JPH04192489A - Prepreg and copper-clad laminated board - Google Patents

Prepreg and copper-clad laminated board

Info

Publication number
JPH04192489A
JPH04192489A JP32503390A JP32503390A JPH04192489A JP H04192489 A JPH04192489 A JP H04192489A JP 32503390 A JP32503390 A JP 32503390A JP 32503390 A JP32503390 A JP 32503390A JP H04192489 A JPH04192489 A JP H04192489A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper
integer
cloth
independently
group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP32503390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiaki Iwaya
岩屋 嘉昭
Toshiro Ikeda
池田 俊郎
Shozo Shiozawa
塩沢 正三
Michihiro Yamada
山田 倫宏
Moritaka Ikeda
池田 盛隆
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Unitika Ltd
Original Assignee
Unitika Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Unitika Ltd filed Critical Unitika Ltd
Priority to JP32503390A priority Critical patent/JPH04192489A/en
Publication of JPH04192489A publication Critical patent/JPH04192489A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PURPOSE:To obtain a prepreg and a copper-clad laminated board whose permittivity is low and which are excellent in a heat-resistant property by a method wherein a cloth obtained by treating the surface of a woven cloth of silicate fibers with a silane coupling agent is impregnated with a specific resin varnish. CONSTITUTION:A cloth obtained by treating, with a silane coupling agent, the surface of a woven cloth formed by weaving silicate fibers whose content of SiO2 is at 98wt.% or higher, whose specific gravity is at 1.8 to 2.0, whose tensile strength is at 20 to 82kg/mm<2> and whose modulus of elasticity is at 1000 to 8200kg/mm<2> is impregnated with a resin varnish obtained by polymerizing a cyanate ester resin expressed by Formula I. In Formula I, A represents an aromatic ring or a group including an aromatic ring, B represents a polycyclic alicyclic group of C7 to C20, D represents a substitution group which does not contain an active hydrogen group individually and independently (p) to (r) represent an integer of 0 to 3 individually and independently, the total of (p) to (r) is at 2 or higher, (s) represents an integer of 0 to 4 individually and independently and (x) represents an integer of 0 to 5. Thereby, it is possible to obtain a prepreg and a copper-clad laminated board whose permittivity is low and which are excellent in a solder heat-resistant property.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、プレプリーグ及びそれを用いた銅張積層板に
関するものであり、さらに詳しくは、プリント回路配線
板の信号処理速度を向上させることができる低誘電率の
プレブリーグ及びそれを用いた銅張積層板に関する。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention relates to a prepreg and a copper-clad laminate using the same, and more specifically, to improving the signal processing speed of a printed circuit wiring board. This invention relates to a low dielectric constant prebrig and a copper clad laminate using the same.

(従来の技術) 近年、高度情報化社会に移行するにつれ、それを支える
コンピュータ分野においては、プリント配線板の信号処
理速度の向上への要望が強まってきている。
(Prior Art) In recent years, with the transition to a highly information-oriented society, in the computer field that supports this society, there has been an increasing demand for improvements in the signal processing speed of printed wiring boards.

一般に信号伝播速度■は次式で示され、誘電率の小さい
ものほど高速演算処理が可能となる。従って、この信号
伝播速度を向上させる目的で、プリント配線板の低誘電
率化が試みられている。
Generally, the signal propagation velocity (2) is expressed by the following equation, and the smaller the dielectric constant, the higher the speed of calculation processing. Therefore, attempts have been made to reduce the dielectric constant of printed wiring boards in order to improve the signal propagation speed.

v=KC/f7 (C:光速、ε:誘電率、に:定数) この低誘電率化、すなわち、高周波特性の向上のための
手段として、これまでに石英ガラスやアラミドクロスと
通常のエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂との組合せが提案
されている(特開昭59−130365号、特開昭62
−204589号公報)。
v=KC/f7 (C: speed of light, ε: dielectric constant, N: constant) As a means to lower the dielectric constant, that is, to improve high frequency characteristics, quartz glass, aramid cloth, and ordinary epoxy resin have been used. , a combination with polyimide resin has been proposed (JP-A-59-130365, JP-A-62
-204589).

さらに、低誘電率化を目的として、ポリテトラフルオロ
エチレン(PTFE)(特開昭63−159442号、
特開昭63−154748号公報)。
Furthermore, for the purpose of lowering the dielectric constant, polytetrafluoroethylene (PTFE) (Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-159442,
(Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-154748).

ポリフェニレンオキシド(PPO)(特公昭51−25
394号、特公昭52−17880号公報)。
Polyphenylene oxide (PPO) (Special Publication No. 51-25
No. 394, Japanese Patent Publication No. 52-17880).

ポリブタジェン(特公昭58−21925号、特公昭6
3−6088号公報)、耐熱性ポリオレフィン(特公昭
60−49422号、特開昭63=236638号公報
)等の樹脂を用いたプリント配線板も一部実用化されて
いる。
Polybutadiene (Special Publication No. 58-21925, Special Publication No. 6
Some printed wiring boards using resins such as Japanese Patent Publication No. 3-6088) and heat-resistant polyolefins (Japanese Patent Publication No. 60-49422, Japanese Patent Application Laid-Open No. 63-236638) have also been put into practical use.

