JPH04212038A - 等速プローブ及び減圧組立体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、一般に、ガス流の流れ
からガスサンプルを採取することに関し、特に、ガス流
中の粒子の含量を測定する目的でガスサンプルを採取す
ることに関する。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロニクス産業は、例えば大規模
集積回路の製造等の製造工程において窒素等のガスを使
用する。そのようなガスの清浄度又は純度の要件は、ま
すます厳密になってきている。特に、そのようなガス中
の粒子の含量は、その製造工程によって製造される製品
の品質にとって決定的な重要性を有している。

【０００３】エレクトロニクスの製造工程において良好
な品質管理を維持するためには、ガス中の粒子含量を監
視し、測定しなければならない。ガスは高められた圧力
で製造工程へ供給されるので、又、粒子測定装置は一般
にほぼ大気圧で作動するので、ガスの流れから抽出した
ガスサンプルを粒子カウンター（計数器）へ通す前に、
ガスサンプルの圧力を多くの場合１０分の一又はそれ以
下に減圧しなければならない。この減圧操作は、通常運
動部品又は摺動部品を含む弁又は臨界オリフィスを介し
て行われる。そのような運動部品又は摺動部品は、他の
部品と接触することにより、あるいは又、それを通って
流れる高速ガス流による削摩又は浸食作用によりかなり
の量の粒子を生じ、その結果、対象とするガス中の粒子
含量の測定精度を損ねることになる。ガス中の粒子含量
は、１ｆｔ３（０．０２８３ｍ３　）当たり僅か数個の
程度であるから、サンプル採取器具自体の僅かな粒子の
発生でも、粒子含量の測定精度に悪影響を及ぼす。

【０００４】更に、慣用のガスサンプル採取器は、サン
プルガスから粒子を捕捉して除去するベンド（管の曲が
り部分）や澱み領域を有しているので、粒子測定の完全
性を更に損なう。

【０００５】更に、従来のサンプル採取装置においては
、サンプル採取器具をプロセスガス流のガス流管に接続
する前にガス流を停止し、ガス流管を除圧しなければな
らない。これは、製造工程の遅延を惹起するばかりでな
く、プロセスガス流のガス流管を外部大気からの汚染に
露呈することになる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は、ガ
スの供給源の作動を乱すことなく、又ガス供給系統の汚
染を惹起することなくプロセスガス流内へ挿入すること
ができるガスサンプル採取器具を提供することを課題と
する。

【０００７】本発明は、又、ガスサンプルの粒子含量を
変えることなく、ガスサンプルの圧力を低下させること
ができるガスサンプル採取器具と提供することを課題と
する。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、等速プローブ及び減圧組立体であって、
（Ａ）入口端と出口端を有し、ガス流内にガス流の流れ
に整列するように挿入することができるプローブ案内チ
ューブと、 （Ｂ）該プローブ案内チューブにその入口端と出口端の
間の部位に設けられた締切弁と、 （Ｃ）前記プローブ案内チューブの出口端に嵌合自在の
入口端と、出口端を有する支持案内チューブと、（Ｄ）
入口端と出口端を有し、前記支持案内チューブ及びプロ
ーブ案内チューブ内で移動自在の等速プローブと、 （Ｅ）該等速プローブと流体連通するために等速プロー
ブの出口端に嵌合自在の収斂−散開ノズル組立体と、か
ら成る等速プローブ及び減圧組立体を提供する。

【０００９】本発明は、又、別の側面においては、プロ
セスガスのガス流管からガスサンプルを採取する方法で
あって、 （Ａ）入口端と出口端を有し、前記ガス流管内にガス流
の流れに整列するように装着されたプローブ案内チュー
ブと、該プローブ案内チューブにその入口端と出口端の
間の部位に設けられた締切弁と、前記プローブ案内チュ
ーブの出口端に嵌合自在の入口端と、出口端を有する支
持案内チューブと、入口端と出口端を有し、前記支持案
内チューブ及びプローブ案内チューブ内で移動自在の等
速プローブと、該等速プローブと流体連通するために等
速プローブの出口端に嵌合自在の収斂−散開ノズル組立
体とから成る等速プローブ及び減圧組立体を準備し、（
Ｂ）前記ガス流管を通してガスを通流させ、（Ｃ）前記
締切弁を開放して前記等速プローブを前記ガス流管内へ
挿入し、 （Ｄ）該ガス流管からガスを前記等速プローブ内へ等速
的に流入させ、 （Ｅ）該等速プローブをガス流管から引込めて前記締切
弁を閉じ、 （Ｆ）前記各工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）中前記ガス流
管を通るガスの流れを維持すること、から成る方法を提
供する。

