JPH04216952A - Liquid jet recording head, manufacture thereof and recording apparatus equipped with said recording head - Google Patents
Liquid jet recording head, manufacture thereof and recording apparatus equipped with said recording headInfo
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Abstract
Description
【０００１】0001
【産業上の利用分野】本発明は、インクジェット記録方
式に用いる記録液小滴を発生するための液体噴射記録ヘ
ッド、その製造方法、及び液体噴射記録ヘッドを備えた
記録装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid jet recording head for generating recording liquid droplets used in an ink jet recording system, a method for manufacturing the same, and a recording apparatus equipped with the liquid jet recording head.
【０００２】0002
【従来の技術】インクジェット記録方式（液体噴射記録
方式）に適用される液体噴射記録ヘッドは、一般に微細
なインク吐出口（オリフィス）、インク路及び該インク
路の一部に設けられるインクを吐出するために利用され
るエネルギーを発生するエネルギー発生素子とを備えて
おり、記録時においてはエネルギー発生素子の作動によ
り、インクの小滴が吐出口から噴射されて被記録紙に着
滴し、これにより印字、記録が行なわれるものである。
従来、このような液体噴射記録ヘッドを作製する方法と
して、例えば、ガラスや金属等の板を用い、該板に切削
やエッチング等の加工手段によって微細な溝を形成した
後、該溝を形成した板を他の適当な板と接合してインク
路の形成を行なう方法が知られている。しかしながら、
斯かる従来法によって作製される液体噴射記録ヘッドで
は、切削加工されるインク路内壁面の平滑さが不充分で
あったり、エッチング率の差からインク路に歪が生じた
りして、流路抵抗の一定したインク路が得難く、製作後
の液体噴射記録ヘッドの記録特性にバラツキが出易いと
いった問題があった。また、切削加工の際に、板の欠け
や割れが生じ易く、製造歩留りが悪いという欠点もあっ
た。また、エッチング加工を行なう場合には、製造工程
が多く、製造コストの上昇を招くという不利もあった。
更には、上記従来法に共通する欠点として、インク路を
形成した溝付き板と、記録液小滴を吐出させる為の吐出
エネルギーを発生するための圧電素子や電気熱変換素子
等の駆動素子（エネルギー発生素子）が設けられた蓋板
とを貼り合わせる際に、これら板の位置合せが困難であ
り、量産性に欠けるといった問題もあった。2. Description of the Related Art A liquid jet recording head applied to an ink jet recording system (liquid jet recording system) generally has a fine ink discharge opening (orifice), an ink channel, and a part of the ink channel that discharges ink. During recording, when the energy generating element is activated, small droplets of ink are ejected from the ejection port and land on the recording paper. Printing and recording are performed. Conventionally, as a method for manufacturing such a liquid jet recording head, for example, a plate of glass or metal is used, fine grooves are formed on the plate by processing means such as cutting or etching, and then the grooves are formed. It is known to form ink channels by joining plates to other suitable plates. however,
In liquid jet recording heads manufactured by such conventional methods, the smoothness of the inner wall surface of the ink passages to be cut may be insufficient, or distortion may occur in the ink passages due to differences in etching rate, resulting in increased flow path resistance. There have been problems in that it is difficult to obtain a constant ink path, and the recording characteristics of the liquid jet recording head after manufacturing tend to vary. Further, there was also a drawback that the plate was easily chipped or cracked during cutting, resulting in a poor manufacturing yield. Further, when etching is performed, there is a disadvantage that there are many manufacturing steps, leading to an increase in manufacturing costs. Furthermore, a common drawback of the above-mentioned conventional methods is that they require a grooved plate with an ink path formed therein and a drive element (such as a piezoelectric element or an electrothermal transducer) for generating ejection energy to eject recording liquid droplets. When bonding the lid plate provided with the energy generating element (energy generating element), it is difficult to align these plates, and there is also a problem that mass production is lacking.
【０００３】また、液体噴射記録ヘッドは、通常その使
用環境下にあっては、インク（一般には、水を主体とし
、多くの場合中性ではないインク、あるいは有機溶剤を
主体とするインク液等）と常時接触している。それ故、
液体噴射記録ヘッドを構成するヘッド構造材料は、イン
クからの影響を受けて強度低下を起こすことがなく、ま
た逆にインク中に、インク液適性を低下させるような有
害成分を与えることの無いものが望まれる。しかし、上
記従来法においては、加工方法等の制約もあって、必ず
しもこれら目的にかなった材料を選択することができな
かった。[0003] In addition, under the normal operating environment, liquid jet recording heads usually contain ink (generally water-based ink that is not neutral in most cases, ink liquid that is mainly composed of organic solvents, etc.). ) are in constant contact with Therefore,
The head structural material that constitutes the liquid jet recording head must not deteriorate in strength due to the effects of ink, and conversely, must not contain harmful components in the ink that would reduce the suitability of the ink liquid. is desired. However, in the above-mentioned conventional methods, it was not always possible to select materials suitable for these purposes due to constraints such as processing methods.
【０００４】0004
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記の諸点に
鑑み成されたものであって、安価、精密であり、また信
頼性も高い液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び本
ヘッドを備えた記録装置を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above points, and provides a liquid jet recording head that is inexpensive, precise, and highly reliable, a method for manufacturing the same, and a liquid jet recording head that includes the head. The purpose is to provide a recording device with
【０００５】また、インク路が精度良く正確に、且つ歩
留り良く微細加工された構成を有する液体噴射記録ヘッ
ドを供給することが可能な新規な液体噴射記録ヘッド、
その製造方法及び本ヘッドを備えた記録装置を提供する
ことも目的とする。[0005] Also, a novel liquid jet recording head capable of supplying a liquid jet recording head having a configuration in which the ink path is microfabricated with high accuracy and high yield;
Another object of the present invention is to provide a manufacturing method thereof and a recording device equipped with the present head.
【０００６】また、インクとの相互影響が少なく、機械
的強度や耐薬品性に優れた液体噴射記録ヘッドを供給し
得る新規な液体噴射記録ヘッド、その製造方法、及び本
ヘッドを備えた記録装置を提供することも目的とする。[0006] Also, a new liquid jet recording head capable of supplying a liquid jet recording head with little interaction with ink and excellent mechanical strength and chemical resistance, a method for manufacturing the same, and a recording device equipped with this head. The purpose is also to provide.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記目的を
達成するために、リソグラフィーの手法を用いてヘッド
を製造する手法を開発してきた。そして、上記工程にお
いて使用するレジスト材料としては、機械的強度、耐熱
性およびインクに長期に浸漬されても変質せず且つイン
クに悪影響を及ぼす物質が溶解しない等の特性が望まれ
るが、この様な材料選択においては、ネガ型レジスト材
料が優れていると考えた。即ち、一般的に得られる高分
子材料は、光重合開始剤あるいは光架橋剤の添加により
ネガ型レジストと成り得るとともに、遠紫外線、電子線
、Ｘ−線等の電離放射線の照射により光開始剤を添加し
なくても架橋反応を起こしネガ型特性を示す。この点よ
り、ネガ型レジスト材料を前記液体噴射記録ヘッドの製
造に使用することは、材料選択の範囲が広がり、コスト
ダウン、ヘッド特性の向上に効果的となる。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present inventors have developed a method of manufacturing a head using a lithography method. The resist material used in the above process is desired to have mechanical strength, heat resistance, and properties such as not changing in quality even when immersed in the ink for a long period of time, and not dissolving substances that have an adverse effect on the ink. In terms of material selection, we believe that negative resist materials are superior. That is, commonly obtained polymeric materials can be made into negative resists by adding a photopolymerization initiator or a photocrosslinking agent, and can also be made into negative resists by adding ionizing radiation such as deep ultraviolet rays, electron beams, and X-rays. Even without the addition of , a crosslinking reaction occurs and exhibits negative type characteristics. From this point of view, using a negative resist material to manufacture the liquid jet recording head expands the range of material selection, and is effective in reducing costs and improving head characteristics.
【０００８】しかしながら、本液体噴射記録ヘッドの製
造工程においては上下の感光性材料層にリソグラフィー
手法によりパターンニングしてヘッドを製造するもので
あるが、上および下層感光性材料層の両者にネガ型レジ
スト材料を使用する場合には、弊害が生じる場合がある
。即ち、本液体噴射記録ヘッドの構造として、インク路
上の上層レジスト材料層を残す必要がある。このときネ
ガ型レジストを使用した場合、インク路上のレジストに
露光する必要があり、この時にインク路部のレジストを
感光してインク路部を閉塞してしまうという弊害が生じ
る。もちろん、レジスト層の膜厚やレジスト膜の吸光係
数を最適化すれば、下層レジスト層に到達する光量が小
さくなり実質的に下層レジスト層を感光させない状態を
つくることは可能である。このように、レジスト膜厚や
膜の吸収係数を最適化することは、ヘッドの設計や製造
安定性に悪影響をおよぼす場合がある。本発明者らは、
この現象を回避する手段として上および下層レジスト材
料として感光波長域の異なるもの、あるいは同一の波長
に感度を有している場合でも感度が大きく異なる感光性
材料を使用することにより、上層レジストの露光時に下
層レジストが感光する現象を防止できることに想到し、
本発明を完成するに到ったものである。即ち、本発明は
インク吐出口と、インク供給口と、及び前記インク吐出
口とインク供給口とを連通するインク路と、該インク路
に対応して配設されインクを吐出するために利用される
エネルギーを発生するエネルギー発生素子とを有する液
体噴射記録ヘッドの製造方法において、前記エネルギー
発生素子が配設された基板上に所定の感光波長域を有す
るインク路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第
１感光性材料層に前記所定の感光波長域でインク路形成
用パターン露光を行ない、次いで前記第１感光性材料層
上に更に第１感光性材料層と異なる感光波長域を有する
ネガ型第２感光性材料層を設けて第２感光性材料層に前
記異なる感光波長域でインク吐出口及びインク供給口形
成用パターン露光を行ない、その後前記第１及び第２の
感光性材料層の現像を行なうもので、また前記第１感光
性材料及び第２感光性材料に配合する光重合開始剤を異
ならしめることにより両者の感光波長域が異ならしめこ
とを含むものである。However, in the manufacturing process of this liquid jet recording head, the head is manufactured by patterning the upper and lower photosensitive material layers using a lithography method, but a negative type is used for both the upper and lower photosensitive material layers. When using resist materials, adverse effects may occur. That is, in the structure of the present liquid jet recording head, it is necessary to leave an upper resist material layer on the ink path. If a negative resist is used at this time, it is necessary to expose the resist on the ink path to light, and at this time, the resist in the ink path is exposed to light, resulting in the ink path being blocked. Of course, by optimizing the thickness of the resist layer and the extinction coefficient of the resist film, it is possible to reduce the amount of light reaching the lower resist layer and create a state in which the lower resist layer is not exposed to light. As described above, optimizing the resist film thickness and film absorption coefficient may have an adverse effect on head design and manufacturing stability. The inventors
As a means to avoid this phenomenon, by using photosensitive materials with different photosensitive wavelength ranges as the upper and lower resist materials, or photosensitive materials with significantly different sensitivities even if they are sensitive to the same wavelength, it is possible to expose the upper layer resist to We came up with the idea that it is possible to prevent the phenomenon in which the underlying resist is sometimes exposed to light.
