JPH04205887A - Semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Semiconductor integrated circuit device

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JPH04205887A
JPH04205887A JP2329393A JP32939390A JPH04205887A JP H04205887 A JPH04205887 A JP H04205887A JP 2329393 A JP2329393 A JP 2329393A JP 32939390 A JP32939390 A JP 32939390A JP H04205887 A JPH04205887 A JP H04205887A
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JP
Japan
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voltage
power supply
circuit
internal
supply voltage
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Pending
Application number
JP2329393A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasunori Yamaguchi
山口 泰紀
Kazuyoshi Oshima
大嶋 一義
Hiroaki Kotani
博昭 小谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the deterioration of the characteristic of an element resulted from a decline in the breakdown voltage caused by the miniaturization of the element by giving two different currents and voltages for an input-output circuit and internal circuit from the outside and converting the supply voltage for internal circuit into a voltage of a level suitable for each circuit by means of an internal regulator. CONSTITUTION:A power supply terminal 1a across which the first power supply voltage Vcc1 of 5V is applied and another power supply terminal 1b across which the second power supply voltage Vcc2 of 3.3V is applied are provided. On the other hand, the second voltage Vcc2 is supplied to the peripheral circuit 3 of a memory array 5 and directly drives the circuit 3. At the same time, the voltage Vcc2 is also supplied to a voltage conversion circuit 4, such as switching regulator, etc., and the circuit 4 supplies a voltage Vcc' suitable for driving the memory array 5 to the memory array 5 after converting the voltage Vcc2 into the voltage Vcc'. Therefore, the deterioration of the breakdown voltage of an element caused by the miniaturization of the element can be prevented without lowering the noise margin which invites an increase in power consumption of the LSI.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は半導体集積回路技術さらにはICの電源供給方
式に適用して特に有効な技術に関し、例えばTTLコン
パチブルのMO8型メモリにおける電源供給方式に利用
して有効な技術に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor integrated circuit technology and a technology that is particularly effective when applied to an IC power supply system, such as a power supply system in a TTL compatible MO8 type memory. Concerning techniques that can be used effectively.

[従来の技術] 近年、LSIの微細化が進むにつれて、MO6LSIに
おいては、電源電圧が5v一定のままでは短チヤネル効
果やホットエレクトロンの発生、耐圧の低下等、素子特
性上程々の問題が生じる。
[Prior Art] In recent years, as the miniaturization of LSIs has progressed, in MO6LSIs, if the power supply voltage remains constant at 5V, there will be some problems in device characteristics such as short channel effects, generation of hot electrons, and reduction in breakdown voltage.

そこで、第4図に示すように、LSI内部に降圧回路4
′ を設け、外部から供給された+5vのような電源電
圧Vccで人出力バッファ2を駆動するとともに、上記
降圧回路4′で降圧した3゜3vのような電圧でメモリ
アレイ部5やデコーダ等の周辺回路3を駆動するように
したLSIメモリが提案されている(特願平1−658
40号)。
Therefore, as shown in FIG. 4, a step-down circuit 4 is installed inside the LSI.
', the human output buffer 2 is driven with a power supply voltage Vcc such as +5V supplied from the outside, and the memory array section 5, decoder, etc. An LSI memory adapted to drive the peripheral circuit 3 has been proposed (Patent Application No. 1-658).
No. 40).

[発明が解決しようとする課題] 上記先願発明においては、素子の耐圧に合わせた電圧で
各回路を駆動できるという利点がある。
[Problems to be Solved by the Invention] The invention of the prior application has the advantage that each circuit can be driven with a voltage that matches the breakdown voltage of the element.

