JPH04211636A - 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよびその4級アンモニウム塩、および該化合物を含有する殺菌剤 - Google Patents
4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよびその4級アンモニウム塩、および該化合物を含有する殺菌剤Info
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- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
- C07C45/69—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by addition to carbon-to-carbon double or triple bonds
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-
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-
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-
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-
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-
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- C07C2602/42—Systems containing two condensed rings the rings having more than two atoms in common the bicyclo ring system containing seven carbon atoms
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、新規の4−(4−第三
ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン、その酸付加塩
および4級アンモニウム塩、その製造法および該化合物
を製造するための中間生成物、該化合物の殺菌剤として
の使用、殺菌剤ならびに該作用物質を用いて有害菌類を
防除するための方法に関する。
ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン、その酸付加塩
および4級アンモニウム塩、その製造法および該化合物
を製造するための中間生成物、該化合物の殺菌剤として
の使用、殺菌剤ならびに該作用物質を用いて有害菌類を
防除するための方法に関する。
【0002】
【従来の技術】化合物トランス−4−第三ブチル−N−
ベンジル−シクロヘキシルアミンは、公知である(J.
Org.Chem. 48(1983)3412〜3
422)が、しかしその殺菌作用に関しては、何も知ら
れていない。
ベンジル−シクロヘキシルアミンは、公知である(J.
Org.Chem. 48(1983)3412〜3
422)が、しかしその殺菌作用に関しては、何も知ら
れていない。
【0003】4−(シクロヘキシルメチル)シクロヘキ
シルアミンおよびそのN,N−ジメチル誘導体は、殺菌
剤として公知である(米国特許第3981766号明細
書)。しかし、該化合物の殺菌作用は、不満足なもので
ある。
シルアミンおよびそのN,N−ジメチル誘導体は、殺菌
剤として公知である(米国特許第3981766号明細
書)。しかし、該化合物の殺菌作用は、不満足なもので
ある。
【0004】1−[4−(第三ブチルフェニル)−シク
ロヘキシル]−2,6−ジメチルモルホリンは、殺菌剤
として記載されている(欧州特許第259977号明細
書)。しかし、該化合物の作用は、数多くの使用分野に
おいて、殊に使用量および濃度が低い場合には劣悪なも
のである。
ロヘキシル]−2,6−ジメチルモルホリンは、殺菌剤
として記載されている(欧州特許第259977号明細
書)。しかし、該化合物の作用は、数多くの使用分野に
おいて、殊に使用量および濃度が低い場合には劣悪なも
のである。
【0005】殺菌剤のシクロヘキシルアミンは、ドイツ
連邦共和国特許出願公開第3640247号明細書の記
載から公知である。該化合物の殺菌作用は、良好である
が;しかしその植物認容性は、殊に使用量が高い場合に
は不満足なものである。
連邦共和国特許出願公開第3640247号明細書の記
載から公知である。該化合物の殺菌作用は、良好である
が;しかしその植物認容性は、殊に使用量が高い場合に
は不満足なものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】ところで、式:
【000
7】
7】
【化3】
[式中、R1は水素原子、C1〜C6−アルキル基、C
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2はC1〜C12
−アルキル基、C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、
C1〜C12−ヒドロキシアルキル基、C3〜C12−
シクロアルキル基、C4〜C12−アルキルシクロアル
キル基、C7〜C12−ビシクロアルキル基、C3〜C
12−アルケニル基、置換されていないかまたは場合に
よっては1〜3回置換されたフェニル基、置換されてい
ないかまたは場合によっては1〜3回置換されたフェニ
ル(C1〜C3)アルキル基を表わし、この場合置換基
は、それぞれ同一かまたは異なり、C1〜C4−アルキ
ル−、C1〜C4−アルコキシ−、C1〜C4−ハロゲ
ン化アルキル−、C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ−
、ハロゲン−、シアン−、ヒドロキシ−またはニトロ基
であることができ、但し、R1とR2とは同時にはC1
〜C4−アルキル基を表わさないものとし、
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2はC1〜C12
−アルキル基、C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、
C1〜C12−ヒドロキシアルキル基、C3〜C12−
シクロアルキル基、C4〜C12−アルキルシクロアル
キル基、C7〜C12−ビシクロアルキル基、C3〜C
12−アルケニル基、置換されていないかまたは場合に
よっては1〜3回置換されたフェニル基、置換されてい
ないかまたは場合によっては1〜3回置換されたフェニ
ル(C1〜C3)アルキル基を表わし、この場合置換基
は、それぞれ同一かまたは異なり、C1〜C4−アルキ
ル−、C1〜C4−アルコキシ−、C1〜C4−ハロゲ
ン化アルキル−、C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ−
、ハロゲン−、シアン−、ヒドロキシ−またはニトロ基
であることができ、但し、R1とR2とは同時にはC1
〜C4−アルキル基を表わさないものとし、
【0008】
【外3】
は植物認容性の酸陰イオンを表わす]で示される4−(
4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよび
その4級アンモニウム塩、およびその植物認容性の酸付
加塩は、強力な殺菌作用および驚異的に良好な植物認容
性を有することが見い出された。
4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよび
その4級アンモニウム塩、およびその植物認容性の酸付
加塩は、強力な殺菌作用および驚異的に良好な植物認容
性を有することが見い出された。
【0009】R1は、例えば水素原子、直鎖状または分
枝鎖状C1〜C6−アルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソピロピル基、n−ブチル基
、イソブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−ペ
ンチル基、イソペンチル基、第三ペンチル基、n−ヘキ
シル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、または直鎖
状または分枝鎖状C2〜C6−アルケニル基、例えば2
−プロペン−1−イル基、シス−2−ブテン−1−イル
基およびトランス−ブテン−1−イル基、2−メチル−
2−プロペン−1−イル基、3−ブテン−2−イル基、
3−メチル−2−ブテン−1−イル基を表わす。
枝鎖状C1〜C6−アルキル基、例えばメチル基、エチ
ル基、n−プロピル基、イソピロピル基、n−ブチル基
、イソブチル基、第二ブチル基、第三ブチル基、n−ペ
ンチル基、イソペンチル基、第三ペンチル基、n−ヘキ
シル基、イソヘキシル基、ネオヘキシル基、または直鎖
状または分枝鎖状C2〜C6−アルケニル基、例えば2
−プロペン−1−イル基、シス−2−ブテン−1−イル
基およびトランス−ブテン−1−イル基、2−メチル−
2−プロペン−1−イル基、3−ブテン−2−イル基、
3−メチル−2−ブテン−1−イル基を表わす。
【0010】R2は、例えば直鎖状または分枝鎖状のC
1〜C12−アルキル基、殊にC1〜C4−アルキル基
、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソピ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基
、第三ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、n−ヘキシル基、ネオヘキシル基、n−
ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−
デシル基;C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、例え
ばクロルメチル基、ブロムメチル基、ヨ−ドメチル基、
2−クロルエチル基、4−クロル−1−ブチル基、3−
クロル−1−ブチル基、3−クロル−2−メチル−1−
プロピル基、5−クロル−1−ペンチル基、6−クロル
−1−ヘキシル基;C1〜C12−ヒドロキシアルキル
基、例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−
1−プロピル基、6−ヒドロキシ−1−ヘキシル基、8
−ヒドロキシ−1−オクチル基、10−ヒドロキシ−1
−デシル基;C3〜C12−シクロアルキル基、例えば
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル
基、シクロドデシル基、C4〜C12−アルキルシクロ
アルキル基、例えばメチルシクロプロピル基、メチルシ
クロペンチル基、2−、3−または4−メチルシクロヘ
キシル基、2−、3−または4−エチルシクロヘキシル
基、4−イソプロピルシクロヘキシル基、4−第三ブチ
ルシクロヘキシル基、2,2−、3,3−または4,4
−ジメチルシクロヘキシル基、2,6−ジメチルシクロ
ヘキシル基、3,3,5,5−テトラメチルシクロヘキ
シル基;C7〜C12−ビシクロアルキル基、例えばビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル基、1,7,7
−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル
基、ビシクロ[4.4.0]デシ−2−イル基、ビシク
ロ[4.4.0]デシ−3−イル基;フェニル基、C1
〜C4−アルキルフェニル基、モノ−、ジ−またはトリ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、イソプロピルフ
ェニル基、第三ブチルフェニル基、C1〜C4−アルコ
キシフェニル基、モノ−、ジ−またはトリメトキシフェ
ニル基、n−または第三ブトキシフェニル基、C1〜C
4−ハロゲン化アルキルフェニル基、C1〜C4−ハロ
ゲン化アルコキシフェニル基、トリフルオルメチルフェ
ニル基、ジフルオルメトキシフェニル基、トリフルオル
メトキシフェニル基、テトラフルオルエトキシフェニル
基、シアノフェニル基、ニトロフェニル基、モノ−、ジ
−またはトリクロルフェニル基、モノ−、ジ−またはト
リフルオルフェニル基、クロルフルオルフェニル基、ブ
ロムフェニル基、アリ−ル(C1〜C3)−アルキル基
、例えばベンジル基、C1〜C4−アルキルベンジル基
、モノ−、ジ−またはトリメチルベンジル基、第三ブチ
ルベンジル基、ハロゲン化ベンジル基、フルオルベンジ
ル基、モノ−、ジ−またはトリクロルベンジル基、C1
〜C4−アルコキシベンジル基、モノ−、ジ−またはト
リメトキシベンジル基、シアンベンジル基、ニトロベン
ジル基、2−フェニルエチル基、2−(メトキシフェニ
ル)エチル基、2−(クロルフェニル)エチル基、2−
(フルオルフェニル)エチル基、2−(第三ブチルフェ
ニル)エチル基、3−フェニルプロピル基、3−(クロ
ルフェニル)プロピル基、3−(フルオルフェニル)プ
ロピル基を表わす。
1〜C12−アルキル基、殊にC1〜C4−アルキル基
