JPH04200988A - レーザ加工用集光装置 - Google Patents
レーザ加工用集光装置Info
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- JPH04200988A JPH04200988A JP2336453A JP33645390A JPH04200988A JP H04200988 A JPH04200988 A JP H04200988A JP 2336453 A JP2336453 A JP 2336453A JP 33645390 A JP33645390 A JP 33645390A JP H04200988 A JPH04200988 A JP H04200988A
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- reflecting
- condensing device
- laser
- beams
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Links
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- 230000002265 prevention Effects 0.000 claims description 4
- 238000009826 distribution Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
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Landscapes
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、レーザ加工用集光装置に係り、特にレーザ溶
接用に適するレーザ加工用集光装置に関する。
接用に適するレーザ加工用集光装置に関する。
(従来の技術及び解決しようとする課題)従来より、レ
ーザによる熱源は、溶接、表面改質等々の様々な加工用
途に利用されており、熱源としてもC○、レーザ、YA
Gレーザ等々の種々のものが利用されている。
ーザによる熱源は、溶接、表面改質等々の様々な加工用
途に利用されており、熱源としてもC○、レーザ、YA
Gレーザ等々の種々のものが利用されている。
ところで、レーザ加工用集光装置におけるレーサヒーt
\系には、レーザ発振器からの1本のビームをそのまま
利用するビーム系と、反射ミラーを用いて2つのビーム
に分割して利用するビーム系とがある。
\系には、レーザ発振器からの1本のビームをそのまま
利用するビーム系と、反射ミラーを用いて2つのビーム
に分割して利用するビーム系とがある。
従来、後者の2つのビームに分割するために用いられる
反射ミラーとしては部分反射ミラー(スブリッ1〜ミラ
ー)が用いられていた。特にC○2レーザにおいてはZ
n5e表面に誘導体膜をコーティングした反射ミラーが
必要であった。
反射ミラーとしては部分反射ミラー(スブリッ1〜ミラ
ー)が用いられていた。特にC○2レーザにおいてはZ
n5e表面に誘導体膜をコーティングした反射ミラーが
必要であった。
しかし、部分反射ミラーにてビームを2つに分割する場
合、一方のビームは反射されるが、他方のビー11は部
分反射ミラー内部を通過させるので、ミラーの耐久性に
問題があった。また、Zn5e等の材質自体が水分に弱
いため、耐久性に問題があると共に高価である。
合、一方のビームは反射されるが、他方のビー11は部
分反射ミラー内部を通過させるので、ミラーの耐久性に
問題があった。また、Zn5e等の材質自体が水分に弱
いため、耐久性に問題があると共に高価である。
更には、部分反射ミラーを用いてビームを分割するので
、ビームエネルギーの空間分布を任、怠に変えることは
困難であり、レーザ加]二の利用に限界があった。
、ビームエネルギーの空間分布を任、怠に変えることは
困難であり、レーザ加]二の利用に限界があった。
本発明は、」二足従来技術の問題点を解決して、耐久性
に問題のない材質のミラーを用いてレーザビームを2つ
に分割でき、かつビームエネルギーの空間分布を任意に
変えることができるビーム系を有する安価なレーザ加工
用集光装置を提供することを目的とするものである。
に問題のない材質のミラーを用いてレーザビームを2つ
に分割でき、かつビームエネルギーの空間分布を任意に