しかしなから、内部回路の電圧に比べて高い電圧で駆動
されるとともに、大きな負荷駆動力を持つように構成さ
れた出力回路には比較的大きな電流が流れる。そのため
、外部から1つの電源電圧を与えて、入出力回路はその
電源電圧で直接駆動して、内部回路は内部降圧回路で降
圧した電圧で駆動するようにされていると、出力回路で
発生した電源ノイズが内部回路に伝わって誤動作させた
りノイズマージンを低下させるおそれがある。また、+
5Vのような外部電源電圧に基づいて3■のようなレベ
ル差の大きな電圧に変換するため、降圧回路の消費電力
が太きいという問題点がある。
However, a relatively large current flows through the output circuit, which is driven at a voltage higher than the voltage of the internal circuit and is configured to have a large load driving force. Therefore, if one power supply voltage is applied from the outside, the input/output circuits are driven directly by that power supply voltage, and the internal circuits are driven by the voltage stepped down by the internal step-down circuit, the problem occurs in the output circuit. Power supply noise may be transmitted to internal circuits, causing malfunctions or reducing noise margins. Also, +
Since an external power supply voltage such as 5V is converted into a voltage with a large level difference such as 3V, there is a problem in that the power consumption of the step-down circuit is large.

さらに、出力が他のLSIの出力とワイヤードオアされ
、出力信号線にプルダウン抵抗が接続されたような場合
には、電源電圧Vccから出力バッファを通して外部へ
電流がたれ流しになることが予想される。そのため、従
来のように電源電圧が共通であると、そのような事態が
生じた場合を考慮して降圧回路や内部回路あるいは当該
LSIが搭載されるボードの設計を行なわなくてはなら
ないので、設計か面倒になるという問題点かある。
Furthermore, if the output is wire-ORed with the output of another LSI and a pull-down resistor is connected to the output signal line, it is expected that current will flow from the power supply voltage Vcc to the outside through the output buffer. Therefore, if the power supply voltage is common as in the past, the step-down circuit, internal circuit, or board on which the LSI is mounted must be designed in consideration of such a situation. There is a problem that it becomes troublesome.

しかも、出力回路の電源電圧は、出力がTTLレベルの
インタフェース条件であるハイレベルの2゜4V(mi
n)を満足できれば、多少レベルにむらがあってもよい
が、降圧回路に供給される電源電圧はできるたけ安定か
つ正確なレベルであることが要求される。そのため、従
来のように、出力回路と降圧回路の電源電圧が共通であ
ると、降圧回路に合わせて出力回路の電源電圧も正確な
レベルでかつ大きな電流が流れても安定であるように電
源回路を設計してやらなければならない。
Moreover, the power supply voltage of the output circuit is at a high level of 2°4V (mi
As long as n) is satisfied, the power supply voltage supplied to the step-down circuit is required to be as stable and accurate as possible, although there may be some unevenness in the level. Therefore, if the power supply voltage of the output circuit and the step-down circuit is common as in the past, the power supply voltage of the output circuit must be at an accurate level and stable even when a large current flows in accordance with the step-down circuit. must be designed.

本発明の目的は、消費電力を増加させたりノイズマージ
ンを低下させることなく、微細化に伴う素子の耐圧劣化
を防止でき、しかもボード設計の容易にできるような半
導体集積回路技術を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit technology that can prevent deterioration of breakdown voltage of elements due to miniaturization without increasing power consumption or reducing noise margin, and also allows easy board design. be.

本発明の他の目的は停電発生時のバックアップの容易な
半導体メモリを提供することにある。
Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory that can be easily backed up in the event of a power outage.

この発明の前記ならびにそのほかの目的と新規な特徴に
ついては、本明細書の記述および添附図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

[課題を解決するための手段] プロセス技術の進歩に伴う素子の微細化によって、今後
素子の耐圧はますます低下してくると予想され、半導体
メモリチップに供給される外部電源電位も下げなければ
ならなくなる。一方、現状の半導体メモリはTTLコン
パチブルとなっており、同一メモリボード上にあるメモ
リコントロール用のデバイスもTTLインタフェースの
ものが続くと予想される。
[Means to solve the problem] It is expected that the withstand voltage of elements will further decrease in the future due to the miniaturization of elements due to advances in process technology, and it is necessary to lower the external power supply potential supplied to semiconductor memory chips. It will stop happening. On the other hand, current semiconductor memories are TTL compatible, and it is expected that memory control devices on the same memory board will continue to have TTL interfaces.

