JPH04213389A - 移動床型の横に並んだ複数の反応帯域における接触リフォーミング方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は触媒の存在における、温
度範囲４８０℃〜６００℃での炭化水素の連続転化法に
おいて、炭化水素および場合によっては水素のようなガ
スで構成された当初仕込原料を、移動床型の少なくとも
二つの反応域を通して循環させ、触媒は移動床状に反応
域を循環して、当該域を上から下へ連続的に流れ、次に
その触媒は、反応の最終域から連続的に抜き取られて再
生域へ送られ、次に、再生された触媒は反応域とは区別
された水素処理域へ送られ、ここで反応温度よりは一般
的に低いある温度で処理され、次に触媒は水素処理後場
合によっては水素処理域とも反応域とも明確に隔離され
た硫化域へ連続的に送られ、そして、その触媒は、一つ
の硫化物で処理された後、連続的に反応域へ送られるこ
とになる方法に関するものである。

【０００２】更に詳しくは、本発明は、炭化水素の水素
リフォーミング法において、仕込原料が、例えば、約６
０℃〜２２０℃で蒸留するナフサ、特に、直接蒸留ナフ
サであってもよい方法に関するもので、同様に、本発明
は芳香族炭化水素の製造、例えば、ベンゼン、トルエン
およびキシレン（オルソ、メタまたはパラ）の製造で、
不飽和または飽和ガソリン（例えば、クラッキングの熱
分解ガソリン、特に、スチームクラッキングガソリン、
または接触式リフォーミング）のガソリンを原料とする
もの、または脱水素によって、芳香族炭化水素に転化す
ることのできるナフテン系の炭化水素を原料とするもの
に関するものである。

【０００３】

【従来技術および解決すべき課題】仕込原料は、各反応
器または反応域を、軸方向または半径方向（すなわち、
中心から周辺部へ、または周辺から中心へ）に連続的に
循環する。各反応域は、直列に連なりかつ横並びに配置
されていて、仕込原料が、これらの反応域の夫々を連続
的に流れ、各反応域間で仕込原料は中間的に加熱される
。新鮮な触媒は、新鮮な仕込原料が装入される第一反応
域の上から装入される。次に、これはこの区域の上から
下へ連続的に流れ、その底部から絶えず抜き取られ、こ
れは次の反応域の上の方へ搬送され（これは任意の適当
な方法で実施することができ（特にエレベータで））、
ここでも、連続的に上から下へ流れ、そして以下同様に
して、最後の反応域へ至り、ここの下部で触媒は同様に
連続的に抜き取られて、次に再生域へ送られるようにな
っている。

【０００４】反応域の底部から別の反応域の上への、最
終反応域の底部から再生域への、そして、再生域の底部
から第一反応域の上への触媒の循環は、本明細書と請求
項の範囲において“エレベータ”という語で記載の公知
の任意のエレベータ装置を用いて実施する。

【０００５】反応域から反応域へ、かつ、再生域の方へ
移動する固体は、例えば、粒状の触媒であってよい。こ
の触媒は、例えば、直径が、一般的には１〜３ｍｍ、好
ましくは、１．５〜２ｍｍであるが、これらの値は制限
的なものではないような球状を呈していてもよい。触媒
の嵩密度は、一般には０．４〜１で、好ましくは０．５
〜０．９で、更に詳しくは０．５５〜０．８であるが、
これらのの値は制限的なものではない。

【０００６】触媒のいわゆる再生については、これは任
意の公知の方法で実施可能である。好ましくは、触媒は
、 ａ）　　分子酸素を含むガスを用いて燃焼させ、ｂ）　
　分子酸素を含むガスを用い、かつ、同時に、ハロゲン
またはハロゲン化合物、例えばハロゲン化水素酸または
ハロゲン化アルキルを用いてオキシ塩素化を施し、ｃ）
　　分子酸素を含むガスを用いて、最終処理を施す。

【０００７】これらの三処理は独特の固定層域において
連続的に、あるいは、移動床の閉鎖容器内において実施
され、触媒は三つの別々の域に連続的に次々に進行する
が、ここで、再生の三段階の夫々が実施される。