This has led to the completion of the present invention. That is, the present invention provides an ink discharge port, an ink supply port, an ink path that communicates the ink discharge port and the ink supply port, and an ink discharge port disposed corresponding to the ink path and used for discharging ink. In the method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a negative type first photosensitive material for forming an ink path having a predetermined photosensitive wavelength range is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed. a layer is provided, and the first photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink path in the predetermined photosensitive wavelength range, and then a photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer in a photosensitive wavelength range different from that of the first photosensitive material layer. A negative second photosensitive material layer is provided, and the second photosensitive material layer is exposed in a pattern for forming an ink ejection port and an ink supply port in the different photosensitive wavelength ranges, and then the first and second photosensitive material layers are formed. This method involves developing a material layer, and includes differentiating the photopolymerization initiators blended into the first photosensitive material and the second photosensitive material so that the photosensitive wavelength ranges of the two are different.
【０００９】また、本発明はインク吐出口と、インク供
給口と、及び前記インク吐出口とインク供給口とを連通
するインク路と、該インク路に対応して配設されインク
を吐出するために利用されるエネルギーを発生するエネ
ルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方
法において、前記エネルギー発生素子が配設された基板
上にインク路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該
第１感光性材料層にインク路形成用パターン露光を行な
い、次いで前記第１感光性材料層上に更に照射光に対す
るゲル化感度が前記第１感光性材料層と異なるネガ型第
２感光性材料層を設けて第２感光性材料層にインク吐出
口及びインク供給口形成用パターン露光を行ない、その
後前記第１及び第２の感光性材料層の現像を行なうもの
である。更に、本発明はインク吐出口と、インク供給口
と、及び前記インク吐出口とインク供給口とを連通する
インク路と、該インク路に対応して配設されインクを吐
出するために利用されるエネルギーを発生するエネルギ
ー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法に
おいて、前記エネルギー発生素子が配設された基板上に
インク路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第１
感光性材料層にインク路形成用パターン露光を行ない、
次いで前記第１感光性材料層上に更に前記第１感光性材
料層よりも平均分子量が大きいネガ型第２感光性材料層
を設けて該第２感光性材料層にインク吐出口及びインク
供給口形成用パターン露光を行ない、その後前記第１及
び第２の感光性材料層の現像を行なうものである。The present invention also provides an ink discharge port, an ink supply port, an ink path communicating with the ink discharge port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path for discharging ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy used for, a negative first photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed. The first photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink path, and then a negative second photosensitive material is further applied on the first photosensitive material layer, and the gelation sensitivity to irradiation light is different from that of the first photosensitive material layer. A material layer is provided, a second photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink discharge port and an ink supply port, and then the first and second photosensitive material layers are developed. Further, the present invention provides an ink ejection port, an ink supply port, an ink path communicating with the ink ejection port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path and used for ejecting ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a first negative photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed;
exposing the photosensitive material layer to a pattern for forming ink paths;
Next, a negative second photosensitive material layer having a larger average molecular weight than the first photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer, and an ink discharge port and an ink supply port are provided in the second photosensitive material layer. A forming pattern is exposed, and then the first and second photosensitive material layers are developed.
【００１０】また更に、本発明はインク吐出口と、イン
ク供給口と、及び前記インク吐出口とインク供給口とを
連通するインク路と、該インク路に対応して配設されイ
ンクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する
エネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製
造方法において、前記エネルギー発生素子が配設された
基板上にインク路形成用ネガ型第１感光性材料層を設け
て該第１感光性材料層にインク路形成用パターン露光を
行ない、次いで前記第１感光性材料層上に更に前記第１
感光性材料層よりも光重合開始剤を多量に配合してなる
ネガ型第２感光性材料層を設けて該第２感光性材料層に
インク吐出口及びインク供給口形成用パターン露光を行
ない、その後前記第１及び第２の感光性材料層の現像を
行なうものである。Still further, the present invention provides an ink discharge port, an ink supply port, an ink path communicating with the ink discharge port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path to discharge ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy used for Then, the first photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink path, and then the first photosensitive material layer is further exposed on the first photosensitive material layer.
providing a negative second photosensitive material layer containing a larger amount of photopolymerization initiator than the photosensitive material layer, and exposing the second photosensitive material layer to a pattern for forming an ink discharge port and an ink supply port; Thereafter, the first and second photosensitive material layers are developed.
【００１１】更に、本発明は上記方法により製造した液
体噴射記録ヘッド、及び同ヘッドを備えた記録装置に関
するものである。Furthermore, the present invention relates to a liquid jet recording head manufactured by the above method, and a recording apparatus equipped with the same.
【００１２】以下、図面を参照して本発明を詳細に説明
する。The present invention will be explained in detail below with reference to the drawings.
【００１３】図１乃至図７は本発明に係る製造方法の説
明図で、本発明に係るヘッドは図１中に示す基板１上に
製造する。この基板１は、例えばガラス、セラミックス
、プラスチックス、又は金属等で構成され、後述するイ
ンク液のインク路構成部材の一部として機能し、また後
述する感光性材料層の支持体として機能するもので、上
記目的に合致するものであれば、その形状、材質等、特
に制限されることなく使用できる。上記基板１上には、
電気熱変換素子又は圧電素子等のインクを吐出するため
に利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生素子
２を所定数（本図においては２個）配設してある。
このような、エネルギー発生素子２によって、インク小
滴を吐出させるための吐出エネルギーがインク液に与え
られ、記録が行なわれる。因に、例えば、上記エネルギ
ー発生素子２として電気熱変換素子を用いるときには、
この素子が近傍の記録液を加熱することにより、吐出エ
ネルギーを発生する。また、例えば、圧電素子を用いる
ときは、この素子の機械的振動によって、吐出エネルギ
ーを発生する。尚、これらの素子２には、これら素子２
を動作させるため制御信号入力用電極（図示せず）を接
続してある。また、一般にはこれらエネルギー発生素子
の耐用性の向上を目的として、保護層等の各種機能層を
設けることもできる。次いで図２に示すように、上記エ
ネルギー発生素子２を配設した基板１上に、ネガ型第１
感光性材料層３を形成する。感光性材料層３の形成方法
としては、感光性材料を溶解した溶液を、ソルベントコ
ート法によって塗布しても良いし、また感光性材料を塗
布したドライフィルムを作製し、ラミネート法によって
基板上に積層しても良い。FIGS. 1 to 7 are explanatory diagrams of a manufacturing method according to the present invention, and the head according to the present invention is manufactured on a substrate 1 shown in FIG. This substrate 1 is made of, for example, glass, ceramics, plastics, metal, or the like, and functions as a part of the ink path forming member for the ink liquid, which will be described later, and also functions as a support for the photosensitive material layer, which will be described later. As long as it meets the above purpose, it can be used without any particular restrictions on its shape, material, etc. On the substrate 1,
A predetermined number (two in this figure) of energy generating elements 2, such as electrothermal transducers or piezoelectric elements, which generate energy used to eject ink are provided. Such an energy generating element 2 applies ejection energy to the ink liquid to eject ink droplets, thereby performing recording. Incidentally, for example, when using an electrothermal conversion element as the energy generating element 2,
This element generates ejection energy by heating nearby recording liquid. Further, for example, when a piezoelectric element is used, ejection energy is generated by mechanical vibration of this element. Note that these elements 2 include
In order to operate the control signal input electrode (not shown) is connected. Further, generally, various functional layers such as a protective layer can be provided for the purpose of improving the durability of these energy generating elements. Next, as shown in FIG. 2, a negative first
A photosensitive material layer 3 is formed. The photosensitive material layer 3 may be formed by applying a solution containing the photosensitive material by a solvent coating method, or by preparing a dry film coated with the photosensitive material and applying it onto the substrate by a laminating method. It may be laminated.
【００１４】ソルベントコート法とは、該感光性材料溶
液をスピンコーター、ロールコーターあるいはワイヤー
バー等により基板上に塗布した後、溶剤を乾燥除去し、
感光性材料層を形成する方法である。[0014] The solvent coating method is to apply the photosensitive material solution onto the substrate using a spin coater, roll coater, wire bar, etc., and then dry and remove the solvent.
This is a method of forming a photosensitive material layer.
【００１５】ここで、本発明においては前記ネガ型第１
感光性材料層（下層レジスト）３は、後述するネガ型第
２感光性材料層（上層レジスト）と異なる感光波長域、
又はパターン潜像形成用照射光に対する異なるゲル化感
度を有するものである。Here, in the present invention, the negative type first
The photosensitive material layer (lower resist) 3 is sensitive to a wavelength range different from that of the negative second photosensitive material layer (upper resist) described later.
Or they have different gelation sensitivities to the irradiation light for forming pattern latent images.
【００１６】本発明においては、それぞれ異なる感光波
長域、又は異なるゲル化感度を有する感光性材料層用い
ることにより、パターン潜像を形成する際に他の感光性
材料層をゲル化させることなく、目的の材料層のみにパ
ターン潜像を形成させるものである。In the present invention, by using photosensitive material layers having different photosensitive wavelength ranges or different gelation sensitivities, it is possible to form a pattern latent image without gelling other photosensitive material layers. A pattern latent image is formed only on the target material layer.
【００１７】異なる感光波域のレジスト材料としては、
一般的に電離放射線と呼ばれる遠紫外線、電子線、Ｘー
線用レジスト材料と、紫外線用レジストとに分類できる
。[0017] Resist materials with different photosensitive wave ranges include:
Resist materials can be classified into resist materials for deep ultraviolet rays, electron beams, and X-rays, which are generally called ionizing radiation, and resists for ultraviolet rays.
【００１８】電離放射線のネガ型レジスト材料としては
、分子構造内に不飽和二重結合を有する高分子化合物、
エポキシ基を有する高分子化合物、シリコーン系高分子
化合物、ビニル系高分子化合物に於いてα位に水素原子
が付加した高分子化合物が挙げられる。更に具体的に記
述すれば、分子内に不飽和二重結合を有する高分子化合
物としては、ポリブタジエン、ポリイソプレン等のゴム
系高分子化合物、およびそれらの環化物、ジアリルフタ
レート樹脂、アルキルビニルエーテルと無水マレイン酸
との共重合体のアリルエステル、ポリビニールシンナマ
ート、不飽和ポリエステルおよび側鎖にアクリル基を導
入した高分子化合物等が挙げられる。またエポキシ系化
合物としては、フェノールノボラック樹脂、クレゾール
ノボラック樹脂、ポリビニルフェノール等の高分子化合
物とエピクロルヒドリンとの反応により合成できるエポ
キシ樹脂、あるいはエポキシ化ポリブタジエン等のエポ
キシ化ゴム、あるいはヒドロキシアルキル（メタ）アク
リレート、（メタ）アクリル酸等を共重合した樹脂とエ
ピクロルヒドリンとの反応より合成されるエポキシ樹脂
等を挙げることができる。As negative resist materials for ionizing radiation, polymer compounds having unsaturated double bonds in their molecular structure,
Examples include polymer compounds having an epoxy group, silicone polymer compounds, and vinyl polymer compounds in which a hydrogen atom is added to the α-position. More specifically, examples of polymeric compounds having unsaturated double bonds in the molecule include rubber-based polymeric compounds such as polybutadiene and polyisoprene, and their cyclized products, diallyl phthalate resins, alkyl vinyl ethers, and anhydrous polymers. Examples include allyl ester of a copolymer with maleic acid, polyvinyl cinnamate, unsaturated polyester, and a polymer compound with an acrylic group introduced into the side chain. Epoxy compounds include phenol novolak resin, cresol novolac resin, epoxy resin that can be synthesized by reacting a polymer compound such as polyvinylphenol with epichlorohydrin, epoxidized rubber such as epoxidized polybutadiene, or hydroxyalkyl (meth)acrylate. Examples include epoxy resins synthesized by reacting epichlorohydrin with a resin copolymerized with (meth)acrylic acid and the like.
