JPH04206787A - Gas laser equipment - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 50
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 7
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims description 6
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 abstract description 8
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 abstract description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 4
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 34
- 229910000833 kovar Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 5
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 5
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 5
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 3
- 229910017309 Mo—Mn Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 2
- 229910017944 Ag—Cu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017398 Au—Ni Inorganic materials 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005281 excited state Effects 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
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- Lasers (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
「産業上の利用分野」
本発明は希ガスハライドをレーザ管に充填したエキシマ
レーザ装置などのガスレーザ装置に関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to a gas laser device such as an excimer laser device in which a laser tube is filled with a rare gas halide.
「従来の技術」
希ガスハライドエキシマレーザ装置は、第７図に示すよ
うに、レーザチェンバー（１）内に、希ガス（Ａｒ、
Ｋｒ、 Ｘｅ）、ハロゲンガス（Ｆ２．ＨＣＱ）、バッ
ファガス（Ｈ’、ｅ 、 Ｎ ｅ ）などの極めて腐食
性の強い混合ガスを２〜３気圧充填する。そして、高電
圧電源（２）よりインダクタ（３）を通して第１の高圧
コンデンサ（４）に充電しておく。この充電されたエネ
ルギーを、サイラトロンなどのスイッチ（５）の開成に
より第１のループ（６） （６）を通して数１０対の第
２の高圧コンデンサ（７） （７）に充電させる。これ
に伴い、主電極（８）（９）の両側の数１０対の予備電
離電極（１０）（１１）と（１２） （１３）との放電
で紫外線が発生し、主電極（８）（９）を充分予備イオ
ン化させる。``Prior art'' As shown in FIG. 7, a rare gas halide excimer laser device contains a rare gas (Ar,
A highly corrosive mixed gas such as Kr, Xe), halogen gas (F2.HCQ), and buffer gas (H', e, Ne) is filled at 2 to 3 atmospheres. Then, the first high voltage capacitor (4) is charged from the high voltage power supply (2) through the inductor (3). This charged energy is charged to several dozen pairs of second high voltage capacitors (7) (7) through the first loop (6) (6) by opening a switch (5) such as a thyratron. Along with this, ultraviolet rays are generated by discharge between several tens of pairs of pre-ionizing electrodes (10), (11), (12), and (13) on both sides of the main electrodes (8) and (9), and the main electrodes (8) and 9) is sufficiently pre-ionized.
このとき、主電極（８） （９）上に高電圧が加わり、
この高電圧値がレーザ媒質ガスの放電開始電圧以上にな
ると、主電極（８）（９）間の放電が開始する。この放
電開始により、第２の高圧コンデンサ（７） （７）に
充電されたエネルギーが第２のループ（１４） （１４
）を通り、レーザ媒質ガスに注入され、希ガス原子とハ
ロゲン原子を励起させた状態で結合させ、レーザ発振を
する。At this time, a high voltage is applied on the main electrodes (8) and (9),
When this high voltage value becomes equal to or higher than the discharge starting voltage of the laser medium gas, discharge between the main electrodes (8) and (9) starts. With the start of this discharge, the energy charged in the second high voltage capacitor (7) (7) is transferred to the second loop (14) (14
), the gas is injected into the laser medium gas, and the rare gas atoms and halogen atoms are combined in an excited state, causing laser oscillation.
なお、（１５）はガス循環用ファン、（１６）は熱交換
器である。Note that (15) is a gas circulation fan, and (16) is a heat exchanger.
しかるに、強力な紫外線レーザである希ガスハライドエ
キシマレーザ装置では、第２のループ（１４） （１４
）のインダクタンスを可能な限り小さくしないと（例え
ば４ｎＨ）、レーザ出力が高効率で発振しない。また、
主電極（８）には高電圧（例えば３０ＫＶ以上）が加わ
るため、回りを絶縁板で被覆しなければならない。この
ため、従来は第８図、第９図、第１０図に示すような方
法が採用されていた。However, in rare gas halide excimer laser equipment, which is a powerful ultraviolet laser, the second loop (14) (14
) must be made as small as possible (for example, 4 nH), the laser output will not oscillate with high efficiency. Also,
Since a high voltage (for example, 30 KV or more) is applied to the main electrode (8), it must be covered with an insulating plate. For this reason, methods such as those shown in FIGS. 8, 9, and 10 have conventionally been adopted.