しかしながら、これらのに報告されているものは3種々
の点で解決すべき問題が残されている。
However, there are still three problems that need to be solved in these reports.

例えば9石英ガラスやアラミドクロスを用いた場合には
、ドリル加工性が困難で、まだ十分に実用化されるには
到っていない。また、PTFEを用いたものは、数社で
実用化されているが、高温での加工が必要なこと、Z軸
方向の寸法安定性が劣ること及びスルホールメツキ処理
が複雑であることより、多層用基板としては好ましいも
のではない。さらに、PPOやポリブタジェン、耐熱性
ポリオレフィン樹脂を用いたものについては、耐熱性、
耐薬品性1寸法安定性、難燃性等のいずれかの点で問題
があり、高速コンピュータ用としては明らかに不向きな
ものである。
For example, when 9 quartz glass or aramid cloth is used, drill workability is difficult, and it has not yet been put into practical use. In addition, products using PTFE have been put into practical use by several companies, but multi-layer It is not preferable as a substrate for use. Furthermore, products using PPO, polybutadiene, and heat-resistant polyolefin resins have heat resistance,
It has problems in terms of chemical resistance, dimensional stability, flame retardance, etc., and is clearly unsuitable for use in high-speed computers.

(発明が解決しようとする課題) 他方、これらに代替しうるものとして、特開昭63−2
89032号及び特開昭63−289033号公報には
、Si0□65〜90%及び82037〜30%を含有
する低誘電率ガラス組成物からなるガラスクロス又はガ
ラスマットに低誘電率樹脂を含浸させてなるプレプリー
グ及び銅張積層板が記載されている。しかし、これらの
低誘電率ガラス組成物は1通常Dガラスと称されている
ものであり、低誘電率という点で十分でないばかりか。
(Problem to be solved by the invention) On the other hand, as an alternative to these, JP-A-63-2
No. 89032 and JP-A No. 63-289033 disclose a method in which a glass cloth or a glass mat made of a low dielectric constant glass composition containing 65 to 90% of Si0□ and 82037 to 30% is impregnated with a low dielectric constant resin. Prepreg and copper-clad laminates are described. However, these low dielectric constant glass compositions are commonly referred to as D glasses, and are not only insufficient in terms of low dielectric constant.

他のガラス繊維に比べて耐熱性に劣るので、満足のいく
ものではなかった。
It was not satisfactory because it had inferior heat resistance compared to other glass fibers.

そこで3本発明の課題は、低い誘電率を有ししかも耐熱
性に優れたプレプリーグ及び銅張積層板を提供すること
にある。
Therefore, it is an object of the present invention to provide a prepreg and a copper-clad laminate having a low dielectric constant and excellent heat resistance.

(課題を解決するための手段) 本発明者らは、先に提案した特定のSiO□の含有量、
特定の物性を有する珪酸繊維の織布の表面をシランカッ
プリング剤で処理したクロス(特願平1−258561
号)に特定の樹脂フェスを含浸させることにより、上記
の課題が解決されることを見出し1本発明に到達した。
(Means for Solving the Problems) The present inventors have discovered that the specific content of SiO□ proposed earlier,
A cloth in which the surface of a woven fabric of silicic acid fibers having specific physical properties is treated with a silane coupling agent (Japanese Patent Application No. 1-258561)
The present inventors have discovered that the above-mentioned problems can be solved by impregnating a specific resin face into the material (No. 1).

すなわち、SiO□の含有量が98重量%以上。That is, the content of SiO□ is 98% by weight or more.

比重1.8〜2.0.引張強度20〜82 kg/mm
”、弾性率1 、000〜8,200kg/mm”であ
る珪酸繊維を製織してなる織布の表面をシランカップリ
ング剤で処理したクロスに、一般式〔I〕で示されるシ
アネートエステル樹脂を重合させて得た樹脂フェスを含
浸させてなることを特徴とするブレプリーグ。及びそれ
を用いた銅張積層板を要旨とするものである。
Specific gravity 1.8-2.0. Tensile strength 20-82 kg/mm
A cyanate ester resin represented by the general formula [I] was applied to a cloth whose surface was treated with a silane coupling agent by weaving silicic acid fibers with an elastic modulus of 1,000 to 8,200 kg/mm. Burepurig is characterized by being impregnated with a resin face obtained by polymerization. The gist of this paper is a copper-clad laminate using the same.

(OCN)。(OCN).

(NCO)p−A−(B−A)X−B −A−(’0C
N)q  (1)l    II   II (D)、(D)、(D)s(D)s(D)s(式中、A
は芳香環又は芳香環を含む基、BはC1〜C2゜の多環
脂環基、Dは各々独立に活性水素基を含まない置換基、
p、q、rは各々独立に0〜3の整数であって、p、q
、rの合計は2以上である。さらに、Sは各々独立にO
〜4の整数であり、Xは0〜5の整数である。) 以下1本発明の詳細な説明する。
(NCO)p-A-(B-A)X-B-A-('0C
N)q (1)l II II (D), (D), (D)s(D)s(D)s (wherein, A
is an aromatic ring or a group containing an aromatic ring, B is a C1-C2° polycyclic alicyclic group, D is each independently a substituent that does not contain an active hydrogen group,
p, q, r are each independently integers of 0 to 3, and p, q
, r is 2 or more. Furthermore, each S is independently O
It is an integer of ~4, and X is an integer of 0-5. ) The following is a detailed explanation of the present invention.