【０００８】再生の次には、例えば窒素によるパージが
行なわれ、触媒から、残留酸素ガスの痕跡まで、除去さ
れる。

【０００９】本出願人によるＵＳ特許４１７２０２７に
は、本出願人が獲得する多くの特徴として今日、必ず意
義があるかかる方法の幾つかの面が述べられている。最
近、この先行技術はフランス特許出願Ｎｏ．　８８／１
４２４６、１９８９年１０月２７日において、本出願人
が改良している。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明は、触媒の存在に
炭化水素をリフォーミングする方法または芳香族炭化水
素を製造する方法において、炭化水素と水素からなる当
初仕込原料を、直列に連なりかつ横並びに配置された少
なくとも二つの反応域を通して循環させ、これらの反応
域は夫々移動床型のものとし、仕込原料は各反応域を連
続循環し、かつ触媒も各反応域の上から下へ移動床とし
て連続的に流れながら各反応域を引続き循環し、各反応
域（最終反応域を除く）の底部から抜き取った触媒を次
の反応域の頂部において水素流内へ移送し、仕込原料が
通過した最終反応域の底部から連続的に抜き取った触媒
を、次に、再生域へ移送するようにした方法において、
下記のことを特徴とする方法；すなわち、（ａ）　　　
仕込原料が通過した最終反応域から抜き取った使用済み
触媒から周囲の水素を完全にパージすること、（ｂ）　
　　次に、使用済み触媒を不活性ガス中におくこと、（
ｃ）　　　不活性ガス流を用いて、使用済み触媒を二つ
のエレベータ装置（６ａ）（６ｂ）の少なくとも一つの
装置によって再生域へ移送して、（ｉ）　先ず第一に、
使用済み触媒を第一エレベータ装置（６ａ）を用いて、
仕込原料が通過した最終反応域の底部から上部タンク（
１００）　まで上昇させ、（ｉｉ）触媒を当該上部タン
ク（１００）　から下部エレベータピット（１０２）　
まで、少なくとも二区分（１０１ａ）（１０１ｂ）に分
割した１本の管を通して断続的に下降せしめ、第一区分
（１０１ａ）は触媒を重力によって当該上部タンク（１
００）　から中央タンク（１０７）　まで導き、第二区
分（１０１ｂ）は触媒を重力によって当該中央タンク（
１０７）　から介在タンク（１０４）　まで導き、ここ
から触媒は重力によって下部エレベータピット（１０２
）　まで導かれ、これらの二区分（１０１ａ）（１０１
ｂ）には、フィルターおよび平衡弁回路（１０６ａ）（
１０６ｂ）が設けられていて、これら二区分（１０１ａ
）（１０１ｂ）の触媒の循環を交互に止めたり開放した
りして、両区分（１０１ａ）（１０１ｂ）の圧力状態を
変更できるようにし、かつ（ｉｉｉ）　次に、第二のエ
レベータ装置を用いて、触媒を、下部エレベータピット
（１０２）　から再生域の頂上に設けた蓄積タンクまで
上昇させるようにしたこと。

【００１１】（ｄ）　　　再生された触媒を不活性ガス
の流れを用いて、再生された触媒の微粒子の水簸（ｅｌ
ｕｔｒｉａｔｉｏｎ）　域へ移送することと、かつ、次
に周囲の不活性ガスを完全にパージすること。

【００１２】（ｅ）　　　再生された触媒を、水素が存
在する閉鎖容器内へ装入し、触媒を第一反応域へ連続的
に送り込む前にその触媒を一部または全部還元するよう
にすること。

【００１３】

【実施例】図１に示すのはこの最近の先行技術であり、
幾つかのエレベータ用ガスとして、触媒を一つの反応器
から他の反応器へ移すため浄化した、装置により製造さ
れた水素（以下「装置水素」という）を使用している。 このいわゆる浄化水素にはエタンやプロパンといった幾
つかの軽質炭化水素が、容量で、１０％まで、好ましく
は４％まで含まれていてもよい。注目すべきことだが、
メタンは不純物としては見做されないし、容量として、
水素分に等しい量まではそうであり、これは、この限界
値の場合、いわゆる浄化した水素流にはメタンが５０容
量％含まれていることを意味するだろう。

【００１４】したがって、装置の水素は、他の水素源が
欠乏している時の臨時用としてのみならず、単純浄化後
、リフォーミングまたは芳香族炭化水素の製造の反応の
全過程においてもそのまま、エレベータ用ガスとして使
用して、再生触媒の水素処理に供することができる。