【００１９】またシリコーン系高分子化合物としては、
ポリメチルシクロシロキサン、ポリジフェニルシロキサ
ン、ポリビニルシロキサン等の直鎖状シリコーン樹脂、
ポリリメチルシルセスキオキサン、ポリフェニルシルセ
スキオキサン、ポリビニルシルセスキオキサン等の梯型
シリコーン樹脂等が挙げられる。またビニル系高分子化
合物でα位に水素原子を有する高分子化合物としては、
ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリビニルカルバゾー
ル、ポリビニルフェロセン、ポリアクリルアミド、ポリ
ビニルフェノールおよびポリスチレン、ポリビニルカル
バゾール、ポリビニルナフタレン等のハロゲンあるいは
ハロゲン化アルキル化物等を挙げることができる。もち
ろんこれら高分子化合物にアジド、あるいはビスアジド
等の増感剤を添加しても構わない。[0019] Also, as silicone-based polymer compounds,
Linear silicone resins such as polymethylcyclosiloxane, polydiphenylsiloxane, polyvinylsiloxane,
Examples include ladder-type silicone resins such as polylymethylsilsesquioxane, polyphenylsilsesquioxane, and polyvinylsilsesquioxane. In addition, as a vinyl-based polymer compound having a hydrogen atom at the α position,
Examples include polyvinyl chloride, polystyrene, polyvinylcarbazole, polyvinylferrocene, polyacrylamide, polyvinylphenol, and halogens or halogenated alkylated products such as polystyrene, polyvinylcarbazole, and polyvinylnaphthalene. Of course, a sensitizer such as azide or bisazide may be added to these polymer compounds.
【００２０】紫外、可視光用レジスト材料としては前記
した電離放射線用レジスト材料にアジド、ビスアジド等
を添加したもの、あるいは不飽和二重結合を有する化合
物（高分子化合物）に光ラジカル重合開始剤を添加した
もの、ビニルエーテル化合物、エポキシ基を有する化合
物に光カチオン重合開始剤を添加したもの等が使用でき
る。Resist materials for ultraviolet and visible light include the above-mentioned resist materials for ionizing radiation to which azide, bisazide, etc. are added, or compounds having unsaturated double bonds (polymer compounds) to which a photoradical polymerization initiator is added. A vinyl ether compound, a compound having an epoxy group and a photocationic polymerization initiator added thereto, etc. can be used.
【００２１】電離放射線用レジストに添加されるアジド
、ビスアジド化合物としては、Ｐ−アジドベンズアルデ
ヒド、Ｐ−アジドアセトフェノン、Ｐ−アジドベンゾイ
ン酸、Ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、Ｐ−アジド
ベンザルアセトン、４，４’−ジアジドカルコン、１，
３−ビス−４’−アジドベンザル−アセトン、２，６−
ビス−４’−アジドベンザル−シクロヘキサノン、２，
６−ビス−４’−アジドベンザル−４−メチルシクロヘ
キサノン等が挙げられる。Azide and bisazide compounds added to the resist for ionizing radiation include P-azidobenzaldehyde, P-azidoacetophenone, P-azidobenzoic acid, P-azidobenzalacetophenone, P-azidobenzalacetone, 4, 4'-diazide chalcone, 1,
3-bis-4'-azidobenzal-acetone, 2,6-
Bis-4'-azidobenzal-cyclohexanone, 2,
Examples include 6-bis-4'-azidobenzal-4-methylcyclohexanone.
【００２２】不飽和二重結合を有する化合物に添加され
る光重合開始剤としては、ベンジル、４，４’−ジメト
キシベンジル、４，４−ジメチルベンジル、４，４−ジ
ヒドロキシベンジル等のジケトン化合物（これら開始剤
の吸収極大波長は３００〜３６０ｎｍにある）、チオキ
サントン、２−クロロチオキサントン、イソプロピルチ
オキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，
４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン
誘導体（これら化合物の吸収極大波長は３６０〜４３０
ｎｍに存在する）、７−ジエチルアミノ−３，３’−カ
ルボニルビスクマリン（吸収極大は４５０ｎｍ附近に存
在する）等が挙げられる。これら光開始剤の種類を組合
せることにより、紫外域においても感光波長域の異なる
レジストの組合せが可能となる。光カチオン重合におい
ては、前記したエポキシあるいはビニルエーテル系化合
物にカチオン発生剤としてオニウム塩、さらには感光波
長域を変える為に前記した光ラジカル重合開始剤を添加
することも有利である。As photopolymerization initiators added to compounds having unsaturated double bonds, diketone compounds such as benzyl, 4,4'-dimethoxybenzyl, 4,4-dimethylbenzyl, 4,4-dihydroxybenzyl, etc. The maximum absorption wavelength of these initiators is between 300 and 360 nm), thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,
Thioxanthone derivatives such as 4-diisopropylthioxanthone (the maximum absorption wavelength of these compounds is 360-430
nm), 7-diethylamino-3,3'-carbonylbiscoumarin (absorption maximum exists around 450 nm), and the like. By combining these types of photoinitiators, it is possible to combine resists with different photosensitive wavelength ranges even in the ultraviolet region. In photo-cationic polymerization, it is also advantageous to add an onium salt as a cation generator to the above-mentioned epoxy or vinyl ether compound, and furthermore, the above-mentioned radical photopolymerization initiator in order to change the sensitive wavelength range.
【００２３】これら感光波長域の異なるレジストの組合
せの例としては、例えば下層レジストに電離放射線用の
レジストを使用し、上層に紫外線用レジストを使用する
場合、上および下層とも紫外線レジストを使用し、その
感光波長域の異なるものを使用する場合がある。また紫
外線用レジストは添加する感光性材料により感光波長域
を自由に変えることが可能である。特に電離放射線用レ
ジストにおいては、電離放射線が殆ど全ての高分子材料
を感光させる特性を有することから、下層に使用するこ
とがより効果的であると考えられる。Examples of combinations of resists having different photosensitive wavelength ranges include, for example, when a resist for ionizing radiation is used for the lower layer resist and a resist for ultraviolet rays is used for the upper layer, ultraviolet resist is used for both the upper and lower layers, In some cases, those having different photosensitive wavelength ranges are used. Furthermore, the wavelength range to which ultraviolet rays are sensitive can be freely changed by adding a photosensitive material. Particularly in resists for ionizing radiation, since ionizing radiation has the property of sensitizing almost all polymer materials, it is considered to be more effective to use it in the lower layer.
【００２４】感度が異なるレジストを使用する場合、前
記したように下層レジストの感度が上層レジストの感度
よりも低いことが望ましい。また、上および下層レジス
ト材料を同一の材料系にて使用する場合、その開始剤添
加量を制御することにより、感度の調整を容易に行なえ
る。もちろんレジストの感度はレジスト膜の厚さが異な
ると違う場合が多いが、本発明においては、同一の材料
組成にて構成されるレジストを感度が同一と定義する。
感度を異ならせる手段としては、開始剤の種類を変える
、添加剤を変えるおよび高分子化合物の分子量を変える
等の手段がある。上層および下層レジストの感度がどれ
位異なれば、本発明による液体噴射記録ヘッドの製造に
有効であるかは、上層および下層レジストの膜厚、基板
の種類、露光波長および手段等により異なり一該には決
まらないが、おおむね２〜１０倍程度違えば有効である
。これ以上小さいと、上層レジスト露光の光が下層レジ
ストをゲル化させてしまう。また１０倍以上異なるとプ
ロセス的には良好であるが、下層レジストの感度が大幅
に低下して、露光時間がかかる等の弊害が生じることが
ある。When resists having different sensitivities are used, it is desirable that the sensitivity of the lower layer resist be lower than that of the upper layer resist, as described above. Furthermore, when the same material system is used as the upper and lower resist materials, the sensitivity can be easily adjusted by controlling the amount of initiator added. Of course, the sensitivity of a resist often differs depending on the thickness of the resist film, but in the present invention, resists made of the same material composition are defined as having the same sensitivity. As means for varying the sensitivity, there are means such as changing the type of initiator, changing additives, and changing the molecular weight of the polymer compound. The extent to which the sensitivity of the upper and lower resists differs to be effective in manufacturing a liquid jet recording head according to the present invention varies depending on the film thickness of the upper and lower resists, the type of substrate, the exposure wavelength, the means, etc. Although it is not determined, it is effective if the difference is approximately 2 to 10 times. If it is smaller than this, the light for exposing the upper resist layer will gel the lower resist layer. Further, if the difference is 10 times or more, the process is favorable, but the sensitivity of the lower resist layer may be significantly lowered, resulting in disadvantages such as longer exposure time.
【００２５】本発明においては、所定の感度波長域又は
所定のゲル化感度を有する上記ネガ型第１感光性材料層
３の上面に、図３に示すようにインク路形成用マスク４
を重ね、図３中矢印Ａの方向から、所定の感光波長域の
光照射を行なう。これにより、図４に示すように、第１
感光性材料層３中にインク路のパターン潜像形成部６を
形成する。本露光手段としては、フォトマスクを介して
の一括露光であっても良いし、また電子線あるいはイオ
ンビーム等による直接描画でも良い。露光光源としては
、従来使用される紫外線のみならず、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光
、エキシマーレーザー、電子線、Ｘ線等感光性材料をパ
ターニングできるものであればいづれのものでも構わな
い。In the present invention, an ink path forming mask 4 is provided on the upper surface of the negative first photosensitive material layer 3 having a predetermined sensitivity wavelength range or a predetermined gelation sensitivity, as shown in FIG.
are overlapped, and light in a predetermined photosensitive wavelength range is irradiated from the direction of arrow A in FIG. As a result, as shown in FIG.
A patterned latent image forming portion 6 of ink channels is formed in the photosensitive material layer 3 . The main exposure means may be one-shot exposure through a photomask, or direct drawing using an electron beam, ion beam, or the like. The exposure light source may be not only the conventionally used ultraviolet light, but also any source capable of patterning a photosensitive material, such as deep-UV light, excimer laser, electron beam, and X-ray.
【００２６】本発明においては、次いでこのようにイン
ク路の潜像をパターニングした感光性材料層３上に、図
４に示すように更にネガ型第２感光性材料層５を形成す
る。ここでネガ型第２感光性材料層５に用いる材料とし
ては、上記第１感光性材料層３と同様のものが使用でき
るが、この場合第１感光性材料層３と異なる感光波長域
、又は異なるゲル化感度を有することが重要である。In the present invention, a negative second photosensitive material layer 5 is then further formed on the photosensitive material layer 3 patterned with the latent image of the ink path as shown in FIG. Here, as the material used for the negative second photosensitive material layer 5, the same material as the first photosensitive material layer 3 can be used, but in this case, the material is sensitive to a wavelength range different from that of the first photosensitive material layer 3, or It is important to have different gelation sensitivities.