【００１０】ここで、「等速プローブ」とは、ガス流か
らガスのサンプルを等速条件下で採取するためにガス流
内へ挿入することができる小径のチューブから成る器具
のことをいう。「等速条件」とは、プローブの向き及び
流路をサンプルを採取すべきガス流に対して平行にし、
プローブに流入してくるサンプルガスの速度、従って運
動エネルギーが、サンプルを採取すべきガス流の速度、
従って運動エネルギーに等しくなることを意味する。

【００１１】又、本明細書でいう「臨界オリフィス」と
は、流体通路を横切るように配置されたプレートに形成
された鋭い縁のオリフィス（穴）であって、通過するガ
ス流を臨界速度即ち音速にまで加速するのに十分に小さ
い断面積を有するオリフィスのことである。

【００１２】本明細書でいう「高硬度」とは、少くとも
５００のブリネル硬度を有することを意味する。

【００１３】

【実施例】以下に、添付図を参照して本発明の等速プロ
ーブ及び減圧組立体を説明する。第１図を参照して説明
すると、プローブ案内副組立体は、プローブ案内チュー
ブ１と、該チューブの出口端５１に設けられた継手金具
６から成る。プローブ案内チューブ１は、ガス流管２内
のガス流の流れ方向（第２図に矢印３で示されている）
に整列するように該ガス流管２の好ましくはベンド又は
エルボ、例えばＴ字形又はＬ字形継手部に挿入する。所
望ならば、プローブ案内チューブ１は、支持体ｉｖ）　
によってガス流管２内に支持することができる。プロー
ブ案内チューブ１にはその入口端５０と出口端５１の間
に締切り弁５が装着される。プローブ案内チューブ１に
は、その出口端５１を支持案内チューブ１１の入口端５
２に嵌合させることによって支持案内チューブ１１を連
結する。支持案内チューブ１１内に、後述するように等
速プローブ８が移動自在に挿入される。等速プローブ８
の出口端５４に収斂−散開ノズル（ガスの流れを最初収
斂させ、次いで散開させるノズル）組立体５３を嵌着す
る。

【００１４】第２図を参照して説明すると、締切り弁５
は、その弁棒にベローズ型シールを装着されたＹ字形弁
であり、その閉鎖位置においては、プローブ案内チュー
ブ１を、従って管２内のガス流を外部大気から隔絶する
、即ち締切る。締切り弁５が開放されると、該弁のポペ
ット弁体及び弁棒がプローブ案内チューブ１から完全に
引き上げられ、プローブ案内チューブ１内に真直ぐな通
路を創生し、その通路を通して等速プローブ８をガス流
管２へ挿入することができる。締切り弁５が開放された
とき、その弁を通してガスが流れることがなく、粒子が
発生したとしても、それはプローブ案内チューブ１の底
部に落下する。等速プローブ８を締切り弁５のところを
通し、プローブ案内チューブ１を通してガス流管２内へ
挿入してしまえば、たとえ締切り弁５のところで発生し
た粒子が存在したとしても、それは等速プローブ８内へ
進入することはできない。等速プローブ８は、所定位置
に挿入されると、締切り弁５及び外部大気をガス流から
密封する。従って、締切り弁５内及びその周りの領域は
、流れの存在しない領域であり、従って、その領域から
粒子がガス流内又は等速プローブ８内へ流入することは
ない。

【００１５】プローブ案内チューブ１の出口端５１には
、該プローブ案内チューブ１を含むプローブ案内副組立
体を、支持案内チューブ１１を含む支持案内副組立体に
嵌合させるための継手金具６及びナット７が設けられて
いる。プローブ案内副組立体は、上述したように、密封
された等速プローブ８をガス流の流れ内へ挿入すること
ができる真直ぐな通路を創生する。等速プローブ８をガ
ス流の流れ内へ挿入されていないときは、締切り弁５を
閉鎖してガス流の流れを密封する。

