳細に示している。第1
端部30は送信管1の高電圧陽極12に接続されている
。第1導体部分31は金属ストリップの形態で接地中央
スクリーン(遮蔽板)60に沿って平行で上方に延在し
ている。第1導体部分31の第2端部62はこれに適合
した幾何学的形状の金属ストリップ64を経て第2導体
部分33の第2端部66に接続され、この第2導体部分
33は中央スクリーンと対向して下方に延在しその他の
点に関しては第1導体部分と同じである。これらの導体
部分(ストリップ)31および33は絶縁性のスペーサ
68を用いて中央スクリーン60から一定の距離、例え
ば5cmに保たれている。第1導体部分の第1端部30
の付近にはキャパシタ46が設けられている。このキャ
パシタは第1導体部分と平行でこの第1導体部分と中央
スクリーンとの間に配置した金属プレートを以って構成
するのが好ましい。このキャパシタのキャパシタンスを
設定するために、このキャパシタの金属プレートと第1
導体部分との間の間隔を変えうるようにする。キャパシ
タ46を可変とすることにより4分1波長導体の周波数
整合を簡単に行ないうる。
【0014】図3は4分の1波長共振系の受動4分の1
波長導体の一例を簡単に示すものである。第1導体部分
35は第1端部32とは逆に向いた第2端部70を有し
、この第2端部はストリップ72を経て第2導体部分3
7の第2端部74に接続されている。又、可変キャパシ
タ39および固定キャパシタ34が例えば第1導体部分
35の第1端部32の付近に設けられている。キャパシ
タ39のキャパシタンスを変え且つ指示器である白熱電
球50および51を用いることにより、導体部分35,
37と導体部分31,33とが平衡化される。この場合
も、ストリップ状の導体部分35および37がスペーサ
68により中央スクリーン60から約5cmの一定距離
に装着されている。
波長導体の一例を簡単に示すものである。第1導体部分
35は第1端部32とは逆に向いた第2端部70を有し
、この第2端部はストリップ72を経て第2導体部分3
7の第2端部74に接続されている。又、可変キャパシ
タ39および固定キャパシタ34が例えば第1導体部分
35の第1端部32の付近に設けられている。キャパシ
タ39のキャパシタンスを変え且つ指示器である白熱電
球50および51を用いることにより、導体部分35,
37と導体部分31,33とが平衡化される。この場合
も、ストリップ状の導体部分35および37がスペーサ
68により中央スクリーン60から約5cmの一定距離
に装着されている。
【0015】図4は、プラズマ放電を生ぜしめうる誘導
コイル80を有する二次発振回路79の一例を示す線図
である。この発振回路79は更に2本の導体82および
84と、第1キャパシタ86と、この場合可変キャパシ
タとして構成した第2キャパシタ88とを有し、この可
変キャパシタにより二次発振回路を、誘導コイルが異な
って帯電されることにより生じるインピーダンス変化に
整合せしめることができる。2本の導体82および84
は導電性の接続部材90により相互接続されている。
コイル80を有する二次発振回路79の一例を示す線図
である。この発振回路79は更に2本の導体82および
84と、第1キャパシタ86と、この場合可変キャパシ
タとして構成した第2キャパシタ88とを有し、この可
変キャパシタにより二次発振回路を、誘導コイルが異な
って帯電されることにより生じるインピーダンス変化に
整合せしめることができる。2本の導体82および84
は導電性の接続部材90により相互接続されている。
【0016】冷却を行なうために、誘導コイルの導体と
導体82および84とを連続的に中空な導電性のパイプ
の形態とし、このパイプを絶縁性の連結手段92および
94を介して冷却液供給源96に連結する。本発明によ
るプラズマ発生器では、誘導コイルの高さを調整しうる
ようにするため、連結手段92および94は、例えば部
分的に可撓性の管を用いることにより或いは管を例えば
局部的に螺旋の形態で設計するこめとにより或いは管を
部分的にアコーディオンパイプとして設計することによ
り変形可能にしうる。摺動接点或いは他の種類の可撓性
導電接続手段を用いることにより、二次発振回路79は
高さの再調整中に、接地された中央スクリーンに導電接
続された状態に保つことができる。従って、誘導コイル
80も二次発振回路を介して接地接続されたままになる
。このことは、高電圧点に接続される誘導コイルが火花
放電を誘起するおそれのある状態で特に有利なことであ
る。このような状態はその構造上例えば特に質量分析に
おいて生じる。
導体82および84とを連続的に中空な導電性のパイプ
の形態とし、このパイプを絶縁性の連結手段92および
94を介して冷却液供給源96に連結する。本発明によ
るプラズマ発生器では、誘導コイルの高さを調整しうる
ようにするため、連結手段92および94は、例えば部
分的に可撓性の管を用いることにより或いは管を例えば
局部的に螺旋の形態で設計するこめとにより或いは管を
部分的にアコーディオンパイプとして設計することによ
り変形可能にしうる。摺動接点或いは他の種類の可撓性
導電接続手段を用いることにより、二次発振回路79は
高さの再調整中に、接地された中央スクリーンに導電接
続された状態に保つことができる。従って、誘導コイル
80も二次発振回路を介して接地接続されたままになる
。このことは、高電圧点に接続される誘導コイルが火花
放電を誘起するおそれのある状態で特に有利なことであ
る。このような状態はその構造上例えば特に質量分析に
おいて生じる。
【図1】本発明によるプラズマ発生器用基本回路構成を
示す回路図である。
示す回路図である。
【図2】プラズマ発生器に用いる能動4分の1波長導体
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図3】プラズマ発生器に用いる受動4分の1波長導体
を示す構成図である。
を示す構成図である。
【図4】誘導コイルが設けられた二次発振回路の一実施
例を示す回路図である。
例を示す回路図である。
1 送信管
2 能動4分の1波長導体
4 受動4分の1波長導体
6 格子回路
8 陰極回路
10 容器
12 陽極
14 格子
16 陰極
31,35 第1導体部分
33,37 第2導体部分
50,51 白熱電球
60 中央スクリーン
68 スペーサ
79 二次発振回路
80 誘導タイル
82,84 導体
86 第1キャパシタ
88 第2キャパシタ
90 接続部材
92,94 連結手段
96 冷却液供給源
Claims (10)