本発明に用いるSiO□の含有量が98重量%以上で、
比重1.8〜2.O9引張強度20〜82kg/閣22
弾性率1,000〜8,200kg/mm”である珪酸
繊維を製織し、その表面をシランカップリング剤で処理
したクロスは、特願平1258561号に記載されてい
るものである。さらに詳しくは、前記珪酸繊維は、ソー
ダ水ガラスを乾式紡糸し、水分を発散させて固化させた
後、酸や塩の水溶液でその繊維からソーダ分を抽出除去
し、場合によってはその後高温で焼却することにより繊
維中の水分を除去し、ミクロポアを消滅させたものであ
り。
The content of SiO□ used in the present invention is 98% by weight or more,
Specific gravity 1.8-2. O9 tensile strength 20-82kg/Kaku22
A cloth made by weaving silicic acid fibers with an elastic modulus of 1,000 to 8,200 kg/mm and whose surface is treated with a silane coupling agent is described in Japanese Patent Application No. 1258561. The silicic acid fibers are produced by dry spinning soda water glass, wicking away moisture and solidifying the fibers, extracting and removing the soda content from the fibers with an aqueous solution of acid or salt, and then incinerating at high temperatures in some cases. The water in the fibers has been removed and the micropores have disappeared.

次いで、これを製織した後、熱処理等の適当な手段によ
り表面に付着している紡糸バインダーや製織用糊剤を除
去し、しかる後にシランカップリング剤溶液に浸漬し、
乾燥することで、ガラスの表面にシランカップリング剤
を結合、架橋せしめたものである。
Next, after weaving this, the spinning binder and weaving paste adhering to the surface are removed by appropriate means such as heat treatment, and then immersed in a silane coupling agent solution.
By drying, the silane coupling agent is bonded to the surface of the glass and crosslinked.

本発明おいて、織布を構成する繊維の5in2の含有量
が多いので、優れた低誘電特定を示し、また、比重が軽
くて、取扱いが有利である。また。
In the present invention, since the woven fabric has a large 5in2 content of fibers, it exhibits excellent low dielectric properties, and has a light specific gravity, making it convenient to handle. Also.

引張強度2弾性率が上記のような範囲にあるので。Because the tensile strength and modulus of elasticity are within the above ranges.

補強材としての機械的特性も優れる。It also has excellent mechanical properties as a reinforcing material.

本発明に用いられる珪酸繊維の単糸径は、3〜15μm
が好ましく、クロスの厚みは、20〜250μmの範囲
が好ましい。単糸径が3μmより細くなると、折れやす
くて取扱いが難しくなることがあり、一方、15μmを
超えると1通常の両面プリント配線基板に要求されるク
ロス表面の平滑性を満たすことが困難であり、ドリル加
工性も低下する傾向がある。また、クロスの厚みが20
μmより薄いと、クロスの強度が弱くなり、加工。
The single fiber diameter of the silicic acid fiber used in the present invention is 3 to 15 μm.
is preferable, and the thickness of the cloth is preferably in the range of 20 to 250 μm. If the single yarn diameter is smaller than 3 μm, it may break easily and become difficult to handle. On the other hand, if it exceeds 15 μm, it is difficult to satisfy the smoothness of the cloth surface required for normal double-sided printed wiring boards. Drillability also tends to decrease. Also, the thickness of the cloth is 20
If it is thinner than μm, the strength of the cloth will be weakened and it will be difficult to process it.

処理プロセスでの取扱いが難しくなることがある。May be difficult to handle during treatment processes.

一方、250μmより厚いと、樹脂フェスの含浸性が低
下し、また、厚みを確保するために太い単糸径の繊維を
用いる必要があり、クロス表面の平滑性が悪くなるし、
ドリルの加工性も悪くなる傾向がある。
On the other hand, if it is thicker than 250 μm, the impregnability of the resin face will decrease, and it will be necessary to use fibers with a large single diameter to ensure the thickness, and the smoothness of the cloth surface will deteriorate.
Drill workability also tends to deteriorate.

本発明に用いられる一般式(r)で示されるシアネート
エステル樹脂としては、特表昭61−500434号に
よって開示されているものを用いることができる。すな
わち、この特殊シアネートエステル樹脂は、従来のビス
フェノールA型シアネートエステル樹脂より誘導される
ポリトリアジンよりも吸湿性が低く、加水分解作用に対
して著しく安定で、かつ耐熱性に優れたポリトリアジン
を与えるものである。
As the cyanate ester resin represented by the general formula (r) used in the present invention, those disclosed in Japanese Patent Publication No. 61-500434 can be used. That is, this special cyanate ester resin provides a polytriazine that has lower hygroscopicity than polytriazine derived from conventional bisphenol A type cyanate ester resin, is extremely stable against hydrolytic action, and has excellent heat resistance. It is something.