本発明は上記のような状況を考慮してなされたものであ
る。
The present invention has been made in consideration of the above situation.

本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、下記のとおりである。
A summary of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、外部から入出力回路用と内部回路用の異なる
2つの電源電圧(例えば、5Vと3.3V)を与え、内
部回路用電源電圧は更に内部のし、      ギュレ
ータで各回路に適したレベルの電圧に変換して供給させ
る。これとともに、入出力回路を構成するMOS F 
ETは内部回路を構成するMOSFETよりもゲート絶
縁膜を厚く形成しておくようにしたものである。
In other words, two different power supply voltages (for example, 5V and 3.3V) are applied from the outside for the input/output circuit and the internal circuit, and the power supply voltage for the internal circuit is further supplied internally, and a regulator is used to adjust the level suitable for each circuit. Convert it to voltage and supply it. Along with this, MOS F that constitutes the input/output circuit
The ET has a gate insulating film formed thicker than that of the MOSFET that constitutes the internal circuit.

また、上記の場合、好ましくは内部レギュレータには発
生電圧を微調整できるようにするための調整手段を設け
ておき、例えばウェーハのプローブ検査時に、発生する
内部電圧をプロセスバラツキに伴う素子特性の変動に応
じて調整する。
In the above case, it is preferable that the internal regulator is provided with an adjustment means for finely adjusting the generated voltage. Adjust accordingly.

[作用] 上記した手段によれば、入出力回路を構成するMOS 
F ETは耐圧が高いため、5Vのような高い電源電圧
を印加しても素子特性の劣化がなく、TTLレベルのイ
ンタフェース条件である2)4■(min)を保証でき
るとともに、内部回路は3゜3■のような低い電源電圧
で駆動できるため素子の微細化に伴って耐圧が低下して
も素子特性の劣化を防止できる。
[Operation] According to the above-described means, the MOS forming the input/output circuit
Since FET has a high withstand voltage, there is no deterioration in element characteristics even when a high power supply voltage such as 5V is applied, and the TTL level interface condition of 2)4 (min) can be guaranteed, and the internal circuit is Since it can be driven with a power supply voltage as low as 0.3 mm, it is possible to prevent deterioration of device characteristics even if the withstand voltage decreases as the device becomes smaller.

しかも上記した手段によれば、入出力回路用の電源電圧
と内部回路用の電源電圧を別々に供給しているため、内
部のレギュレータは低い電圧から所望の電圧を発生すれ
ばよいため消費電力が少なくて済むとともに、入出力回
路で発生した電源変動が内部回路に伝わってノイズマー
ジンを低下させるおそれがない。
Moreover, according to the above-mentioned means, since the power supply voltage for the input/output circuit and the power supply voltage for the internal circuit are supplied separately, the internal regulator only needs to generate the desired voltage from a low voltage, reducing power consumption. In addition, there is no risk that power supply fluctuations generated in the input/output circuit will be transmitted to the internal circuit and reduce the noise margin.

さらに、外部から供給する電源電圧は内部回路用さえ正
確かつ安定であればよいとともに、入出力回路部での電
流の大きさや変動は内部回路に影響しないので設計が容
易となる。
Furthermore, the power supply voltage supplied from the outside only needs to be accurate and stable even for the internal circuit, and the magnitude and fluctuation of the current in the input/output circuit section do not affect the internal circuit, making the design easier.

また、半導体メモリに適用した場合には、電源電圧が2
つあれば停電時に電位の低い内部回路用電源電圧のみ供
給してやればよいので、バックアップが容易で消費電力
も少なくなる。
In addition, when applied to semiconductor memory, the power supply voltage is 2
If there is one, only the low-potential power supply voltage for internal circuits needs to be supplied during a power outage, making backup easier and reducing power consumption.

[実施例] 第1図には本発明を半導体メモリに適用した場合の一実
施例が示されている。
[Embodiment] FIG. 1 shows an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor memory.

