JPH0419583A - 透磁率測定装置 - Google Patents

透磁率測定装置

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JPH0419583A
JPH0419583A JP12120590A JP12120590A JPH0419583A JP H0419583 A JPH0419583 A JP H0419583A JP 12120590 A JP12120590 A JP 12120590A JP 12120590 A JP12120590 A JP 12120590A JP H0419583 A JPH0419583 A JP H0419583A
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JP
Japan
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magnetic field
magnetic
sample
winding
thin film
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Pending
Application number
JP12120590A
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English (en)
Inventor
Hiroshi Shimada
寛 島田
Kenzo Naruse
成瀬 謙三
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NARUSE KAGAKU KIKAI KK
Original Assignee
NARUSE KAGAKU KIKAI KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は、磁性材料の透磁率(外部から印加された磁場
に応じて、どれだけの磁束を発生できるかの割合)を測
定するための装置に関する。
[従来の技術] 磁性材料の示す性質のうち、透磁率はVTR、トランス
等の応用には重要なものであるが、この透磁率の測定法
は、従来、第3図に示すような方法で行なわれてきた。
即ち、試料1はドウナラ形(トロイダル磁心)であり、
これに数キロヘルツの交流電圧による交流磁界を加える
巻線2と、試料に発生する磁束を感じて交流電圧を発生
する巻線3を巻いて形成されである。この装置において
、巻線2に流す交流電流を計れば、電磁界の法則によっ
て試料に加わる交流磁界の強度が計算できるが、これを
ΔHとすると、ΔHによって試料1に発生する交流磁束
は、これまた電磁界の法則によって巻線3に交流電圧を
発生させ、計算によって、その交流磁束の密度Δ3を知
ることができる。透磁率は、ΔB/ΔH=μで定義され
る。
上記の方法は永い歴史を持ち、測定精度の向上に様々な
努力がなされ、測定法としてはほぼ確立されている。し
かし、最近では、磁性材料の応用範囲が拡がり、試料は
トロイダル磁心ではなく、第4図(&)にあるような極
めて薄い薄膜(厚さ数10μm以下)になり、形状も単
なる角板または円板状の小さな試料を測定する必要がで
てきた。このため、 iml定感度を飛躍的に向上させ
、また、測定周波数範囲を拡げるために、電圧発生、検
出にネットワークアナライザやスペクトルアナライザが
使用され、コイル2.3は1回の巻線となっている。
[発明が解決しようとする問題点コ しかし、上記のような方法ではつぎのような問題があり
、正確な測定を不可能にしている。
第3図に示すドーナツ形の試料では、磁束が全て試料中
を通るので、測定されたΔB/ΔHは試料の透磁率の真
の値である。しかし、第4図(a)に示すような試料だ
と、試料に端部があり、同(b)に示すように、磁束は
空気中を通って発生せざるを得ない。この時、空気中の
透磁率μ。が試料の透磁率μと大きく異なる(μ。/μ
〜0.O1〜0.001)ために、測定されたΔ′f3
/Δ百をそのまま試料の1とすると大きな誤差を生ずる
この空気中を通る磁束の分布を計算で求め、誤差を補正
する方法も考えられるが、実際には、コンピュータによ
る極めて複雑な計算を要し、また、様々な試料の形状に
応じてこの計算を繰り返すことになり実際的ではない。
このため、普通はこの誤差を含んだまま試料の透磁率が
評価されている。
[問題点を解決するための手段] 本発明は、第4図に示す測定系に新たな直流磁界発生装
置を付加することによってこの誤差を正確に求め、ΔB
/ΔHを修正できるようにしたものであって、その構成
は下記のようになっている。
即ち、第1図に示すように、薄膜状試料1に交流磁界を
加えるための巻線2と、これにより試料に発生する磁束
を感知して交流電圧を発生する巻線3とを設けるととも
に、その外側に、前記薄膜状試料の膜面に平行に外部よ
り強い直流磁界を与える直流磁界発生装置(コイル4.
5)を設けて透磁率測定装置とする。
また第2図に示すように、薄膜状試料1に交流磁界を加
えるための巻線2と、これにより試料に発生する磁束を
感知して交流電圧を発生する巻線3とを設けるとともに
、その外側に、前記薄膜状試料の膜面に平行に外部より
強い直流磁界を与える直流磁界発生装置6 (コイル4
.5)と、これに直交する方向にもう一つの直流磁界発
生装置9(コイル7.8)を設けて透磁率測定装置とす
る。
[作用コ 上述のように、本発明においては、第4図に示す測定系
に新たな直流磁場発生装置を付加したので、測定におけ
る誤差を正確に求め、ΔB/ΔHを修正することができ
る。
[実施例] 本発明の実施例を図面に従って説明する。
第1図は本発明の基本構成を示す説明図で、(a)は概
略構成図、(b)は試料における磁界を示す説明図、第
2図は2組の直流磁界発生装置を用いた場合の本発明の
構成を示す説明図、である。
本発明は、第1図(a)に示すように、第4図における
測定装置に新たなコイル4.5よりなる新たな直流磁界
発生装置を付加することにより、誤差を正確に求め、Δ
B/ΔHを修正できるようにしたものである。
まず、誤差の補正係数を求めるために、磁気的性質にば
らつきの少ない(磁気異方性の実効磁界がHDCに比べ
て1710以下のような非常に小さい)標準試料を準備
する。第1図(a)に示すように、標準試料(単結晶)
の膜面に平行に外部から強い直流磁界Heを加えると、
直流磁束丁はその方向に揃う、このlTeと直角方向に
交流磁界ΔHを加えた場合の透磁率は、第1図(b)の
比例関係によって、以下のように求められる。
μ=ΔB/ΔH= K / TT e ■は試料の磁化の強さであり、他の測定法によって正確
に得られ、Heは当然分かっているので、TTeが印加
された時の透磁率の真の値Δ百/Δ百は、上式によって
予め知られていることになる。
このTTeを印加したままの試料を、第4図(a)の方
法で測定すると先に述べたように、空気の透磁率μ0も
含まれた値μallが得られる。μ、5.と上式の μ
=B/He  の差が空気中の透磁率μによるものであ
り、μallからμを求めるための補正係数が得られる
。この補正係数は、標準試寥と同じ形状である限り、他
の試料に共通に使えZので、その真の透磁率が容易に得
られる。
以上のように、本発明は、これまで概略の値しか得られ
なかった薄膜用の透磁率測定装置に、磁界発生装置を取
り付け、概略の測定値から透磁篩の真の値を求めるため
の補正ができるようにしたものである。
第2図にこの磁界発生装置を取り付けた透磁率測定装置
を示す。この直流磁界TTeを試料近傍に均一に発生さ
せるために、測定コイル2.3の外側に一個又は二個の
コイル4.5からなる一組の直流磁界発生装置6を置く
。第2図では二個のコイル4.5が一組の場合を示す。
なお、符号1oはスペクトルアナライザ又はネットワー
クアナライザである。
また、一般に薄膜の透磁率μは空気中の透磁率μ0に比
べて大きく、地磁気等の外乱磁界がΔHに加わると大き
な誤差となる。このために、本発明では、TTe用の磁
界発生装置6の他に更にコイル7.8からなるもう一組
の磁界発生装置9を置き、He用の装置6と組み合わせ
ることによって、外乱磁界の方向に同じ強さの磁界を発
生させ、外乱磁界を打ち消す。これによって、測定量を
更に真の値に近づけることができる。
即ち、磁界発生装置6は、直流磁界Heを発生し補正係
数を求めた後に、磁界発生装置9と組み合わせて任意の
方向と強度を持つ磁界を発生して外乱磁界を消去し、試
料測定を行なうためのものである。
[発明の効果] 前述したように、本発明においては、磁界発生装置6と
磁界発生装置9を上記のように操作することによって、
これまで不可能であった薄膜の透磁率を正確に測定する
ことができる。勿論、磁界発生装置6のみを設けること
によっても測定ができるものである。
なお、実例を上げれば、磁界発生装置が一個の場合は、
補正値は、試料の形状で異なるが、10mm角、0.5
μm厚の試料の場合、補正係数は1.2となり、2割増
とすればよいが、外乱要素がある場合には真の値になら
ない。しかし、さらに磁界発生装置を二個設けて外乱要
素を打ち消すことにより、真の値が遵られることになる
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の基本構成を示す説明図で、(a)は概
略構成説明図、(b)は試料における磁界を示す説明図
、第2図は2組の直流磁界発生装置を用いた場合の本発
明の構成を示す説明図、第3図、第4図は従来例を示す
説明図、である。 1・・・・試料、    2.3・・・・巻線、4.5
・・・・コイル、  6・・・・直流磁界発生装置、7
.8・・・・コイル、  9・・・・直流磁界発生装置
、10・・・・スペクトルアナライザ、 μ・・・・試料透磁率、  μ。・・・・空気の透磁率
、He・・・直流磁界強度、Δ貰・・・・交流磁界強度
、■・・・・直流磁束密度、6石・・・・交流磁束密度