【００１６】次に、第３図を参照して説明すると、支持
案内副組立体は、下流端即ち出口端に継手金具１２とナ
ット１３を有し、上流端即ち入口端に継手金具１４とナ
ット１５を有する支持案内チューブ１１を含む。等速プ
ローブ８は、その上流端即ち入口端に捕集先端５５を有
しており、該プローブの下流端即ち出口端にはノズル継
手金具９とナット１０が設けられている。支持案内チュ
ーブ１１の継手金具１４は、ばね押しされたテフロン製
スライドシール１６及びガスケット１７を受容するよう
に機械加工により形成されている。ガスケット１７は、
最初はブランク（穴があけられていない）ガスケットで
あり、これに穴をあけて等速プローブ８を挿通する。ガ
スケット１７は、スライドシール１６を押さえるための
押えの役割を果たすので、押えガスケットとも称するこ
ととする。押えガスケット１７は、等速プローブ８がガ
ス流管２へ出し入れされるとき、スライドシール１６を
継手金具１４内に保持する。押えガスケット１７自体は
、上流端のナット１５に装着されたダブルユニオン１８
の一端によって所定位置に保持される。ダブルユニオン
１８の他端は、支持案内副組立体をプローブ案内副組立
体に連結するのに用いられる。

【００１７】等速プローブ８の先端５５からノズル継手
金具９までの長さは、支持案内チューブ１１の継手金具
１４から継手金具１２までの長さのほぼ２倍である。等
速プロブ８は、支持案内チューブ１１内で前後に摺動自
在であるが、該プローブに固定されたスライドストッパ
１９によって移動範囲を制限される。即ち、スライドス
トッパ１９は、プローブ８が完全に挿入されたときは継
手金具１４に当接し、プローブ８が完全に引込められた
ときは継手金具１２に当接し、プローブのそれ以上の移
動を制限する。

【００１８】支持案内チューブ１１は、継手金具１２、
１４に固定されて、等速プローブ８を保持案内する一体
のユニットを構成する。スライドストッパ１９は、上述
したように、等速プローブ８に固定されており、等速プ
ローブ８を継手金具１２と１４の間でのみ摺動させる。 この構成は、等速プローブ８ガス流の力によってプロー
ブ案内副組立体から吹き飛ばされるのを防止する。

【００１９】等速プローブ８の両端の間に結合された継
手金具２０及びナット２１は、等速プローブ８をガス流
管２内へ挿入した後該等速プローブを支持案内チューブ
１１に固定するためのものである。ガスケット押え組立
体２２は、等速プローブ８を支持案内チューブ１１に対
して密封するためのものである。

【００２０】第４図を参照して説明すると、等速プロー
ブ８の出口端５４に装着された収斂−散開ノズル組立体
５３は、それぞれステンレス鋼製Ｏ−リングシール２６
を介して上流側ホルダー部材２４と下流側ホルダー部材
２５内に密封保持された収斂−散開ノズル２３から成る
。ノズル部材２３は、高速（音速）ガスによる削摩又は
浸食作用に耐える、従って削り取られた粒子を発生しな
い高硬化材で形成されている。この収斂−散開ノズル２
３を通る平滑な流路は、高速ガス流によって侵食されて
汚染粒子（ガス流管２から等速プローブ８を通して採取
されたサンプルガスを汚染する粒子）を生じるような鋭
い縁を排除する。更に、この平滑な流路は、粒子を捕捉
したり、ガスサンプルの粒子含量を変更するような激し
い乱流領域を創生する澱み区域又は流路の急激な変化部
分を排除する。

【００２１】ノズル２３によって惹起される大きな圧力
降下は、ガスサンプルの速度を音速にし、音速流量制御
を実施する。ガス流は、ノズル２３の下流側散開ノズル
部分で超音速となり、超音速から亜音速に衝撃的に減速
されて本発明による減圧機能を果たす。従来慣用の臨界
流オリフィスでは鋭い縁が存在するので、鋭い縁を通る
際に乱流又は流れの攪乱が生じるが、ノズル２３の平滑
な流路は、鋭い縁が存在しないので、乱流又は流れの攪
乱を最少限に抑制した状態で上記の減圧を達成する。