このうち、第８図の例では、第２のループ（１４）のイ
ンダクタンスをできるだけ低く抑えるため、第２の高圧
コンデンサ（７）（７）群をすべてレーザチェンバー（
１）の内部に収納している。レーザチェンバー（１）内
に収納すると、高圧コンデンサ（７）（７）群の外部被
覆の有機絶縁物が内部のガスにより腐蝕されるので、こ
れを防止するため、テフロンコートが施こされている。In the example shown in FIG. 8, in order to keep the inductance of the second loop (14) as low as possible, all the second high-voltage capacitors (7) (7) are connected to the laser chamber (
1) It is stored inside. When stored in the laser chamber (1), the organic insulating material on the outer coating of the high-voltage capacitors (7) (7) group will be corroded by the internal gas, so to prevent this, a Teflon coating is applied. .
（１７）は大面積の絶縁板である。(17) is a large-area insulating plate.
第９図の例では、腐蝕防止のため、第２の高圧コンデン
サ（７）（７）群を、レーザチェンバー（１）の外部に
出し、主電極（８） （９）のみ絶縁板（１７）で包囲
している。In the example shown in Fig. 9, to prevent corrosion, the second high-voltage capacitors (7) (7) are placed outside the laser chamber (1), and only the main electrodes (8) (9) are connected to the insulating plate (17). surrounded by.
第１０図の例では、主電極（８）は絶縁板の代りにセラ
ミックなどの絶縁管（１８）を用いて取付けている。こ
の例では、第２の高圧コンデンサ（７）は第８図と同様
、テフロンコートをしてレーザチェンバー（１）内に収
納されている。In the example shown in FIG. 10, the main electrode (8) is attached using an insulating tube (18) made of ceramic or the like instead of an insulating plate. In this example, the second high voltage capacitor (7) is coated with Teflon and housed in the laser chamber (1) as in FIG.
「発明が解決しようとする課題」
しかるに、従来の第８図、第９図および第１Ｏ図の例で
は、ともに高電圧の一方の主電極（９）を絶縁するため
に、大面積であったり、複雑な形状をした絶縁板（１７
）が使用されていること、また、第８図および第１Ｏ図
の例では、第２の高圧コンデンサ（７）（７）をレーザ
チェンバー（１）内に収納するため、外部被覆をテフロ
ンコートとしていることにより以下のような問題があっ
た。``Problems to be Solved by the Invention'' However, in the conventional examples shown in FIGS. 8, 9, and 1O, in order to insulate one main electrode (9) of high voltage, the area is large. , an insulating plate with a complicated shape (17
) is used, and in the examples shown in Figures 8 and 1O, in order to accommodate the second high voltage capacitor (7) (7) in the laser chamber (1), the outer coating is a Teflon coat. This caused the following problems.
すなわち、レーザ発振に伴って放電プラズマや紫外線が
第２の高圧コンデンサ（７） （７）の外部被覆や絶縁
板（１７）を照射するが、このときレーザ媒質ガス中に
含まれるＦ２やＨＣｆｆなどの極めて強い腐蝕性ガスの
もとで、放電プラズマや紫外線によりテフロンコートが
化学反応を起し分解する。このとき発生した不純物であ
る炭化化合物、ＨＦ、Ｈ，Ｏなどは紫外線帯域に強い吸
収性を有するので、レーザ光を吸収してしまう。また、
前記不純物はレーザ放電の特性を変化させ、レーザ出力
の不安定性やレーザ出力の低下をもたらしていた。That is, along with laser oscillation, discharge plasma and ultraviolet rays irradiate the outer coating and insulating plate (17) of the second high-voltage capacitor (7) (7), but at this time, F2, HCff, etc. contained in the laser medium gas are irradiated. Under extremely strong corrosive gases, the Teflon coat undergoes a chemical reaction and decomposes due to discharge plasma and ultraviolet rays. The impurities generated at this time, such as carbonized compounds, HF, H, and O, have strong absorption properties in the ultraviolet band, and therefore absorb laser light. Also,
The impurities change the characteristics of laser discharge, causing instability and reduction in laser output.