【００１５】図１は可能な例示を示すものでだが、制限
的なものではなく、この図では三個の反応器が使用され
ている。仕込原料は、管（１）　、炉（２）　、管路（
３）　を経て第一反応器（２９）に装入される。第一反
応器からの流出物は管（３０）を経て抜き取られ炉（３
７）と管（３８）を経由して、第二反応器（４２）へ送
られる。第二反応器の流出物は管（４３）によって抜き
取られ、炉（５０）と管（５１）を経て、第三の反応器
（５５）へ送られる。第三の反応器の流出物は管（５６
ａ）を経て抜き取られる。新しい触媒は、装置の始動に
当り、図１上の管（４）を経て装入される。再生域（１
０）から到来する触媒は支柱（２７）と（２８）を経て
第一反応器（２９）へ入り、ここで移動床としてここを
緩やかに進む。触媒は（３１）や（３２）のような複数
の管と、管（３３）を経て反応器（２９）から抜き取る
が、この管を経て触媒はエレベータピット（３４）に達
する。この抜き取りは連続的に行なわれ（弁装置は必ず
しも必要でない）、触媒の排出量の調節は、区域（３４
）のレベルにある一本の管（図示省略）により注入され
る水素によって（純粋水素または装置水素）従来の適当
な調節によって保証される。

【００１６】装置水素の充分な流量を送って、触媒粒子
と共に反応流出物の一部が同伴されないようにする。触
媒は、次に、エレベータピット（３４）から公知の任意
のエレベータ装置を経て第二反応器（４２）の方へ移送
され、このエレベータ装置はこの明細書においては“エ
レベータ”という語で表示する。エレベータの流体は上
記に説明のように、管（３５）により装入された再循環
水素または装置により製造された水素である方が有利で
ある。このようにしてエレベータ（３６）内に同伴され
た触媒は容器（３９）に至り、ここから（４０）と（４
１）のような複数の管を経て、触媒は、第二反応器（４
２）に達する。（容器（３９）と管（４０）と（４１）
は場合によっては反応器（４２）の一体部分をなすこと
もあり得るし、すなわち、反応器の同じ内部に造作する
こともできる）。触媒は移動床として、反応器（４２）
を通過し、この反応器から、（４４）や（４５）のよう
な複数の管すなわち、支柱を経て、第一の反応器（２９
）の場合のように、連続的に抜き取られ、管（４６）を
経てエレベータピット（４７）に達する。

【００１７】触媒はエレベータ（４９）を経て、例えば
、管（４８）を経る再循環水素によって移送されて、容
器（５２）に到達するが、ここから複数個の管、例えば
、（５３）と（５４）を経由して、第三の移動床反応器
（５５）に達する。触媒は、第一、第二の反応器（２９
）と（４２）の場合のように、複数の管（５７）と（５
８）を経て、その第三の反応器（５５）から連続的に抜
き取られる。この使用済み触媒は、下記のように、管（
５９）を経てエレベータピット（６０ａ）　に達する。 この使用済み触媒は、次に、下記のようにフイードされ
るエレベータ（６）　によって“蓄積・傾瀉用”のタン
クに送り込まれる。

【００１８】注目すべきことだが、図１で、再生触媒は
閉鎖容器ないしタンク（１５）から、管（１６）を経て
連続的に抜き取られて、“エレベータピット”（すなわ
ちエレベータのピット）（１７）に達し、ここから、そ
の触媒は、下記のように、ガスによって、第一反応器（
２９）の上にある受入タンク（２０）の方へ連続的に同
伴される。この受入タンク（２０）から次に、触媒は、
移動床となって、複数の管、すなわち、（２７）や（２
８）のような「支柱」を通って、第一反応器（２９）の
方へ、連続的に流れる。再生触媒の水素化の後に行なわ
れる硫化は、例えば、部分的にタンク（２０）および支
柱（２７）と（２８）で実施される。

【００１９】各域（１５）　（１７）　および（２０）
、エレベータ（１９）、および触媒の移送管内の触媒の
徐行は連続的に行なわれて、水素処理および硫化の温度
が確実にうまく調節され、かつ、触媒が急激な温度変化
を受けることが防止される。

【００２０】この先行技術の図では、一方では再生域（
１０）の上流の、他方では下流のエレベータガスとして
のかつこの水素の使用による若干の欠点を排除すること
に成功している。この再生域は実際、痕跡の水素といえ
ども除去されていなければならない。先行技術の方法で
は、したがって、再生域（１０）の上流では、最終反応
器（５５）から到来する触媒を再生器の方へ移送する役
目をしたエレベータの水素を除去し、充分にパージする
のが適当であった。かつまた、再生域の下流では、第一
の反応器へ再生された触媒をエレベータによって同伴す
るために水素を再び流すのが適当であった。あらゆる水
素の存在から再生装置を保護するこれらの装置には充分
に大きい（現在では６プースすなわち、１５．２７ｃｍ
にまでなっているが、約４プース（１０．１６ｃｍ））
多数の弁を必要とするが、これは再生装置の近傍を支配
している水素圧力のためである。