【００２２】ガス流の速度は、ノズル２３の喉部（上流
側収斂ノズル部分と下流側散開ノズル部分の間）で音速
に増速され、引き続き増速されてノズル２３の下流側散
開ノズル部分において超音速に達する。ノズル２３を通
しての圧力降下は、所要のガス速度を創生するのに十分
な大きさである。ノズルの前後間の圧力比は、２．０を
越えることが好ましい。次いで、散開ノズル部分におけ
る超音速流が、急激に非常に鋭い、薄い衝撃波を経て亜
音速に減速される。この衝撃波は、面積拡大比が十分に
大きい（好ましくは約６０以上、最も好ましくは約６８
）ので、散開ノズル部分に留まり、ノズルの前後間の圧
力比は、十分に大きいが、当該ノズルの最大限度、通常
、約４０．０を越えない。ノズルが短く、その断面積拡
大比が小さく、最後に急激な断面積の拡大が生じるよう
なものであるとすると、衝撃波は、ノズル外の下流の自
由なジェット流れ内で生じることになる。その結果、逆
流循環領域を伴う激しい乱流が生じ、そのような逆流を
伴う激しい乱流は、粒子を発生又は捕捉し、従ってサン
プルガスの粒子含量を変えてしまうことになる。

【００２３】操作に当たっては、プローブ案内チューブ
１と締切弁５から成るプローブ案内副組立体を第１、２
図に示されるようにプロセスガスのガス流管２に装着す
る。一旦、このプローブ案内副組立体を所定位置に装着
しておけば、ガスサンプルを採取したいときには何時で
も、ガス流管２のガスの流れを停止する必要なしに、収
斂−散開ノズル組立体を使用することができる。プロー
ブ案内副組立体は、プロセスガスのガス流管の装備の一
部としてガス流管に装着しておくことが好ましい。

【００２４】プロセスガス流管の平常作動中は、締切弁
５を閉じ、継手金具６にキャップをしておく。ガスサン
プルを採取するときは、継手金具６のキャップをはずし
、等速プローブ８を支持案内チューブ１１内へ引き戻し
、ダブルユニオン１８を継手金具６に嵌合させることに
よって支持案内副組立体とプローブ案内副組立体を連結
する。互いに嵌合する面と面の間にガスケットとを介設
し、結合部を締めつけて支持案内副組立体とプローブ案
内副組立体の間にガスシールを設定する。

【００２５】次に、締切弁５を開放し、等速プローブ８
をプローブ案内チューブを通してガス流内へ押し入れる
。支持案内チューブ１１とプローブ案内チューブ１とは
、結合されると、協同して外鞘筒を形成する。等速プロ
ーブ８は、支持案内チューブ１１内に引込められた位置
から挿入位置へプローブ案内チューブ１を通し、それを
越えてガス流管２内へ押し込まれる。等速プローブ８は
、その挿入位置においては、先端側ではガス流管２内で
プローブ案内チューブ１を越えて数インチ（１０ｃｍ前
後）突出し、後端側ではプローブ案内チューブ１及び支
持案内チューブ１１を貫通して挿入固定ナット１３、２
１を通りノズル組立体の継手金具９（第３図参照）にま
で延長するのに十分な長さである。

【００２６】等速プローブ８は、支持案内チューブ１１
の下流端即ち出口端ナット１３を該プローブに固定され
たナット２１に嵌合させることによって所定位置に固定
される。この挿入作業中、スライドシール１６が、ガス
流管２のプロセスガスを外部大気との間に密封を維持す
る。等速プローブ８が所定位置に固定されたならば、収
斂−散開ノズル組立体５３の出口を粒子計数器に接続す
ることができる。

【００２７】このようにしてプロセスガス中の粒子計数
テストが完了したならば、上記の手順を逆にすることに
よって等速プローブを引込め、締切弁５によってガス流
を密封する。