変えることができるビーム系を有する安価なレーザ加工
用集光装置を提供することを目的とするものである。
(!II!題を解決するための手段)
前記課題を解決するため、本発明者等は、レーザビーム
系について鋭意研究を重ねた結果、ここに本発明をなし
たものである。
系について鋭意研究を重ねた結果、ここに本発明をなし
たものである。
すなわち、本発明は、レーザ発振器がらのレーザビーム
を反射ミラーにて2つのビームに分割して加工部に集光
させるレーザビーム系において、前者の反射ミラーとし
てV型の反射面を有する全反射ミラーを用い、各反射面
を利用して2つのビームに分割し、各ビームを更に他の
反射ミラーにて反射させて集光する構成にしたことを特
徴とするレーザ加工用集光装置を要旨とするものである
。
を反射ミラーにて2つのビームに分割して加工部に集光
させるレーザビーム系において、前者の反射ミラーとし
てV型の反射面を有する全反射ミラーを用い、各反射面
を利用して2つのビームに分割し、各ビームを更に他の
反射ミラーにて反射させて集光する構成にしたことを特
徴とするレーザ加工用集光装置を要旨とするものである
。
−;(
また、必要に応じて、レーザビーム方向と同軸方向又は
交差する方向にガスを流すスパッタ付着防止装置を集光
ビームの回りに設けたことを特徴とするものである。
交差する方向にガスを流すスパッタ付着防止装置を集光
ビームの回りに設けたことを特徴とするものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
(作用)
前述のように、レーザービームを2つのビームに分割す
る場合、従来は部分反射ミラーを用いて反射ビームと透
過ビームに分割していたのに対し、本発明では、この部
分反射ミラーに代えて、特定の形状を有する全反射ミラ
ーを用いて2つの反射ビームに分割するものである。
る場合、従来は部分反射ミラーを用いて反射ビームと透
過ビームに分割していたのに対し、本発明では、この部
分反射ミラーに代えて、特定の形状を有する全反射ミラ
ーを用いて2つの反射ビームに分割するものである。
全反射ミラーであるので、ビームがミラー内部を通過す
ることがなく、安価な材質のものを利用できる。このよ
うな全反射ミラーとしては、例えば、CuやAuなどの
貴金属で表面を被覆した耐久性のあるミラーを使用でき
る。
ることがなく、安価な材質のものを利用できる。このよ
うな全反射ミラーとしては、例えば、CuやAuなどの
貴金属で表面を被覆した耐久性のあるミラーを使用でき
る。
第1図(8)、(b)はそれぞれ本発明のレーザビーム
系を示したものであり、レーザ発振器からのレーザビー
ムをV型の全反射ミラーにて反射させて=4− 2つのビームに分割する。
系を示したものであり、レーザ発振器からのレーザビー
ムをV型の全反射ミラーにて反射させて=4− 2つのビームに分割する。
この全反射ミラーは大別して2つの態様が可能であり、
第1図(a)の場合は、2つの反射面がV状をなす1−
個の反射ミラー1から構成されている。
第1図(a)の場合は、2つの反射面がV状をなす1−
個の反射ミラー1から構成されている。
また、第1図(b)の場合は、それぞれの反射面が段差
を設けてV状をなすように配置された2個の反射ミラー
11.12から構成されている。なお、一方の反射面と
他方の反射面とを同じ傾斜角或いは異なる傾斜角にする
ことができ、また双方の反射面の長さを同一に又は異な
る寸法にすることもできる。
を設けてV状をなすように配置された2個の反射ミラー
11.12から構成されている。なお、一方の反射面と
他方の反射面とを同じ傾斜角或いは異なる傾斜角にする
ことができ、また双方の反射面の長さを同一に又は異な
る寸法にすることもできる。
このように2つに分割されたビームは、第1図(a)、
(b)に示すように、それぞれ、他の反射ミラー2.3
にて反射され、加工部に集光する。このミラーとしては
適宜の形状のものを使用でき、放物面ミラー、球面ミラ
ー又はセミシリンドリカルミラーなどが挙げられる。
(b)に示すように、それぞれ、他の反射ミラー2.3
にて反射され、加工部に集光する。このミラーとしては
適宜の形状のものを使用でき、放物面ミラー、球面ミラ
ー又はセミシリンドリカルミラーなどが挙げられる。
か\る構成のレーザビーム系において、V型の全反射ミ
ラー1.1□(及び/又は1−2)を加工部に対して平
行に移動することができる。また後者の反射ミラー2.