、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソピ
ロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、第二ブチル基
、第三ブチル基、n−ペンチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、n−ヘキシル基、ネオヘキシル基、n−
ヘプチル基、n−オクチル基、2−エチルヘキシル基、
n−ノニル基、n−デシル基、n−ウンデシル基、n−
デシル基;C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、例え
ばクロルメチル基、ブロムメチル基、ヨ−ドメチル基、
2−クロルエチル基、4−クロル−1−ブチル基、3−
クロル−1−ブチル基、3−クロル−2−メチル−1−
プロピル基、5−クロル−1−ペンチル基、6−クロル
−1−ヘキシル基;C1〜C12−ヒドロキシアルキル
基、例えば2−ヒドロキシエチル基、2−ヒドロキシ−
1−プロピル基、6−ヒドロキシ−1−ヘキシル基、8
−ヒドロキシ−1−オクチル基、10−ヒドロキシ−1
−デシル基;C3〜C12−シクロアルキル基、例えば
シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基
、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロデシル
基、シクロドデシル基、C4〜C12−アルキルシクロ
アルキル基、例えばメチルシクロプロピル基、メチルシ
クロペンチル基、2−、3−または4−メチルシクロヘ
キシル基、2−、3−または4−エチルシクロヘキシル
基、4−イソプロピルシクロヘキシル基、4−第三ブチ
ルシクロヘキシル基、2,2−、3,3−または4,4
−ジメチルシクロヘキシル基、2,6−ジメチルシクロ
ヘキシル基、3,3,5,5−テトラメチルシクロヘキ
シル基;C7〜C12−ビシクロアルキル基、例えばビ
シクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル基、1,7,7
−トリメチルビシクロ[2.2.1]ヘプト−2−イル
基、ビシクロ[4.4.0]デシ−2−イル基、ビシク
ロ[4.4.0]デシ−3−イル基;フェニル基、C1
〜C4−アルキルフェニル基、モノ−、ジ−またはトリ
メチルフェニル基、エチルフェニル基、イソプロピルフ
ェニル基、第三ブチルフェニル基、C1〜C4−アルコ
キシフェニル基、モノ−、ジ−またはトリメトキシフェ
ニル基、n−または第三ブトキシフェニル基、C1〜C
4−ハロゲン化アルキルフェニル基、C1〜C4−ハロ
ゲン化アルコキシフェニル基、トリフルオルメチルフェ
ニル基、ジフルオルメトキシフェニル基、トリフルオル
メトキシフェニル基、テトラフルオルエトキシフェニル
基、シアノフェニル基、ニトロフェニル基、モノ−、ジ
−またはトリクロルフェニル基、モノ−、ジ−またはト
リフルオルフェニル基、クロルフルオルフェニル基、ブ
ロムフェニル基、アリ−ル(C1〜C3)−アルキル基
、例えばベンジル基、C1〜C4−アルキルベンジル基
、モノ−、ジ−またはトリメチルベンジル基、第三ブチ
ルベンジル基、ハロゲン化ベンジル基、フルオルベンジ
ル基、モノ−、ジ−またはトリクロルベンジル基、C1
〜C4−アルコキシベンジル基、モノ−、ジ−またはト
リメトキシベンジル基、シアンベンジル基、ニトロベン
ジル基、2−フェニルエチル基、2−(メトキシフェニ
ル)エチル基、2−(クロルフェニル)エチル基、2−
(フルオルフェニル)エチル基、2−(第三ブチルフェ
ニル)エチル基、3−フェニルプロピル基、3−(クロ
ルフェニル)プロピル基、3−(フルオルフェニル)プ
ロピル基を表わす。
【0011】
【外4】
は、例えばクロリド、ブロミド、ヨ−ジド、硫酸塩、硫
酸水素塩、燐酸塩、燐酸水素塩、燐酸二水素塩、硝酸塩
、テトラフルオル硼酸塩;蟻酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、メ
タンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエ
ンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩のよう
な無機または有機酸の陰イオンである。
酸水素塩、燐酸塩、燐酸水素塩、燐酸二水素塩、硝酸塩
、テトラフルオル硼酸塩;蟻酸塩、酢酸塩、蓚酸塩、メ
タンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、p−トルエ
ンスルホン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩のよう
な無機または有機酸の陰イオンである。
【0012】酸付加塩を得るための酸は、例えば鉱酸、
塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、アルキルカルボン酸、例えば
酢酸、プロピオン酸、蓚酸、スルホン酸、例えばメタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
塩酸、硫酸、硝酸、蟻酸、アルキルカルボン酸、例えば
酢酸、プロピオン酸、蓚酸、スルホン酸、例えばメタン
スルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホ
ン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸である。
【0013】式1および2の新規化合物は、2つのジア
ステレオマ−の形で、すなわちシス−1,4−ジ置換シ
クロヘキサンおよびトランス−1,4−ジ置換シクロヘ
キサンとして存在することができる。これらの新規化合
物は、製造の種類に応じて単一のジアステレオマ−とし
て得られるかまたはジアステレオマ−混合物として得ら
れる。このジアステレオマ−混合物から、場合により単
一のジアステレオマ−は、一般に公知の分離法、例えば
クロマトグラフィ−または分別結晶化によって得ること
ができる。本発明は、単一のジアステレオマ−ならびに
その混合物を包含する。
ステレオマ−の形で、すなわちシス−1,4−ジ置換シ
クロヘキサンおよびトランス−1,4−ジ置換シクロヘ
キサンとして存在することができる。これらの新規化合
物は、製造の種類に応じて単一のジアステレオマ−とし
て得られるかまたはジアステレオマ−混合物として得ら
れる。このジアステレオマ−混合物から、場合により単
一のジアステレオマ−は、一般に公知の分離法、例えば
クロマトグラフィ−または分別結晶化によって得ること
ができる。本発明は、単一のジアステレオマ−ならびに
その混合物を包含する。
【0014】本発明による基R2の若干の場合には、付
加的に蒸気のシス/トランス異性体に対して他の異性体
を生じうる。この異性体は、基R2の種類に応じてエナ
ンチオマ−またはジアステレオマ−であることができる
。この場合にも、ジアステレオマ−化合物は、常法によ
り、例えばクロマトグラフィ−または結晶化によって分
離することができる。全ての異性体化合物およびそれら
の互いの混合物は、本発明によって包含される。新規ア
ミンを殺菌剤として使用するためには、単一のジアステ
レオマ−もしくはエナンチオマ−ならびにそれらの混合
物が適当である。有利には、混合物が使用される。
加的に蒸気のシス/トランス異性体に対して他の異性体
を生じうる。この異性体は、基R2の種類に応じてエナ
ンチオマ−またはジアステレオマ−であることができる
。この場合にも、ジアステレオマ−化合物は、常法によ
り、例えばクロマトグラフィ−または結晶化によって分
離することができる。全ての異性体化合物およびそれら
の互いの混合物は、本発明によって包含される。新規ア
ミンを殺菌剤として使用するためには、単一のジアステ
レオマ−もしくはエナンチオマ−ならびにそれらの混合
物が適当である。有利には、混合物が使用される。
【0015】また、本発明は、式1の新規アミンの製造
法を包含する。
法を包含する。
【0016】a)このアミンは、例えば式:
【0017
】
】
【化4】
[式中、R1は水素原子、C1〜C6−アルキル基、C
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2は、C1〜C1
2−アルキル基(但し、R1とR2とは同時にはC1〜
C4−アルキル基を表わさないものとする)、C1〜C
12−ハロゲン化アルキル基、C1〜C12−ヒドロキ
シアルキル基、C3〜C12−シクロアルキル基、C4
〜C12−アルキルシクロアルキル基、C7〜C12−
ビシクロアルキル基、C3〜C12−アルケニル基、置
換されていないかまたは場合によっては1〜3回置換さ
れたフェニル基、置換されていないかまたは場合によっ
ては1〜3回置換されたフェニル(C1〜C3)アルキ
ル基を表わし、この場合置換基は、それぞれ同一かまた
は異なり、C1〜C4−アルキル−、C1〜C4−アル
コキシ−、C1〜C4−ハロゲン化アルキル−、C1〜
C4−ハロゲン化アルコキシ−、ハロゲン−、シアン−
、ヒドロキシ−またはニトロ基であることができる]で
示されるアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させ、反応生成物として生成された
イミン(R1が水素原子である場合)またはエナミン(
R1が水素原子以外のものである場合)を直接または単
離後に還元剤で還元して式1のアミンに変えることによ
って得ることができる。
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2は、C1〜C1
2−アルキル基(但し、R1とR2とは同時にはC1〜
C4−アルキル基を表わさないものとする)、C1〜C
12−ハロゲン化アルキル基、C1〜C12−ヒドロキ
シアルキル基、C3〜C12−シクロアルキル基、C4
〜C12−アルキルシクロアルキル基、C7〜C12−
ビシクロアルキル基、C3〜C12−アルケニル基、置
換されていないかまたは場合によっては1〜3回置換さ
れたフェニル基、置換されていないかまたは場合によっ
ては1〜3回置換されたフェニル(C1〜C3)アルキ
ル基を表わし、この場合置換基は、それぞれ同一かまた
は異なり、C1〜C4−アルキル−、C1〜C4−アル
コキシ−、C1〜C4−ハロゲン化アルキル−、C1〜
C4−ハロゲン化アルコキシ−、ハロゲン−、シアン−
、ヒドロキシ−またはニトロ基であることができる]で
示されるアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させ、反応生成物として生成された
イミン(R1が水素原子である場合)またはエナミン(
R1が水素原子以外のものである場合)を直接または単
離後に還元剤で還元して式1のアミンに変えることによ
って得ることができる。
【0018】R1およびR2が上記の意味を表わすよう
な式3のアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させる際に発生する反応水を反応混
合物から除去することは、有利である。このことは、例
えば脱水剤の添加または共沸蒸留によって行なうことが
できる。脱水剤としては、例えば水和物水不含または水
和物水貧有の塩、例えば硫酸ナトリウム、硫酸マグネシ
ウム、硫酸亜鉛、塩化カルシウムまたはモレキュラ−シ
−ブが適当である。反応は、場合によっては不活性の有
機溶剤中で場合によっては酸の触媒量の存在下に実施さ
れる。溶剤としては、炭化水素、例えばシクロヘキサン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩素化炭化水素、例
えばジクロルメタン、1,2−ジクロルエタンまたはエ
−テル、例えばジエチルエ−テル、メチル−第三ブチル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンがこれに該
当する。酸としては、例えば鉱酸、例えば硫酸または燐
酸、スルホン酸、例えばメタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸が適当である。必要
な酸量は、例えば式3の使用したアミンにたいして〜1
0モル%、有利に0〜1モル%である。反応は、室温で
実施することができるかまたは例えばそれぞれの溶剤の
沸騰温度まで高めた温度で実施することができる。必要
な反応温度が常圧下で達成不可能であるかまたは反応が
緩徐にのみ進行する場合には、オ−トクレ−ブ中で(溶
剤を用いてかまたは溶剤なしに)反応混合物の固有圧力
下で高い温度で作業することができる。生成された反応
水を共沸蒸留により反応混合物から留去した場合には、
反応は当該溶剤の沸騰温度で実施される。このための溶
剤としては、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ンまたはキシレンが有利である。
な式3のアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させる際に発生する反応水を反応混
合物から除去することは、有利である。このことは、例
えば脱水剤の添加または共沸蒸留によって行なうことが
できる。脱水剤としては、例えば水和物水不含または水
和物水貧有の塩、例えば硫酸ナトリウム、硫酸マグネシ
ウム、硫酸亜鉛、塩化カルシウムまたはモレキュラ−シ
