JPH04200988A - レーザ加工用集光装置 - Google Patents

レーザ加工用集光装置

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JPH04200988A
JPH04200988A JP2336453A JP33645390A JPH04200988A JP H04200988 A JPH04200988 A JP H04200988A JP 2336453 A JP2336453 A JP 2336453A JP 33645390 A JP33645390 A JP 33645390A JP H04200988 A JPH04200988 A JP H04200988A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror
reflecting
condensing device
laser
beams
Prior art date
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Pending
Application number
JP2336453A
Other languages
English (en)
Inventor
Fumito Yoshino
芳野 文人
Hiroyuki Shimizu
弘之 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP2336453A priority Critical patent/JPH04200988A/ja
Publication of JPH04200988A publication Critical patent/JPH04200988A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、レーザ加工用集光装置に係り、特にレーザ溶
接用に適するレーザ加工用集光装置に関する。
(従来の技術及び解決しようとする課題)従来より、レ
ーザによる熱源は、溶接、表面改質等々の様々な加工用
途に利用されており、熱源としてもC○、レーザ、YA
Gレーザ等々の種々のものが利用されている。
ところで、レーザ加工用集光装置におけるレーサヒーt
\系には、レーザ発振器からの1本のビームをそのまま
利用するビーム系と、反射ミラーを用いて2つのビーム
に分割して利用するビーム系とがある。
従来、後者の2つのビームに分割するために用いられる
反射ミラーとしては部分反射ミラー(スブリッ1〜ミラ
ー)が用いられていた。特にC○2レーザにおいてはZ
n5e表面に誘導体膜をコーティングした反射ミラーが
必要であった。
しかし、部分反射ミラーにてビームを2つに分割する場
合、一方のビームは反射されるが、他方のビー11は部
分反射ミラー内部を通過させるので、ミラーの耐久性に
問題があった。また、Zn5e等の材質自体が水分に弱
いため、耐久性に問題があると共に高価である。
更には、部分反射ミラーを用いてビームを分割するので
、ビームエネルギーの空間分布を任、怠に変えることは
困難であり、レーザ加]二の利用に限界があった。
本発明は、」二足従来技術の問題点を解決して、耐久性
に問題のない材質のミラーを用いてレーザビームを2つ
に分割でき、かつビームエネルギーの空間分布を任意に
変えることができるビーム系を有する安価なレーザ加工
用集光装置を提供することを目的とするものである。
(!II!題を解決するための手段) 前記課題を解決するため、本発明者等は、レーザビーム
系について鋭意研究を重ねた結果、ここに本発明をなし
たものである。
すなわち、本発明は、レーザ発振器がらのレーザビーム
を反射ミラーにて2つのビームに分割して加工部に集光
させるレーザビーム系において、前者の反射ミラーとし
てV型の反射面を有する全反射ミラーを用い、各反射面
を利用して2つのビームに分割し、各ビームを更に他の
反射ミラーにて反射させて集光する構成にしたことを特
徴とするレーザ加工用集光装置を要旨とするものである
−;( また、必要に応じて、レーザビーム方向と同軸方向又は
交差する方向にガスを流すスパッタ付着防止装置を集光
ビームの回りに設けたことを特徴とするものである。
以下に本発明を更に詳細に説明する。
(作用) 前述のように、レーザービームを2つのビームに分割す
る場合、従来は部分反射ミラーを用いて反射ビームと透
過ビームに分割していたのに対し、本発明では、この部
分反射ミラーに代えて、特定の形状を有する全反射ミラ
ーを用いて2つの反射ビームに分割するものである。
全反射ミラーであるので、ビームがミラー内部を通過す
ることがなく、安価な材質のものを利用できる。このよ
うな全反射ミラーとしては、例えば、CuやAuなどの
貴金属で表面を被覆した耐久性のあるミラーを使用でき
る。
第1図(8)、(b)はそれぞれ本発明のレーザビーム
系を示したものであり、レーザ発振器からのレーザビー
ムをV型の全反射ミラーにて反射させて=4− 2つのビームに分割する。
この全反射ミラーは大別して2つの態様が可能であり、
第1図(a)の場合は、2つの反射面がV状をなす1−
個の反射ミラー1から構成されている。
また、第1図(b)の場合は、それぞれの反射面が段差
を設けてV状をなすように配置された2個の反射ミラー
11.12から構成されている。なお、一方の反射面と
他方の反射面とを同じ傾斜角或いは異なる傾斜角にする
ことができ、また双方の反射面の長さを同一に又は異な
る寸法にすることもできる。
このように2つに分割されたビームは、第1図(a)、
(b)に示すように、それぞれ、他の反射ミラー2.3
にて反射され、加工部に集光する。このミラーとしては
適宜の形状のものを使用でき、放物面ミラー、球面ミラ
ー又はセミシリンドリカルミラーなどが挙げられる。
か\る構成のレーザビーム系において、V型の全反射ミ
ラー1.1□(及び/又は1−2)を加工部に対して平
行に移動することができる。また後者の反射ミラー2.
3をそれぞれ回転可能にしたり、或いは上下方向(加工
部に対して直角方向)に移動可能にすることもてきるの
で、以下のような利用態様が可能である。
まず、レーザ発振器からのレーザビームは第2図に一例
を示ずように断面方向に様々なビームエネルギー分布を
有しているが、V型の全反射ミラーを加工部に対して移
動することにより、第3図に示すように、一方のビーム
と他方のビームとの強度比をX軸方向で任意に変えるこ
とができる。
また、後者の反射ミラー2.3を回転させることによっ
て、各ビームを母材法線方向から傾けて入射させること
ができる。これにより、プラズマプルーム(金属霧)の
影響を避けて、有効に母Hにビームエネルギーを供給で
きる(第4図参照)。
更には、後者の反射ミラー2.3を回転させることによ
って、母材」−で2つのビームの距離を近づけたり遠ざ
けたりすることもできる(第3図参照)。
これらの利用態様を単独で或いは組合せることにより、
ビームエネルギーの空間分布(X軸方向、y軸方向、高
さ方向)を任意に設定できる。したがって、一方のビー
ムにより表面処理金属板の表面処理膜の除去や、予熱或
いは後熱などが可能となる。また、2つのビームを重な
るように集光させると、溶込み形状の制御が可能となる
ほか、ビード形状、凝固組織の改善も可能となる。
なお、後者の反射ミラー2.3としてセミシリンドリカ
ルミラーを用いた場合には、更に以下のような作用も可
能である。
ここで、セミシリンドリカルミラーとは、通常のシリン
ドリカルミラーが有する曲率方向と直交する方向にも曲
率を設けたミラーを云う。すなわち、全体が第5図に示
すような形状のミラーであり、そのA断面は第6図に示
すようにシリンドリカル面(円柱側面)が曲率fの局面
を有し、B断面は第7図に示すようにシリンドリカル面
がaXfの曲率(1< a )を有している。このaの
値が大きいほど、第8図に示すようにB断面方向(y軸
方向)のビーム幅を拡げろことができる。したがって、
母材にギャップのある溶接やフィラーワイヤを用いる溶
接に適している。
第9図は」二連のレーザビーム系に設けるスパッタ付着
防止装置を示している。この装置は、セミシリンドリカ
ルミラーからの集光ビー11の回りにガス流通部材4を
配置したものである。レーザビーム方向と同軸方向に流
す場合には、環状部材の流出口をビームと同軸方向に向
けるようにする。
一方、レーザビーム方向と交差する方向に流す場合には
、交差する方向に一対のガス流出(」とガス吸引口をビ
ーム周囲に対向させ、ガス流出口からガスを噴出させて
、これをガス吸引「Jに吸引する構成にする。溶接スパ
ッタは加]一部からほぼ」1方に飛散するので、レーザ
ビームと同軸方向にガスを流すのが好ましい。ガスとし
てはN2、Ar、Heなとの不活性ガスが用いられる。
ガスを流す速度は適宜状められる。
(発明の効果) 以上詳述したように、本発明によれば、特定形状の全反
射ミラーを用いてビームを2つに分割するので、2つの
ビームを任意のビーム強度パターン比率で分割でき、ま
たビームエネルギーの空間分布を任意に選定でき、更に
はビームをターゲラ1−法線方向より傾けさせて入射で
きる等々の種々の利用態様が可能である。また、耐久性
のある安価なミラーを使用でき、スパッタ付着防止も可
能であるので、経済的である。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)、(b)はそれぞれ本発明のレーザビーム
系の構成を示す説明図、 第2図は分割前のビームエネルギー分布の一例を示す図
、 第3図(a)〜(c)は分割後の各ビームのエネルギー
分布の一例を示す図、 第4図はビームの入射方向とプルーム発生状況を説明す
る図、 第5図〜第7図はセミシリンドリカルミラーを説明する
図で、第5図は斜視図、第6図は第5図のA断面図、第
7図は第5図のB断面図であり、第8図はセミシリンド
リカルミラーで集光したビーム強度分布の形状を説明す
る図、 第9図(a)、(b)はスパッタ付着防止装置を示す説
明図である。 ]・・1個でV型をなす全反射ミラー、]4.1゜・・
2個でv型をなす全反射ミラー、2.3・・反射ミラー
、4・・・ガス流通部材。 特許出願人  株式会社神戸製鋼所 代理人弁理士 中  村   尚 第5図 B 第6図 ↓′ 第7図 第9 (b) 17′   v 4