同図において、−点鎖線Aで囲まれた各回路ブロックは
単結晶シリコンのような一個の半導体基板上に形成され
る。
In the figure, each circuit block surrounded by a dashed line A is formed on a single semiconductor substrate such as single crystal silicon.

この実施例のメモリにおいては、外部から5Vのような
第1の電源電圧Vcclが印加される電源端子1aと、
この第1の電源電圧Vcclよりも低い3.3vのよう
な第2の電源電圧〜’cc2が印加される電源端子1b
とが設けられている。
In the memory of this embodiment, a power supply terminal 1a to which a first power supply voltage Vccl such as 5V is applied from the outside;
A power supply terminal 1b to which a second power supply voltage ~'cc2 such as 3.3V lower than this first power supply voltage Vccl is applied.
and is provided.

このうち、上記第1の電源電圧〜“cclは人出カバッ
ファ回路2に供給され、TTLレベルの信号を入出力で
きるようにされている。これによって、TTLインタフ
ェースか保証される。
Of these, the first power supply voltage ˜ccl is supplied to the traffic buffer circuit 2 so that TTL level signals can be input and output.This ensures a TTL interface.

一方、第2の電源電圧Vcc2は、デコータやセンスア
ンプ等のメモリアレイ周辺回路3に供給され、これらを
直接駆動するとともに、スイッチングレギュレータのよ
うな電圧変換回路4に供給され、メモリアレイの駆動に
適した3)OVのような電圧Vcc’ に変換されてメ
モリアレイ5に印加されるようにされている。
On the other hand, the second power supply voltage Vcc2 is supplied to the memory array peripheral circuits 3 such as decoders and sense amplifiers to directly drive them, and is also supplied to the voltage conversion circuit 4 such as a switching regulator to drive the memory array. 3) It is converted into a suitable voltage Vcc' such as OV and applied to the memory array 5.

第2図には本発明を適用した半導体メモリの第2の実施
例が示されている。
FIG. 2 shows a second embodiment of a semiconductor memory to which the present invention is applied.

この実施例は、第1の実施例と同様に、外部から電位の
異なる2つの電源電圧VcclとVcc2が印加される
電源端子1a、lbか設けられ、5v系の電源電圧Vc
clによって人出力バツファ回路2が駆動されるように
構成されている。異なる点は、電圧変換回路4が、第2
の電源電圧■cc2に基づいて例えば3.Ovと3.6
Vのような2つの電圧Vcc’ 、Vcc”を発生でき
るようにされており、周辺回路3とメモリアレイ5とが
各々最適の電源電圧で駆動されるようになっていること
である。
Similar to the first embodiment, this embodiment is provided with power supply terminals 1a and lb to which two power supply voltages Vccl and Vcc2 having different potentials are applied from the outside, and a 5V system power supply voltage Vc
The human output buffer circuit 2 is configured to be driven by cl. The difference is that the voltage conversion circuit 4
For example, 3. based on the power supply voltage ■cc2. Ov and 3.6
It is possible to generate two voltages Vcc' and Vcc'' such as V, so that the peripheral circuit 3 and the memory array 5 are each driven with an optimum power supply voltage.

第1図および第2図のいずれの実施例においても、電源
変換回路4は発生する電圧のレベルの調整手段を備えて
いる。
In both the embodiments shown in FIG. 1 and FIG. 2, the power conversion circuit 4 includes means for adjusting the level of the generated voltage.

第3図には、上記電圧変換回路4の一構成例が示されて
いる。
FIG. 3 shows an example of the configuration of the voltage conversion circuit 4. As shown in FIG.