式(1)において、Aは芳香環を有する全ての基を意味
するものであり、具体的には、フェニレン基、ナフチレ
ン基、アンスリレン基、ビフェニレン基、ビフェレン基
、もしくはアルキレン基によって結合された2個以上の
芳香環を含む基等であり、その中でもフェニレン基、ナ
フチレン基が好ましく、フェニレン基が特に好ましい。
In formula (1), A means any group having an aromatic ring, specifically, 2 bonded by a phenylene group, naphthylene group, anthrylene group, biphenylene group, biphelene group, or alkylene group. The group includes a group containing at least three aromatic rings, and among these, a phenylene group and a naphthylene group are preferable, and a phenylene group is particularly preferable.

また2式〔I〕において、BはC7〜Cア。の多環脂環
基を表し、これは2個以上の環を含む脂環基を意味する
ものであり、多環脂環基には1つ以上の2重結合又は三
重結合が含まれていてもよい。
In formula 2 [I], B is C7 to Ca. represents a polycyclic alicyclic group, which means an alicyclic group containing two or more rings, and a polycyclic alicyclic group contains one or more double bonds or triple bonds. Good too.

その具体例を列記すれば次のものがあり、中でも(a)
、 (b)、 (c)、 (d)、 (e)が好ましく
、特に(a)が好ましい。
Specific examples include the following, among which (a)
, (b), (c), (d), and (e) are preferred, and (a) is particularly preferred.

(式中、YはCHz 、S、S=O,0=S=O。(In the formula, Y is CHHz, S, S=O, 0=S=O.

であり、DoはC3〜C3のアルキル基である。)式〔
I〕において、Dは各々独立に活性水素基を含まない置
換基であり、活性水素原子を含む置換基は除外される。
and Do is a C3-C3 alkyl group. )formula〔
I], D is each independently a substituent containing no active hydrogen group, and substituents containing an active hydrogen atom are excluded.

ここで活性水素原子とは、酸素、硫黄、窒素原子に結合
する原子を意味する。
The active hydrogen atom herein means an atom bonded to an oxygen, sulfur, or nitrogen atom.

その具体例としては、水素原子、C,−C,。のアルキ
ル基、C+〜CIOのアルケニル基、  CI−Csの
アルキニル基、C,−C,のアルコキシ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ハロゲン原子等であり。
Specific examples thereof include hydrogen atoms, C, -C, and so on. an alkyl group of C+ to CIO, an alkynyl group of CI-Cs, an alkoxy group of C, -C, a nitro group,
These include carboxyl groups and halogen atoms.

その中でも水素原子、01〜C3のアルキル基、ハロゲ
ン原子が好ましく、水素原子、プロ広原子が特に好まし
い。
Among these, a hydrogen atom, an 01-C3 alkyl group, and a halogen atom are preferred, and a hydrogen atom and a pro-broad atom are particularly preferred.

式(1)において、Sは0〜4までの整数であり、その
中でも0〜1の整数が好ましく、0が特に好ましい。ま
た、p、q、rは各々独立に0〜3の整数であり、その
中でも1が特に好ましい。
In formula (1), S is an integer from 0 to 4, preferably an integer from 0 to 1, and particularly preferably 0. Moreover, p, q, and r are each independently an integer of 0 to 3, and 1 is particularly preferable among them.

ただしI  P、  q、rの合計は2以上になるよう
に設定される。さらに、Xは0〜5の整数であるが、式
〔I〕のシアネートエステル樹脂はXが0〜5の化合物
の混合物として見出されるものであり、Xはこの混合物
の平均の数として表されるものである。
However, the total of IP, q, and r is set to be 2 or more. Further, X is an integer from 0 to 5, and the cyanate ester resin of formula [I] is found as a mixture of compounds where X is 0 to 5, and X is expressed as the average number of this mixture. It is something.

式(1)で示されるシアネートエステル樹脂の好ましい
具体例としては1次の式で示されるものであり、これは
XU−71787(ダウケミカル社製)として入手し得
るものである。
A preferred specific example of the cyanate ester resin represented by formula (1) is one represented by the following formula, which is available as XU-71787 (manufactured by Dow Chemical Company).

CN しかるに1式〔I〕のシアネートエステル樹脂を触媒存
在下で加熱して得られるポリトリアジンは、低吸湿性(
吸水率0.5%以下)、低い誘電率(ε2.8前後)、
低い誘電正接(tanδ0.003前後)及び高耐熱性
(Tg250’C以上)を有するプリント配線基板を構
成する樹脂として優れた特性を有するものである。
CN However, the polytriazine obtained by heating the cyanate ester resin of Formula 1 [I] in the presence of a catalyst has low hygroscopicity (
water absorption rate below 0.5%), low dielectric constant (around ε2.8),
It has excellent properties as a resin constituting a printed wiring board, having a low dielectric loss tangent (tan δ of around 0.003) and high heat resistance (Tg of 250'C or more).

次に1本発明において上記のクロスと樹脂を用いてブレ
プリーグと銅張積層板を製造する方法について説明する
Next, a method of manufacturing a bleep lig and a copper clad laminate using the above-mentioned cloth and resin in the present invention will be explained.