−ブが適当である。反応は、場合によっては不活性の有
機溶剤中で場合によっては酸の触媒量の存在下に実施さ
れる。溶剤としては、炭化水素、例えばシクロヘキサン
、ベンゼン、トルエン、キシレン、塩素化炭化水素、例
えばジクロルメタン、1,2−ジクロルエタンまたはエ
−テル、例えばジエチルエ−テル、メチル−第三ブチル
エ−テル、テトラヒドロフラン、ジオキサンがこれに該
当する。酸としては、例えば鉱酸、例えば硫酸または燐
酸、スルホン酸、例えばメタンスルホン酸、ベンゼンス
ルホン酸、p−トルエンスルホン酸が適当である。必要
な酸量は、例えば式3の使用したアミンにたいして〜1
0モル%、有利に0〜1モル%である。反応は、室温で
実施することができるかまたは例えばそれぞれの溶剤の
沸騰温度まで高めた温度で実施することができる。必要
な反応温度が常圧下で達成不可能であるかまたは反応が
緩徐にのみ進行する場合には、オ−トクレ−ブ中で(溶
剤を用いてかまたは溶剤なしに)反応混合物の固有圧力
下で高い温度で作業することができる。生成された反応
水を共沸蒸留により反応混合物から留去した場合には、
反応は当該溶剤の沸騰温度で実施される。このための溶
剤としては、芳香族炭化水素、例えばベンゼン、トルエ
ンまたはキシレンが有利である。
【0019】R1およびR2が上記の意味を表わすよう
な式3のアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させる際に生成された不飽和窒素化
合物(イミンまたはエナミン)は、公知方法により還元
されて式1のアミンに変えることができる。好ましい還
元剤としては、次のものが挙げられる:水素、蟻酸、水
素化物の錯体、例えば硼水素化ナトリウム、シアン硼水
素化ナトリウム。特に有利なのは、水素が金属触媒の存
在下に使用される。触媒としては、例えば固体の担持剤
を用いてかまたは用いることなしに、微粒状金属、例え
ばラニ−ニッケルまたはラニ−コバルトならびに貴金属
、例えばパラジウムまたは白金が適当である。水素を用
いる水素化は、常圧下または圧力下で行なうことができ
る(例えば、Houben−Weyl,Methode
n der Organischen Chem
ie,第11/1巻、第602ペ−ジ以降、G.Thi
eme Verlag,Stuttgart 19
57参照)。 場合によっては、式1のアミンを1つの工程で式3のア
ミンおよび4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキ
サノンから得ることは、有利である。
な式3のアミンを4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキサノンと反応させる際に生成された不飽和窒素化
合物(イミンまたはエナミン)は、公知方法により還元
されて式1のアミンに変えることができる。好ましい還
元剤としては、次のものが挙げられる:水素、蟻酸、水
素化物の錯体、例えば硼水素化ナトリウム、シアン硼水
素化ナトリウム。特に有利なのは、水素が金属触媒の存
在下に使用される。触媒としては、例えば固体の担持剤
を用いてかまたは用いることなしに、微粒状金属、例え
ばラニ−ニッケルまたはラニ−コバルトならびに貴金属
、例えばパラジウムまたは白金が適当である。水素を用
いる水素化は、常圧下または圧力下で行なうことができ
る(例えば、Houben−Weyl,Methode
n der Organischen Chem
ie,第11/1巻、第602ペ−ジ以降、G.Thi
eme Verlag,Stuttgart 19
57参照)。 場合によっては、式1のアミンを1つの工程で式3のア
ミンおよび4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキ
サノンから得ることは、有利である。
【0020】このために、蟻酸を還元剤として使用する
ような1つの公知方法は、ロイカルト−ヴァルラッハ(
Leukardt−Wallach)による還元的アミ
ン化である(例えば、Houben−Weyl,Met
hoden der Organischen
Chemie,第11/1巻、第648ペ−ジ以降、G
.Thieme Verlag,Stuttgart
1957参照)。もう1つの殊に実験室的量の合成
にとって好ましい方法は、シアン硼水素化ナトリウムを
還元剤として使用する(例えば、C.F.Lane,S
ynthesis 1975、135参照)。シアン
硼水素化ナトリウム/無水塩化亜鉛の組合せ物は、特に
有利であることが判明した(S.Kim 他、J.O
rg.Chem. 50(1985)1927参照)
。
ような1つの公知方法は、ロイカルト−ヴァルラッハ(
Leukardt−Wallach)による還元的アミ
ン化である(例えば、Houben−Weyl,Met
hoden der Organischen
Chemie,第11/1巻、第648ペ−ジ以降、G
.Thieme Verlag,Stuttgart
1957参照)。もう1つの殊に実験室的量の合成
にとって好ましい方法は、シアン硼水素化ナトリウムを
還元剤として使用する(例えば、C.F.Lane,S
ynthesis 1975、135参照)。シアン
硼水素化ナトリウム/無水塩化亜鉛の組合せ物は、特に
有利であることが判明した(S.Kim 他、J.O
rg.Chem. 50(1985)1927参照)
。
【0021】この方法の場合、NaBH3CN/ZnC
l2のモル比は、例えば1:2〜1:0.5であること
ができ;好ましくは、モル比1:0.5である。使用し
た量のNaBH3CNに対して、アミン成分3またはケ
トン成分は、等モル量で使用することができ;それぞれ
別の成分が過剰量であることは、場合により反応の促進
または完結に有利である。反応は、有利に溶剤としての
低級アルコ−ル中、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、n
−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル中、特に有利にメタ
ノ−ル中で実施され、この場合には、0℃と、それぞれ
の溶剤の沸騰温度との間の温度を選択することができる
。有利には、室温で作業される。
l2のモル比は、例えば1:2〜1:0.5であること
ができ;好ましくは、モル比1:0.5である。使用し
た量のNaBH3CNに対して、アミン成分3またはケ
トン成分は、等モル量で使用することができ;それぞれ
別の成分が過剰量であることは、場合により反応の促進
または完結に有利である。反応は、有利に溶剤としての
低級アルコ−ル中、例えばメタノ−ル、エタノ−ル、n
−プロパノ−ル、イソプロパノ−ル中、特に有利にメタ
ノ−ル中で実施され、この場合には、0℃と、それぞれ
の溶剤の沸騰温度との間の温度を選択することができる
。有利には、室温で作業される。
【0022】出発物質として使用される4−(4−第三
ブチルフェニル)シクロヘキサノンは、新規のものであ
る。この化合物は、市場で入手できる公知の4−フェニ
ルシクロヘキサノンからフェニル環のフリ−デル−クラ
フツ−アルキル化によって得ることができる。アルキル
化剤としては、例えば塩化第三ブチルまたは臭化第三ブ
チル、第三ブタノ−ルまたは2−メチルプロパンを使用
することができる(例えば、Houben−Weyl,
Methoden der Organische
n Chemie,第5/2b巻、第154ペ−ジ以
降、第179ペ−ジ以降、G.Thieme Ver
lag,Stuttgart 1981参照)。有利
には、2−メチルプロパンが例えば硫酸または燐酸のよ
うな鉱酸の存在下またはルイス酸、例えば三塩化アルミ
ニウム、塩化鉄( III ) 、三弗化硼素の
存在下に使用される。溶剤としては、特に塩素化炭化水
素、殊にジクロルメタン、テトラクロルメタン、1,2
−ジクロルエタンが適当である。4−フェニルシクロヘ
キサノンの第三ブチル化は、室温またはそれ以下の温度
、有利に0〜20℃で行なうことができる。
ブチルフェニル)シクロヘキサノンは、新規のものであ
る。この化合物は、市場で入手できる公知の4−フェニ
ルシクロヘキサノンからフェニル環のフリ−デル−クラ
フツ−アルキル化によって得ることができる。アルキル
化剤としては、例えば塩化第三ブチルまたは臭化第三ブ
チル、第三ブタノ−ルまたは2−メチルプロパンを使用
することができる(例えば、Houben−Weyl,
Methoden der Organische
n Chemie,第5/2b巻、第154ペ−ジ以
降、第179ペ−ジ以降、G.Thieme Ver
lag,Stuttgart 1981参照)。有利
には、2−メチルプロパンが例えば硫酸または燐酸のよ
うな鉱酸の存在下またはルイス酸、例えば三塩化アルミ
ニウム、塩化鉄( III ) 、三弗化硼素の
存在下に使用される。溶剤としては、特に塩素化炭化水
素、殊にジクロルメタン、テトラクロルメタン、1,2
−ジクロルエタンが適当である。4−フェニルシクロヘ
キサノンの第三ブチル化は、室温またはそれ以下の温度
、有利に0〜20℃で行なうことができる。
【0023】R1およびR2が上記の意味を表わすよう
な式3のアミンは、公知の化合物であり、かつ市場で入
手できない場合には、公知方法により製造することがで
きる。
な式3のアミンは、公知の化合物であり、かつ市場で入
手できない場合には、公知方法により製造することがで
きる。
【0024】上記方法により製造された、R1およびR
2が上記の意味を表わすような式1のアミンは、一般に
シス−もしくはトランス−1,4−ジ置換シクロヘキサ
ン環を有する2つの可能な立体異性体の混合物である。 このシス−/トランス混合物は、場合によっては公知の
分離方法、例えばクロマトグラフィ−または分別結晶化
によって成分に分離することができる。
2が上記の意味を表わすような式1のアミンは、一般に
シス−もしくはトランス−1,4−ジ置換シクロヘキサ
ン環を有する2つの可能な立体異性体の混合物である。 このシス−/トランス混合物は、場合によっては公知の
分離方法、例えばクロマトグラフィ−または分別結晶化
によって成分に分離することができる。
【0025】b)もう1つの方法は、R1が水素原子で
あり、かつR2がC1〜C12−アルキル基、C1〜C
12−ハロゲン化アルキル基、C1〜C12−ヒドロキ
シアルキル基、C3〜C12−シクロアルキル基、C4
〜C12−アルキルシクロアルキル基、C7〜C12−
ビシクロアルキル基、C3〜C12−アルケニル基、置
換されていないかまたは場合によっては1〜3回置換さ
れたフェニル基、置換されていないかまたは場合によっ
ては1〜3回置換されたフェニル(C1〜C3)アルキ
ル基を表わし、この場合置換基は、それぞれ同一かまた
は異なり、C1〜C4−アルキル−、C1〜C4−アル
コキシ−、C1〜C4−ハロゲン化アルキル−、C1〜
C4−ハロゲン化アルコキシ−、ハロゲン−、シアン−
、ヒドロキシ−またはニトロ基であることができるよう
な式1のシス−またはトランス−4−(4−第三ブチル
フェニル)シクロヘキシルアミンの目的とされる製造を
可能にする。
あり、かつR2がC1〜C12−アルキル基、C1〜C
12−ハロゲン化アルキル基、C1〜C12−ヒドロキ
シアルキル基、C3〜C12−シクロアルキル基、C4
〜C12−アルキルシクロアルキル基、C7〜C12−
ビシクロアルキル基、C3〜C12−アルケニル基、置
換されていないかまたは場合によっては1〜3回置換さ
れたフェニル基、置換されていないかまたは場合によっ
ては1〜3回置換されたフェニル(C1〜C3)アルキ
ル基を表わし、この場合置換基は、それぞれ同一かまた
は異なり、C1〜C4−アルキル−、C1〜C4−アル
コキシ−、C1〜C4−ハロゲン化アルキル−、C1〜
C4−ハロゲン化アルコキシ−、ハロゲン−、シアン−
、ヒドロキシ−またはニトロ基であることができるよう
な式1のシス−またはトランス−4−(4−第三ブチル
フェニル)シクロヘキシルアミンの目的とされる製造を
可能にする。
【0026】この方法は、差当たり4−(4−第三ブチ
ルフェニル)シクロヘキサノンをヒドロキシルアミンま
たはヒドロキシルアミン塩と一緒にして公知方法により
4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノンオキ
シムに変換し、かつ引続きこのオキシムをナトリウムを
用いてエタノ−ル中で(例えば、Chem.Ind.(
London) 1972、683参照)還元するこ
とによって特徴付けられている。この場合生成されたト
ランス−4−(第三ブチルフェニル)シクロヘキシルア
ミンは、さらに他の工程で式:
ルフェニル)シクロヘキサノンをヒドロキシルアミンま
たはヒドロキシルアミン塩と一緒にして公知方法により
4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノンオキ
シムに変換し、かつ引続きこのオキシムをナトリウムを
用いてエタノ−ル中で(例えば、Chem.Ind.(
London) 1972、683参照)還元するこ
とによって特徴付けられている。この場合生成されたト
ランス−4−(第三ブチルフェニル)シクロヘキシルア
ミンは、さらに他の工程で式:
【0027】
【化5】
[式中、R3およびR4は、基:
【0028】
【化6】
の全体が上記の意味を有する基R2に相当するような性
質を有する]で示されるカルボニル化合物と反応され、