この実施例の電圧変換回路4は反転入力端子に1.1v
のような参照電圧Vrefが印加された差動増幅器41
と、電源電圧Vcc2と接地点との間に直列接続された
MOSFET  Ql〜Q4からなる分圧手段42と、
この分圧手段42の第1と第2のMOSFET  Ql
、Q2の接続ノード貼と第3)第4(7)MOSFET
  Q3.Q4の接続ノードn2との間にMOSFET
  Q21゜Q22とフユーズF1およびMOSFET
  Q23が直列接続されてなる第1の電圧調整手段4
3aと、上記接続ノードn2と接地点との間にMOSF
ET  Q24、フユーズF2およびMOSFET  
Q25が直列接続されてなる第2の電圧調整手段43b
とによって構成され、上記ノードn2の電位が差動増幅
器41の非反転入力端子に印加されることによって、3
.OVのような基準電圧VLを発生する。そして、この
基準電圧VLが差動増幅器44の反転入力端子に印加さ
れ、その後段のバッファアンプ45によって内部電源電
圧Vcc’ が発生されるようになっている。
The voltage conversion circuit 4 of this embodiment has a voltage of 1.1V at the inverting input terminal.
A differential amplifier 41 to which a reference voltage Vref such as
and a voltage dividing means 42 consisting of MOSFETs Ql to Q4 connected in series between the power supply voltage Vcc2 and the ground point;
The first and second MOSFETs Ql of this voltage dividing means 42
, Q2 connection node pasting and 3rd) 4th (7) MOSFET
Q3. A MOSFET is connected between Q4 and connection node n2.
Q21゜Q22 and fuse F1 and MOSFET
The first voltage regulating means 4 is formed by connecting Q23 in series.
3a, and a MOSF between the connection node n2 and the ground point.
ET Q24, fuse F2 and MOSFET
A second voltage regulating means 43b formed by connecting Q25 in series.
By applying the potential of the node n2 to the non-inverting input terminal of the differential amplifier 41, 3
.. A reference voltage VL such as OV is generated. This reference voltage VL is applied to the inverting input terminal of the differential amplifier 44, and the internal power supply voltage Vcc' is generated by the buffer amplifier 45 at the subsequent stage.

上記電圧変換回路4は、電圧調整手段43a。The voltage conversion circuit 4 includes voltage adjustment means 43a.

43bを構成するMOSFET  Q23とQ24のゲ
ート端子が各々プルアップ抵抗R1,R2を介して電源
電圧端子Vcc2に接続されているとともに、パッドP
L、P2に接続されている。このパッドPL、P2はプ
ローブ検査時に接地電位を印加してMOSFET  Q
23またはQ24をオフさせて基準電位VLを変化させ
ることで最適な内部電源電圧Vcc’ を得るために設
けられている。プローブ検査で内部電源電圧V c c
 ’  を高めに設定したいと判断したときはレーザを
用いてフユーズFlを切断する。一方、内部電源電圧■
cc’  を低めに設定したいと判断したときはフユー
ズF2を切断してやればよい。
The gate terminals of MOSFETs Q23 and Q24 constituting MOSFET 43b are connected to the power supply voltage terminal Vcc2 via pull-up resistors R1 and R2, respectively, and the pad P
L, connected to P2. These pads PL and P2 are connected to the MOSFET Q by applying a ground potential during probe testing.
This is provided to obtain the optimum internal power supply voltage Vcc' by turning off Q23 or Q24 and changing the reference potential VL. Internal power supply voltage V c c during probe inspection
' If it is determined that it is desired to set the value higher, the fuse Fl is cut using a laser. On the other hand, the internal power supply voltage
If you decide that you want to set cc' lower, just disconnect fuse F2.