【００２１】ところで、かかる弁には必ず製作および安
全上の特殊な問題が付きまとった。

【００２２】最近の先行技術（フランス特許出願８８／
１４２４６）によれば、（本図１に示すように）再生器
の近傍での水素の使用を避けることができた。一方では
、水素は、使用済み触媒を、仕込原料が通過する最終反
応器から再生装置まで移送するエレベータにおいて窒素
（または任意の不活性ガス）で置き替え、また他方では
、再生された触媒を再生装置から仕込原料が通過する最
初の反応器まで移送するエレベータ内でも水素を窒素（
または任意の不活性ガス）で置き替える。これに対し、
最近のこの先行技術によれば、重要なのは、接触式リフ
ォーミング装置の別のエレベータにおいて必ず水素を使
用することだが、これは本出願人による合衆国特許４１
３３７３３、４２１０５１９および４２３３２６８にも
教示されている通りであり、これらの特許では、エレベ
ータ内移送ガスとしては水素が各不活性ガスよりも優れ
ていると説明されている。最近の先行技術による方法と
装置によれば、特に、再生装置　（１０）　の上流の（
８）　と（８ａ）のような、また再生装置（１０）の下
流の（１２）と（１２ａ）　のような４または６プース
の弁数を減らすことができる。この技法によれば、製作
費の高騰が防止されかつ、大直径の弁の取扱い数が過大
になるのが防止される。

【００２３】注目すべきことだが、再生が終ると、再生
装置を窒素（または他の不活性ガス）でパージして、酸
素を痕跡までも排除する。したがって、この瞬間からは
、不活性ガスの雰囲気状態となって、第一反応器の方へ
再生触媒のエレベータ操作を行なうことになり、また一
方では、従来の先行技術では、再生装置のパージ後には
、水素を再装入する必要があり、すなわち、最近の先行
技術では回避されている余分な操作の実施を必要とした
のである。

【００２４】最近の先行技術によれば、再生装置（１０
）の前後の二個の緩衝タンク（７）　と（１５）は、図
１では窒素で占められている。触媒は管（２１）、（９
）（１１）　および（１３）を経て流れる。

【００２５】Ｎ２　−Ｈ２　の気密性（したがって安全
性）は、小断面、例えば約２ブース（すなわち５．０８
ｃｍ）（約４または６プース（１０．６または１５．２
７ｃｍ）でそれ以上ではない）の配管で実施され、した
がって更に非常に実施が容易である。

【００２６】正常運転時のＮ２　−Ｈ２　の隔離は圧力
ダム（正方向、すなわち水素が循環している系統の圧力
よりも、窒素が循環している系統側の圧力を高くするよ
うな（超過圧）方向のデルタＰ）によって実施される。

【００２７】以上のことはすべて、一方では緩衝タンク
（７）　および（１５）と他方では再生装置（１０）の
間のこれら移送配管の側の大幅な単純化をもたらす。

【００２８】したがってこの装置に必要な４または６プ
ースの弁は上記のように少なくなり、しかも、通常のよ
うに、課せられた同じ安全規則を守ることもできる。

【００２９】図１に、水素雰囲気の回路と窒素雰囲気の
回路間の移送装置が示されている。すなわち、これらの
装置は先ず、最終反応器（５５）の下に系統（６９）（
５６）（７０）（７１）で示してあるが、これらは窒素
環境にあるタンク（６０）に、水素雰囲気で触媒を移す
ことができ、例えば２プース（５．０８ｃｍ）の二個の
弁（６２）と（６２ａ）　が配置されている（製作容易
な弁）。

【００３０】装置（７３）と（７４）（および制御装置
（５６ｂ）　は窒素供給によるエレベータ（６）　の貯
槽またはタンク（６０ａ）　（エレベータピット）から
の運転を例示している。 再生が終ると、触媒はエレベータ（１９）で（装置（７
８）（８０）（７９）で窒素供給された）タンク（６３
）へ移送され、かつ、配管（６６）（６７）と水素受入
管（６５）、炉（６４）を表示したが、これらによって
、水素雰囲気内で（水素受入管（６５）、炉（６４）で
予備加熱）触媒を送ることができるが、その前に配管（
７５）と、制御手段（７７）および（７６）によって窒
素を除去する。ここでは、触媒は約２プースにすぎない
二個の弁（６８）と（６８ａ）　を経て循環する。