その際に形成されたイミンは、直接または単離後に還元
剤で還元されて式1のアミンに変わる。
質を有する]で示されるカルボニル化合物と反応され、
その際に形成されたイミンは、直接または単離後に還元
剤で還元されて式1のアミンに変わる。
【0029】4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘ
キサノンオキシムを例えば水素で還元した場合には、シ
ス−4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルア
ミンと、トランス−4−(4−第三ブチルフェニル)シ
クロヘキシルアミンとの混合物が得られ、この混合物は
、自体公知の方法により、例えばクロマトグラフィ−、
蒸留または酸付加塩の分別結晶および引続く塩基の遊離
によって純粋なシス−もしくはトランス−異性体に分離
することができる。ところで、2つの異性体は、式1の
純粋なシス−もしくはトランス−配置されたアミンを得
るために、それぞれ式:
キサノンオキシムを例えば水素で還元した場合には、シ
ス−4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルア
ミンと、トランス−4−(4−第三ブチルフェニル)シ
クロヘキシルアミンとの混合物が得られ、この混合物は
、自体公知の方法により、例えばクロマトグラフィ−、
蒸留または酸付加塩の分別結晶および引続く塩基の遊離
によって純粋なシス−もしくはトランス−異性体に分離
することができる。ところで、2つの異性体は、式1の
純粋なシス−もしくはトランス−配置されたアミンを得
るために、それぞれ式:
【0030】
【化7】
[式中、R3およびR4は上記のものを表わす]で示さ
れるカルボニル化合物と反応させることができる。
れるカルボニル化合物と反応させることができる。
【0031】勿論、シス−4−(4−第三ブチルフェニ
ル)シクロヘキシルアミンと、トランス−4−(4−第
三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンとの混合物は
、式4のカルボニル化合物と反応させることもでき、場
合によっては式1のアミンの生成された異性体混合物は
、例えばクロマトグラフィ−または結晶化によって成分
に分離することができる。
ル)シクロヘキシルアミンと、トランス−4−(4−第
三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンとの混合物は
、式4のカルボニル化合物と反応させることもでき、場
合によっては式1のアミンの生成された異性体混合物は
、例えばクロマトグラフィ−または結晶化によって成分
に分離することができる。
【0032】4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘ
キシルアミンのシス/トランス混合物を得るためのもう
1つの方法は、シス/トランス−4−フェニルシクロヘ
キシルアミンを2−メチルプロペンで少なくとも等モル
量の鉱酸、例えば硫酸の存在下にアルキル化することに
ある。溶剤としては、有利に塩素化炭化水素、例えばジ
クロルメタン、テトラクロルメタン、1,2−ジクロル
エタンが使用される。アルキル化は、室温またはそれ以
下の温度、有利に0〜20℃で実施することができる。
キシルアミンのシス/トランス混合物を得るためのもう
1つの方法は、シス/トランス−4−フェニルシクロヘ
キシルアミンを2−メチルプロペンで少なくとも等モル
量の鉱酸、例えば硫酸の存在下にアルキル化することに
ある。溶剤としては、有利に塩素化炭化水素、例えばジ
クロルメタン、テトラクロルメタン、1,2−ジクロル
エタンが使用される。アルキル化は、室温またはそれ以
下の温度、有利に0〜20℃で実施することができる。
【0033】出発生成物として使用される4−フェニル
シクロヘキシルアミンは、公知のものである。この化合
物は、例えば4−アミノビフェニル(R.Egli,C
.H.Eugster,Helv.Chim.Acta
58(1975)2321参照)または4−フェニ
ルシクロヘキサノンオキシム(Nightingale
他,J.Org.Chem.17(1952)1017
参照)を水素化することによって得ることができる。
シクロヘキシルアミンは、公知のものである。この化合
物は、例えば4−アミノビフェニル(R.Egli,C
.H.Eugster,Helv.Chim.Acta
58(1975)2321参照)または4−フェニ
ルシクロヘキサノンオキシム(Nightingale
他,J.Org.Chem.17(1952)1017
参照)を水素化することによって得ることができる。
【0034】式4の方法b)に必要とされるカルボニル
化合物は、常用の化学薬品であり、かつ市場で入手でき
ない場合には、一般に公知の方法により得ることができ
る。
化合物は、常用の化学薬品であり、かつ市場で入手でき
ない場合には、一般に公知の方法により得ることができ
る。
【0035】方法a)で詳説された反応条件は、意味的
に方法b)にも当てはまる。
に方法b)にも当てはまる。
【0036】上記方法によれば、R1が水素原子を表わ
すような式1のアミンが得られる。この2級アミンは、
場合によっては公知のアルキル化反応によってR1がC
1〜C6−アルキル基またはC3〜C6−アルケニル基
を表わすような式1の3級アミンに変換することができ
る。
すような式1のアミンが得られる。この2級アミンは、
場合によっては公知のアルキル化反応によってR1がC
1〜C6−アルキル基またはC3〜C6−アルケニル基
を表わすような式1の3級アミンに変換することができ
る。
【0037】
式:
CH3−A
5[式中、Aは求核的離脱基、例えば塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子またはO−SO2−OCH3、O−SO
2−CH3、O−SO2−p−C6H4−CH3の基を
表わす]で示されるメチル化合物をアルキル化剤として
過剰量で使用した場合には、R2が上記の意味を有する
ような式2の4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘ
キシルアンモニウム塩が得られる。
5[式中、Aは求核的離脱基、例えば塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子またはO−SO2−OCH3、O−SO
2−CH3、O−SO2−p−C6H4−CH3の基を
表わす]で示されるメチル化合物をアルキル化剤として
過剰量で使用した場合には、R2が上記の意味を有する
ような式2の4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘ
キシルアンモニウム塩が得られる。
【0038】この4級化は、希釈剤を用いて実施するこ
とができるし、希釈剤を用いずに実施することもできる
。希釈剤としては、例えばアルコ−ル、例えばメタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ルもしくはイソプロパ
ノ−ル、n−ブタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、エ−テ
ル、例えばジエチルエ−テル、メチル−第三ブチルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エステル、酢
酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、ニトリル、例
えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロ化合物
、例えばニトロメタン、ニトロベンゾ−ルまたはこの反
応に対して不活性の別の溶剤が適当である。アルキル化
は、特に式5のアルキル化剤の2〜6倍のモル量を用い
て有利に20〜200℃の温度範囲内で実施される。 有利には、それぞれの希釈剤の沸騰温度で作業されるか
、またはかかる希釈剤なしに作業する場合には、それぞ
れのアルキル化剤の沸騰温度で作業される。
とができるし、希釈剤を用いずに実施することもできる
。希釈剤としては、例えばアルコ−ル、例えばメタノ−
ル、エタノ−ル、n−プロパノ−ルもしくはイソプロパ
ノ−ル、n−ブタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、エ−テ
ル、例えばジエチルエ−テル、メチル−第三ブチルエ−
テル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エステル、酢
酸メチルエステル、酢酸エチルエステル、ニトリル、例
えばアセトニトリル、プロピオニトリル、ニトロ化合物
、例えばニトロメタン、ニトロベンゾ−ルまたはこの反
応に対して不活性の別の溶剤が適当である。アルキル化
は、特に式5のアルキル化剤の2〜6倍のモル量を用い
て有利に20〜200℃の温度範囲内で実施される。 有利には、それぞれの希釈剤の沸騰温度で作業されるか
、またはかかる希釈剤なしに作業する場合には、それぞ
れのアルキル化剤の沸騰温度で作業される。
【0039】場合によっては、4級化は補助塩基の存在
下に実施するのが好ましい。この場合、塩基は、過剰量
で添加することができるか、またはアルキル化すべきア
ミンに対して等モル量で添加することができる。特に有
利なのは、反応媒体中で不溶性の塩基、例えば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウムの使用であ
る。
下に実施するのが好ましい。この場合、塩基は、過剰量
で添加することができるか、またはアルキル化すべきア
ミンに対して等モル量で添加することができる。特に有
利なのは、反応媒体中で不溶性の塩基、例えば炭酸ナト
リウム、炭酸カリウムまたは炭酸カルシウムの使用であ
る。
【0040】式:
【0041】
【化8】
[式中、R2およびAは上記のものを表わす]で示され
る4−(4−第三ブチルフェニル)−シクロヘキシルア
ンモニウム塩が反応生成物として得られる。必要に応じ
て、陰イオン:
る4−(4−第三ブチルフェニル)−シクロヘキシルア
ンモニウム塩が反応生成物として得られる。必要に応じ
て、陰イオン:
【0042】
【外5】
は、常法、例えばイオン交換クロマトグラフィ−により
植物生理的に認容性の別の酸陰イオンによって代替する
ことができる。
植物生理的に認容性の別の酸陰イオンによって代替する
ことができる。
【0043】
【化9】
【0044】
【実施例】次の実施例により、本発明による化合物の製
造を詳説する: 実施例1 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノンジク
ロルメタン600ml中の4−フェニルシクロヘキサノ
ン50g(0.287モル)の溶液に、撹拌しながら冷
却下に0〜5℃で濃硫酸170.5g(1.74モル)
を適加する。この混合物中に15−20分間で10〜1
5℃でイソブチレン(2−メチルペロペン)19.5g
(0.35モル)をガス状で導入する。室温(20℃)
で1時間さらに撹拌し、次に氷冷却下に水250mlを
適加する。有機相を分離し、水で洗浄し、10%のNa
OH水溶液で洗浄し、再び水で中和するまで洗浄し、N
a2SO4上で乾燥し、かつ真空中で濃縮する。残留物
をnペンタンから再結晶させる。融点80〜82℃の無
色の結晶50.7g(理論値の76%)。
造を詳説する: 実施例1 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノンジク
ロルメタン600ml中の4−フェニルシクロヘキサノ
ン50g(0.287モル)の溶液に、撹拌しながら冷
却下に0〜5℃で濃硫酸170.5g(1.74モル)
を適加する。この混合物中に15−20分間で10〜1
5℃でイソブチレン(2−メチルペロペン)19.5g
(0.35モル)をガス状で導入する。室温(20℃)
で1時間さらに撹拌し、次に氷冷却下に水250mlを
適加する。有機相を分離し、水で洗浄し、10%のNa
OH水溶液で洗浄し、再び水で中和するまで洗浄し、N
a2SO4上で乾燥し、かつ真空中で濃縮する。残留物
をnペンタンから再結晶させる。融点80〜82℃の無
色の結晶50.7g(理論値の76%)。
【0045】
【外6】
δ=7.35(d,2H),7.18(d,2H),3
.00(幅広,t,1H),2.50(m,4H),2
.21(m,2H),1.95(m,2H),1.30
(s,9H)。IR(KBr):ν=2965,294
4,2867,1710,1418,1160,832
,808,570cm−1。
.00(幅広,t,1H),2.50(m,4H),2
.21(m,2H),1.95(m,2H),1.30
(s,9H)。IR(KBr):ν=2965,294
4,2867,1710,1418,1160,832
,808,570cm−1。
【0046】実施例2
4−トランス−第三ブチル−4′−シス/トランス−(
4−第三ブチルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシル
アミン(化合物No.62) 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノン16
.1g、トランス−4−第三ブチルシクロヘキシルアミ
ン21.7g(0.14モル)および無水塩化亜鉛4.