以上説明したように上記実施例は、外部から入出力回路
用と内部回路用の異なる2つの電源電圧を与え、内部回
路用電源電圧は更に内部のレギュレータで各回路に適し
たレベルの電圧に変換して供給させるとともに、入出力
回路を構成するMOSFETは内部回路を構成するMO
S F ETよりもゲート絶縁膜を厚く形成しておくよ
うにしたので、入出力回路に5■のような高い電源電圧
が供給されても素子特性の劣化がなく、TTLレベルの
インタフェース条件である2 、 4 V (min)
を保証できるとともに、内部回路は3.3vのような低
い電源電圧で駆動できるため素子の微細化に伴って耐圧
が低下しても素子特性の劣化を防止できるという効果が
ある。
As explained above, in the above embodiment, two different power supply voltages are applied from the outside, one for the input/output circuit and the other for the internal circuit, and the power supply voltage for the internal circuit is further converted by an internal regulator into a voltage at a level suitable for each circuit. In addition, the MOSFETs that make up the input/output circuit are supplied with MOSFETs that make up the internal circuit.
Since the gate insulating film is made thicker than that of the SFET, there is no deterioration of the device characteristics even when a high power supply voltage of 5 µ is supplied to the input/output circuit, which meets the TTL level interface conditions. 2, 4 V (min)
In addition, since the internal circuit can be driven with a low power supply voltage such as 3.3V, it is possible to prevent deterioration of device characteristics even if the withstand voltage decreases as the device becomes smaller.

また、入出力回路用電源電圧と内部回路用の電源電圧を
別々に供給しているため、内部のレギュレータは低い電
圧から所望の電圧を発生すればよいため消費電力が少な
くてすむとともに、入出力回路で発生した電源変動が内
部回路に伝わってノイズマージンを低下させるおそれが
ない。
In addition, since the power supply voltage for the input/output circuits and the power supply voltage for the internal circuits are supplied separately, the internal regulator only needs to generate the desired voltage from a low voltage, reducing power consumption. There is no risk that power fluctuations generated in the circuit will be transmitted to the internal circuit and reduce the noise margin.

さらに、外部から供給する電源電圧は、内部回路用さえ
正確かつ安定であればよいとともに、入出力回路部での
電流の大きさや変動は内部回路に影響しないので設計が
容易となる。
Further, the power supply voltage supplied from the outside only needs to be accurate and stable even for the internal circuit, and the design is facilitated because the magnitude and fluctuation of the current in the input/output circuit section do not affect the internal circuit.

また、半導体メモリに適用した場合には電源電圧が2つ
あれば停電時に電位の低い内部回路用電源電圧のみ供給
してやればよいのでバックアップが容易で消費電力も少
なくなる。
Furthermore, when applied to a semiconductor memory, if there are two power supply voltages, only the low potential power supply voltage for internal circuits needs to be supplied in the event of a power outage, making backup easy and reducing power consumption.

さらに、内部のスイッチングレギュレータのような電圧
変換手段に電圧の微調整手段を設けておくと、プローブ
検査時に回路の動作マージンが大きくなるようなレベル
や回路の動作速度が速くなるような最適レベルの電源電
圧を発生して供給できようになる。
Furthermore, if the voltage conversion means such as an internal switching regulator is provided with a means for finely adjusting the voltage, it is possible to adjust the voltage to a level that increases the operating margin of the circuit during probe testing or to the optimum level that increases the operating speed of the circuit. It becomes possible to generate and supply power supply voltage.

また、内部の電源レギュレータは外部電源の電位変動に
対して内部電源電位の変動を一定に抑えることができる
ので、各特性の外部電源電圧依存性を小さくすることが
できる。しかも、レギュレータの発生電位を調整するこ
とで、ロット毎、つ工−ハ毎、チップ毎のプロセスばら
つきに伴う電源マージンの悪化やリフレッシュ特性、ア
クセス時間を補正するような電源電圧を供給できるため
、歩留りの向上、製品のグレード配分の向上を図ること
ができる。
Further, since the internal power supply regulator can suppress fluctuations in the internal power supply potential to a constant level with respect to potential fluctuations in the external power supply, the dependence of each characteristic on the external power supply voltage can be reduced. Moreover, by adjusting the potential generated by the regulator, it is possible to supply a power supply voltage that compensates for the deterioration of the power supply margin, refresh characteristics, and access time due to process variations from lot to lot, factory to factory, and chip to chip. It is possible to improve yield and product grade distribution.