3をそれぞれ回転可能にしたり、或いは上下方向(加工
部に対して直角方向)に移動可能にすることもてきるの
で、以下のような利用態様が可能である。
ラー1.1□(及び/又は1−2)を加工部に対して平
行に移動することができる。また後者の反射ミラー2.
3をそれぞれ回転可能にしたり、或いは上下方向(加工
部に対して直角方向)に移動可能にすることもてきるの
で、以下のような利用態様が可能である。
まず、レーザ発振器からのレーザビームは第2図に一例
を示ずように断面方向に様々なビームエネルギー分布を
有しているが、V型の全反射ミラーを加工部に対して移
動することにより、第3図に示すように、一方のビーム
と他方のビームとの強度比をX軸方向で任意に変えるこ
とができる。
を示ずように断面方向に様々なビームエネルギー分布を
有しているが、V型の全反射ミラーを加工部に対して移
動することにより、第3図に示すように、一方のビーム
と他方のビームとの強度比をX軸方向で任意に変えるこ
とができる。
また、後者の反射ミラー2.3を回転させることによっ
て、各ビームを母材法線方向から傾けて入射させること
ができる。これにより、プラズマプルーム(金属霧)の
影響を避けて、有効に母Hにビームエネルギーを供給で
きる(第4図参照)。
て、各ビームを母材法線方向から傾けて入射させること
ができる。これにより、プラズマプルーム(金属霧)の
影響を避けて、有効に母Hにビームエネルギーを供給で
きる(第4図参照)。
更には、後者の反射ミラー2.3を回転させることによ
って、母材」−で2つのビームの距離を近づけたり遠ざ
けたりすることもできる(第3図参照)。
って、母材」−で2つのビームの距離を近づけたり遠ざ
けたりすることもできる(第3図参照)。
これらの利用態様を単独で或いは組合せることにより、
ビームエネルギーの空間分布(X軸方向、y軸方向、高
さ方向)を任意に設定できる。したがって、一方のビー
ムにより表面処理金属板の表面処理膜の除去や、予熱或
いは後熱などが可能となる。また、2つのビームを重な
るように集光させると、溶込み形状の制御が可能となる
ほか、ビード形状、凝固組織の改善も可能となる。
ビームエネルギーの空間分布(X軸方向、y軸方向、高
さ方向)を任意に設定できる。したがって、一方のビー
ムにより表面処理金属板の表面処理膜の除去や、予熱或
いは後熱などが可能となる。また、2つのビームを重な
るように集光させると、溶込み形状の制御が可能となる
ほか、ビード形状、凝固組織の改善も可能となる。
なお、後者の反射ミラー2.3としてセミシリンドリカ
ルミラーを用いた場合には、更に以下のような作用も可
能である。
ルミラーを用いた場合には、更に以下のような作用も可
能である。
ここで、セミシリンドリカルミラーとは、通常のシリン
ドリカルミラーが有する曲率方向と直交する方向にも曲
率を設けたミラーを云う。すなわち、全体が第5図に示
すような形状のミラーであり、そのA断面は第6図に示
すようにシリンドリカル面(円柱側面)が曲率fの局面
を有し、B断面は第7図に示すようにシリンドリカル面
がaXfの曲率(1< a )を有している。このaの
値が大きいほど、第8図に示すようにB断面方向(y軸
方向)のビーム幅を拡げろことができる。したがって、
母材にギャップのある溶接やフィラーワイヤを用いる溶
接に適している。
ドリカルミラーが有する曲率方向と直交する方向にも曲
率を設けたミラーを云う。すなわち、全体が第5図に示
すような形状のミラーであり、そのA断面は第6図に示
すようにシリンドリカル面(円柱側面)が曲率fの局面
を有し、B断面は第7図に示すようにシリンドリカル面
がaXfの曲率(1< a )を有している。このaの
値が大きいほど、第8図に示すようにB断面方向(y軸
方向)のビーム幅を拡げろことができる。したがって、
母材にギャップのある溶接やフィラーワイヤを用いる溶
接に適している。
第9図は」二連のレーザビーム系に設けるスパッタ付着
防止装置を示している。この装置は、セミシリンドリカ
ルミラーからの集光ビー11の回りにガス流通部材4を
配置したものである。レーザビーム方向と同軸方向に流
す場合には、環状部材の流出口をビームと同軸方向に向
けるようにする。
防止装置を示している。この装置は、セミシリンドリカ
ルミラーからの集光ビー11の回りにガス流通部材4を
配置したものである。レーザビーム方向と同軸方向に流
す場合には、環状部材の流出口をビームと同軸方向に向
けるようにする。
一方、レーザビーム方向と交差する方向に流す場合には
、交差する方向に一対のガス流出(」とガス吸引口をビ
ーム周囲に対向させ、ガス流出口からガスを噴出させて
、これをガス吸引「Jに吸引する構成にする。溶接スパ