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)レーザ発振器からのレーザビームを反射ミラーに
    て2つのビームに分割して加工部に集光させるレーザビ
    ーム系において、前者の反射ミラーとしてV型の反射面
    を有する全反射ミラーを用い、各反射面を利用して2つ
    のビームに分割し、各ビームを更に他の反射ミラーにて
    反射させて集光する構成にしたことを特徴とするレーザ
    加工用集光装置。
  2. (2)V型の反射面を有する全反射ミラーを加工方向に
    移動可能にした請求項1に記載のレーザ加工用集光装置
  3. (3)V型の反射面を有する全反射ミラーが1個の反射
    ミラーである請求項1又は2に記載のレーザ加工用集光
    装置。
  4. (4)V型の反射面を有する全反射ミラーが2個の反射
    ミラーを段差を設けて配置したものである請求項1又は
    2に記載のレーザ加工用集光装置。
  5. (5)後者の反射ミラーをそれぞれ回転可能に或いは上
    下方向に移動可能に設けた請求項1又は2に記載のレー
    ザ加工用集光装置。
  6. (6)後者の反射ミラーとして放物面ミラー、球面ミラ
    ー又はセミシリンドリカルミラーを用いる請求項1、2
    又は3に記載のレーザ加工用集光装置。
  7. (7)レーザビーム方向と同軸方向又は交差する方向に
    ガスを流すスパッタ付着防止装置を集光ビームの回りに
    設けた請求項1に記載のレーザ加工用集光装置。
JP2336453A 1990-11-30 1990-11-30 レーザ加工用集光装置 Pending JPH04200988A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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