8g(0.035モル)をメタノ−ル250mlに溶解
する。この溶液中にシアン硼水素化ナトリウム4.4g
(0.07モル)を滴下法で導入する。室温で24時間
撹拌し、次に溶剤の主要量を真空中で抽出する。残留物
を水中に入れ、濃厚なNaOHでアルカリ性にし、かつ
メチル−第三ブチルエ−テルで数回抽出する。有機相を
乾燥後にNa2SO4上で差当たり溶剤と分離し、次い
で真空中で蒸留する。主として4−第三ブチルシクロヘ
キシルアミンからなる前駆物質により、210〜212
℃/0.2ミリバ−ルで目的化合物19.3g(理論値
の75%)が無色の粘稠な油状物として得られる。
4−第三ブチルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシル
アミン(化合物No.62) 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキサノン16
.1g、トランス−4−第三ブチルシクロヘキシルアミ
ン21.7g(0.14モル)および無水塩化亜鉛4.
8g(0.035モル)をメタノ−ル250mlに溶解
する。この溶液中にシアン硼水素化ナトリウム4.4g
(0.07モル)を滴下法で導入する。室温で24時間
撹拌し、次に溶剤の主要量を真空中で抽出する。残留物
を水中に入れ、濃厚なNaOHでアルカリ性にし、かつ
メチル−第三ブチルエ−テルで数回抽出する。有機相を
乾燥後にNa2SO4上で差当たり溶剤と分離し、次い
で真空中で蒸留する。主として4−第三ブチルシクロヘ
キシルアミンからなる前駆物質により、210〜212
℃/0.2ミリバ−ルで目的化合物19.3g(理論値
の75%)が無色の粘稠な油状物として得られる。
【0047】
【外7】
シス/トランス混合物が2:3の割合で得られる。
実施例3
4−トランス−第三ブチル−4′−シス/トランス−(
4−第三ブチルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシル
アミンの異性体分離 実施例2により得られたシス/トランス異性体混合物8
.0gを30×3cmのシリカゲルカラム(Mache
rey & Nagel、0.04〜0.06mm
)でシクロヘキサン/酢酸エチルエステル(4:1)を
用いて0.1バ−ルの窒素雰囲気下でクロマトグラフイ
−処理することによって分離する。差当たり4−トラン
ス−第三ブチル−4′−シス−(4−第三ブチルフェニ
ル)−N,N−ジシクロ−ヘキシルアミンを融点54〜
56℃(エタノ−ル)の無色の固体として溶離する。相
対的立体化学を
4−第三ブチルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシル
アミンの異性体分離 実施例2により得られたシス/トランス異性体混合物8
.0gを30×3cmのシリカゲルカラム(Mache
rey & Nagel、0.04〜0.06mm
)でシクロヘキサン/酢酸エチルエステル(4:1)を
用いて0.1バ−ルの窒素雰囲気下でクロマトグラフイ
−処理することによって分離する。差当たり4−トラン
ス−第三ブチル−4′−シス−(4−第三ブチルフェニ
ル)−N,N−ジシクロ−ヘキシルアミンを融点54〜
56℃(エタノ−ル)の無色の固体として溶離する。相
対的立体化学を
【0048】
【外8】
によって測定した。
【0049】
【外9】
δ=3.00(m,1′−Heq),2.55(m,1
−Hax),2.40(4′−Hax)。
−Hax),2.40(4′−Hax)。
【0050】
【外10】
特にδ=54.04(C−1′),43.69(C−4
′),34.86(C−2′(6′)),33.39(
C−3′(5′))。
′),34.86(C−2′(6′)),33.39(
C−3′(5′))。
【0051】混合分別の後に(0.8g)、4−トラン
ス−第三ブチル−4′−トランス(第三ブチルフェニル
)−N,N−ジシクロヘキシルアミンが淡黄色の油状物
として得られ、これはアセトニトリルから結晶される。 無色の結晶、融点112〜113℃。
ス−第三ブチル−4′−トランス(第三ブチルフェニル
)−N,N−ジシクロヘキシルアミンが淡黄色の油状物
として得られ、これはアセトニトリルから結晶される。 無色の結晶、融点112〜113℃。
【0052】
【外11】
特にδ=2.67(幅広m,1′−Hax),2.50
(幅広m,1−Hax+4′Hax)。
(幅広m,1−Hax+4′Hax)。
【0053】
【外12】
特にδ=48.42(C−1′),42.69(C−4
′),30.98(C−2′(6′)),28.30(
C−3′(5′))。
′),30.98(C−2′(6′)),28.30(
C−3′(5′))。
【0054】実施例4
N,N−ジメチル−4−トランス−第三ブチル−4′−
シス/トランス−(4−第三ブチルフェニル)−N,N
−ジシクロヘキシルアンモニウムヨ−ジド4−トランス
−第三ブチル−4′−シス/トランス−(4−第三ブチ
ルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシルアミン7.4
g(0.02モル)(実施例2)、ヨウ化メチル11.
4g(0.08モル)および炭酸ナトリウム10.2g
(0.10モル)をエタノ−ル50ml中で還流下に6
時間加熱する。冷却後に、濾過し、濾液を真空中で濃縮
して乾燥物にし、油状の残留物を酢酸エチルエステル5
0mlと一緒に煮沸する。一晩中放置し、析出した沈殿
物を吸引濾過し、氷冷却したアセトンで後洗浄し、かつ
真空中で50℃で乾燥した。融点184〜185℃の無
色の結晶としての4級塩6.7g(理論値の2%)。
シス/トランス−(4−第三ブチルフェニル)−N,N
−ジシクロヘキシルアンモニウムヨ−ジド4−トランス
−第三ブチル−4′−シス/トランス−(4−第三ブチ
ルフェニル)−N,N−ジシクロヘキシルアミン7.4
g(0.02モル)(実施例2)、ヨウ化メチル11.