【００２７】第１感光性材料層３上に第２感光性材料層
５を形成するに際しては、下層である第１感光性材料層
３に影響を及ぼさない為の手段が必要となる。例えば、
上層の第２感光性材料層５のドライフィルムによるラミ
ネート法であれば極めて第１感光性材料層３に対する影
響が軽微である。またソルベントコート法を使用する場
合に於いても、第１及び第２感光性材料層の材料の溶解
特性を若干でも変化せしめれば形成可能となる。例えば
下層の第１感光性材料層３の材料として、水あるいはア
ルコール等の極性の強い溶剤に溶解する材料を使用し、
その上にソルベンコートする感光性材料層５の樹脂材料
として芳香族等の極性の低い溶剤に溶解する材料を選択
し、第１感光性材料層３を溶解しないように塗布形成す
る等の方法がある。When forming the second photosensitive material layer 5 on the first photosensitive material layer 3, a means is required to avoid affecting the first photosensitive material layer 3, which is the underlying layer. for example,
If the upper second photosensitive material layer 5 is laminated with a dry film, the influence on the first photosensitive material layer 3 will be extremely small. Further, even when using a solvent coating method, it is possible to form the first and second photosensitive material layers by slightly changing the dissolution characteristics of the materials. For example, as the material of the lower first photosensitive material layer 3, a material that dissolves in a highly polar solvent such as water or alcohol is used,
A method such as selecting a material that dissolves in a low polarity solvent such as an aromatic material as the resin material of the photosensitive material layer 5 to be Solven coated thereon, and coating it so as not to dissolve the first photosensitive material layer 3 is possible. be.
【００２８】更に第１感光性材料層３の表面にシランカ
ップリング剤等を薄くコーティングする方法、第１感光
性材料層３に対して適当な加熱処理を施す方法、あるい
はシリコン化合物を含有する雰囲気下にて第１感光性材
料層３の加熱処理を行なう方法、等の手段を用いれば、
第１及び第２感光性材料が同一、或は同様の特性を有す
る樹脂材料であっても２層の構成を形成することが可能
である。Furthermore, a method of thinly coating the surface of the first photosensitive material layer 3 with a silane coupling agent or the like, a method of subjecting the first photosensitive material layer 3 to an appropriate heat treatment, or an atmosphere containing a silicon compound. If a method such as a method of heating the first photosensitive material layer 3 below is used,
Even if the first and second photosensitive materials are resin materials having the same or similar characteristics, it is possible to form a two-layer structure.
【００２９】前記手段により形成された、２層構成から
なる感光性材料層３，５に対して更に図５に示すように
、インク吐出口及びインク供給口を形成するためのパタ
ーン露光を行なう。即ち、感光性材料層５の上にマスク
７を置き、マスク上方向（図５中矢印Ｂ方向）から光照
射を行なう。これにより、図６に示すように感光性材料
層５にインク吐出口のパターン潜像形成部８、インク供
給口のパターン潜像形成部９を形成する。このパターン
露光は、前記第１感光材料層３の露光と同様にして行な
うことができる。この場合、前述のように第１感光性材
料層３の感光波長域と異なる、第２感光性材料層５の感
光波長域の光照射を行なうようにするか、又は両層のゲ
ル化感度が異なるように両層を構成しているので、第２
感光性材料層５の露光の際の照射光が第１感光性材料層
３に影響を及ぼさないか、及ぼしても本発明に係るヘッ
ドの製造に実質的に支障のない程度することができる。The two-layered photosensitive material layers 3 and 5 formed by the above method are further subjected to pattern exposure to form ink discharge ports and ink supply ports, as shown in FIG. That is, a mask 7 is placed on the photosensitive material layer 5, and light is irradiated from above the mask (in the direction of arrow B in FIG. 5). As a result, as shown in FIG. 6, pattern latent image forming portions 8 of the ink discharge ports and pattern latent image forming portions 9 of the ink supply ports are formed on the photosensitive material layer 5. This pattern exposure can be performed in the same manner as the exposure of the first photosensitive material layer 3. In this case, as mentioned above, the light irradiation is performed in a wavelength range sensitive to second photosensitive material layer 5 that is different from the wavelength range sensitive to light of first photosensitive material layer 3, or the gelation sensitivity of both layers is Since both layers are configured differently, the second
The irradiation light during exposure of the photosensitive material layer 5 does not affect the first photosensitive material layer 3, or even if it does, it can be done to the extent that it does not substantially impede the production of the head according to the present invention.
【００３０】本発明においては、上記のようにして基板
１上に順次第１感光性材料層３、第２感光性材料層５を
積層して形成したブロック体１０を、次いで現像処理し
、これにより上記潜像形成部６，８，９を溶解除去して
、図７に示すようにそれぞれ対応するインク路１１、イ
ンク吐出口１２、インク供給口１３を形成し、これによ
り本発明の液体噴射記録ヘッドを得る。現像は、第１及
び第２感光性材料層３，５の感光性材料が同一の溶剤に
よって現像可能なときには一括して現像できるが、同一
の溶剤で現像でないときには、それぞれに適した溶剤で
順次現像する。図７に図示した液体噴射記録ヘッドの場
合においては、インクの吐出方向およびインクの供給口
がいずれも基板１の同じ面側に存在する為、現像は上層
の第２感光性材料層５に対して行なった後に、下層の第
１感光性材料層３を現像することが望ましい。In the present invention, the block body 10 formed by sequentially laminating the first photosensitive material layer 3 and the second photosensitive material layer 5 on the substrate 1 as described above is then subjected to a development treatment. The latent image forming portions 6, 8, and 9 are dissolved and removed to form corresponding ink passages 11, ink discharge ports 12, and ink supply ports 13, respectively, as shown in FIG. Get the recording head. When the photosensitive materials of the first and second photosensitive material layers 3 and 5 can be developed with the same solvent, they can be developed all at once, but when they cannot be developed with the same solvent, they can be developed sequentially with suitable solvents for each. develop. In the case of the liquid jet recording head shown in FIG. 7, since the ink ejection direction and the ink supply port are both on the same side of the substrate 1, development is performed on the upper second photosensitive material layer 5. After this, it is desirable to develop the lower first photosensitive material layer 3.
【００３１】図７に示す液体噴射記録ヘッドに於いては
、インク供給の為の接合部材１４を設けてインクの供給
を行なうことが可能である。In the liquid jet recording head shown in FIG. 7, it is possible to supply ink by providing a bonding member 14 for ink supply.
【００３２】一方、図８に示した液体噴射記録ヘッドに
おいては、インク供給口１３が基板１を貫通して形成さ
れており、該構成を取る場合に於いては下層の第１感光
性材料層３を先に現像しても構わない。この記録ヘッド
を製造する場合には、基板１に感光性材料を用いて、こ
れにインク供給口を上記方法により形成することができ
る。この記録ヘッドにおいては、図９に示すようなイン
ク供給部材１５を設けてインクの供給を行なうことも可
能である。もちろん、これ以外の手段、形状によってイ
ンクの供給を行なうことも可能である。On the other hand, in the liquid jet recording head shown in FIG. 8, the ink supply port 13 is formed penetrating the substrate 1, and when this configuration is adopted, the lower first photosensitive material layer 3 may be developed first. When manufacturing this recording head, a photosensitive material can be used for the substrate 1, and an ink supply port can be formed therein by the method described above. In this recording head, it is also possible to supply ink by providing an ink supply member 15 as shown in FIG. Of course, it is also possible to supply ink using other means and shapes.
【００３３】尚、本例では、２つの吐出口を有する液体
噴射記録ヘッドを示したが、もちろんこれ以上の多数の
吐出口が並設された高密度マルチアレイ液体噴射記録ヘ
ッドの場合でも同様にして製造できるものである。Although this example shows a liquid jet recording head having two ejection ports, it goes without saying that the same applies to a high-density multi-array liquid jet recording head in which a larger number of ejection ports are arranged in parallel. It can be manufactured by
【００３４】本発明は、特に液体噴射記録（インクジェ
ット記録）方式の中でもバブルジェット方式の記録ヘッ
ド、記録装置に於いて、優れた効果をもたらすものであ
る。その代表的な構成や原理については、例えば、米国
特許第４７２３１２９号明細書、同第４７４０７９６号
明細書に開示されている。この方式は所謂オンデマンド
型、コンティニュアス型のいずれにも適用可能であるが
、特に、オンデマンド型の場合には、液体（インク）が
保持されているシートや液路に対応して配置された電気
熱変換体素子に、記録情報に対応した少なくとも一つの
駆動信号を印加することによって、電気熱変換体に核沸
騰を越える急速な温度上昇を与える熱エネルギーを発生
せしめ、記録ヘッドの熱作用面に膜沸騰を起させ、結果
的にこの駆動信号に一対一に対応した気泡を液体（イン
ク）内に形成出来るので有効である。この気泡の成長、
収縮により吐出口を介して液体（インク）を吐出させて
、少なくとも一つの滴を形成する。この駆動信号をパル
ス形状とすると、即時適切に気泡の成長収縮が行なわれ
るので、特に応答性に優れた液体（インク）の吐出が達
成でき、より好ましい。このパルス形状の駆動信号とし
ては、米国特許第４４６３３５９号明細書、同第４３４
５２６２号明細書に記載されているようなものが適して
いる。尚、上記熱作用面の温度上昇率に関する発明とし
て米国特許第４３１３１２４号明細書に記載されている
条件を採用すると、更に優れた記録を行なうことができ
る。The present invention brings about excellent effects particularly in a bubble jet recording head and recording apparatus among liquid jet recording (ink jet recording) systems. Its typical configuration and principle are disclosed in, for example, US Pat. No. 4,723,129 and US Pat. No. 4,740,796. This method can be applied to both the so-called on-demand type and continuous type, but especially in the case of the on-demand type, it is necessary to arrange the liquid (ink) in accordance with the sheet and liquid path that hold it. By applying at least one drive signal corresponding to the recording information to the electrothermal transducer element, thermal energy is generated that causes the electrothermal transducer to rapidly rise in temperature beyond nucleate boiling, thereby reducing the heat of the recording head. This is effective because it causes film boiling on the action surface, resulting in the formation of bubbles in the liquid (ink) that correspond one-to-one to this drive signal. The growth of this bubble,
The contraction causes liquid (ink) to be ejected through the ejection port to form at least one drop. It is more preferable to use this drive signal in a pulse form, since the growth and contraction of bubbles can be carried out immediately and appropriately, so that ejection of liquid (ink) with particularly excellent responsiveness can be achieved. This pulse-shaped drive signal is described in U.S. Pat. Nos. 4,463,359 and 434.
5262 is suitable. Further, if the conditions described in US Pat. No. 4,313,124 are adopted as the invention regarding the temperature increase rate of the heat acting surface, even more excellent recording can be performed.