プレブリーグをつくるに際しては、まずはしめに、前記
式(1)のシアネートエステル樹脂を難燃剤及び反応触
媒等を有機溶剤に溶解することによってワニスを調製す
る。次いで3本発明の上記クロスにこのワニスを含浸さ
せて加熱乾燥する。
When making a prebrig, first, a varnish is prepared by dissolving the cyanate ester resin of the formula (1) in an organic solvent along with a flame retardant, a reaction catalyst, and the like. Next, the cloth of the present invention is impregnated with this varnish and dried by heating.

この際、クロスへのワニスの含浸量は、乾燥後の全重量
に対する樹脂固形分(式(1)の樹脂と難燃剤を合わせ
たもの)の比率が40〜60重量%になるように設定す
るのが好ましい。プレプリーグを製造する際の加熱乾燥
条件は1反応触媒の添加量によって影響されるが9例え
ば、加熱温度が150°Cの場合には、加熱時間を3〜
10分程度に設定することにより、所望のプレプリーグ
のストロークゲルタイムを得るようにすることができ 
□る。
At this time, the amount of varnish impregnated into the cloth is set so that the ratio of resin solid content (combined resin of formula (1) and flame retardant) to the total weight after drying is 40 to 60% by weight. is preferable. The heating and drying conditions when producing prepreg are influenced by the amount of catalyst added for one reaction.9 For example, when the heating temperature is 150°C, the heating time is
By setting the time to about 10 minutes, it is possible to obtain the desired stroke gel time for the prep league.
□Ru.

本プレプリーグを製造する際に用いられる難燃剤として
は、ハロゲンを含む化合物ならいずれでもよいが、具体
的には、テトラブロムビスフェノールA、ハロゲン置換
された芳香族ポリカーボネートオリゴマー、例えば2式
(If)で示されるフェノキシ末端テトラブロモビスフ
ェノールAカーボネートオリゴマーを用いることができ
る。
The flame retardant used in the production of this prepreg may be any compound containing halogen, but specifically, tetrabromobisphenol A, halogen-substituted aromatic polycarbonate oligomers, such as those of formula 2 (If) The phenoxy-terminated tetrabromobisphenol A carbonate oligomer shown can be used.

(式中、nは1〜20の整数である。)これらの難燃剤
は、単独あるいは混合して用いることができるが1式(
1)のシアネートエステル樹脂と難燃剤との合計量に対
してBrの含有量が10〜15重量%になるように調整
するのが好ましい。
(In the formula, n is an integer of 1 to 20.) These flame retardants can be used alone or in combination, but one formula (
It is preferable to adjust the Br content to 10 to 15% by weight based on the total amount of the cyanate ester resin and flame retardant in 1).

また2反応触媒としては、イミダゾール類、アミン類、
有機金属塩類等を用いることができるが。
In addition, as 2-reaction catalysts, imidazoles, amines,
Although organic metal salts etc. can be used.

特にナフテン酸コバルトやオクチル酸コバルト。Especially cobalt naphthenate and cobalt octylate.

オクチル酸マンガン等の有機金属塩類が好ましい。Organometallic salts such as manganese octylate are preferred.

反応触媒の添加量は特に限定されるものではないが2例
えば、有機コバルト塩類を用いる場合には。
The amount of the reaction catalyst added is not particularly limited; for example, when organic cobalt salts are used.

所望するプレブリーグのゲルタイムに応じて1式[1)
で示されるシアネートエステル樹脂の重量に対して金属
の重量比で100〜1 + 000ppmの範囲で配合
される。
1 set depending on the desired prebrig gel time [1]
The metal is blended in a weight ratio of 100 to 1 + 000 ppm based on the weight of the cyanate ester resin.

さらに、有機溶剤としては9式〔■]で示されるシアネ
ートエステル樹脂や難燃剤を溶解し9反応に悪影響を与
えないものであれば特に制限はないが1例えば、アセト
ン、メチルエチルケトン等のケトン類、ジメチルホルム
アミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン
等の極性アミド溶媒が用いられ、これらは単独あるいは
混合して用いることができる。添加する有機溶剤の量は
Furthermore, the organic solvent is not particularly limited as long as it dissolves the cyanate ester resin and flame retardant represented by Formula 9 [■] and does not have an adverse effect on the 9 reaction.1 For example, ketones such as acetone and methyl ethyl ketone, Polar amide solvents such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone are used, and these can be used alone or in combination. What is the amount of organic solvent to add?

ワニス中の固形分濃度が50〜70重量%になるように
調合するのが一般的である。
It is common to prepare the varnish so that the solid content concentration in the varnish is 50 to 70% by weight.

そして、このようにして調製したプレプリーグを複数枚
重ね、さらに、上下の画面に銅箔を重ねて、これを加熱
加圧成形することにより、プレプリーグ中のシアネート
エステル樹脂が重合硬化し。
Then, the cyanate ester resin in the prepreg is polymerized and cured by stacking a plurality of sheets of the prepreg prepared in this way, and then layering copper foil on the upper and lower screens and molding them under heat and pressure.