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)薄膜状試料に交流磁界を加えるための巻線と、こ
    れにより試料に発生する磁束を感知して交流電圧を発生
    する巻線を設けるとともに、その外側に、前記薄膜状試
    料の膜面に平行に外部より強い直流磁界を与える直流磁
    界発生装置を設けてなる透磁率測定装置。
  2. (2)薄膜状試料に交流磁界を加えるための巻線と、こ
    れにより試料に発生する磁束を感知して交流電圧を発生
    する巻線とを設けるとともに、その外側に、前記薄膜状
    試料の膜面に平行に外部より強い直流磁界を与える直流
    磁界発生装置と、これに直交する方向にもう一つの直流
    磁界発生装置を設けてなる透磁率測定装置。
JP12120590A 1990-05-14 1990-05-14 透磁率測定装置 Pending JPH0419583A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP12120590A JPH0419583A (ja) 1990-05-14 1990-05-14 透磁率測定装置

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JP12120590A JPH0419583A (ja) 1990-05-14 1990-05-14 透磁率測定装置

Publications (1)

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JPH0419583A true JPH0419583A (ja) 1992-01-23

Family

ID=14805472

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP12120590A Pending JPH0419583A (ja) 1990-05-14 1990-05-14 透磁率測定装置

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JP (1) JPH0419583A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009512864A (ja) * 2005-10-24 2009-03-26 コミッサリア タ レネルジー アトミーク 透磁率測定方法及び当該方法に使用される基準サンプル

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009512864A (ja) * 2005-10-24 2009-03-26 コミッサリア タ レネルジー アトミーク 透磁率測定方法及び当該方法に使用される基準サンプル

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