【００２８】「等速サンプル捕集」とは、プローブに流
入してくるサンプルガスの速度が主ガス流（サンプルを
採取すべきガス流）の速度と等しく、サンプルガスと主
ガス流とが同じ流体運動条件下に置かれるようにするサ
ンプル捕集態様のことをいう。この等速サンプル捕集に
よれば、プローブによって採取される任意のサンプルガ
スには、それがプロセスガス流内にあったときに存在し
たすべての粒子が含まれるので、そのプロセスガスの粒
子含量を測定するための代表的なサンプルが得られる。 プローブに流入してくるサンプルガスの流れが主ガス流
と等速でないと、サンプルがすとその周りのガスがプロ
ーブの捕集先端５５の周りで急激な方向転換を受ける。 即ち、超等速捕集の場合（捕集されるサンプルガスの流
速の方が主ガス流より速い場合）は、プローブの捕集先
端５５の周りでサンプルガス流が収斂し、亜等速捕集の
場合（捕集されるサンプルガスの流速の方が主ガス流よ
り遅い場合）は、プローブの捕集先端５５の周りでサン
プルガス流が散開する。粒子は、ガスよりも遥かに高い
単位質量を有しているので、急激な流れ変更を行うこと
ができない。従って、超等速捕集条件下では、捕集しよ
うとするサンプルガス中の粒子がプローブの捕集先端の
周りで収斂するガス流に追従してプローブ内へ流入する
ことができず、プローブの外側を通り過ぎてしまう。反
対に、亜等速捕集条件下では、捕集しようとするサンプ
ルガス中の粒子がプローブの捕集先端の周りで方向転換
（散開）するガス流に追従することができず、プローブ
内へ流入してしまうので、捕集されたサンプルガス中の
粒子の数が多くなる。このような非等速捕集条件（超等
速捕集条件又は亜等速捕集条件）下では、プローブによ
って捕集された粒子の数が、プローブに捕集される前の
ガスサンプル中に存在していた粒子の数と同じではない
ので、プローブに捕集されたガスサンプル中の粒子含量
は、主ガス流中の真の粒子含量からかけ離れたものとな
る。

【００２９】

【発明の効果】本発明の等速プローブ及び減圧組立体を
使用して、７０ｐｓｉｇ（４．９２１Ｋｇ／ｃｍ２　）
の圧力で、１１０ｆｔ３　／ｈ（３．１１３ｍ３　／ｈ
）（標準状態）の流量で定常的に流れるガス流からガス
サンプルを採取した。これらのサンプルの平均粒子数は
、１ｆｔ３　（０．０２８３ｍ３　）当たり２．９２で
あった。比較のために、従来の弁式採取器具を用いて同
様なサンプルの採取を行ったところ、それらの比較サン
プルの平均粒子数は、１ｆｔ３　（０．０２８３ｍ３　
）当たり１１．７１であった。

【００３０】又、本発明の等速プローブ及び減圧組立体
を使用して、７０ｐｓｉｇ（４．９２１Ｋｇ／ｃｍ２　
）と８０ｐｓｉｇ（５．６２４Ｋｇ／ｃｍ２　）の交互
の脈動圧力で、１１０〜１２５ｆｔ３　／ｈ（３．１１
３〜３０５３７５ｍ３　／ｈ）（標準状態）の流量で流
れるガス流からガスサンプルを採取した。これらのサン
プルの平均粒子数は、１ｆｔ３　（０．０２８３ｍ３　
）当たり２．４２であった。比較のために、従来の弁式
採取器具を用いて同様なサンプルの採取を行ったところ
、それらの比較サンプルの平均粒子数は、１ｆｔ３　（
０．０２８３ｍ３　）当たり２３．８０であった。

【００３１】以上の説明から明らかなように、本発明の
等速プローブ及び減圧組立体を使用することにより、プ
ロセスガスのガス流管からガスサンプルをより効率的に
より正確に採取することができる。本発明の等速プロー
ブ及び減圧組立体の各構成部品は、真直ぐ（インライン
）に向けられており、従って、ガスサンプルの粒子を捕
捉したり、粒子含量を変更させるような澱み領域や乱流
循環ポケットや鋭い流れ断面積の変化を生じるベンドを
回避する。臨界オリフィスにみられるような、粒子を生
じ易い鋭い縁も存在しない。ガスサンプルは、ガス流か
ら等速的に、即ちガス流の速度に等しい速度で抽出され
るので、ガスサンプルの粒子含量が変わらないように保
持される。又、収斂−散開ノズルの喉部は固定された不
変の流れ断面積を有しているので、ガスサンプルの流量
の正確な安定した制御が維持される。従って、本発明に
おいては、従来の装置のように弁の各嵌合部品の振動や
機械的クリープ現象の結果として弁座の設定位置が変化
することなどにより生じる流れ断面積の変化は起こらな
い。収斂−散開ノズルの流路は、流れの圧力低下に随伴
する衝撃波を有効に吸収する。これに対して、従来の自
由ジェット超音速流れにおける衝撃波は、流路の壁を削
摩する乱流を惹起し、粒子を捕捉するような逆流循環を
惹起するので、ガスサンプルの粒子含量の精度を損ねる
。又、本発明の等速プローブは、ガス流管内を流れるガ
スの流れを停止する必要なしに、あるいは又、ガス流管
を外部大気からの汚染にさらすことなく、所定位置に挿
入し、サンプルを採取した後引込めることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１図は、本発明の等速プローブ及び減圧組立
体の全体図である。