【００３１】図１に、管（８２）と、セパレータ（８１
）と配管（８３）および弁（８４）（圧力制御装置（８
５）も含む）によるエレベータ（６）　の上部での触媒
微粒子の除去についても描写してある。

【００３２】接触式リフォーミング装置は最大量の仕込
原料を処理するようにますます大容量化する傾向がある
。更に現在ますます低圧で操作しようと求められている
。数年間、圧力が約８〜１０バール（８×１０５　パス
カル〜１０×１０５　パスカル）であったが現在６〜３
バール程度（６×１０５　パスカル〜３×１０５　パス
カル）である。このような装置には、更に、使用済み触
媒を最終反応器から再生器の上まで導くエレベータ内に
水素を使用するため、図１に見られるようにエレベータ
ピット底（１７）、緩衝タンク（７）（１５）　、再生
装置（１０）および大型弁（８）　、（８ａ）、（１２
）および（１２ａ）　を含む“塔”と一般に呼ばれる非
常に高い装置が必要である。ところで、低圧で操業する
大容量装置を精密に構築することは困難になった。とい
うのは、４プース（１０．５ｃｍ）の弁系統を経由し、
または更に、緩衝用タンク（７）　および（１５）と再
生装置（１０）の間の移送の実施が困難だからである。

【００３３】これらの弁は製作が困難かつ高価であり、
また、これらの弁を６プース（１５．２４ｃｍ）にする
ことは、製作プログラミングと予備テストなしには設計
が難しく、プログラミングは非常に高くつく。

【００３４】現在、これらの弁の問題は次の通りである
。

【００３５】・再生装置（窒素および酸素雰囲気での）
と緩衝用タンク（水素雰囲気での）の完全隔離。

【００３６】・微粒触媒を装入した雰囲気内でのこれら
の弁の頻繁な使用。

【００３７】したがって、最近の先行技術の考え方は次
の通りである。すなわち、これらの二緩衝用タンクを窒
素雰囲気におくように準備することと、小寸法の配管、
特に一方では最終反応器の出口配管、他方では第一反応
器の頂部の配管におけるＨ２　−窒素の移行の問題を再
考することである。

【００３８】最近の先行技術は下記の規則に関しては納
得できるものである。すなわち（各図の略号ＤＰとＤＰ
Ｃは圧力制御に関するものであり、すなわち“ＤＰ”は
圧力の差、すなわち“△圧力”で用語“ＤＰＣ”は調節
の鎖を保証するため、調節弁が“ＤＰ”に連結されてい
ることを示している）。

【００３９】−最初と最終のエレベータは、窒素または
任意の他の不活性ガスによって作動し、−上部緩衝用タ
ンク（７）　に関しては、・最終反応器（５５）の下で
気密を得るのに必要な流量は窒素または任意の他の不活
性ガスによって実施される。 しかし超過圧力（極めて僅かな）が得られるようにして
、反応区域への窒素の送込みを最大限に制限するように
する。この送込みは毎時、数ｋｇに制限できねばなるま
い。

【００４０】・最終反応器の下で使用される約２プース
（５．０８ｃｍ）の弁（（６２）と（６２ａ）　のよう
な）は電動によるものとし、かつ、安全弁の役目をして
問題が起きたら再生部を隔離するものとする。

【００４１】・上部緩衝用タンク（７）　は窒素雰囲気
のみとし（（９２）を経て入る）、操作条件（または“
設計”）ははるかに厳しくなく、特に温度がそうである
。 エレベータ（６）　は窒素雰囲気または他の不活性ガス
雰囲気である。

【００４２】下部緩衝用タンク（１５）に関しては、−
このタンクの雰囲気は専ら窒素（（９１）を経て入る）
または低温の不活性ガスであり、触媒は管（１６）を経
て、エレベータピット（１７）へ流れ込む。

【００４３】−エレベータ（１９）の雰囲気は窒素また
は他の不活性ガスである。すなわち、配管（９０）、（
９５）および（９６）における窒素取入装置（７８）は
装置（８０）と（７９）で制御する。