このため、Ｆ、やＨＣＱガスの希ガスをレーザ媒質ガス
として用いるエキシマレーザ装置では、ガス寿命がＫｒ
Ｆ、ＡｒＦレーザ装置で１０’ ５ｈｏｔｓ−１０’５
ｈｏｔｓと、極めて短いという欠点があった。また、高
電圧電極用の絶縁部を、セラミック等のプラズマや紫外
線に強い材質にしようとしても、第８図。For this reason, in an excimer laser device that uses a rare gas such as F or HCQ gas as a laser medium gas, the gas life is Kr
F, ArF laser device 10'5hots-10'5
It had the disadvantage of being extremely short. Furthermore, even if the insulating part for the high voltage electrode is made of a material such as ceramic that is resistant to plasma and ultraviolet rays, as shown in FIG.
第９図の例では大面積のセラミック絶縁板（１７）が必
要であるばかりか、このセラミック絶縁板（１７）は第
１０図のセラミックの絶縁管（１８）を含めてＭ。In the example of FIG. 9, not only is a large-area ceramic insulating plate (17) required, but this ceramic insulating plate (17) also includes the ceramic insulating tube (18) of FIG. 10.
〜Ｍｒｌメタライズ処理とろう付けで完全な気密性をも
たせることは価格的にも技術的にも極めて困難であった
。また、第８図、第１０図の例ではコンデンサ（７）の
外部被覆がテフロンコートであるため、上述したような
好ましくない化学反応をおこしてしまうという問題があ
った。~Mrl It was extremely difficult to achieve complete airtightness through metallization and brazing, both in terms of cost and technology. Furthermore, in the examples shown in FIGS. 8 and 10, since the outer coating of the capacitor (7) is a Teflon coat, there is a problem in that the above-mentioned undesirable chemical reaction occurs.
本発明の目的は、レーザチェンバー内で発生する紫外線
や放電プラズマと絶縁物との反応不純物を可及的に少な
くし、レーザガス寿命の長い、より安定したレーザを発
振せしめる装置を得ることにある。An object of the present invention is to provide a device that can oscillate a more stable laser with a longer laser gas life by minimizing the amount of ultraviolet rays generated in a laser chamber, impurities generated by the reaction between discharge plasma, and an insulator.
「課題を解決するための手段」
本発明は、希ガスとハロゲンガスを充填したレーザチェ
ンバー内で、このレーザチェンバー内のコンデンサに充
電された電荷を予備電離し、ついで主電極間で放電して
レーザ発振をするようにしたガスレーザ装置において、
前記コンデンサは、無機物の絶縁材のコンデンサボック
スを一端のフランジにて密閉した内部に、絶縁物ととも
に収納し、両端より前記電極との接続部を突設してなる
ものである。「作用」
紫外線予備電離用コンデンサを、無機物の絶縁材のでき
るだけ小さなコンデンサボックスとフランジにて密閉し
たことにより、気密性、Ｍｏ−Ｍｎメタライズ処理、ろ
う付けが極めて容易となり、また、レーザチェンバー内
の不純物ガスも少なくなり、レーザガス寿命が大きく、
かつ安定したレーザ発振となる。"Means for Solving the Problems" The present invention preliminarily ionizes the electric charge charged in a capacitor in the laser chamber in a laser chamber filled with rare gas and halogen gas, and then discharges it between main electrodes. In a gas laser device that emits laser oscillation,
The capacitor is constructed by housing a capacitor box made of an inorganic insulating material in an interior sealed with a flange at one end, together with an insulating material, and having connecting portions with the electrodes protruding from both ends. "Function" By sealing the ultraviolet pre-ionization capacitor with the smallest possible capacitor box and flange made of inorganic insulating material, airtightness, Mo-Mn metallization treatment, and brazing are extremely easy, and the inside of the laser chamber is Impurity gas is also reduced, and the laser gas life is longer.