- 【請求項1】 誘導コイル中にプラズマ放電を発生さ
せるために同調4分の1波長共振系を有する発振回路が
設けられているプラズマ発生器であって、分光器により
分析すべき物質を含有するエーロゾルを加熱するために
このプラズマ発生器により誘導コイルに給電するように
なっている当該プラズマ発生器において、4分の1波長
導体を折り返すことにより複数の区分に分割し、相互平
衡をとるためにこれら区分の少なくとも1つが、接地電
位点に接続された高周波発生器の構成素子に容量的に結
合されていることを特徴とするプラズマ発生器。 - 【請求項2】 請求項1に記載のプラズマ発生器にお
いて、このプラズマ発生器に1つの送信管が設けられ、
導体を平衡化するために前記の送信管側とは反対側の発
振回路の受動導体の端部に追加の接地キャパシタンスを
設けたことを特徴とするプラズマ発生器。 - 【請求項3】 請求項2に記載のプラズマ発生器にお
いて、受動導体に可変キャパシタンスと固定キャパシタ
ンスとの双方が設けられていることを特徴とするプラズ
マ発生器。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか一項に記載の
プラズマ発生器において、発振回路の双方の導体に、こ
れらを平衡化させる目的で、対称的に配置した白熱電球
が設けられていることを特徴とするプラズマ発生器。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項に記載の
プラズマ発生器において、プラズマ誘導コイルを有する
二次共振回路に、帯電した誘導コイルのインピーダンス
変化に周波数整合させるための可変キャパシタンスが設
けられていることを特徴とするプラズマ発生器。 - 【請求項6】 請求項5に記載のプラズマ発生器にお
いて、キャパシタスンが固定キャパシタと可変キャパシ
タとを以って構成されていることを特徴とするプラズマ
発生器。 - 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか一項に記載の
プラズマ発生器において、誘導コイルを有する二次共振
回路を4分の1波長共振系の均質部分を通って移動させ
ることにより、この二次共振回路の高さを導体の平衡化
に妨害を及ぼすことなく調整しうるようにこの二次共振
回路がプラズマ発生器に装着されていることを特徴とす
るプラズマ発生器。 - 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか一項に記載の
プラズマ発生器において、誘導コイルを有する二次共振
回路が可撓性の電気接続手段により接地点に接続されて
いることを特徴とするプラズマ発生器。 - 【請求項9】 請求項1〜8のいずれか一項に記載の
プラズマ発生器において、誘導コイルを有する二次共振
回路の一部分が、冷却液供給源に連結しうる中空の導電
性のパイプの形態となっていることを特徴とするプラズ
マ発生器。 - 【請求項10】 請求項9に記載のプラズマ発生器に
おいて、冷却液供給源への連結部が変形可能な電気絶縁
性の管を有していることを特徴とするプラズマ発生器。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL9000809 | 1990-04-06 | ||
NL9000809A NL9000809A (nl) | 1990-04-06 | 1990-04-06 | Plasmagenerator. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04230999A true JPH04230999A (ja) | 1992-08-19 |
Family
ID=19856877
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3097992A Pending JPH04230999A (ja) | 1990-04-06 | 1991-04-04 | プラズマ発生器 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5180949A (ja) |
EP (1) | EP0450727A1 (ja) |
JP (1) | JPH04230999A (ja) |
NL (1) | NL9000809A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6030667A (en) * | 1996-02-27 | 2000-02-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for applying RF power apparatus and method for generating plasma and apparatus and method for processing with plasma |
WO2001019144A1 (fr) * | 1999-09-09 | 2001-03-15 | Anelva Corporation | Dispositif de traitement au plasma a electrode interieure et procede associe |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4241927C2 (de) * | 1992-12-11 | 1994-09-22 | Max Planck Gesellschaft | Zur Anordnung in einem Vakuumgefäß geeignete selbsttragende isolierte Elektrodenanordnung, insbesondere Antennenspule für einen Hochfrequenz-Plasmagenerator |
AU2003195A (en) * | 1994-06-21 | 1996-01-04 | Boc Group, Inc., The | Improved power distribution for multiple electrode plasma systems using quarter wavelength transmission lines |
US6685762B1 (en) * | 1998-08-26 | 2004-02-03 | Superior Micropowders Llc | Aerosol method and apparatus for making particulate products |