4g(0.08モル)および炭酸ナトリウム10.2g
(0.10モル)をエタノ−ル50ml中で還流下に6
時間加熱する。冷却後に、濾過し、濾液を真空中で濃縮
して乾燥物にし、油状の残留物を酢酸エチルエステル5
0mlと一緒に煮沸する。一晩中放置し、析出した沈殿
物を吸引濾過し、氷冷却したアセトンで後洗浄し、かつ
真空中で50℃で乾燥した。融点184〜185℃の無
色の結晶としての4級塩6.7g(理論値の2%)。
【0055】実施例5
シス/トランス−4−(4−第三ブチルフェニル)シク
ロヘキシルアミン 4−フェニルシクロヘキシルアミン52.5g(0.3
0モル)(シス/トランス比約2:3)に十分に冷却し
ながら0〜5℃で濃厚なH2SO4165g(1.68
モル)を適加する。ジクロルメタン1000mlで希釈
し、10〜15℃でイソブチレン21.8g(0.39
モル)を20分間でガス状で導入する。20℃で1時間
の後、氷冷却下に水250mlを適加する。水相をなお
2回 CH2Cl2で抽出する。合わせた有機相を1
0%(重量%)のNaOH 1リットルと一緒に強力
に撹拌し、次いで水で洗浄し、Na2SO4上で乾燥し
、かつ真空中で蒸発濃縮する。ガスクロマトグラムに従
い約70%の粗製アミンをエ−テル500mlに溶解し
、かつHClをガス状で導入することにより、氷冷却下
で塩酸塩として沈殿させる。黄色の結晶粉末35.3g
(理論値の4.5%)、これは240℃以上で分解する
。IR(KBr):ν=2956,2932,2868
,1607,1510,1448,1362,1268
,831,574cm−1。
ロヘキシルアミン 4−フェニルシクロヘキシルアミン52.5g(0.3
0モル)(シス/トランス比約2:3)に十分に冷却し
ながら0〜5℃で濃厚なH2SO4165g(1.68
モル)を適加する。ジクロルメタン1000mlで希釈
し、10〜15℃でイソブチレン21.8g(0.39
モル)を20分間でガス状で導入する。20℃で1時間
の後、氷冷却下に水250mlを適加する。水相をなお
2回 CH2Cl2で抽出する。合わせた有機相を1
0%(重量%)のNaOH 1リットルと一緒に強力
に撹拌し、次いで水で洗浄し、Na2SO4上で乾燥し
、かつ真空中で蒸発濃縮する。ガスクロマトグラムに従
い約70%の粗製アミンをエ−テル500mlに溶解し
、かつHClをガス状で導入することにより、氷冷却下
で塩酸塩として沈殿させる。黄色の結晶粉末35.3g
(理論値の4.5%)、これは240℃以上で分解する
。IR(KBr):ν=2956,2932,2868
,1607,1510,1448,1362,1268
,831,574cm−1。
【0056】この(結晶粉末から、アンモニア水溶液の
添加、メチル−第三ブチルエ−テルでの抽出、乾燥およ
び有機相の濃縮によって遊離塩基が無色の油状物(シス
−トランス混合物)として得られる。NMRの特性デ−
タ(CDCl3):シス−4−(4−第三ブチルフェニ
ル)シクロヘキシルアミン:δ1−Heq=3.19;
γC−1=45.3ppm。トランス−4−(4−第三
ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン:δ1−Hax
=2.70;δC−1=50.2ppm。
添加、メチル−第三ブチルエ−テルでの抽出、乾燥およ
び有機相の濃縮によって遊離塩基が無色の油状物(シス
−トランス混合物)として得られる。NMRの特性デ−
タ(CDCl3):シス−4−(4−第三ブチルフェニ
ル)シクロヘキシルアミン:δ1−Heq=3.19;
γC−1=45.3ppm。トランス−4−(4−第三
ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン:δ1−Hax
=2.70;δC−1=50.2ppm。
【0057】実施例6
N−ベンジル−N−4−(4−第三ブチルフェニル)シ
クロヘキシルアミン(化合物No.104)4−(4−
第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン11.6g
(0.05モル)(シス/トランス混合物)およびトル
エン200ml中の新しく蒸留したベンズアルデヒド6
.4g(0.06モル)の溶液に硫酸ナトリウム14.
2g(0.10モル)を添加し、かつ一晩中室温で撹拌
する。濾過後、トルエンを取り出し、エタノ−ルに替え
る。次に、硼水素化ナトリウム2.7g(0.07モル
)を添加し、還流下に1時間煮沸し、濃縮して乾燥物に
し、この残留物を水とメチル−第三ブチルエ−テルとの
間に分配する。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトオリウム
上で乾燥し、濃縮し、かつ2ミリバ−ルで200℃まで
の温度で蒸留する。淡赤色の樹脂9g(理論値の56%
)、
クロヘキシルアミン(化合物No.104)4−(4−
第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミン11.6g
(0.05モル)(シス/トランス混合物)およびトル
エン200ml中の新しく蒸留したベンズアルデヒド6
.4g(0.06モル)の溶液に硫酸ナトリウム14.
2g(0.10モル)を添加し、かつ一晩中室温で撹拌
する。濾過後、トルエンを取り出し、エタノ−ルに替え
る。次に、硼水素化ナトリウム2.7g(0.07モル
)を添加し、還流下に1時間煮沸し、濃縮して乾燥物に
し、この残留物を水とメチル−第三ブチルエ−テルとの
間に分配する。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトオリウム
上で乾燥し、濃縮し、かつ2ミリバ−ルで200℃まで
の温度で蒸留する。淡赤色の樹脂9g(理論値の56%
)、
【0058】
【外13】
およびガスクロマトグラムの後に2:1−トランス/シ
ス異性体混合物。IR(フィルム):ν=2961,2
927,2862,1461,1452,1362,8
27,736,698,572cm−1。 C23H31N(321.1) 前記の実施例に相応して、次の化合物を得ることができ
る:
ス異性体混合物。IR(フィルム):ν=2961,2
927,2862,1461,1452,1362,8
27,736,698,572cm−1。 C23H31N(321.1) 前記の実施例に相応して、次の化合物を得ることができ
る:
【0059】
【表1】
【0060】
【表2】
【0061】
【表3】
【0062】
【表4】
【0063】
【表5】
【0064】
【表6】
【0065】
【表7】
【0066】
【表8】
【0067】
【表9】
【0068】
【表10】
【0069】
【表11】
【0070】
【表12】
【0071】
【表13】
【0072】
【表14】
【0073】
【表15】
【0074】
【表16】
【0075】
【表17】
【0076】
【表18】
【0077】
【表19】
【0078】
【表20】
【0079】
【表21】
【0080】
【表22】
【0081】
【表23】
【0082】
【表24】
【0083】
【表25】
【0084】
【表26】
【0085】
【表27】
【0086】
【表28】
【0087】
【表29】
【0088】
【表30】
【0089】
【表31】
【0090】
【表32】
【0091】
【表33】
新規化合物は、一般的に云えば、殊に子のう菌類(As
comycetes)および担子菌類(Basidio
mycete )からの植物病原性菌類の幅広のスペ
クトルに対して卓越した作用を示す。この新規化合物は
、一部体系的に作用し、かつ茎葉殺菌剤および土壌殺菌
剤として使用することができる。
comycetes)および担子菌類(Basidio
mycete )からの植物病原性菌類の幅広のスペ
クトルに対して卓越した作用を示す。この新規化合物は
、一部体系的に作用し、かつ茎葉殺菌剤および土壌殺菌
剤として使用することができる。
【0092】殺菌作用を有する化合物は、種々の栽培植
物またはその種子、殊にコムギ、ライムギ、オオムギ、
カラスムギ、イネ、トウモロコシ、シバ、ワタ、ダイズ
、コ−ヒ−、サトウキビ、果樹および園芸における観賞
植物、ブドウ栽培ならびに野菜、例えばキウリ、マメ類
およびウリ類について多数の菌類を防除するのに特に重
要である。
物またはその種子、殊にコムギ、ライムギ、オオムギ、
カラスムギ、イネ、トウモロコシ、シバ、ワタ、ダイズ
、コ−ヒ−、サトウキビ、果樹および園芸における観賞
植物、ブドウ栽培ならびに野菜、例えばキウリ、マメ類
およびウリ類について多数の菌類を防除するのに特に重
要である。
【0093】新規化合物は次のような植物病の防除に特
に適している。
に適している。
【0094】穀物類のエリシペ・グラミニス(Erys
iphegraminis)、ウリ科のエリシペ・キコ
ラケアラム(Erysiphe cichorace
arum)及びスフェロテカ・フリギネア(Sphae
rotheca fuliginea)、リンゴのポ
ドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaera
leucotricha )、ブドウのウンキヌラ
・ネカトル(Uncinulanecator )、
穀物類のプッキニア(Puccinia)種、ワタ及び
シバのリゾクトニア種(Rhizoctonia )
、穀物類及びサトウキビのウスチラゴ(Ustilag
o)種、リンゴのベンツリア・イネクアリス(Vent
uria inaeqalis;腐敗病)、穀物類の
ヘルミントスポリウム種(Helminthospor
ium spc. )、コムギのセプトリア・ノド
ルム(Septorianodorum )、イチゴ
及びブドウのボトリチス・キネレア(Botrytis
cinerea)、ナンキンマメのセルコスポラ・
アラキジコラ(Cercospora arachi
dicola)、コムギ及びオオムギのシュードケルコ
スポレラ・ヘルポトリコイデス(Pseudocerc
osporellaherpotrichoides)
、イネのピリクラリア・オリザエ(Pyricular
ia orizae)ジャガイモ及びトマトのフィト
ピトラ・インフェスタンス(Phytophtora
infestans )、種々の植物のフサリウム
(Fusarium)及びベルチキルリウム(Vert
icillium)種、ブドウのプラスモパラ・ビチコ
ラ(Plasmoparaviticola)、果実及
び野菜のアルテルナリア(Alternaria)種、
前記化合物は、植物に作用物質を噴霧するか散布し、或
いは植物の種子を作用物質で処理することにより使用さ
れる。使用は、植物または種子が菌類によって感染する
前または感染した後に行なわれる。菌類または菌類の感
染から保護すべき植物、種子、物質または土壌は、作用
物質の殺菌作用を有する量で処理される。
iphegraminis)、ウリ科のエリシペ・キコ
ラケアラム(Erysiphe cichorace
arum)及びスフェロテカ・フリギネア(Sphae
rotheca fuliginea)、リンゴのポ
ドスフェラ・ロイコトリカ(Podosphaera
leucotricha )、ブドウのウンキヌラ
・ネカトル(Uncinulanecator )、
穀物類のプッキニア(Puccinia)種、ワタ及び
シバのリゾクトニア種(Rhizoctonia )
、穀物類及びサトウキビのウスチラゴ(Ustilag
o)種、リンゴのベンツリア・イネクアリス(Vent
uria inaeqalis;腐敗病)、穀物類の
ヘルミントスポリウム種(Helminthospor
ium spc. )、コムギのセプトリア・ノド
ルム(Septorianodorum )、イチゴ
及びブドウのボトリチス・キネレア(Botrytis
cinerea)、ナンキンマメのセルコスポラ・
アラキジコラ(Cercospora arachi
dicola)、コムギ及びオオムギのシュードケルコ
スポレラ・ヘルポトリコイデス(Pseudocerc
osporellaherpotrichoides)
、イネのピリクラリア・オリザエ(Pyricular
ia orizae)ジャガイモ及びトマトのフィト
ピトラ・インフェスタンス(Phytophtora
infestans )、種々の植物のフサリウム
(Fusarium)及びベルチキルリウム(Vert
icillium)種、ブドウのプラスモパラ・ビチコ
ラ(Plasmoparaviticola)、果実及
び野菜のアルテルナリア(Alternaria)種、
前記化合物は、植物に作用物質を噴霧するか散布し、或
いは植物の種子を作用物質で処理することにより使用さ
れる。使用は、植物または種子が菌類によって感染する
前または感染した後に行なわれる。菌類または菌類の感
染から保護すべき植物、種子、物質または土壌は、作用
物質の殺菌作用を有する量で処理される。
【0095】新規物質は通常の製剤形、例えば溶液、エ
マルジョン、懸濁液、微粉末、粉末、ペースト及び顆粒
に加工することができる。適用形は全く使用目的次第で
あるが、いずれにせよ有効物質の細分及び均一な分配が
保証されるべきである。製剤は公知方法で、例えば有効
物質を溶剤及び/又は賦形剤で、場合により乳化剤及び
分散助剤を使用して増量することにより製造することが
でき、この際希釈剤として水を使用する場合には、溶解
助剤として別の有機溶剤を使用することができる。この
ための助剤としては、主として溶剤例えば芳香族化合物
(例えばキシレン)、塩素化芳香族化合物(例えばクロ
ルベンゼン)、パラフィン(例えば石油留分)、アルコ
ール(例えばメタノール、ブタノール)、ケトン(例え