And stable laser oscillation is achieved.
「実施例」 以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。"Example" Embodiments of the present invention will be described below based on the drawings.
第１図および第２図において、（２０）はアルミニウム
、ステンレススチールなどからなるレーザチェンバーで
、このレーザチェンバー内には棒状の１対の主電極（２
１） （２２）が所定の間隙をもってかつ長さ方向が両
側のレーザ透過窓（２３） （２４）に向けて設けられ
、また、この主電極（２１）（２２）の両側には数１０
対の予備電離電極（２５） （２６）、（２７） （２
ｇ）が配置されている。これらの主電極（２１）（２２
）と、予備電離電極（２５） （２６）、（２７） （
２８）には第７図と同様の第１、第２のコンデンサ（４
）、（７）（７）が結合されるが、本発明ではこれらの
コンデンサ（４）、（７）（７）は９０％以上のＡＱ２
０３を含むアルミナセラミックスからなるコンデンサボ
ックス（２９）、（３０） （３０）で個々に独立して
包囲されている。さらに詳しくは、これらのうちコンデ
ンサボックス（２９）は、下部を開口し、上部を閉鎖し
た円筒状をなし、レーザチェンバー（２０）の底板（３
１）の貫通孔に臨ませて設けられ、主電極（２２）の下
部まで延び、コバール金属の導電体（３２）の一端が貫
通してチェンバ（２０）の内部で主電極（２２）に結合
され、他端がコンデンサ（４）の一方の電極（３３）に
連結され、このコンデンサ（４）の他方の電極（３４）
には、リード線（３５）が結合されている。また、この
コンデンサボックス（２９）の開口端側は、コバール金
属のリング（３６）を介してＴＩＧ溶接などによりレー
ザチェンバー（２０）に気密に結合されている。In Figures 1 and 2, (20) is a laser chamber made of aluminum, stainless steel, etc. Inside this laser chamber is a pair of rod-shaped main electrodes (20).
1) The main electrodes (22) are provided with a predetermined gap and their lengths are directed toward the laser transmission windows (23) and (24) on both sides.
Pair of pre-ionization electrodes (25) (26), (27) (2
g) is located. These main electrodes (21) (22
) and pre-ionization electrodes (25) (26), (27) (
28) have the same first and second capacitors (4) as shown in Fig. 7.
), (7) (7), but in the present invention, these capacitors (4), (7) (7) have an AQ2 of 90% or more.
They are individually and independently surrounded by capacitor boxes (29), (30) (30) made of alumina ceramics containing 0.03. More specifically, among these, the capacitor box (29) has a cylindrical shape with an open bottom and a closed top, and the bottom plate (3) of the laser chamber (20).
It is provided facing the through hole of 1), extends to the bottom of the main electrode (22), one end of the Kovar metal conductor (32) passes through it, and is connected to the main electrode (22) inside the chamber (20). The other end is connected to one electrode (33) of the capacitor (4), and the other end is connected to the other electrode (34) of the capacitor (4).
A lead wire (35) is connected to the. The open end side of the capacitor box (29) is hermetically coupled to the laser chamber (20) by TIG welding or the like via a Kovar metal ring (36).