【００４４】−上部ホッパー（６３）〜（２０）は二部
分からなる。すなわち、 ・窒素雰囲気または、任意の不活性ガス雰囲気の水簸（
ｅｌｕｔｒｉａｔｉｏｎ）　（すなわち、傾瀉または分
離）を伴った上部（６３）、 ・熱Ｈ２　雰囲気の貯蔵および還元の下部（２０）であ
り、この水素は電炉（６４）で予熱される配管（６５）
を経て導入され、弁（７５）を経て（７６）を通る制御
装置ＤＰ（１０１）　とＤＰＣ（７７）が付いている。

【００４５】−上部ホッパ（６３）〜（２０）の２つの
部分は、電動式の安全を確保するようにした、例えば約
２プース（５．０８ｃｍ）の例えば二個の弁（（６８）
と（６８ａ）　）を具備した、触媒を満杯した支柱（６
６）〜（６７）によって隔離られている。

【００４６】これら安全弁は、圧力差が不正な場合、温
度上昇が不都合な場合、窒素の純度不良の場合等々の場
合に駆動できるようになっているものとする。

【００４７】最近の先行技術のこの配列によって、触媒
循環とかつまた水簸（ｅｌｕｔｒｉａｔｉｏｎ）　（分
離）の保証とを目的とする、管（９７）と（１００）　
、セパレータ（９３）と弁（９４）を通過し、制御装置
ＤＰ（９８）とＤＰＣ（９９）を連結した、新窒素網が
誕生することになる。

【００４８】所要の窒素量を勘案して、小型コンプレッ
サー（約３〜４バールのＤＰ）による自動再循環を施す
のが正解であろう。

【００４９】図１により例示されるこの最近の先行技術
の長所の一つは、緩衝用タンクと再生装置の間に、操作
上の安全性をそこなわずに、気密を保証するため、極め
て複雑な装置を設ける必要がもはやないことである。

【００５０】このような装置は、大型弁の数と、場合に
よっては装置内に残っている他の大型弁の、特に運転条
件を著しく削減することになる。

【００５１】更に、斟酌すべき他の特長は塔の全高を著
しく低下させることである（少なくとも５〜６メートル
の低下）。

【００５２】このように操作し、かつ、最終反応器の下
では（６２）と（６２ａ）　といった、また、第一反応
器に再生した触媒を装入する前のその触媒の還元域の上
の（６８）と（６８ａ）　といった一連の適切な弁を使
用することによって、上に説明したように再生器のすぐ
上流または下流における大型弁をほとんど取り除くこと
ができるのである。

【００５３】

【発明医の効果】しかしこのような方式には若干の欠点
がある。すなわち、最終反応器（５５）の触媒の再生器
（１０）への経路は、この最終反応器（例えば、約３．
２バール）と、再生器（例えば、約４．６バール）の間
の圧力差によって妨げられるか、少なくとも抑制される
。したがって、この経路にロック室（例えば（７）　）
や、（８）　のような弁を設けることが必要である。こ
の装置は場所ふさぎであり絶えず調節が必要であり、結
局は触媒粒子が弁装置を横断して循環することにより一
部損傷することになる。本発明は、特に、ロック室（ま
たは（蓄積用タンク）（７）　と、再生域（１０）との
間の経路で、弁を取除くことを可能ならしめることによ
って、これらの欠点を解消する。

【００５４】本発明は図２に例示されている。この図２
は簡略化を配慮して、略図化してあるが、しかし、最終
反応域（５５）から再生域（１０）の上方までおよび再
生域（１０）の底部から、第一反応器の頂部までの触媒
の上昇装置（エレベータ）は、図１に描かれている通り
であり、すなわち、不活性ガス（更に詳しくは窒素）を
用いて運転し、水素は用いないという考え方に注目する
必要がある。

【００５５】本発明の特徴は、当該上部タンク（１００
）　から下部エレベータピット（１０２）までの下降支
柱が二区分、すなわち、中央タンク（１０７）　によっ
て仕切られた二本の管（１０１ａ）と（１０１ｂ）に分
割されていることにある。支柱（１０１ｂ）の下には同
様に、支柱の下端と、支柱（１０３）　でタンク（１０
４）　に連結された下部エレベータピット（１０２）　
との間に、タンク（１０４）　が介在配置されている。 上部のタンク（１００）　、中央のタンク（１０７）　
および、支柱（１０１ｂ）と下部エレベータピット（１
０２）　の間に介在するタンク（１０４）　とは、それ
ぞれ線（１０９）　、（１０８）　、（１０５）　、（
１１０）　で略図示されているフイルター装置を備えて
いる。この場合、各平衡弁（１０６ａ）と（１０６ｂ）
は並列に装着されていて、支柱（または“ｓｅａｌ　ｌ
ｅｇ”）の二部分の圧力状態を変えうるようにしてある
。ここでは、触媒の流れは断続的である。したがって、
直列の二本の管を交互に閉塞したり、開放したりして使
用する。二本の管（１０１ａ）と（１０１ｂ）の総合高
さは、前記の図における独特な支柱の高さよりも小さい
。