ばシクロヘキサノン)、アミン(例えばエタノールアミ
ン、ジメチルホルムアミド)及び水;賦形剤例えば天然
岩石粉(例えばカオリン、アルミナ、タルク、白亜)、
合成岩石粉(例えば高分散性珪酸、珪酸塩);乳化剤例
えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤(例えばポリオキ
シエチレン−脂肪アルコールエーテル、アルキルスルホ
ネート及びアリールスルホネート)及び分散剤例えばリ
グニン、亜硫酸廃液及びメチルセルロースが該当する。
マルジョン、懸濁液、微粉末、粉末、ペースト及び顆粒
に加工することができる。適用形は全く使用目的次第で
あるが、いずれにせよ有効物質の細分及び均一な分配が
保証されるべきである。製剤は公知方法で、例えば有効
物質を溶剤及び/又は賦形剤で、場合により乳化剤及び
分散助剤を使用して増量することにより製造することが
でき、この際希釈剤として水を使用する場合には、溶解
助剤として別の有機溶剤を使用することができる。この
ための助剤としては、主として溶剤例えば芳香族化合物
(例えばキシレン)、塩素化芳香族化合物(例えばクロ
ルベンゼン)、パラフィン(例えば石油留分)、アルコ
ール(例えばメタノール、ブタノール)、ケトン(例え
ばシクロヘキサノン)、アミン(例えばエタノールアミ
ン、ジメチルホルムアミド)及び水;賦形剤例えば天然
岩石粉(例えばカオリン、アルミナ、タルク、白亜)、
合成岩石粉(例えば高分散性珪酸、珪酸塩);乳化剤例
えば非イオン性及び陰イオン性乳化剤(例えばポリオキ
シエチレン−脂肪アルコールエーテル、アルキルスルホ
ネート及びアリールスルホネート)及び分散剤例えばリ
グニン、亜硫酸廃液及びメチルセルロースが該当する。
【0096】殺菌剤は有効物質を一般に0.1〜95重
量%、有利には0.5〜90重量%を含有する。
量%、有利には0.5〜90重量%を含有する。
【0097】使用量は、所望の効果の種類に応じて1h
aあたり作用物質0.02〜3kgまたはそれ以上であ
る。新規化合物は、物質保護(木材保護)の場合に、例
えばパエシロミセス・バリオチイ(Paecilomy
ces variotii)に対して使用することも
できる。種子を処理する場合には、一般に種子1kg当
たり0.001〜50g、特に0.01〜20gの作用
物質量が必要である。
aあたり作用物質0.02〜3kgまたはそれ以上であ
る。新規化合物は、物質保護(木材保護)の場合に、例
えばパエシロミセス・バリオチイ(Paecilomy
ces variotii)に対して使用することも
できる。種子を処理する場合には、一般に種子1kg当
たり0.001〜50g、特に0.01〜20gの作用
物質量が必要である。
【0098】前記薬剤ないしはこれから得られた既製の
調剤、例えば溶液、乳濁液、懸濁液、粉末剤、ダスト剤
、ペ−スト剤または粒剤は、公知方法で、例えば噴霧法
、ミスト法、ダスト法、散布法、浸漬法または流込み法
によって使用される。
調剤、例えば溶液、乳濁液、懸濁液、粉末剤、ダスト剤
、ペ−スト剤または粒剤は、公知方法で、例えば噴霧法
、ミスト法、ダスト法、散布法、浸漬法または流込み法
によって使用される。
【0099】製剤例は以下の通りである。
【0100】I.90重量部の化合物62を、N−メチ
ル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、極めて
小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。
ル−α−ピロリドン10重量部と混合する時は、極めて
小さい滴の形にて使用するのに適する溶液が得られる。
【0101】II.20重量部の化合物5を、キシロー
ル80重量部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレ
イン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付加した付
加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスルフィン酸
のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40モル
をヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量部よりな
る混合物中に溶解する。この溶液を水に注入しかつ細分
布することにより水性分散液が得られる。
ル80重量部、エチレンオキシド8乃至10モルをオレ
イン酸−N−モノエタノールアミド1モルに付加した付
加生成物10重量部、ドデシルベンゾールスルフィン酸
のカルシウム塩5重量部及びエチレンオキシド40モル
をヒマシ油1モルに付加した付加生成物5重量部よりな
る混合物中に溶解する。この溶液を水に注入しかつ細分
布することにより水性分散液が得られる。
【0102】III.20重量部の化合物15を、シク
ロヘキサノン40重量部、イソブタノール30重量部、
エチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加した
付加生成物20重量部よりなる混合物中に溶解する。こ
の溶液を水に注入しかつ細分布することにより水性分散
液が得られる。
ロヘキサノン40重量部、イソブタノール30重量部、
エチレンオキシド40モルをヒマシ油1モルに付加した
付加生成物20重量部よりなる混合物中に溶解する。こ
の溶液を水に注入しかつ細分布することにより水性分散
液が得られる。
【0103】IV.20重量部の化合物39をシクロヘ
キサノール25重量部、沸点210乃至280℃の鉱油
留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ
油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる混合
物中に溶解する。この溶液を水に注入しかつ細分布する
ことにより水性分散液が得られる。
キサノール25重量部、沸点210乃至280℃の鉱油
留分65重量部及びエチレンオキシド40モルをヒマシ
油1モルに付加した付加生成物10重量部よりなる混合
物中に溶解する。この溶液を水に注入しかつ細分布する
ことにより水性分散液が得られる。
【0104】V.80重量部の化合物40を、ジイソブ
チル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩3
重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸のナ
トリウム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部と充
分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。こ
の混合物を水に細分布することにより噴霧液が得られる
。
チル−ナフタリン−α−スルフォン酸のナトリウム塩3
重量部、亜硫酸−廃液よりのリグニンスルフォン酸のナ
トリウム塩10重量部及び粉末状珪酸ゲル7重量部と充
分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。こ
の混合物を水に細分布することにより噴霧液が得られる
。
【0105】VI.3重量部の化合物50を、細粒状カ
オリン97重量部と密に混和する。かくして有効物質3
重量%を含有する噴霧剤が得られる。
オリン97重量部と密に混和する。かくして有効物質3
重量%を含有する噴霧剤が得られる。
【0106】VII.30重量部の化合物59を、粉末
状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹き
つけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密に
混和する。かくして良好な接着性を有する有効物質の製
剤が得られる。
状珪酸ゲル92重量部及びこの珪酸ゲルの表面上に吹き
つけられたパラフィン油8重量部よりなる混合物と密に
混和する。かくして良好な接着性を有する有効物質の製
剤が得られる。
【0107】VIII.40重量部の化合物61を、フ
ェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮
合物のナトリウム塩10重量部、珪酸ゲル2重量部及び
水48重量部と密に混和する。安定な水性分散液が得ら
れる。この分散液は更に水で希釈することができる。
ェノールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮
合物のナトリウム塩10重量部、珪酸ゲル2重量部及び
水48重量部と密に混和する。安定な水性分散液が得ら
れる。この分散液は更に水で希釈することができる。
【0108】IX.20重量部の化合物67を、ドデシ
ルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2重量部、脂
肪アルコールポリグリコールエーテル8重量部、フェノ
ールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物
のナトリウム塩2重量部及びパラィン系鉱油68重量部
と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
ルベンゾールスルフォン酸のカルシウム塩2重量部、脂
肪アルコールポリグリコールエーテル8重量部、フェノ
ールスルフォン酸−尿素−フォルムアルデヒド−縮合物
のナトリウム塩2重量部及びパラィン系鉱油68重量部
と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。
【0109】本発明による薬剤は、前記使用形で、例え
ば除草剤、殺虫剤、成長調整剤および殺菌剤のような別
の作用物質と一緒にかまたは肥料も一緒に混合して散布
することができる。この場合、殺菌剤を混合した場合に
は多くの場合に殺菌剤の作用スペクトルの拡大が得られ
る。
ば除草剤、殺虫剤、成長調整剤および殺菌剤のような別
の作用物質と一緒にかまたは肥料も一緒に混合して散布
することができる。この場合、殺菌剤を混合した場合に
は多くの場合に殺菌剤の作用スペクトルの拡大が得られ
る。
【0110】使用例
比較作用物質として、欧州特許第259977号明細書
から公知の1−(4−(4−第三ブチル−フェニル)−
シクロヘキシル)−2,6−ジメチルモルホリン(A)
、双方とも米国特許第3981766号明細書から公知
のN,N−ジメチル−4−(シクロヘキシルメチル)−
シクロヘキシルアミン(B)および4−(シクロヘキシ
ルメチル)−シクロヘキシルアミン(C)およびJou
rnalof Organic Chemistr
y, 48(1983)、第3412〜3422ペ−
ジから公知のトランス−4−第三ブチル−N−ベンジル
シクロヘキシルアミン(D)を使用した。
から公知の1−(4−(4−第三ブチル−フェニル)−
シクロヘキシル)−2,6−ジメチルモルホリン(A)
、双方とも米国特許第3981766号明細書から公知
のN,N−ジメチル−4−(シクロヘキシルメチル)−
シクロヘキシルアミン(B)および4−(シクロヘキシ
ルメチル)−シクロヘキシルアミン(C)およびJou
rnalof Organic Chemistr
y, 48(1983)、第3412〜3422ペ−
ジから公知のトランス−4−第三ブチル−N−ベンジル
シクロヘキシルアミン(D)を使用した。
【0111】使用例1
プラスモパラ・ビティコラ(Plasmopara
viticola)に対する作用 品種“ミュラ−トゥルガウ(Mueller−Thur
gau)の鉢植えしたブドウの茎葉に作用物質80%お
よび乳化剤20%を乾燥物質の形で含有する水性噴霧処
理液を噴霧した。作用物質の作用時間を評価するために
、この植物を噴霧被膜が乾燥した後に8日間温室内に置
いた。次に初めて、茎葉にプラスモパラ・ビティコラ(
Plasmopara viticola)(ブドウ
のべと病菌)の遊走子懸濁液を接種した。その後に、こ
のブドウ植物をまず水蒸気飽和室中で24℃で48時間
置き、引続き20〜30℃の温度で5日間温室内に置い
た。次いで、胞子嚢柄の発生を促進させるために、この
植物を再び湿った室内に16時間置いた。次に、茎葉の
下側での菌類の感染の程度を評価した。
viticola)に対する作用 品種“ミュラ−トゥルガウ(Mueller−Thur
gau)の鉢植えしたブドウの茎葉に作用物質80%お
よび乳化剤20%を乾燥物質の形で含有する水性噴霧処
理液を噴霧した。作用物質の作用時間を評価するために
、この植物を噴霧被膜が乾燥した後に8日間温室内に置
いた。次に初めて、茎葉にプラスモパラ・ビティコラ(
Plasmopara viticola)(ブドウ
のべと病菌)の遊走子懸濁液を接種した。その後に、こ
のブドウ植物をまず水蒸気飽和室中で24℃で48時間
置き、引続き20〜30℃の温度で5日間温室内に置い
た。次いで、胞子嚢柄の発生を促進させるために、この
植物を再び湿った室内に16時間置いた。次に、茎葉の
下側での菌類の感染の程度を評価した。
【0112】結果は、作用物質5、15、39、40、
50、59、61、62および67が0.025%(重
量%)の噴霧処理液としての使用の際に公知の比較作用
物質(A)および(C)の場合(75%)よりも良好な
殺菌作用(100%)を有することを示す。
50、59、61、62および67が0.025%(重
量%)の噴霧処理液としての使用の際に公知の比較作用