以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は上記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。例えば上記実施例では電
圧変換手段としてのレギュレータ内の電圧微調整手段と
して、レーザによって切断されるフユーズを用いている
が、このフユーズは電流を流して切断するものがあって
もよい。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained above based on Examples, it goes without saying that the present invention is not limited to the above Examples and can be modified in various ways without departing from the gist thereof. Nor. For example, in the above embodiment, a fuse cut by a laser is used as a voltage fine adjustment means in a regulator serving as a voltage conversion means, but this fuse may be cut by passing a current through it.

以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である半導体メモリに適用
した場合について説明したが、この発明はそれに限定さ
れるものでなく、ゲートアレイその他生導体集積回路装
置一般に利用することができる。
In the above explanation, the invention made by the present inventor was mainly applied to semiconductor memory, which is the background field of application. It can be used in general circuit devices.

[発明の効果コ 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば下記のとおりである
[Effects of the Invention] The effects obtained by typical inventions disclosed in this application are briefly explained below.

すなわち、LSIの消費電力を増加させたりノイズマー
ジンを低下させることなく、微細化に伴う素子の耐圧劣
化を防止できる。また、停電時のバックアップも容易と
なる。
That is, it is possible to prevent deterioration in breakdown voltage of elements due to miniaturization without increasing the power consumption of the LSI or reducing the noise margin. Also, backup in case of power outage becomes easy.

【図面の簡単な説明】 第1図は本発明を半導体メモリに適用した場合の一実施
例を示すブロック図、 第2図は本発明を半導体メモリに適用した場合の第2の
実施例を示すブロック図、 第3図は電圧変換手段としてのスイッチングレギュレー
タの一例を示す回路図、 第4図は従来の半導体メモリにおける電源供給方式の一
例を示すブロック図である。 la、lb・・・電源端子、2・・・入出力回路部、3
・ メモリの周辺回路、4 ・・電圧変換手段(スイッ
チングレキュレータ)、5・・・・メモリアレイ。 第  1  図 第2図
[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is a block diagram showing an embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor memory, and Fig. 2 shows a second embodiment in which the present invention is applied to a semiconductor memory. FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a switching regulator as a voltage conversion means, and FIG. 4 is a block diagram showing an example of a power supply system in a conventional semiconductor memory. la, lb...power supply terminal, 2...input/output circuit section, 3
- Memory peripheral circuit, 4... Voltage conversion means (switching regulator), 5... Memory array. Figure 1 Figure 2

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)外部から供給される互いにレベルの異なる電源電圧
を受ける複数の電源端子を有するとともに、内部に電圧
変換手段を備え、入出力回路部は外部からの電源電圧の
うち高い電源電圧で駆動され、内部回路は低い電源電圧
および/または上記電圧変換手段により変換された電圧
で駆動されるように構成されてなることを特徴とする半
導体集積回路装置。 2)上記電圧変換手段は、発生する電圧の微調整を行な
う微調整手段を備えていることを特徴とする請求項1記
載の半導体集積回路装置。 3)上記入出力回路は、内部回路を構成する素子よりも
耐圧の高い素子で構成されていることを特徴とする請求
項1または2記載の半導体集積回路装置。
[Claims] 1) It has a plurality of power supply terminals that receive power supply voltages of different levels supplied from the outside, and is equipped with an internal voltage conversion means, and the input/output circuit section receives power supply voltages that are higher than the power supply voltages supplied from the outside. 1. A semiconductor integrated circuit device, characterized in that it is driven by a power supply voltage, and the internal circuit is configured to be driven by a low power supply voltage and/or a voltage converted by the voltage conversion means. 2) The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the voltage conversion means includes fine adjustment means for finely adjusting the generated voltage. 3) The semiconductor integrated circuit device according to claim 1 or 2, wherein the input/output circuit is comprised of elements having a higher withstand voltage than elements constituting the internal circuit.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5917765A (en) * 1997-03-27 1999-06-29 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Semiconductor memory device capable of burn in mode operation
JP2014532953A (en) * 2011-11-01 2014-12-08 シリコン ストーリッジ テクノロージー インコーポレイテッドSilicon Storage Technology, Inc. Power saving mixed voltage nonvolatile memory integrated circuit

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