前記他方のコンデンサボックス（３０）は一端が閉鎖さ
れ、他端が開口された円筒状をなし、閉鎖側にはコバー
ル金属の電極取付は部材（３７）が貫通接合されている
。この電極取付は部材（３７）の両端にはねじ（３８）
（３９）が形成され、一方のねじ（３８）には予備電
離電極（２５） （２ｇ）側がナツト（４０）で電気的
に結合され、他方のねじ（３９）はコンデンサ（７）の
−方の電極（４１）に結合されている。このコンデンサ
ボックス（７）の開口側には、コバール金属のフランジ
（４２）で開口端のコバール金属のリング（４３）と気
密に接合されている。このフランジ（４２）の内部の突
起部（４４）はコンデンサ（７）の他方の電極（４５）
に結合されている。さらにこのフランジ（４２）には絶
縁油などの注入口（４６）が形成され、絶縁油その他の
絶縁物（４７）の注入後、キャップ（４８）で封鎖され
る。このフランジ（４２）は主電極（２１）とともに、
コバール金属などの導電性支持板（４９）にて支持され
ている。（５０）はガス循環用ファン、（Ｓｔ）は熱交
換器である。The other capacitor box (30) has a cylindrical shape with one end closed and the other end open, and a Kovar metal electrode mounting member (37) is penetrated and joined to the closed side. To attach this electrode, there are screws (38) on both ends of the member (37).
(39) is formed, one screw (38) is electrically connected to the preionization electrode (25) (2g) side with a nut (40), and the other screw (39) is connected to the - side of the capacitor (7). is coupled to the electrode (41). The opening side of the capacitor box (7) is airtightly joined to a Kovar metal ring (43) at the open end by a Kovar metal flange (42). The protrusion (44) inside this flange (42) is connected to the other electrode (45) of the capacitor (7).
is combined with Furthermore, an inlet (46) for insulating oil or the like is formed in this flange (42), and after injecting insulating oil or other insulator (47), it is sealed with a cap (48). This flange (42) together with the main electrode (21)
It is supported by a conductive support plate (49) made of Kovar metal or the like. (50) is a gas circulation fan, and (St) is a heat exchanger.
前記アルミナセラミックスのコンデンサボックス（２９
） （３０）と、コバール金属の導電体（３２）、リン
グ（４３）および電極取付は部材（３７）との接合部は
、Ｍｏ−Ｍｎメタライズ処理後に、Ａｕ−Ｎｉろう付け
またはＡｇ−Ｃｕろう付けされて気密が保持される。The alumina ceramic capacitor box (29)
) (30) and the Kovar metal conductor (32), ring (43), and electrode mounting member (37) are bonded using Au-Ni brazing or Ag-Cu brazing after Mo-Mn metallization treatment. It is attached to maintain airtightness.
また、コバール金属のリング（３６） （４３）とレー
ザチェンバー（２０）との接合部は、ＴＩＧ溶接などに
より気密が保持される。Further, the joint between the Kovar metal rings (36) (43) and the laser chamber (20) is kept airtight by TIG welding or the like.
以上のような構成とすることにより、コンデンサ（７）
（７）をレーザチェンバー（２０）内に収納して主電
極（２１） （２２）と予備電離電極（２５） （２６
）、（２７） （２８）に可及的に近づけて配置される
。With the above configuration, the capacitor (7)
(7) is housed in the laser chamber (20), and the main electrodes (21) (22) and pre-ionization electrodes (25) (26) are stored in the laser chamber (20).
), (27) and (28) are placed as close as possible.
つぎに、第３図は本発明の第２実施例を示すもので、こ
の例ではコンデンサボックス（３０） （３０）を、レ
ーザチェンバー（２０）の側壁孔に臨ませて取付け、フ
ランジ（４２）をレーザチェンバー（２０）に直接、ね
じ（５２）で取付けたものである。この場合、フランジ
（４２）は、レーザチェンバー（２０）の内部に収納さ
れずに、外部に面しているので、銅板などを用いること
ができる。また、内部に充填された絶縁物（４７）の漏
れ防止のため、レーザチェンバー（２０）とフランジ（
４２）との接合部にはＯリング（５３）を介在すること
が望ましい。Next, FIG. 3 shows a second embodiment of the present invention. In this example, the capacitor box (30) (30) is mounted facing the side wall hole of the laser chamber (20), and the flange (42) is attached directly to the laser chamber (20) with screws (52). In this case, the flange (42) is not housed inside the laser chamber (20) but faces the outside, so a copper plate or the like can be used. In addition, to prevent leakage of the insulator (47) filled inside, the laser chamber (20) and flange (
It is desirable to interpose an O-ring (53) at the joint with 42).