絶縁基板の両面に銅箔を積層接着した銅張積層板を作製
することができる。この際の成形条件は。
A copper-clad laminate can be produced in which copper foil is laminated and bonded to both sides of an insulating substrate. What are the molding conditions at this time?

加熱温度を170〜230°C2圧力を25〜50kg
/c111.時間を1〜2時間程度に設定するのが一般
的である。また、成形後に220〜230°Cでアフタ
ーキュアする場合には、成形温度は170〜180°C
で十分である。
Heating temperature: 170-230°C2 Pressure: 25-50kg
/c111. It is common to set the time to about 1 to 2 hours. In addition, when after-curing at 220-230°C after molding, the molding temperature is 170-180°C.
is sufficient.

また、多層のプリント配線板を作製するには。Also, to produce multilayer printed wiring boards.

前記の方法によって作製した銅張積層板のF4箔をエツ
チング加工等して回路形成することにより内層板を作製
し1次いで、この内層板を複数枚の上記ブレプリーグを
介して重ねるとともに、最外層に銅箔を重ね、これを加
熱成形することにより多層のプリント基板であるシール
ド板を作製することができる。このようにして得られた
両面銅張積層板、シールド板については、公知の方法を
用いてプリント配線板にすることができる。
The F4 foil of the copper-clad laminate produced by the above method is etched to form a circuit to produce an inner layer board. Next, this inner layer board is stacked via a plurality of the above-mentioned bleep leagues, and the outermost layer is A shield plate, which is a multilayer printed circuit board, can be produced by stacking copper foils and heat-forming them. The double-sided copper-clad laminate and shield board thus obtained can be made into a printed wiring board using a known method.

(実施例) 以下1本発明を実施例によって具体的に説明する。(Example) The present invention will be specifically explained below using examples.

参考例1 珪酸繊維としてAKZO社の水ガラス由来の繊維を用い
てクロスを製織した。用いたヤーンの単糸本数は241
本、単糸径は9.6μm9番手は35.7テツクスであ
った。このヤーンの物性は、5i0z含有率99.6%
、比重2.0.引張強度52kg/+11ffl 2.
弾性率5,500kg/画2であった。
Reference Example 1 A cloth was woven using water glass-derived fibers manufactured by AKZO as silicic acid fibers. The number of single yarns used was 241.
The diameter of the single yarn was 9.6 μm, and the number 9 yarn was 35.7 tex. The physical properties of this yarn include 5i0z content of 99.6%.
, specific gravity 2.0. Tensile strength 52kg/+11ffl 2.
The elastic modulus was 5,500 kg/stroke 2.

次いで、ポリビニルアルコール系の糊剤をヤーンに付着
し、乾燥後、糊剤付ヤーンをレピア織機にて製織した。
Next, a polyvinyl alcohol-based sizing agent was applied to the yarn, and after drying, the sizing agent-coated yarn was woven using a rapier loom.

このクロスをハツチ式焼却炉中で400 ’Cで熱処理
し、繊維表面の紡糸バインダーや糊剤を焼却除去した後
、アミノシランカップリング剤(S Z−6032,東
しシリコーン社製)溶液中に浸漬し、140°Cで加熱
乾燥することにより、シランカップリング剤で処理した
クロスを得た。このクロスの密度は、経40本725m
m。
This cloth was heat-treated at 400'C in a Hatchi-type incinerator to remove the spinning binder and sizing agent on the fiber surface by incineration, and then immersed in an aminosilane coupling agent (S Z-6032, manufactured by Toshi Silicone Co., Ltd.) solution. By heating and drying at 140°C, a cloth treated with a silane coupling agent was obtained. The density of this cloth is 40 lengths and 725m
m.

緯32本/25mm、厚さは124μmであった。The latitude was 32 lines/25 mm, and the thickness was 124 μm.

参考例2 参考例1と同じようにしてAKZO社の水ガラス由来の
珪酸繊維を製織した。この除用いたヤーンの単糸本数は
120本、単糸径は9.0μm1番手は17テツクスで
あった。また、このヤーンの物性は、Si0g含有率9
9.5%、比重2.0.引張強度70 kg/mm2.
弾性率5,220kg/11m2であった。
Reference Example 2 Silicate fibers derived from water glass manufactured by AKZO were woven in the same manner as in Reference Example 1. The number of single yarns of the removed yarn was 120, the single yarn diameter was 9.0 μm, and the first count was 17 textures. In addition, the physical properties of this yarn are as follows: Si0g content: 9
9.5%, specific gravity 2.0. Tensile strength 70 kg/mm2.
The elastic modulus was 5,220 kg/11 m2.

以下、参考例1と同様にしてシランカップリング剤で処
理したクロスを得た。このクロスの密度は、経64本/
25mm、緯62本/25閣厚さは96μmであった。
Thereafter, cloth treated with a silane coupling agent was obtained in the same manner as in Reference Example 1. The density of this cloth is 64 warps/
25 mm, 62 wefts/25 lines thickness was 96 μm.

参考例3 プリント配線基板用に一般に用いられるEガラス繊維2
25  l10(単糸本数200本、単糸径7.0μm
9番手22.4テツクス)を用いて、クロスを製織した
Reference example 3 E-glass fiber 2 commonly used for printed wiring boards
25 l10 (number of single threads 200, single thread diameter 7.0 μm
A cloth was woven using a 22.4-texture (22.4 tex).