EP1203441A1 (en) | 1999-07-13 | 2002-05-08 | Tokyo Electron Limited | Radio frequency power source for generating an inductively coupled plasma |
US6867859B1 (en) * | 1999-08-03 | 2005-03-15 | Lightwind Corporation | Inductively coupled plasma spectrometer for process diagnostics and control |
ATE452219T1 (de) * | 2000-05-17 | 2010-01-15 | Ihi Corp | Plasma-cvd-vorrichtung und verfahren |
EP1480250A1 (en) * | 2003-05-22 | 2004-11-24 | HELYSSEN S.à.r.l. | A high density plasma reactor and RF-antenna therefor |
US7459899B2 (en) | 2005-11-21 | 2008-12-02 | Thermo Fisher Scientific Inc. | Inductively-coupled RF power source |
US9028656B2 (en) | 2008-05-30 | 2015-05-12 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
US8994270B2 (en) | 2008-05-30 | 2015-03-31 | Colorado State University Research Foundation | System and methods for plasma application |
JP2011521735A (ja) * | 2008-05-30 | 2011-07-28 | コロラド ステート ユニバーシティ リサーチ ファンデーション | プラズマを発生させるためのシステム、方法、および装置 |
WO2009146432A1 (en) * | 2008-05-30 | 2009-12-03 | Colorado State University Research Foundation | Plasma-based chemical source device and method of use thereof |
US8222822B2 (en) * | 2009-10-27 | 2012-07-17 | Tyco Healthcare Group Lp | Inductively-coupled plasma device |
CA2794895A1 (en) | 2010-03-31 | 2011-10-06 | Colorado State University Research Foundation | Liquid-gas interface plasma device |
US9532826B2 (en) | 2013-03-06 | 2017-01-03 | Covidien Lp | System and method for sinus surgery |
US9555145B2 (en) | 2013-03-13 | 2017-01-31 | Covidien Lp | System and method for biofilm remediation |
US10820630B2 (en) * | 2015-11-06 | 2020-11-03 | Rai Strategic Holdings, Inc. | Aerosol delivery device including a wirelessly-heated atomizer and related method |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL37611C (ja) * | 1933-09-06 | |||
NL65134C (ja) * | 1943-03-29 | |||
US2589477A (en) * | 1946-03-28 | 1952-03-18 | Rca Corp | Oscillation generator system |
US2607895A (en) * | 1948-04-16 | 1952-08-19 | United Shoe Machinery Corp | Apparatus for keying an oscillator |
US2575702A (en) * | 1949-06-16 | 1951-11-20 | Westinghouse Electric Corp | Vacuum tube oscillator |
US3467471A (en) * | 1963-10-21 | 1969-09-16 | Albright & Wilson Mfg Ltd | Plasma light source for spectroscopic investigation |
US3958883A (en) * | 1974-07-10 | 1976-05-25 | Baird-Atomic, Inc. | Radio frequency induced plasma excitation of optical emission spectroscopic samples |
FR2460589A1 (fr) * | 1979-07-04 | 1981-01-23 | Instruments Sa | Generateur de plasma |
ZA841218B (en) * | 1983-03-08 | 1984-09-26 | Allied Corp | Plasma excitation system |
US4629940A (en) * | 1984-03-02 | 1986-12-16 | The Perkin-Elmer Corporation | Plasma emission source |
AT388814B (de) * | 1985-11-15 | 1989-09-11 | Paar Anton Kg | Verfahren und vorrichtung zum erzeugen eines hf-induzierten edelgasplasmas |