【００５６】上部弁（１０６ｂ）が開の時、触媒は、当
該上部のタンク（１００）　から中央のタンク（１０７
）　の方へ流れ、一方、低い部分（下部管（１０１ｂ）
）は、下の弁（１０６ａ）が閉じているので大きい△Ｐ
をうける。

【００５７】また逆に、上の弁（１０６ｂ）が閉ってい
る場合は、上の部分（上部の管（１０１ａ））の△Ｐは
大きくなりかつ阻止され、一方、触媒が下部へ流れるの
は下の弁（１０６ａ）が開いて、△Ｐが正常の流れの範
囲に維持されるからである。

【００５８】タンクの容積は平衡弁の操作数が余り多く
ならないように算定する。ストレーナを平衡配管の小管
に装着して、触媒のこれら弁の方への同伴を防止するよ
うにすることができる。

【００５９】一例として、垂直支柱（すなわち“ｓｅａ
ｌ　ｌｅｇ”）によって、１メートル当り３０〜４０ミ
リバールの背圧をうけることができるだろう。したがっ
て、１５００ミリバール程度の背圧を受けようと思えば
、４０〜５０メートルの支柱を用いればよかろう。

【００６０】したがって、本発明は、触媒の存在に炭化
水素をリフォーミングする方法または芳香族炭化水素を
製造する方法において、炭化水素と水素からなる当初仕
込原料を、直列に連なりかつ横並びに配置された少なく
とも二つの反応域を通して循環させ、これらの反応域は
夫々移動床型のものとし、仕込原料は各反応域を連続循
環し、かつ触媒も各反応域の上から下へ移動床として連
続的に流れながら各反応域を引続き循環し、各反応域（
最終反応域を除く）の底部から抜き取った触媒を次の反
応域の頂部において水素流内へ移送し、仕込原料が通過
した最終反応域の底部から連続的に抜き取った触媒を、
次に、再生域へ移送するようにした方法において、下記
のことを特徴とする方法；すなわち、（ａ）　　　仕込
原料が通過した最終反応域から抜き取った使用済み触媒
から周囲の水素を完全にパージすること、（ｂ）　　　
次に、使用済み触媒を不活性ガス中におくこと、（ｃ）
　　　不活性ガス流を用いて、使用済み触媒を二つのエ
レベータ装置（６ａ）（６ｂ）の少なくとも一つの装置
によって再生域へ移送して、（ｉ）　先ず第一に、使用
済み触媒を第一エレベータ装置（６ａ）を用いて、仕込
原料が通過した最終反応域の底部から上部タンク（１０
０）　まで上昇させ、（ｉｉ）触媒を当該上部タンク（
１００）　から下部エレベータピット（１０２）　まで
、少なくとも二区分（１０１ａ）（１０１ｂ）に分割し
た１本の管を通して断続的に下降せしめ、第一区分（１
０１ａ）は触媒を重力によって当該上部タンク（１００
）　から中央タンク（１０７）　まで導き、第二区分（
１０１ｂ）は触媒を重力によって当該中央タンク（１０
７）　から介在タンク（１０４）　まで導き、ここから
触媒は重力によって下部エレベータピット（１０２）　
まで導かれ、これらの二区分（１０１ａ）（１０１ｂ）
には、フィルターおよび平衡弁回路（１０６ａ）（１０
６ｂ）が設けられていて、これら二区分（１０１ａ）（
１０１ｂ）の触媒の循環を交互に止めたり開放したりし
て、両区分（１０１ａ）（１０１ｂ）の圧力状態を変更
できるようにし、かつ（ｉｉｉ）　次に、第二のエレベ
ータ装置を用いて、触媒を、下部エレベータピット（１
０２）　から再生域の頂上に設けた蓄積タンクまで上昇
させるようにしたこと。

【００６１】（ｄ）　　　再生された触媒を不活性ガス
の流れを用いて、再生された触媒の微粒子の水簸（ｅｌ
ｕｔｒｉａｔｉｏｎ）　域へ移送することと、かつ、次
に周囲の不活性ガスを完全にパージすること。