【図２】第２図は、本発明の等速プローブ及び減圧組立
体のプローブ案内副組立体と締切弁の一部断面による詳
細図である。

【図３】第３図は、本発明の等速プローブ及び減圧組立
体の支持案内副組立体と等速プローブの一部断面による
詳細図である。

【図４】本発明の等速プローブ及び減圧組立体の収斂−
散開ノズル組立体の断面図である。

【符合の説明】１：プローブ案内チューブ２：ガス流管 ５：締切弁 ８：等速プローブ １１：支持案内チューブ １６：シール １７：ガスケット ２３：ノズル ５０：入口端 ５１：出口端 ５２：入口端 ５３：収斂−散開ノズル組立体 ５４：出口端 ５５：入口端（プローブの先端）

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】等速プローブ及び減圧組立体であって、（
   Ａ）入口端と出口端を有し、ガス流内にガス流の流れに
   整列するように挿入することができるプローブ案内チュ
   ーブと、 （Ｂ）該プローブ案内チューブにその入口端と出口端の
   間の部位に設けられた締切弁と、 （Ｃ）前記プローブ案内チューブの出口端に嵌合自在の
   入口端と、出口端を有する支持案内チューブと、（Ｄ）
   入口端と出口端を有し、前記支持案内チューブ及びプロ
   ーブ案内チューブ内で移動自在の等速プローブと、 （Ｅ）該等速プローブと流体連通するために等速プロー
   ブの出口端に嵌合自在の収斂−散開ノズル組立体と、か
   ら成る等速プローブ及び減圧組立体。
2. 【請求項２】前記プローブ案内チューブと、支持案内チ
   ューブと、等速プローブは、直線上に整列していること
   を特徴とする請求項１に記載の等速プローブ及び減圧組
   立体。
3. 【請求項３】前記支持案内チューブと等速プローブとの
   愛差にスライドシールが設けられていることを特徴とす
   る請求項１に記載の等速プローブ及び減圧組立体。
4. 【請求項４】前記収斂−散開ノズル組立体のノズルの表
   面は高硬度を有することを特徴とする請求項１に記載の
   等速プローブ及び減圧組立体。
5. 【請求項５】プロセスガスのガス流管に装着された請求
   項１に記載の等速プローブ及び減圧組立体。
6. 【請求項６】プロセスガスのガス流管のベンドに装着さ
   れた請求項５に記載の等速プローブ及び減圧組立体。
7. 【請求項７】前記プロセスガスのガス流管は、それを通
   してガスが通流されている作動中であることを特徴とす
   る請求項５に記載の等速プローブ及び減圧組立体。
8. 【請求項８】前記等速プローブは、前記ガス流管のガス
   流管の流れを停止する必要なしに該ガス流管内へ挿入し
   、又は該がす流管から引き抜くことができることを特徴
   とする請求項７に記載の等速プローブ及び減圧組立体。
9. 【請求項９】プロセスガスのガス流管からガスサンプル
   を採取する方法であって、 （Ａ）入口端と出口端を有し、前記ガス流管内にガス流
   の流れに整列するように装着されたプローブ案内チュー
   ブと、該プローブ案内チューブにその入口端と出口端の
   間の部位に設けられた締切弁と、前記プローブ案内チュ
   ーブの出口端に嵌合自在の入口端と、出口端を有する支
   持案内チューブと、入口端と出口端を有し、前記支持案
   内チューブ及びプローブ案内チューブ内で移動自在の等
   速プローブと、該等速プローブと流体連通するために等
   速プローブの出口端に嵌合自在の収斂−散開ノズル組立
   体とから成る等速プローブ及び減圧組立体を準備し、（
   Ｂ）前記ガス流管を通してガスを通流させ、（Ｃ）前記
   締切弁を開放して前記等速プローブを前記ガス流管内へ
   挿入し、 （Ｄ）該ガス流管からガスを前記等速プローブ内へ等速
   的に流入させ、 （Ｅ）該等速プローブをガス流管から引込めて前記締切
   弁を閉じ、 （Ｆ）前記各工程（Ｃ）、（Ｄ）、（Ｅ）中前記ガス流
   管を通るガスの流れを維持すること、から成る方法。