以下、参考例1と同様にしてシランカップリング剤で処
理したガラスクロスを得た。このクロスの密度は、経6
1本/25mm、緯58本/25mm。
Hereinafter, a glass cloth treated with a silane coupling agent was obtained in the same manner as in Reference Example 1. The density of this cross is 6
1 line/25mm, latitude 58 lines/25mm.

厚さは97μmであった。The thickness was 97 μm.

実施例1 一般式(T)で示されるシアネートエステル樹脂として
XU−71787(ダウケミカル社製)100gをメチ
ルエチルケトン(MEK)とジメチルホルムアミド(D
MF)の1:I混合溶液に溶解することにより、固形分
含有率が63重量%の樹脂溶液を調製し、これに反応触
媒としてオクチル酸コバルトをシアネートエステル樹脂
に対してCOが重量比で600 ppmになるように添
加して、ワニスを調製した。このワニスを参考例1で作
製したクロスに固形分含有率が50重量%になるように
含浸し、150“Cで5分間、加熱乾燥することにより
プレプリーグを調製した。
Example 1 As a cyanate ester resin represented by general formula (T), 100 g of XU-71787 (manufactured by Dow Chemical Company) was mixed with methyl ethyl ketone (MEK) and dimethyl formamide (D
A resin solution with a solid content of 63% by weight was prepared by dissolving it in a 1:I mixed solution of MF), and cobalt octylate was added as a reaction catalyst to the cyanate ester resin at a weight ratio of 600%. A varnish was prepared by adding it in ppm. A prepreg was prepared by impregnating the cloth prepared in Reference Example 1 with this varnish so that the solid content was 50% by weight, and drying it by heating at 150"C for 5 minutes.

次に、このプレプリーグを10枚重ねるとともに、その
両面に35g用厚の銅箔を重ね、成形温度177°C1
成形圧力30kg/cffl、成形時間60分間の条件
で成形した後、さらに225°Cで2時間アフターキュ
アすることにより1両面銅張槽層板を得た。
Next, 10 sheets of this prepreg were stacked, and 35g thick copper foil was stacked on both sides, and the molding temperature was 177°C.
After molding under the conditions of a molding pressure of 30 kg/cffl and a molding time of 60 minutes, a single-sided copper-clad tank laminate was obtained by further after-curing at 225°C for 2 hours.

実施例2 樹脂成分としてXU−71787を80gと難燃剤とし
てのフェノキシ末端テトラブロモビスフェノールAカー
ボネートオリゴマー(BC−58゜グレートレイク社製
)を20g用いること以外は。
Example 2 Except for using 80 g of XU-71787 as a resin component and 20 g of phenoxy-terminated tetrabromobisphenol A carbonate oligomer (BC-58° manufactured by Great Lakes) as a flame retardant.

実施例1と同様にして銅張積層板を得た。A copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1.

実施例3 樹脂成分としてXU−71787を80gと難燃剤とし
てのフェノキシ末端テトラブロモビスフェノールAカー
ボネートオリゴマー(BC−58゜グレートレイク社製
)を20g用いること及びクロスとして参考例2で作製
したものを用いること以外は、実施例1と同様にして銅
張積層板を得た。
Example 3 Using 80 g of XU-71787 as a resin component and 20 g of phenoxy-terminated tetrabromobisphenol A carbonate oligomer (BC-58° manufactured by Great Lake) as a flame retardant, and using the cloth prepared in Reference Example 2 as a cloth. A copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

比較例1 参考例3で作製したガラスクロスを用いること以外は、
実施例1と同様にして銅張積層板を得た。
Comparative Example 1 Except for using the glass cloth prepared in Reference Example 3,
A copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1.

比較例2 樹脂成分としてXU−71787を80gと難燃剤とし
てのテトラブロモビスフェノールA20gを用いること
及び参考例3で作製したガラスクロスを用いること以外
は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た。
Comparative Example 2 A copper-clad laminate was produced in the same manner as in Example 1, except for using 80 g of XU-71787 as a resin component and 20 g of tetrabromobisphenol A as a flame retardant, and using the glass cloth prepared in Reference Example 3. Obtained.

比較例3 樹脂成分としてテトラブロモ化ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂100gとジシアンジアミド5gを用いること
以外は、実施例1と同様にして銅張積層板を得た。
Comparative Example 3 A copper-clad laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that 100 g of tetrabrominated bisphenol A type epoxy resin and 5 g of dicyandiamide were used as resin components.

前記実施例1〜4及び比較例1〜3により作製した積層
板の特性を第1表に示した。なお、積層板の特性の評価
方法は以下のとおりである。
Table 1 shows the characteristics of the laminates produced in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3. Note that the evaluation method for the characteristics of the laminate is as follows.

(1)誘電率及び誘電正接 JIS  C−6481に従い、LPゼインーダンスア
ナライザー4194A(横河ヒューレットバッカード社
製)を用いてIMHzにおける値を測定した。
(1) Dielectric constant and dielectric loss tangent Values at IMHz were measured using LP Zein-Dance Analyzer 4194A (manufactured by Yokogawa Hewlett-Baccard) in accordance with JIS C-6481.