【００６２】（ｅ）　　　再生された触媒を、水素が存
在する閉鎖容器内へ装入し、触媒を第一反応域へ連続的
に送り込む前にその触媒を一部または全部還元するよう
にすること。

【００６３】

【発明医の効果】本発明によれば、次のような不都合が
解消せられる。

【００６４】すなわち、図１の方法では、最終反応器（
５５）の触媒の再生器（１０）への経路は、この最終反
応器（例えば、約３．２バール）と、再生器（例えば、
約４．６バール）の間の圧力差によって妨げられるか、
少なくとも抑制される。したがって、この経路にロック
室（例えば（７）　）や、（８）　のような弁を設ける
ことが必要である。この装置は場所ふさぎであり絶えず
調節が必要であり、結局は触媒粒子が弁装置を横断して
循環することにより一部損傷することになる。本発明は
、特に、ロック室（または（蓄積用タンク）（７）　と
、再生域（１０）との間の経路で、弁を取除くことを可
能ならしめることによって、これらの欠点を解消する。

【図面の簡単な説明】

【図１】反応工程を示すフローシートである。

【図２】本発明の実施例を示すフローシートである。

【符号の説明】

（６ａ）（６ｂ）…エレベータ装置 （１００）　…上部タンク （１０１ａ）…第一区分 （１０１ｂ）…第二区分 （１０２）　…下部エレベータピット （１０４）　…介在タンク

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　触媒の存在に炭化水素をリフォーミン
   グする方法または芳香族炭化水素を製造する方法におい
   て、炭化水素と水素からなる当初仕込原料を、直列に連
   なりかつ横並びに配置された少なくとも二つの反応域を
   通して循環させ、これらの反応域は夫々移動床型のもの
   とし、仕込原料は各反応域を連続循環し、かつ触媒も各
   反応域の上から下へ移動床として連続的に流れながら各
   反応域を引続き循環し、各反応域（最終反応域を除く）
   の底部から抜き取った触媒を次の反応域の頂部において
   水素流内へ移送し、仕込原料が通過した最終反応域の底
   部から連続的に抜き取った触媒を、次に、再生域へ移送
   するようにした方法において、下記のことを特徴とする
   方法；すなわち、 （ａ）　　　仕込原料が通過した最終反応域から抜き取
   った使用済み触媒から周囲の水素を完全にパージするこ
   と、（ｂ）　　　次に、使用済み触媒を不活性ガス中に
   おくこと、（ｃ）　　　不活性ガス流を用いて、使用済
   み触媒を二つのエレベータ装置（６ａ）（６ｂ）の少な
   くとも一つの装置によって再生域へ移送して、（ｉ）　
   先ず第一に、使用済み触媒を第一エレベータ装置（６ａ
   ）を用いて、仕込原料が通過した最終反応域の底部から
   上部タンク（１００）　まで上昇させ、（ｉｉ）触媒を
   当該上部タンク（１００）　から下部エレベータピット
   （１０２）　まで、少なくとも二区分（１０１ａ）（１
   ０１ｂ）に分割した１本の管を通して断続的に下降せし
   め、第一区分（１０１ａ）は触媒を重力によって当該上
   部タンク（１００）　から中央タンク（１０７）　まで
   導き、第二区分（１０１ｂ）は触媒を重力によって当該
   中央タンク（１０７）　から介在タンク（１０４）　ま
   で導き、ここから触媒は重力によって下部エレベータピ
   ット（１０２）　まで導かれ、これらの二区分（１０１
   ａ）（１０１ｂ）には、フィルターおよび平衡弁回路（
   １０６ａ）（１０６ｂ）が設けられていて、これら二区
   分（１０１ａ）（１０１ｂ）の触媒の循環を交互に止め
   たり開放したりして、両区分（１０１ａ）（１０１ｂ）
   の圧力状態を変更できるようにし、かつ（ｉｉｉ）　次
   に、第二のエレベータ装置を用いて、触媒を、下部エレ
   ベータピット（１０２）　から再生域の頂上に設けた蓄
   積タンクまで上昇させるようにしたこと。 （ｄ）　　　再生された触媒を不活性ガスの流れを用い
   て、再生された触媒の微粒子の水簸（ｅｌｕｔｒｉａｔ
   ｉｏｎ）　域へ移送することと、かつ、次に周囲の不活
   性ガスを完全にパージすること。 （ｅ）　　　再生された触媒を、水素が存在する閉鎖容
   器内へ装入し、触媒を第一反応域へ連続的に送り込む前
   にその触媒を一部または全部還元するようにすること。