-
1990
- 1990-04-06 NL NL9000809A patent/NL9000809A/nl not_active Application Discontinuation
-
1991
- 1991-04-03 EP EP91200772A patent/EP0450727A1/en not_active Withdrawn
- 1991-04-03 US US07/679,974 patent/US5180949A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-04 JP JP3097992A patent/JPH04230999A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6030667A (en) * | 1996-02-27 | 2000-02-29 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Apparatus and method for applying RF power apparatus and method for generating plasma and apparatus and method for processing with plasma |
WO2001019144A1 (fr) * | 1999-09-09 | 2001-03-15 | Anelva Corporation | Dispositif de traitement au plasma a electrode interieure et procede associe |
US6719876B1 (en) | 1999-09-09 | 2004-04-13 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Internal electrode type plasma processing apparatus and plasma processing method |
JP4029615B2 (ja) * | 1999-09-09 | 2008-01-09 | 株式会社Ihi | 内部電極方式のプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL9000809A (nl) | 1991-11-01 |
EP0450727A1 (en) | 1991-10-09 |
US5180949A (en) | 1993-01-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH04230999A (ja) | プラズマ発生器 | |
US3943404A (en) | Helical coupler for use in an electrodeless light source | |
US3943403A (en) | Electrodeless light source utilizing a lamp termination fixture having parallel capacitive impedance matching capability | |
US4877999A (en) | Method and apparatus for producing an hf-induced noble-gas plasma | |
US4001631A (en) | Adjustable length center conductor for termination fixtures for electrodeless lamps | |
US4849675A (en) | Inductively excited ion source | |
US3942058A (en) | Electrodeless light source having improved arc shaping capability | |
EP0810816A1 (en) | Balanced source for plasma system | |
US4002944A (en) | Internal match starter for termination fixture lamps | |
US6046545A (en) | Light source apparatus using coaxial waveguide | |
US3942068A (en) | Electrodeless light source with a termination fixture having an improved center conductor for arc shaping capability | |
US2277638A (en) | Ultra high frequency system | |
US2310695A (en) | Oscillating system | |
US6794874B2 (en) | Multiple tuning circuit and probe having multiple tuning circuit for NMR spectrometer | |
JPH0160920B2 (ja) | ||
KR20010112362A (ko) | 고주파필터 | |
USRE20189E (en) | Oscillation circuit for electric | |
JPH05266987A (ja) | 一体の整合回路を有する無電極高輝度放電ランプ結合構造体 | |
US2135672A (en) | Ultra short wave system | |
US2337219A (en) | Short wave tuned circuit arrangement | |
KR102378573B1 (ko) | 플라즈마 생성기 | |
US3943402A (en) | Termination fixture for an electrodeless lamp | |
JP2003037101A (ja) | プラズマ生成用の螺旋共振装置 | |
US2275342A (en) | High frequency antenna | |
US2116996A (en) | Variable tuned circuits |