【００３５】記録ヘッドの構成としては、上述の各明細
書に開示されているような吐出口、液流路、電気熱変換
体素子の組み合わせ構成（直線状液流路又は直角液流路
）の他に熱作用部が屈曲する領域に配置されている構成
を開示する米国特許第４５５８３３３号明細書、米国特
許第４４５９６００号明細書を用いた構成も本発明に含
まれるものである。加えて、複数の電気熱変換体素子に
対して、共通するスリットを電気熱変換体素子の吐出部
とする構成を開示する特開昭５９年第１２３６７０号公
報や熱エネルギーの圧力波を吸収する開孔を吐出口に対
応させる構成を開示する特開昭５９年第１３８４６１号
公報に基づいた構成にしても本発明は有効である。The configuration of the recording head includes a combination of ejection ports, liquid flow paths, and electrothermal transducer elements (straight liquid flow path or right-angled liquid flow path) as disclosed in each of the above-mentioned specifications. The present invention also includes configurations using US Pat. No. 4,558,333 and US Pat. No. 4,459,600, which disclose configurations in which the heat acting portion is disposed in a bending region. In addition, Japanese Patent Application Laid-open No. 123670 of 1982 discloses a configuration in which a common slit is used as a discharge part for a plurality of electrothermal transducer elements, and a method for absorbing pressure waves of thermal energy is disclosed. The present invention is also effective with a configuration based on Japanese Patent Application Laid-Open No. 138461 of 1981, which discloses a configuration in which the openings correspond to the discharge ports.
【００３６】更に、記録紙の全幅に亘り同時に記録がで
きるフルラインタイプの記録ヘッドとしては、上述した
明細書に開示されているような複数記録ヘッドの組み合
わせによって、その長さを満たす構成や、一対的に形成
された一個の記録ヘッドとしての構成のいずれでも良い
が、本発明は、上述した構成を一層有効に発揮すること
ができる。Further, as a full-line type recording head that can simultaneously record across the entire width of recording paper, there is a configuration that satisfies the length by a combination of a plurality of recording heads as disclosed in the above-mentioned specification, Any configuration as a pair of recording heads may be used, but the present invention can more effectively utilize the above-described configuration.
【００３７】加えて、装置本体に装着されることで、装
置本体との電気的な接続や装置本体からのインクの供給
が可能になる交換自在のチップタイプの記録ヘッド、あ
るいは記録ヘッド自体に一体的に設けられたカートリッ
ジタイプの記録ヘッドにおいても本発明は有効である。In addition, a replaceable chip-type recording head that is attached to the apparatus main body enables electrical connection with the apparatus main body and ink supply from the apparatus main body, or a print head that is integrated into the print head itself. The present invention is also effective in a cartridge-type recording head that is provided in a conventional manner.
【００３８】又、記録装置に記録ヘッドに対する回復手
段や予備的な補助手段等を付加することは、本発明によ
り得られる記録ヘッドの効果を一層安定にできるので、
好ましいものである。これらを具体的に挙げれば、記録
ヘッドに対しての、キャピング手段、クリーニング手段
、加圧或は吸引手段、電気熱変換素子或はこれとは別の
加熱素子、或はこれらの組み合わせによる予備加熱手段
、記録とは別の吐出を行なう予備吐出モードを行なう手
段等を付加することも安定した記録を行なうために有効
である。Furthermore, by adding recovery means and preliminary auxiliary means for the recording head to the recording apparatus, the effect of the recording head obtained by the present invention can be further stabilized.
This is preferable. Specifically, these include preheating of the recording head using a capping means, a cleaning means, a pressurizing or suction means, an electrothermal conversion element or another heating element, or a combination thereof. It is also effective to add a means for performing a preliminary ejection mode, which performs ejection other than printing, in order to perform stable printing.
【００３９】更に、記録装置の記録モードとしては黒色
等の主流色のみを記録するモードだけではなく、記録ヘ
ッドを一体的に構成した、又は複数個を組み合わせて構
成したいずれでもよいが、異なる色の複数カラー又は、
混色によるフルカラーの少なくとも一つを備えた装置の
記録ヘッドにも本発明は極めて有効である。Furthermore, the recording mode of the recording apparatus is not limited to a mode in which only mainstream colors such as black are recorded, but also a recording head configured integrally or a plurality of recording heads combined, but different colors can be used. multiple colors or
The present invention is also extremely effective for a recording head of an apparatus having at least one full color by color mixture.
【００４０】又、本発明により得られる記録ヘッドは、
インクが液体でなくとも、室温やそれ以下で固化するイ
ンクであって、室温で軟化もしくは液体となるもの、或
いは、インクジェットにおいて一般的に行なわれている
温度調整範囲である３０℃以上７０℃以下で軟化もしく
は液体となるものにも適用できる。すなわち、記録信号
付与時にインクが液状をなすものであれば良い。加えて
、積極的に熱エネルギーによる昇温を、インクの固形状
態から液体状態への態変化のエネルギーとして吸収せし
めることで防止するか、又は、インクの蒸発防止を目的
として放置状態で固化するインクを用いるかして、いず
れにしても熱エネルギーの記録信号に応じた付与によっ
てインクが液化してインク液状として吐出するものや記
録媒体に到達する時点ではすでに固化し始めるもの等の
ような、熱エネルギーによって初めて液化する性質のイ
ンク使用も本発明に係る記録ヘッドには適用可能である
。このような場合インクは、特開昭５４−５６８４７号
公報あるいは特開昭６０−７１２６０号公報に記載され
るような、多孔質シート凹部又は貫通孔に液状又は固形
物として保持された状態で、電気熱変換体素子に対して
対向するような形態としても良い。本発明においては、
上述した各インクに対して最も有効なものは、上述した
膜沸騰方式を実施するものである。Further, the recording head obtained according to the present invention has the following features:
Even if the ink is not a liquid, it is an ink that solidifies at room temperature or lower, and becomes soft or liquid at room temperature, or a temperature adjustment range of 30°C or higher and 70°C or lower, which is the temperature adjustment range generally used in inkjet. It can also be applied to materials that become soft or liquid. That is, it is sufficient if the ink is in a liquid state when the recording signal is applied. In addition, ink that actively prevents temperature rise due to thermal energy by absorbing it as energy for the ink's change from a solid state to a liquid state, or that solidifies when left to prevent ink evaporation. In any case, by applying thermal energy according to the recording signal, the ink is liquefied and ejected as liquid ink, or the ink has already begun to solidify by the time it reaches the recording medium. The use of ink that is liquefied only by energy is also applicable to the recording head according to the present invention. In such a case, the ink is held in a liquid or solid state in the recesses or through holes of the porous sheet, as described in JP-A-54-56847 or JP-A-60-71260. It may also be configured to face the electrothermal transducer element. In the present invention,
The most effective method for each of the above-mentioned inks is to implement the above-mentioned film boiling method.
【００４１】図１０は本発明により得られた記録ヘッド
をインクジェットヘッドカートリッジ（ＩＪＣ）として
装着したインクジェット記録装置（ＩＪＲＡ）の一例を
示す外観斜視図である。FIG. 10 is an external perspective view showing an example of an inkjet recording apparatus (IJRA) equipped with a recording head obtained according to the present invention as an inkjet head cartridge (IJC).
【００４２】図において、２０はプラテン２４上に送紙
されてきた記録紙の記録面に対向してインク吐出を行な
うノズル群を具えたインクジェットヘッドカートリッジ
（ＩＪＣ）である。１６はＩＪＣ２０を保持するキャリ
ッジＨＣであり、駆動モータ１７の駆動力を伝達する駆
動ベルト１８の一部と連結し、互いに平行に配設された
２本のガイドシャフト１９Ａおよび１９Ｂと摺動可能と
することにより、ＩＪＣ２０の記録紙の全幅にわたる往
復移動が可能となる。In the figure, reference numeral 20 denotes an inkjet head cartridge (IJC) equipped with a nozzle group for ejecting ink toward the recording surface of the recording paper fed onto the platen 24. A carriage HC 16 holds the IJC 20, is connected to a part of the drive belt 18 that transmits the driving force of the drive motor 17, and is slidable on two guide shafts 19A and 19B arranged parallel to each other. By doing so, it becomes possible to reciprocate the recording paper of the IJC 20 over the entire width.
【００４３】２６はヘッド回復装置であり、ＩＪＣ２０
の移動経路の一端、例えばホームポジションと対向する
位置に配設される。電動機構２３を介したモータ２２の
駆動力によって、ヘッド回復装置２６を動作せしめ、Ｉ
ＪＣ２０のキャッピングを行なう。このヘッド回復装置
２６のキャップ部２６ＡによるＩＪＣ２０へのキャッピ
ングに関連させて、ヘッド回復装置２６内に設けた適宜
の吸引手段によるインク吸引もしくはＩＪＣ２０へのイ
ンク供給経路に設けた適宜の加圧手段によるインク圧送
を行ない、インク吐出口より強制的に排出させることに
よりノズル内の増粘インクを除去する等の吐出回復処理
を行なう。また、記録終了時等にキャッピングを施すこ
とによりＩＪＣが保護される。26 is a head recovery device, IJC20
It is disposed at one end of the moving path of the camera, for example, at a position opposite to the home position. The head recovery device 26 is operated by the driving force of the motor 22 via the electric mechanism 23, and the I
Perform capping of JC20. In connection with the capping of the IJC 20 by the cap portion 26A of the head recovery device 26, ink suction is performed by an appropriate suction means provided within the head recovery device 26, or by appropriate pressure means provided in the ink supply path to the IJC 20. Ejection recovery processing is performed, such as removing thickened ink within the nozzle by forcefully feeding the ink and forcibly discharging it from the ink ejection port. Furthermore, IJC is protected by capping at the end of recording, etc.
【００４４】３０はヘッド回復装置２６の側面に配設さ
れ、シリコンゴムで形成されるワイピング部材としての
ブレードである。ブレード３０はブレード保持部材３０
Ａにカンチレバー形態で保持され、ヘッド回復装置２６
と同様、モータ２２および伝動機構２３によって動作し
、ＩＪＣ２０の吐出面との係合が可能となる。これによ
り、ＩＪＣ２０の記録動作における適切なタイミングで
、あるいはヘッド回復装置２６を用いた吐出回復処理後
に、ブレード３０をＩＪＣ２０の移動経路中に突出させ
、ＩＪＣ２０の移動動作に伴ってＩＪＣ２０の吐出面に
おける結露、濡れあるいは塵埃等をふきとるものである
。Reference numeral 30 denotes a blade as a wiping member, which is disposed on the side surface of the head recovery device 26 and is made of silicone rubber. The blade 30 is a blade holding member 30
The head recovery device 26 is held in cantilever form at A.
Similarly, it is operated by a motor 22 and a transmission mechanism 23, and can be engaged with the discharge surface of the IJC 20. This allows the blade 30 to protrude into the movement path of the IJC 20 at an appropriate timing during the recording operation of the IJC 20 or after the ejection recovery process using the head recovery device 26, and to cause the blade 30 to protrude into the movement path of the IJC 20 at an appropriate timing during the recording operation of the IJC 20 or after the ejection recovery process using the head recovery device 26. It is used to wipe off condensation, moisture, dust, etc.
【００４５】[0045]
【実施例】以下、実施例を示し、本発明を更に詳細に説
明する。
実施例１
本実施例は感光波長域の異なる感光性材料（レジスト）
を使用した例であり、下層である第１感光性材料層には
電子線レジストを、上層である第２感光性材料層は紫外
線レジスト（感光波長域３００ｎｍ）を使用した。EXAMPLES The present invention will be explained in more detail by way of examples. Example 1 This example uses photosensitive materials (resists) with different photosensitive wavelength ranges.
In this example, an electron beam resist was used for the lower first photosensitive material layer, and an ultraviolet resist (sensitivity wavelength range: 300 nm) was used for the upper second photosensitive material layer.