ッタは加]一部からほぼ」1方に飛散するので、レーザ
ビームと同軸方向にガスを流すのが好ましい。ガスとし
てはN2、Ar、Heなとの不活性ガスが用いられる。
、交差する方向に一対のガス流出(」とガス吸引口をビ
ーム周囲に対向させ、ガス流出口からガスを噴出させて
、これをガス吸引「Jに吸引する構成にする。溶接スパ
ッタは加]一部からほぼ」1方に飛散するので、レーザ
ビームと同軸方向にガスを流すのが好ましい。ガスとし
てはN2、Ar、Heなとの不活性ガスが用いられる。
ガスを流す速度は適宜状められる。
(発明の効果)
以上詳述したように、本発明によれば、特定形状の全反
射ミラーを用いてビームを2つに分割するので、2つの
ビームを任意のビーム強度パターン比率で分割でき、ま
たビームエネルギーの空間分布を任意に選定でき、更に
はビームをターゲラ1−法線方向より傾けさせて入射で
きる等々の種々の利用態様が可能である。また、耐久性
のある安価なミラーを使用でき、スパッタ付着防止も可
能であるので、経済的である。
射ミラーを用いてビームを2つに分割するので、2つの
ビームを任意のビーム強度パターン比率で分割でき、ま
たビームエネルギーの空間分布を任意に選定でき、更に
はビームをターゲラ1−法線方向より傾けさせて入射で
きる等々の種々の利用態様が可能である。また、耐久性
のある安価なミラーを使用でき、スパッタ付着防止も可
能であるので、経済的である。
第1図(a)、(b)はそれぞれ本発明のレーザビーム
系の構成を示す説明図、 第2図は分割前のビームエネルギー分布の一例を示す図
、 第3図(a)〜(c)は分割後の各ビームのエネルギー
分布の一例を示す図、 第4図はビームの入射方向とプルーム発生状況を説明す
る図、 第5図〜第7図はセミシリンドリカルミラーを説明する
図で、第5図は斜視図、第6図は第5図のA断面図、第
7図は第5図のB断面図であり、第8図はセミシリンド
リカルミラーで集光したビーム強度分布の形状を説明す
る図、 第9図(a)、(b)はスパッタ付着防止装置を示す説
明図である。 ]・・1個でV型をなす全反射ミラー、]4.1゜・・
2個でv型をなす全反射ミラー、2.3・・反射ミラー
、4・・・ガス流通部材。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所 代理人弁理士 中 村 尚 第5図 B 第6図 ↓′ 第7図 第9 (b) 17′ v 4
系の構成を示す説明図、 第2図は分割前のビームエネルギー分布の一例を示す図
、 第3図(a)〜(c)は分割後の各ビームのエネルギー
分布の一例を示す図、 第4図はビームの入射方向とプルーム発生状況を説明す
る図、 第5図〜第7図はセミシリンドリカルミラーを説明する
図で、第5図は斜視図、第6図は第5図のA断面図、第
7図は第5図のB断面図であり、第8図はセミシリンド
リカルミラーで集光したビーム強度分布の形状を説明す
る図、 第9図(a)、(b)はスパッタ付着防止装置を示す説
明図である。 ]・・1個でV型をなす全反射ミラー、]4.1゜・・
2個でv型をなす全反射ミラー、2.3・・反射ミラー
、4・・・ガス流通部材。 特許出願人 株式会社神戸製鋼所 代理人弁理士 中 村 尚 第5図 B 第6図 ↓′ 第7図 第9 (b) 17′ v 4
Claims (7)
- (1)レーザ発振器からのレーザビームを反射ミラーに
て2つのビームに分割して加工部に集光させるレーザビ
ーム系において、前者の反射ミラーとしてV型の反射面
を有する全反射ミラーを用い、各反射面を利用して2つ
のビームに分割し、各ビームを更に他の反射ミラーにて
反射させて集光する構成にしたことを特徴とするレーザ
加工用集光装置。 - (2)V型の反射面を有する全反射ミラーを加工方向に
移動可能にした請求項1に記載のレーザ加工用集光装置
。 - (3)V型の反射面を有する全反射ミラーが1個の反射
ミラーである請求項1又は2に記載のレーザ加工用集光
装置。 - (4)V型の反射面を有する全反射ミラーが2個の反射
ミラーを段差を設けて配置したものである請求項1又は
2に記載のレーザ加工用集光装置。 - (5)後者の反射ミラーをそれぞれ回転可能に或いは上
下方向に移動可能に設けた請求項1又は2に記載のレー
ザ加工用集光装置。 - (6)後者の反射ミラーとして放物面ミラー、球面ミラ
ー又はセミシリンドリカルミラーを用いる請求項1、2
又は3に記載のレーザ加工用集光装置。 - (7)レーザビーム方向と同軸方向又は交差する方向に
ガスを流すスパッタ付着防止装置を集光ビームの回りに