物質(A)および(C)の場合(75%)よりも良好な
殺菌作用(100%)を有することを示す。
【0113】使用例2
ボトリティス・シネレア(Botrytis cin
erea)に対する作用 品種“ノイズィ−トラ−・イデア−ル・エリ−テ(Ne
usiedler Ideal Elite)”の
パプリカの苗を、4〜5枚の葉が十分に成育した後に、
作用物質80%および乳化剤20%を乾燥物質の形で含
有する水性懸濁液で滴り落ちるまで噴霧した。噴霧被膜
の乾燥後、この植物に、ボトリティス・シネレア(Bo
trytis cinerea)の胞子懸濁液を噴霧
し、かつ22〜24℃で高い空気湿度を有する室内に置
いた。 5日後、未処理の対照植物に対する疾病は、生じた茎葉
の壊死が茎葉の大部分を被うような程度に発生した。茎
葉の菌感染が確認された。
erea)に対する作用 品種“ノイズィ−トラ−・イデア−ル・エリ−テ(Ne
usiedler Ideal Elite)”の
パプリカの苗を、4〜5枚の葉が十分に成育した後に、
作用物質80%および乳化剤20%を乾燥物質の形で含
有する水性懸濁液で滴り落ちるまで噴霧した。噴霧被膜
の乾燥後、この植物に、ボトリティス・シネレア(Bo
trytis cinerea)の胞子懸濁液を噴霧
し、かつ22〜24℃で高い空気湿度を有する室内に置
いた。 5日後、未処理の対照植物に対する疾病は、生じた茎葉
の壊死が茎葉の大部分を被うような程度に発生した。茎
葉の菌感染が確認された。
【0114】結果は、作用物質5、15、59、61、
62および67が0.05%の噴霧処理液としての使用
の際に公知の比較物質(B)、(C)および(D)の場
合(60%)よりも良好な殺菌作用(90%)を有する
ことを示す。
62および67が0.05%の噴霧処理液としての使用
の際に公知の比較物質(B)、(C)および(D)の場
合(60%)よりも良好な殺菌作用(90%)を有する
ことを示す。
Claims (2)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、R1は水素原子、C1〜C6−アルキル基、C
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2はC1〜C12
−アルキル基、C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、
C1〜C12−ヒドロキシアルキル基、C3〜C12−
シクロアルキル基、C4〜C12−アルキルシクロアル
キル基、C7〜C12−ビシクロアルキル基、C3〜C
12−アルケニル基、置換されていないかまたは場合に
よっては1〜3回置換されたフェニル基、置換されてい
ないかまたは場合によっては1〜3回置換されたフェニ
ル(C1〜C3)アルキル基を表わし、この場合置換基
は、それぞれ同一かまたは異なり、C1〜C4−アルキ
ル−、C1〜C4−アルコキシ−、C1〜C4−ハロゲ
ン化アルキル−、C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ−
、ハロゲン−、シアン−、ヒドロキシ−またはニトロ基
であることができ、但し、R1とR2とは同時にはC1
〜C4−アルキル基を表わさないものとし、 【外1】 は植物認容性の酸陰イオンを表わす]で示される4−(
4−第三ブチルフェニルシクロヘキシルアミンおよびそ
の4級アンモニウム塩、およびその植物認容性の酸付加
塩。 - 【請求項2】 殺菌剤において、不活性の担持剤およ
び式: 【化2】 [式中、R1は水素原子、C1〜C6−アルキル基、C
3〜C6−アルケニル基を表わし、R2はC1〜C12
−アルキル基、C1〜C12−ハロゲン化アルキル基、
C1〜C12−ヒドロキシアルキル基、C3〜C12−
シクロアルキル基、C4〜C12−アルキルシクロアル
キル基、C7〜C12−ビシクロアルキル基、C3〜C
12−アルケニル基、置換されていないかまたは場合に
よっては1〜3回置換されたフェニル基、置換されてい
ないかまたは場合によっては1〜3回置換されたフェニ
ル(C1〜C3)アルキル基を表わし、この場合置換基
は、それぞれ同一かまたは異なり、C1〜C4−アルキ
ル−、C1〜C4−アルコキシ−、C1〜C4−ハロゲ
ン化アルキル−、C1〜C4−ハロゲン化アルコキシ−
、ハロゲン−、シアン−、ヒドロキシ−またはニトロ基
であることができ、但し、R1とR2とは同時にはC1
〜C4−アルキル基を表わさないものとし、 【外2】 は植物認容性の酸陰イオンを表わす]で示される4−(
4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよび
その4級アンモニウム塩、およびその植物認容性の酸付
加塩の殺菌作用を有する量を含有することを特徴とする
、殺菌剤。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4006937.0 | 1990-03-06 | ||
DE4006937A DE4006937A1 (de) | 1990-03-06 | 1990-03-06 | 4-(4-tert.-butylphenyl)cyclohexylamine und diese enthaltende fungizide |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04211636A true JPH04211636A (ja) | 1992-08-03 |
Family
ID=6401490
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3028704A Withdrawn JPH04211636A (ja) | 1990-03-06 | 1991-02-22 | 4−(4−第三ブチルフェニル)シクロヘキシルアミンおよびその4級アンモニウム塩、および該化合物を含有する殺菌剤 |
Country Status (13)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0447828B1 (ja) |
JP (1) | JPH04211636A (ja) |
KR (1) | KR910016684A (ja) |
AT (1) | ATE105279T1 (ja) |
AU (1) | AU632400B2 (ja) |
CA (1) | CA2037079A1 (ja) |
DE (2) | DE4006937A1 (ja) |
DK (1) | DK0447828T3 (ja) |
ES (1) | ES2053219T3 (ja) |
HU (1) | HU207032B (ja) |
IL (1) | IL97349A0 (ja) |
NZ (1) | NZ237297A (ja) |
ZA (1) | ZA911588B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997015549A1 (fr) * | 1995-10-26 | 1997-05-01 | Tokyo Tanabe Company Limited | COMPOSES DE PHENYLETHANOLAMINE UTILES EN TANT QUE β3 AGONISTES, LEURS PROCEDE ET INTERMEDIAIRES DE PRODUCTION |
JP2005306866A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | アミノフェノール化合物の製造法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2967125A (en) * | 1958-10-13 | 1961-01-03 | Velsicol Chemical Corp | Phenylcyclopentylamine fungicides |
DE3630344A1 (de) * | 1986-09-05 | 1988-03-17 | Basf Ag | 4-substituierte cyclohexylamine und cyclohexenylamine, diese enthaltende fungizide sowie verfahren zur bekaempfung von pilzen |
GB8621790D0 (en) * | 1986-09-10 | 1986-10-15 | Ici Plc | Tertiary amine compounds |
DE3640247A1 (de) * | 1986-11-25 | 1988-05-26 | Basf Ag | Fungizide cyclohexylamine |
-
1990
- 1990-03-06 DE DE4006937A patent/DE4006937A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-02-22 EP EP91102596A patent/EP0447828B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-22 DK DK91102596.3T patent/DK0447828T3/da active
- 1991-02-22 ES ES91102596T patent/ES2053219T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-22 DE DE59101532T patent/DE59101532D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-02-22 AT AT9191102596T patent/ATE105279T1/de not_active IP Right Cessation
- 1991-02-22 JP JP3028704A patent/JPH04211636A/ja not_active Withdrawn
- 1991-02-25 IL IL97349A patent/IL97349A0/xx unknown
- 1991-02-26 CA CA002037079A patent/CA2037079A1/en not_active Abandoned
- 1991-03-04 NZ NZ237297A patent/NZ237297A/en unknown
- 1991-03-05 AU AU72094/91A patent/AU632400B2/en not_active Ceased
- 1991-03-05 ZA ZA911588A patent/ZA911588B/xx unknown
- 1991-03-05 HU HU91709A patent/HU207032B/hu not_active IP Right Cessation
- 1991-03-06 KR KR1019910003568A patent/KR910016684A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO1997015549A1 (fr) * | 1995-10-26 | 1997-05-01 | Tokyo Tanabe Company Limited | COMPOSES DE PHENYLETHANOLAMINE UTILES EN TANT QUE β3 AGONISTES, LEURS PROCEDE ET INTERMEDIAIRES DE PRODUCTION |
US6069176A (en) * | 1995-10-26 | 2000-05-30 | Mitsubishi-Tokyo Pharmaceuticals, Inc. | Phenylethanolamine compounds useful as β 3 agonists, process for producing the same, and intermediates in the production of the same |
JP2005306866A (ja) * | 2004-03-25 | 2005-11-04 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | アミノフェノール化合物の製造法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK0447828T3 (da) | 1994-06-13 |
HU910709D0 (en) | 1991-09-30 |
IL97349A0 (en) | 1992-05-25 |
EP0447828A1 (de) | 1991-09-25 |
HU207032B (en) | 1993-03-01 |
CA2037079A1 (en) | 1991-09-07 |
AU7209491A (en) | 1991-09-12 |
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NZ237297A (en) | 1992-04-28 |
AU632400B2 (en) | 1992-12-24 |
KR910016684A (ko) | 1991-11-05 |
DE4006937A1 (de) | 1991-09-12 |
DE59101532D1 (de) | 1994-06-09 |
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