【００４６】図１から図７に示す操作手順に準じて、図
７の構成の液体噴射記録ヘッドを作製した。A liquid jet recording head having the configuration shown in FIG. 7 was manufactured according to the operating procedure shown in FIGS. 1 to 7.
【００４７】まず、エネルギー発生素子としての電気熱
変換素子（材質ＨｆＢ２からなるヒーター）を形成した
ガラス基板上に、ネガ型レジストとしてクロロメチル化
ポリスチレン（トーソー株：ＣＭＳ−ＥＸ）を２５μｍ
厚にて塗布し、８０℃にて１時間ベーキングした。次い
で、該基板を電子線描画装置（エリオニクス社：ＥＬＳ
−３３００）に装着し、加速電圧３０ｋＶ、照射量４０
μＣ／ｃｍ２ の条件にてインク路に該当する箇所のパ
ターニングを行なった。First, on a glass substrate on which an electrothermal conversion element (heater made of material HfB2) as an energy generating element was formed, chloromethylated polystyrene (CMS-EX, Toso Co., Ltd.) was applied as a negative resist to a thickness of 25 μm.
It was coated thickly and baked at 80°C for 1 hour. Next, the substrate was placed in an electron beam lithography system (Elionix: ELS).
-3300), acceleration voltage 30kV, irradiation amount 40
Patterning was performed at locations corresponding to ink paths under the conditions of μC/cm2.
【００４８】次いで該レジスト膜上に、ポリビニルフェ
ノール（レジン−Ｍ：丸善石油化学）に４，４’−ジア
ドカルコン（Ａ−０１３：シンコー技研）を５％添加し
、ｎ−ブチルアルコールに溶解した。この溶液を０．２
２μｍのフィルターにて濾過した。このレジストを前記
ＣＭＳレジスト上にスピンコート法にて膜厚２０μｍに
て塗布し、８０度℃にて３０分間プリベークした。この
感光性材料層に対して、インク吐出口及びインク供給口
に相当するパターンのマスクを重ね光照射を施した。
光照射は、キヤノン製マスクアイライナーＰＬＡ−５２
０を遠紫外用にしたものを使用し、コンタクト露光にて
実施した。また、反射ミラーは２９０ｎｍ用のものを使
用した。尚該層の露光量は、約８００ｍＪ／ｃｍ２ で
ある。Next, on the resist film, 5% of 4,4'-diadochalcone (A-013: Shinko Giken) was added to polyvinylphenol (Resin-M: Maruzen Petrochemical) and dissolved in n-butyl alcohol. Add this solution to 0.2
It was filtered through a 2 μm filter. This resist was applied onto the CMS resist to a thickness of 20 μm by spin coating, and prebaked at 80° C. for 30 minutes. A mask with a pattern corresponding to the ink ejection openings and the ink supply openings was placed over the photosensitive material layer, and light irradiation was applied thereto. Light irradiation was done using Canon mask eyeliner PLA-52.
Contact exposure was carried out using 0 for deep ultraviolet light. Further, a reflection mirror for 290 nm was used. The exposure amount of this layer was approximately 800 mJ/cm2.
【００４９】次いで、前記基板をアルカリ性現像液（ヘ
キスト社：ＭＩＦ−３１２現像液）に１０分間浸漬し、
インク吐出口、及びインク供給口を現像した後、ＣＭＳ
−ＥＸの現像液（トルエン）に浸漬し、超音波を付与し
ながら３０分間を要してインク路を現像した。レジスト
はパターニングのままでは、機械的強度、耐溶剤性、耐
熱性に劣る。そこで、３００ｎｍ以下のＤｅｅｐ− Ｕ
Ｖ光によるハードニングと加熱処理を施して前記特性を
向上させた。ハードニングはウシオ電機製２ｋＷ Ｘ
ｅ−Ｈｇ 光源にて２０分間実施し、その後１５０℃に
て３０分間熱処理を行なった。最後にインク供給口にイ
ンク供給部材を接着して液体噴射記録ヘッドを作製した
。Next, the substrate was immersed in an alkaline developer (Hoechst: MIF-312 developer) for 10 minutes,
After developing the ink discharge port and ink supply port, CMS
The ink path was developed by immersing it in a -EX developer (toluene) and applying ultrasonic waves for 30 minutes. If the resist is left patterned, it is inferior in mechanical strength, solvent resistance, and heat resistance. Therefore, Deep-U with a wavelength of 300 nm or less
The above characteristics were improved by hardening and heat treatment using V light. Hardening is made by Ushio Inc. 2kW
It was carried out for 20 minutes using an e-Hg light source, and then heat-treated at 150°C for 30 minutes. Finally, an ink supply member was adhered to the ink supply port to produce a liquid jet recording head.
【００５０】このようにして、作製した液体噴射記録ヘ
ッドを記録装置に装着し、純水／グリセリン／ダイレク
トブラック１５４（水溶性黒色染料）＝６５／３０／５
から成るインクを用いて記録を行なったところ、安定な
印字が可能であった。
実施例２
本実施例は上層および下層レジストとして同種のネガ型
レジストを使用した場合である。The thus produced liquid jet recording head was mounted on a recording device, and pure water/glycerin/Direct Black 154 (water-soluble black dye) = 65/30/5
When recording was performed using an ink consisting of the following, stable printing was possible. Example 2 This example is a case where the same type of negative resist is used as the upper layer and lower layer resist.
【００５１】実施例１と同様に、基板上に下層レジスト
として環化ポリイソプレンレジスト（ＯＥＢＲ−８００
：東京応化工業）に実施例１で使用したビスアジド化合
物（４，４’−ジアジドカルコン）を２ｗｔ％添加し、
膜厚２５μｍにて塗布した。実施例１と同様にして、該
レジスト層に波長３００ｎｍの紫外光を照射し、インク
路のパターンを露光した。露光量は８００ｍＪ／ｃｍ２
である。Similar to Example 1, a cyclized polyisoprene resist (OEBR-800) was applied as a lower resist on the substrate.
:Tokyo Ohka Kogyo) was added with 2 wt% of the bisazide compound (4,4'-diazide chalcone) used in Example 1,
It was applied to a film thickness of 25 μm. In the same manner as in Example 1, the resist layer was irradiated with ultraviolet light having a wavelength of 300 nm to expose the pattern of the ink paths. Exposure amount is 800mJ/cm2
It is.
【００５２】膜厚１００μｍのＰＥＴフィルムにビスア
ジド化合物を１０ｗｔ％添加する以外は下層レジスト材
料と同じ液をバーコーターにて膜厚２０μｍにて塗布し
た。該フィルムを真空中８０℃にて１時間プリベークし
て溶剤を除去した後、下層レジストをパターニングした
基板にラミネートして転写した。ラミネートは、温度１
２０℃にて、圧力１０ｋｇ／ｃｍ２ の条件にて実施し
た。A PET film having a thickness of 100 μm was coated with the same solution as the lower layer resist material, except that 10 wt % of a bisazide compound was added, using a bar coater to a thickness of 20 μm. The film was prebaked in vacuum at 80° C. for 1 hour to remove the solvent, and then the lower resist layer was laminated and transferred onto a patterned substrate. Laminate at temperature 1
The test was carried out at 20° C. and under a pressure of 10 kg/cm 2 .
【００５３】上記手段にて形成したレジスト膜上に、下
層レジスト膜と同じ条件にて露光を行なった。尚、露光
量は１００ｍＪ／ｃｍ２ であり、該露光量では下層レ
ジスト材料はゲル化しなかった。The resist film formed by the above method was exposed to light under the same conditions as the lower resist film. The exposure amount was 100 mJ/cm2, and the lower resist material did not gel at this exposure amount.
【００５４】露光終了後、基板をトルエンに２０分間浸
漬して現像を行なったのち、イソプロピルアルコールに
５分間浸漬してリンスを行なった。実施例１と同様にし
てＵＶハードニングをした。最後に、インク供給口にイ
ンク供給部材を接着して液体噴射記録ヘッドを作製した
。このようにして、作製した液体噴射記録ヘッドを記録
装置に装着し、純水／グリセリン／ダイレクトブラック
１５４（水溶性黒色染料）＝６５／３０／５から成るイ
ンクを用いて記録を行なったところ、安定な印字が可能
であった。
実施例３
本実施例は、上層および下層感光性樹脂材料の感度が異
なるものを使用した例について記載する。After the exposure, the substrate was immersed in toluene for 20 minutes for development, and then immersed in isopropyl alcohol for 5 minutes for rinsing. UV hardening was performed in the same manner as in Example 1. Finally, an ink supply member was adhered to the ink supply port to produce a liquid jet recording head. The thus prepared liquid jet recording head was attached to a recording device, and recording was performed using an ink consisting of pure water/glycerin/Direct Black 154 (water-soluble black dye) = 65/30/5. Stable printing was possible. Example 3 This example describes an example in which upper layer and lower layer photosensitive resin materials have different sensitivities.
【００５５】アクリレート系プレポリマー（アロニクス
Ｍ−３１２：東亜合成化学）とアクリル樹脂（Ｅｌｖａ
ｃｉｔｅ ２０４１：ｄｕ Ｐｏｎｔ）を７０：３０の
比率にて混合し酢酸エチルに溶解させた。この溶液に光
開始剤として２−クロルチオキサントン（東京化成製試
薬）を固形分に対して３部、又は２−クロルチオキサン
トン３部とエチルＰ−ジメチルアミノベンゾエート２部
を添加した物を２種作製した。これら材料を厚さ２０μ
ｍのアラミドフィルム（東レ製）にバーコーターにて膜
厚さ３０μｍにて塗布した。この皮膜をラミネートによ
ってガラス基板上に貼り合わせて、マスクアライメント
装置（ミカサ株：ＭＡ−１０）に装着して感度を測定し
た。エチル−Ｐ−ジメチルアミノベンゾエートを添加し
た系は、しない系に比べて５倍感度が高かった。即ち、
アミンを添加した系は照射時間２０秒にてトルエンで現
像後の膜厚は１８μｍであったが、添加しない系では１
００秒にて同様の残膜率を得た。Acrylate prepolymer (Aronix M-312: Toagosei Chemical Co., Ltd.) and acrylic resin (Elva
cite 2041:du Pont) were mixed in a ratio of 70:30 and dissolved in ethyl acetate. Two types were prepared by adding 3 parts of 2-chlorothioxanthone (reagent manufactured by Tokyo Kasei Co., Ltd.) to this solution as a photoinitiator based on the solid content, or 3 parts of 2-chlorothioxanthone and 2 parts of ethyl P-dimethylaminobenzoate. did. These materials have a thickness of 20μ
The film was coated on an aramid film (manufactured by Toray Industries, Ltd.) using a bar coater to a thickness of 30 μm. This film was laminated onto a glass substrate, and the film was mounted on a mask alignment device (Mikasa Co., Ltd.: MA-10) to measure sensitivity. The system with the addition of ethyl-P-dimethylaminobenzoate was five times more sensitive than the system without it. That is,
The system with amine added had a film thickness of 18 μm after development with toluene at an irradiation time of 20 seconds, whereas the system without amine had a film thickness of 18 μm.
A similar residual film rate was obtained at 00 seconds.