第４図は本発明の第３実施例を示すもので、この例では
、レーザチェンバー（２０）の内部に、絶縁管（５６）
を収納して２重管となし、この絶縁管（５６）に、コン
デンサボックス（３０） （３０）を取付けたものであ
る。ただし、この絶縁管（５６）の内部には、レーザチ
ェンバー（２０）のガスが侵入しないように密閉するか
、外部に連通させる。FIG. 4 shows a third embodiment of the present invention, in which an insulating tube (56) is provided inside the laser chamber (20).
is housed to form a double tube, and condenser boxes (30) (30) are attached to this insulating tube (56). However, the inside of this insulating tube (56) is sealed to prevent the gas from the laser chamber (20) from entering, or it is communicated with the outside.
前記実施例において、コンデンサボックス（２９）（３
０） （３０）の両端の沿面距離を、碍子のように大き
くするため第５図に示すように、外周部に凹凸部（５４
）を形成したり、第６図に示すように外側端角部に凸部
（５５）を形成するようにしてもよい。In the above embodiment, the capacitor box (29) (3
0) In order to increase the creepage distance at both ends of (30) like an insulator, an uneven part (54
), or a convex portion (55) may be formed at the outer end corner as shown in FIG.
前記実施例における予備電離方式は、紫外線予備の他コ
ロナ予備、Ｘ線予備その他の方式があり、これらの例に
限られるものではない。The preliminary ionization methods used in the above embodiments include ultraviolet preliminary, corona preliminary, X-ray preliminary, and other methods, and are not limited to these examples.
「発明の効果」
本発明は上述のように構成したので、以下のような効果
を有する。"Effects of the Invention" Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.
（１）コンデンサボックスをレーザチェンバー内に収納
しても、コンデンサボックスが無機物の絶縁材からなる
ので、強い腐蝕性ガスにて反応を起こしたり、分解した
りすることがなく、不純物の発生が極めて少なくなる。(1) Even if the capacitor box is housed in the laser chamber, since the capacitor box is made of inorganic insulating material, it will not react or decompose with strong corrosive gases, and the generation of impurities will be extremely It becomes less.
（２）不純物が少なくなり、また、レーザ発振時の紫外
線や放電プラズマと絶縁物との反応不純物が極めて少な
くなることにより、レーザガス寿命が非常に長くなる。(2) Since the amount of impurities is reduced and the amount of impurities that react with the insulator and ultraviolet rays during laser oscillation is extremely reduced, the life of the laser gas becomes extremely long.
（３）コンデンサは絶縁物を充填したコンデンサボック
スに収納され、フランジで密閉したので、コンデンサの
外部被覆はより確実に、腐蝕性ガスから隔離される６
（４）コンデンサ毎に、無機物の絶縁材からなる／Ｊ％
さなコンデンサボックスで包囲し、コバール金属などか
らなるフランジで接合するようにしたので、Ｍ、−Ｍ、
、メタライズ処理やろう付けが極めて容易である。(3) Since the capacitor is housed in a capacitor box filled with insulating material and sealed with a flange, the outer coating of the capacitor is more reliably isolated from corrosive gases.6 (4) Each capacitor is covered with inorganic insulating material. Consists of /J%
I surrounded it with a small capacitor box and connected it with flanges made of Kovar metal, etc., so that M, -M,
, metallization treatment and brazing are extremely easy.