設けた請求項1に記載のレーザ加工用集光装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2336453A JPH04200988A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | レーザ加工用集光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2336453A JPH04200988A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | レーザ加工用集光装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04200988A true JPH04200988A (ja) | 1992-07-21 |
Family
ID=18299297
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2336453A Pending JPH04200988A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | レーザ加工用集光装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04200988A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995030921A1 (de) * | 1994-05-10 | 1995-11-16 | Nwl Laser-Technologie Gmbh | Vorrichtung zur niederdivergenten laserstrahlerzeugung |
DE102009044751B4 (de) * | 2008-12-04 | 2014-07-31 | Highyag Lasertechnologie Gmbh | Spiegel-Objektiv für Laserstrahlung |
US9704469B2 (en) | 2015-06-18 | 2017-07-11 | Hyundai Motor Company | Combustion noise-masking control apparatus and method |
GB2566615A (en) * | 2017-09-14 | 2019-03-20 | Futaba Ind Co Ltd | Laser welding apparatus and manufacturing method of component |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2336453A patent/JPH04200988A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995030921A1 (de) * | 1994-05-10 | 1995-11-16 | Nwl Laser-Technologie Gmbh | Vorrichtung zur niederdivergenten laserstrahlerzeugung |
DE102009044751B4 (de) * | 2008-12-04 | 2014-07-31 | Highyag Lasertechnologie Gmbh | Spiegel-Objektiv für Laserstrahlung |
US9704469B2 (en) | 2015-06-18 | 2017-07-11 | Hyundai Motor Company | Combustion noise-masking control apparatus and method |
GB2566615A (en) * | 2017-09-14 | 2019-03-20 | Futaba Ind Co Ltd | Laser welding apparatus and manufacturing method of component |
US11235420B2 (en) | 2017-09-14 | 2022-02-01 | Futaba Industrial Co., Ltd. | Laser welding apparatus and manufacturing method of component |
GB2566615B (en) * | 2017-09-14 | 2022-03-30 | Futaba Ind Co Ltd | Laser Welding Apparatus and Manufacturing Method of Component |
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