【００５６】実施例１と同様にしてヒーター基板上に前
記感光性樹脂をラミネートによって貼り付けた。なおこ
の樹脂はアミンを添加しないものである。これを前記マ
スクアライメント装置に装着して、高圧水銀灯より発生
する光を照射して、インク路のパターンを露光した。尚
露光時間は１５０秒とした。The photosensitive resin was laminated onto the heater substrate in the same manner as in Example 1. Note that this resin does not contain any amine. This was attached to the mask alignment device and irradiated with light generated from a high-pressure mercury lamp to expose the ink path pattern. The exposure time was 150 seconds.
【００５７】次いで、レジスト表面のアラミドフィルム
をはがし、アミンを添加したレジストを同様にラミネー
ト法にて貼り付けた後、インク吐出口、インク供給口の
パターンを露光した。尚露光時間は２０秒である。レジ
スト表面のアラミドフィルムを剥がした後、トルエンに
て２０分間現像した。現像後に１０分間ハードニングの
為の露光を行ない、１２０℃の加熱処理を施した。Next, the aramid film on the surface of the resist was peeled off, and a resist to which amine was added was similarly laminated using the laminating method, and then the patterns of the ink discharge ports and ink supply ports were exposed. Note that the exposure time was 20 seconds. After peeling off the aramid film on the resist surface, it was developed with toluene for 20 minutes. After development, exposure for hardening was performed for 10 minutes, and heat treatment was performed at 120°C.
【００５８】[0058]
【発明の効果】以上説明した本発明によってもたらされ
る効果としては、下記に列挙する項目が挙げ上げられる
。Effects of the Invention The effects brought about by the present invention described above include the following items.
【００５９】
１）ヘッド製作のための主要工程が、フォトレジストや
感光性ドライフィルム等を用いたリソグラフィー技術に
よるため、ヘッドの細密部を所望のパターンで、しかも
極めて容易に形成することができるばかりか、同構成の
多数のヘッドを同時に加工することも容易にできる。1) Since the main process for manufacturing the head is based on lithography technology using photoresist, photosensitive dry film, etc., the detailed parts of the head can be formed in a desired pattern very easily. Moreover, it is also possible to easily process a large number of heads with the same configuration at the same time.
【００６０】
２）オリフィス面の切断工程を必要とせず、且つエネル
ギー発生素子とインク吐出口間の距離をレジスト膜の塗
布膜厚を制御することで調整できるため、素子と吐出口
間隔が一定で吐出口内面の滑らかなヘッドを安定に製造
でき、歩留りの向上と印字品位の向上が図れる。2) There is no need for a cutting process on the orifice surface, and the distance between the energy generating element and the ink ejection port can be adjusted by controlling the coating thickness of the resist film, so the distance between the element and the ejection port is constant. It is possible to stably manufacture a head with a smooth inner surface of the ejection port, improving yield and printing quality.
【００６１】
３）主要構成部材の位置合わせを容易にして確実になす
ことが可能であり、寸法精度の高いヘッドが歩留りよく
製造できる。3) It is possible to easily and reliably align the main components, and heads with high dimensional accuracy can be manufactured at a high yield.
【００６２】
４）少なくとも２回のレジスト塗布と露光の工程と、１
回の現像工程によりヘッドの製造が可能であり、製造工
程の短縮により、生産性の向上が図れる。4) At least two resist coating and exposure steps;
The head can be manufactured in just one development process, and by shortening the manufacturing process, productivity can be improved.
【００６３】
５）高密度マルチアレイ液体噴射記録ヘッドが簡単な手
段で得られる。5) A high-density multi-array liquid jet recording head can be obtained by simple means.
【００６４】
６）インク路の高さ、および吐出口の長さの制御は、レ
ジスト膜の塗布膜厚によって簡単且つ精度良く変えられ
る為、設計の変更と制御が容易に実施できる。
７）接着剤による微細部の接着が必要ない為、接着剤が
インク路や吐出口を塞ぐことがなく、ヘッドの機能低下
を招かない。6) Since the height of the ink path and the length of the ejection port can be easily and accurately changed by changing the thickness of the resist film, the design can be easily changed and controlled. 7) Since it is not necessary to bond fine parts with adhesive, the adhesive does not block the ink path or the ejection port, and the head function does not deteriorate.
【００６５】
８）異なる感度のレジストを組合わせて該液体噴射記録
ヘッドを作製する場合においては、同一の露光装置を使
用できるし、また反射ミラー等の交換の必要がないため
、ヘッドの製造ラインの１ラインに１台の露光装置を設
置すればよく、大幅な設備投資の低減が可能となる。8) When producing the liquid jet recording head by combining resists with different sensitivities, the same exposure device can be used, and there is no need to replace reflective mirrors, etc., so the head production line can be improved. It is only necessary to install one exposure device in one line, which makes it possible to significantly reduce capital investment.
【図１】本発明に係るヘッドの製造方法において、イン
ク路、吐出口形成前の基板の状態を示す模式的斜視図で
ある。FIG. 1 is a schematic perspective view showing the state of a substrate before ink passages and ejection ports are formed in a head manufacturing method according to the present invention.
【図２】本発明に係るヘッドの製造方法において、第１
感光性材料層を形成した基板の状態を示す模式的斜視図
である。FIG. 2: In the head manufacturing method according to the present invention, the first
FIG. 2 is a schematic perspective view showing the state of a substrate on which a photosensitive material layer is formed.
【図３】本発明に係るヘッドの製造方法において、第１
感光性材料層に施すパターン露光の状態を示す模式図で
ある。FIG. 3: In the head manufacturing method according to the present invention, the first
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state of pattern exposure applied to a photosensitive material layer.
【図４】本発明に係るヘッドの製造方法において、第２
感光性材料層の積層状態を示す模式図である。FIG. 4 In the head manufacturing method according to the present invention, the second
FIG. 3 is a schematic diagram showing a laminated state of photosensitive material layers.
【図５】本発明に係るヘッドの製造方法において、第２
感光性材料層に施すパターン露光の状態を示す模式図で
ある。FIG. 5: In the head manufacturing method according to the present invention, the second
FIG. 3 is a schematic diagram showing a state of pattern exposure applied to a photosensitive material layer.
【図６】本発明に係るヘッドの製造方法において、形成
されたインク路、吐出口等のパターン潜像形成部を示す
模式的斜視図である。FIG. 6 is a schematic perspective view showing pattern latent image forming portions such as ink paths and ejection ports formed in the head manufacturing method according to the present invention.
【図７】インク供給手段を設けた本発明ヘッドの一実施
例を示す模式図である。FIG. 7 is a schematic diagram showing an embodiment of the head of the present invention provided with ink supply means.
【図８】インクの供給を、インクの吐出方向に対して基
板の反対側より行なう本発明ヘッドの他の実施例を示す
模式図である。FIG. 8 is a schematic diagram showing another embodiment of the head of the present invention in which ink is supplied from the opposite side of the substrate with respect to the ink ejection direction.
【図９】インク供給手段を設けた図８のヘッドの模式図
である。9 is a schematic diagram of the head of FIG. 8 provided with ink supply means; FIG.
【図１０】本発明に係るヘッドを取付可能な記録装置の
説明図である。FIG. 10 is an explanatory diagram of a recording device to which a head according to the present invention can be attached.
１ 基板
２ エネルギー発生素子
３ 第１感光性材料層
４ マスク
５ 第２感光性材料層
６ 潜像形成部
７ マスク
８ 潜像形成部
９ 潜像形成部
１０ ブロック体
１１ インク路
１２ インク吐出口
１３ インク供給口
１６ キャリッジ
１７ 駆動モータ
１８ 駆動ベルト
１９Ａ ガイドシャフト
１９Ｂ ガイドシャフト
２０ インクジェットヘッドカートリッジ２２
クリーニング用モータ
２３ 伝動機構
２４ プラテン
２６ キャップ部材
３０ ブレード
３０Ａ ブレード保持部材1 Substrate 2 Energy generating element 3 First photosensitive material layer 4 Mask 5 Second photosensitive material layer 6 Latent image forming section 7 Mask 8 Latent image forming section 9 Latent image forming section 10 Block body 11 Ink path 12 Ink discharge port 13 Ink supply port 16 Carriage 17 Drive motor 18 Drive belt 19A Guide shaft 19B Guide shaft 20 Inkjet head cartridge 22
Cleaning motor 23 Transmission mechanism 24 Platen 26 Cap member 30 Blade 30A Blade holding member
Claims (14)
び前記インク吐出口とインク供給口とを連通するインク
路と、該インク路に対応して配設されインクを吐出する
ために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生
素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、前記エネルギー発生素子が配設された基板上に所定の
感光波長域を有するインク路形成用ネガ型第１感光性材
料層を設けて該第１感光性材料層に前記所定の感光波長
域でインク路形成用パターン露光を行ない、次いで前記
第１感光性材料層上に更に第１感光性材料層と異なる感
光波長域を有するネガ型第２感光性材料層を設けて該第
２感光性材料層に前記異なる感光波長域でインク吐出口
及びインク供給口形成用パターン露光を行ない、その後
前記第１及び第２の感光性材料層の現像を行なうことを
特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。1. An ink discharge port, an ink supply port, an ink path that communicates the ink discharge port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path and used for discharging ink. In the method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a negative type first photosensitive material for forming an ink path having a predetermined photosensitive wavelength range is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed. a layer is provided and the first photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink path in the predetermined photosensitive wavelength range, and then a photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer in a photosensitive wavelength range different from that of the first photosensitive material layer. A negative second photosensitive material layer is provided, and the second photosensitive material layer is subjected to pattern exposure for forming an ink discharge port and an ink supply port in the different photosensitive wavelength ranges, and then the first and second photosensitive material layers are exposed. 1. A method of manufacturing a liquid jet recording head, the method comprising developing a layer of a transparent material.
層の配合する光重合開始剤が異なることにより両者の感
光波長域が異なる請求項１記載のヘッドの製造方法。2. The method of manufacturing a head according to claim 1, wherein the first photosensitive material layer and the second photosensitive material layer have different photopolymerization initiators, so that the wavelength ranges to which they are sensitive are different.
び前記インク吐出口とインク供給口とを連通するインク
路と、該インク路に対応して配設されインクを吐出する
ために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生
素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、前記エネルギー発生素子が配設された基板上にインク
路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第１感光性
材料層にインク路形成用パターン露光を行ない、次いで
前記第１感光性材料層上に更に照射光に対するゲル化感
度が前記第１感光性材料層と異なるネガ型第２感光性材
料層を設けて第２感光性材料層にインク吐出口及びイン
ク供給口形成用パターン露光を行ない、その後前記第１
及び第２の感光性材料層の現像を行なうことを特徴とす
る液体噴射記録ヘッドの製造方法。3. An ink discharge port, an ink supply port, an ink path that communicates the ink discharge port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path and used for discharging ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a first negative photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed; The photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming ink paths, and then a negative second photosensitive material layer is further formed on the first photosensitive material layer, and the gelation sensitivity to irradiation light is different from that of the first photosensitive material layer. The second photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink discharge port and an ink supply port, and then the first photosensitive material layer is
and a method for manufacturing a liquid jet recording head, comprising developing the second photosensitive material layer.