第１図は本発明によるガスレーザ装置の第１実施例を示
す縦断正面図、第２図は同上縦断側面図、第３図は本発
明による第２実施例の縦断正面図、第４図は本発明によ
る第３実施例の縦断正面図、第５図および第６図はそれ
ぞれ本発明によるコンデンサボックスの異なる例の断面
図、第７図は一般的なガスレーザ装置の電気回路図、第
８図、第９図および第１０図は従来の装置の説明図であ
る。
（４）（７）・・・コンデンサ、（２０）・・・レーザ
チェンバー、（２１）（２２）・・・主電極、（２２）
（２４）・・・レーザ透過窓、（２５） （２６）
（２７） （２ｇ）・・・予備電離電極、（２９） （
３０）・・・コンデンサボックス、（４２）・・・フラ
ンジ、（４７）・・・絶縁物、（４９）・・・導電性支
持板、（５０）・・・ガス循環ファン、（５同 弁
理士 加 納 −弊−ニー；第４図
第 ２ 図
第 ３ 因
第 ８ 図
第 ９ 図
第 １０ 図FIG. 1 is a longitudinal sectional front view showing a first embodiment of a gas laser device according to the present invention, FIG. 2 is a longitudinal sectional side view of the same, FIG. 3 is a longitudinal sectional front view of a second embodiment of the invention, and FIG. 5 and 6 are respectively sectional views of different examples of the capacitor box according to the invention, FIG. 7 is an electric circuit diagram of a general gas laser device, and FIG. FIG. 9 and FIG. 10 are explanatory diagrams of a conventional device. (4)(7)...Capacitor, (20)...Laser chamber, (21)(22)...Main electrode, (22)
(24)...Laser transmission window, (25) (26)
(27) (2g)...preliminary ionization electrode, (29) (
30) Capacitor box, (42) Flange, (47) Insulator, (49) Conductive support plate, (50) Gas circulation fan, (5 Patent attorney) Figure 4 Figure 2 Figure 3 Figure 8 Figure 9 Figure 10
Claims (4)
ー内で、このレーザチェンバー内のコンデンサに充電さ
れた電荷を予備電離し、ついで主電極間で放電してレー
ザ発振をするようにしたガスレーザ装置において、前記
コンデンサは、無機物の絶縁材のコンデンサボックスを
一端のフランジにて密閉した内部に、絶縁物とともに収
納し、両端より前記電極との接続部を突設してなること
を特徴とするガスレーザ装置。(1) In a gas laser device in which the charges charged in a capacitor in the laser chamber are pre-ionized in a laser chamber filled with rare gas and halogen gas, and then discharged between main electrodes to generate laser oscillation. , wherein the capacitor is housed together with an insulator in a capacitor box made of an inorganic insulating material sealed with a flange at one end, and a connection portion with the electrode is provided protruding from both ends. .
に収納してなる請求項（１）記載のガスレーザ装置。(2) The gas laser device according to claim (1), wherein the condenser box is entirely housed within a laser chamber.
ンバー内の側壁孔に臨ませて設け、フランジをレーザチ
ェンバーの側壁に取付けてなる請求項（１）記載のガス
レーザ装置。(3) The gas laser device according to claim 1, wherein the capacitor box is provided with an insulating material portion facing a side wall hole in the laser chamber, and a flange attached to the side wall of the laser chamber.
電極との接続部間の沿面距離を大きくするための凹凸を
形成してなる請求項（１）記載のガスレーザ装置。(4) The gas laser device according to claim (1), wherein the outer periphery of the insulating material of the capacitor box is provided with irregularities for increasing the creepage distance between the connecting portions with the electrodes at both ends.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33664790A JPH04206787A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Gas laser equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33664790A JPH04206787A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Gas laser equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04206787A true JPH04206787A (en) | 1992-07-28 |
Family
ID=18301330
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33664790A Pending JPH04206787A (en) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | Gas laser equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04206787A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0677566A (en) * | 1992-08-27 | 1994-03-18 | Hamamatsu Photonics Kk | Discharge excited gas laser |
| JPH07111349A (en) * | 1993-10-14 | 1995-04-25 | Hamamatsu Photonics Kk | Gas laser device |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP33664790A patent/JPH04206787A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0677566A (en) * | 1992-08-27 | 1994-03-18 | Hamamatsu Photonics Kk | Discharge excited gas laser |
| JPH07111349A (en) * | 1993-10-14 | 1995-04-25 | Hamamatsu Photonics Kk | Gas laser device |
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