び前記インク吐出口とインク供給口とを連通するインク
路と、該インク路に対応して配設されインクを吐出する
ために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生
素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、前記エネルギー発生素子が配設された基板上にインク
路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第１感光性
材料層にインク路形成用パターン露光を行ない、次いで
前記第１感光性材料層上に更に第１感光性材料層よりも
平均分子量が大きいネガ型第２感光性材料層を設けて該
第２感光性材料層にインク吐出口及びインク供給口形成
用パターン露光を行ない、その後前記第１及び第２の感
光性材料層の現像を行なうことを特徴とする液体噴射記
録ヘッドの製造方法。4. An ink ejection port, an ink supply port, an ink path communicating with the ink ejection port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path and used for ejecting ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a first negative photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed; The photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming ink paths, and then a negative second photosensitive material layer having an average molecular weight larger than that of the first photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer. A method for manufacturing a liquid jet recording head, characterized in that two photosensitive material layers are subjected to pattern exposure for forming ink ejection orifices and ink supply ports, and then the first and second photosensitive material layers are developed.
び前記インク吐出口とインク供給口とを連通するインク
路と、該インク路に対応して配設されインクを吐出する
ために利用されるエネルギーを発生するエネルギー発生
素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造方法において
、前記エネルギー発生素子が配設された基板上にインク
路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第１感光性
材料層にインク路形成用パターン露光を行ない、次いで
前記第１感光性材料層上に更に前記第１感光性材料層よ
りも光重合開始剤を多量に配合してなるネガ型第２感光
性材料層を設けて該第２感光性材料層にインク吐出口及
びインク供給口形成用パターン露光を行ない、その後前
記第１及び第２の感光性材料層の現像を行なうことを特
徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。5. An ink discharge port, an ink supply port, an ink path that communicates the ink discharge port and the ink supply port, and an ink path disposed corresponding to the ink path and used for discharging ink. In a method of manufacturing a liquid jet recording head having an energy generating element that generates energy, a first negative photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed; A negative second photosensitive material, which is formed by exposing the photosensitive material layer to a pattern for forming ink paths, and then further compounding a photopolymerization initiator on the first photosensitive material layer in a larger amount than in the first photosensitive material layer. a photosensitive material layer, the second photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink discharge port and an ink supply port, and then the first and second photosensitive material layers are developed. A method for manufacturing an ejection recording head.
通するインク路と、該インク路に対応して配設されイン
クを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエ
ネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造
方法において、前記エネルギー発生素子が配設されイン
ク供給口が設けられた基板上に所定の感光波長域を有す
るインク路形成用ネガ型第１感光性材料層を設けて該第
１感光性材料層に前記所定の感光波長域でインク路形成
用パターン露光を行ない、次いで前記第１感光性材料層
上に更に前記第１感光性材料層と異なる感光波長域を有
するネガ型第２感光性材料層を設けて該第２感光性材料
層に前記異なる感光波長域でインク吐出口形成用パター
ン露光を行ない、その後前記第１及び第２の感光性材料
層の現像を行なうことを特徴とする液体噴射記録ヘッド
の製造方法。6. An inkjet device comprising an ink ejection port, an ink path communicating with the ink ejection port, and an energy generating element disposed corresponding to the ink path and generating energy used for ejecting ink. In the method for manufacturing a liquid jet recording head, a negative type first photosensitive material layer for forming an ink path having a predetermined photosensitive wavelength range is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed and an ink supply port is provided. A first photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming an ink path in the predetermined photosensitive wavelength range, and then a negative type having a photosensitive wavelength range different from that of the first photosensitive material layer is further applied on the first photosensitive material layer. providing a second photosensitive material layer, exposing the second photosensitive material layer to a pattern for forming ink ejection ports in the different photosensitive wavelength range, and then developing the first and second photosensitive material layers; A method of manufacturing a liquid jet recording head characterized by:
配合する光重合開始剤が異なることにより両者の感光波
長域が異なる請求項６記載のヘッドの製造方法。7. The method of manufacturing a head according to claim 6, wherein the first photosensitive material and the second photosensitive material have different photopolymerization initiators, so that they have different photosensitive wavelength ranges.
通するインク路と、該インク路に対応して配設されイン
クを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエ
ネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造
方法において、前記エネルギー発生素子が配設されイン
ク供給口が設けられた基板上にインク路形成用ネガ型第
１感光性材料層を設けて該第１感光性材料層にインク路
形成用パターン露光を行ない、次いで前記第１感光性材
料層上に更に照射光に対するゲル化感度が前記第１感光
性材料層と異なるネガ型第２感光性材料層を設けて該第
２感光性材料層にインク吐出口形成用パターン露光を行
ない、その後前記第１及び第２の感光性材料層の現像を
行なうことを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法
。8. An inkjet device comprising an ink ejection port, an ink path communicating with the ink ejection port, and an energy generating element disposed corresponding to the ink path and generating energy used for ejecting ink. In the method for manufacturing a liquid jet recording head, a negative first photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed and an ink supply port is provided, and the first photosensitive material layer is A pattern exposure for forming an ink path is performed, and then a negative second photosensitive material layer having a gelling sensitivity to irradiation light different from that of the first photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer to form the second photosensitive material layer. A method for manufacturing a liquid jet recording head, characterized in that a photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming ink ejection orifices, and then the first and second photosensitive material layers are developed.
通するインク路と、該インク路に対応して配設されイン
クを吐出するために利用されるエネルギーを発生するエ
ネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製造
方法において、前記エネルギー発生素子が配設されイン
ク供給口が設けられた基板上にインク路形成用ネガ型第
１感光性材料層を設けて該第１感光性材料層にインク路
形成用パターン露光を行ない、次いで前記第１感光性材
料層上に更に前記第１感光性材料層よりも平均分子量が
大きいネガ型第２感光性材料層を設けて該第２感光性材
料層にインク吐出口形成用パターン露光を行ない、その
後前記第１及び第２の感光性材料層の現像を行なうこと
を特徴とする液体噴射記録ヘッドの製造方法。9. An inkjet device comprising an ink ejection port, an ink path communicating with the ink ejection port, and an energy generating element disposed corresponding to the ink path and generating energy used for ejecting ink. In the method for manufacturing a liquid jet recording head, a negative first photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed and an ink supply port is provided, and the first photosensitive material layer is A pattern exposure for forming an ink path is performed, and then a negative second photosensitive material layer having an average molecular weight larger than that of the first photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer to form the second photosensitive material. A method for manufacturing a liquid jet recording head, characterized in that the layer is exposed to a pattern for forming ink ejection orifices, and then the first and second photosensitive material layers are developed.
連通するインク路と、該インク路に対応して配設されイ
ンクを吐出するために利用されるエネルギーを発生する
エネルギー発生素子とを有する液体噴射記録ヘッドの製
造方法において、前記エネルギー発生素子が配設されイ
ンク供給口が設けられた基板上にインク路形成用ネガ型
第１感光性材料層を設けて該第１感光性材料層にインク
路形成用パターン露光を行ない、次いで前記第１感光性
材料層上に更に前記第１感光性材料層よりも光重合開始
剤を多量に配合してなるネガ型第２感光性材料層を設け
て該第２感光性材料層にインク吐出口形成用パターン露
光を行ない、その後前記第１及び第２の感光性材料層の
現像を行なうことを特徴とする液体噴射記録ヘッドの製
造方法。10. An inkjet device comprising an ink ejection port, an ink path communicating with the ink ejection port, and an energy generating element disposed corresponding to the ink path and generating energy used for ejecting ink. In the method for manufacturing a liquid jet recording head, a negative first photosensitive material layer for forming an ink path is provided on a substrate on which the energy generating element is disposed and an ink supply port is provided, and the first photosensitive material layer is After performing pattern exposure for forming ink paths, a negative second photosensitive material layer containing a larger amount of photopolymerization initiator than the first photosensitive material layer is further provided on the first photosensitive material layer. A method for manufacturing a liquid jet recording head, characterized in that the second photosensitive material layer is exposed to a pattern for forming ink ejection orifices, and then the first and second photosensitive material layers are developed.
の製造方法で製造された液体噴射記録ヘッド。11. A liquid jet recording head manufactured by the manufacturing method according to claim 1.
ルギーとして熱エネルギーを発生する電気熱変換体であ
ることを特徴とする請求項１１記載の液体噴射記録ヘッ
ド。12. The liquid jet recording head according to claim 11, wherein the energy generating element is an electrothermal converter that generates thermal energy as the energy.
ンク吐出口が複数設けられているフルラインタイプのも
のであることを特徴とする請求項１１記載の液体噴射記
録ヘッド。13. The liquid jet recording head according to claim 11, wherein the liquid jet recording head is of a full line type in which a plurality of ink ejection ports are provided over the entire width of a recording area of the recording medium.
ク吐出口が設けられている請求項１１記載の液体噴射記
録ヘッドと、該ヘッドを載置するための部材とを少なく
とも具備することを特徴とする液体噴射記録装置。14. The liquid jet recording head according to claim 11, wherein the ink ejection port is provided opposite to the recording surface of the recording medium, and a member for mounting the head. Characteristic liquid jet recording device.
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| JP2007509784A (en) * | 2003-10-30 | 2007-04-19 | イーストマン コダック カンパニー | Inkjet chamber manufacturing method |
| JP2013230594A (en) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Canon Inc | Method for manufacturing liquid ejection head |
| JP2014061652A (en) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Canon Inc | Method for manufacturing droplet ejection head |
| JP2014121873A (en) * | 2012-11-21 | 2014-07-03 | Canon Inc | Method for manufacturing ink discharge head |
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-
1990
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Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7526863B2 (en) | 2001-07-11 | 2009-05-05 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing a microstructure |
| JP2003025595A (en) * | 2001-07-11 | 2003-01-29 | Canon Inc | Production method for minute structure, production method for liquid ejecting head, and liquid ejecting head |
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| JP4532785B2 (en) * | 2001-07-11 | 2010-08-25 | キヤノン株式会社 | Structure manufacturing method and liquid discharge head manufacturing method |
| EP1275508A2 (en) | 2001-07-11 | 2003-01-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Method for manufacturing microstructure, method for manufacturing liquid discharge head, and liquid discharge head |
| US6951380B2 (en) | 2002-07-10 | 2005-10-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of manufacturing microstructure, method of manufacturing liquid discharge head, and liquid discharge head |
| US6986980B2 (en) | 2002-07-10 | 2006-01-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Method of producing micro structure, method of producing liquid discharge head, and liquid discharge head by the same |
| JP2007509784A (en) * | 2003-10-30 | 2007-04-19 | イーストマン コダック カンパニー | Inkjet chamber manufacturing method |
| JP2006159763A (en) * | 2004-12-09 | 2006-06-22 | Canon Inc | Method of manufacturing inkjet recording head and inkjet recording head |
| JP4614383B2 (en) * | 2004-12-09 | 2011-01-19 | キヤノン株式会社 | Inkjet recording head manufacturing method and inkjet recording head |
| JP2013230594A (en) * | 2012-04-27 | 2013-11-14 | Canon Inc | Method for manufacturing liquid ejection head |
| US9421773B2 (en) | 2012-09-11 | 2016-08-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Process for producing liquid ejection head |
| JP2014061652A (en) * | 2012-09-21 | 2014-04-10 | Canon Inc | Method for manufacturing droplet ejection head |
| JP2014121873A (en) * | 2012-11-21 | 2014-07-03 | Canon Inc | Method for manufacturing ink discharge head |
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