(2)曲げ強度 JIS  C−6481に従い、所定サイズの試料を取
り出し、精密万能材料試験機2゜20型(インテスコ社
製)を用いて支点間50mmで測定した。
(2) Bending strength According to JIS C-6481, a sample of a predetermined size was taken out and measured using a precision universal material testing machine 2° 20 model (manufactured by Intesco) at a distance of 50 mm between fulcrums.

(3)  ビール強度 JIS C−6481に従い、所定サイズの試料を取り
出し、精密万能材料試験機2゜20型(インテスコ社製
)を用いて測定した。
(3) Beer strength According to JIS C-6481, a sample of a predetermined size was taken out and measured using a precision universal material testing machine 2°20 model (manufactured by Intesco).

(4)絶縁抵抗 I PC−825に従い、375μm幅のくし型電極を
作製し、パイプレイティングリードエレクトロメーター
TR〜84M(タヶダ理研製)を用いてDC500V印
加時の絶縁抵抗を測定した。
(4) Insulation resistance I A comb-shaped electrode with a width of 375 μm was prepared according to PC-825, and the insulation resistance was measured when 500 V DC was applied using a pipe-rating lead electrometer TR-84M (manufactured by Tagada Riken).

(5)  ガラス転移温度(Tg) 粉末状の試料15■を採取し、DSC−2C(パーキン
エルマー社製)を用いて20 ’C/分で昇温すること
により測定した。
(5) Glass transition temperature (Tg) 15 micrometers of powdered sample was taken and measured by heating it at 20'C/min using DSC-2C (manufactured by PerkinElmer).

(6)熱分解開始温度(Td) 粉末状の試料5■を採取し、TGA7 (パーキンエル
マー社製)を用いてN2気流中で20°C/分で昇温し
で熱減量を測定し、その減量開始温度より求めた。
(6) Thermal decomposition onset temperature (Td) Powdered sample 5 was collected and heated at 20°C/min in a N2 stream using TGA7 (manufactured by PerkinElmer) to measure the thermal loss. It was determined from the temperature at which the weight loss started.

(7)  難燃性 UL−94規格に従い、垂直法より評価した。(7) Flame retardant Evaluation was made by the vertical method according to the UL-94 standard.

(発明の効果) 本発明のプレプリーグ及びそれを用いた銅張積層板は、
誘電率が例えば3.4以下と低く、かつガラス転移温度
が250℃以上と高くてハンダ耐熱性に優れているので
、電子機器用絶縁材として好適である。また1本発明の
銅張積層板を用いて形成したプリント回路板は1例えば
誘電率3.4以下で、従来用いられているガラスエポキ
シ基板及びガラスポリイミド基板に比べて格段に小さく
、シたがって、信号伝播速度を大幅に向上しうる効果が
あり、高速電子計算機等のプリント回路用として優れて
いるものである。
(Effect of the invention) The prepreg of the present invention and a copper-clad laminate using the same,
It has a low dielectric constant of, for example, 3.4 or less, a high glass transition temperature of 250° C. or more, and has excellent solder heat resistance, so it is suitable as an insulating material for electronic devices. In addition, a printed circuit board formed using the copper-clad laminate of the present invention has a dielectric constant of 3.4 or less, for example, and is much smaller than conventionally used glass epoxy substrates and glass polyimide substrates. , it has the effect of significantly increasing the signal propagation speed, and is excellent for use in printed circuits such as high-speed electronic computers.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)SiO_2の含有量が98重量%以上,比重1.
8〜2.0,引張強度20〜82kg/mm^2,弾性
率1.000〜8.200kg/mm^2である珪酸繊
維を製織してなる織布の表面をシランカツプリング剤で
処理したクロスに,一般式〔I〕で示されるシアネート
エステル樹脂を重合させて得た樹脂ワニスを含浸させて
なることを特徴とするプレプリーグ。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中,Aは芳香環又は芳香環を含む基,BはC_7〜
C_2_0の多環脂環基,Dは各々独立に活性水素基を
含まない置換基,p,q,rは各々独立に0〜3の整数
であって,p,q,rの合計は2以上である。さらに,
sは各々独立に0〜4の整数であり,xは0〜5の整数
である。)
(1) SiO_2 content is 98% by weight or more, specific gravity 1.
The surface of a woven fabric made of silicic acid fibers with a tensile strength of 20-2.0, a tensile strength of 20-82 kg/mm^2, and an elastic modulus of 1.000-8.200 kg/mm^2 was treated with a silane coupling agent. A prepreg characterized in that a cloth is impregnated with a resin varnish obtained by polymerizing a cyanate ester resin represented by the general formula [I]. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (In the formula, A is an aromatic ring or a group containing an aromatic ring, B is C_7~
C_2_0 polycyclic alicyclic group, D is each independently a substituent that does not contain an active hydrogen group, p, q, r are each independently an integer of 0 to 3, and the total of p, q, r is 2 or more It is. moreover,
s is each independently an integer of 0 to 4, and x is an integer of 0 to 5. )
(2)請求項(1)のプレプリーグを積層し,表面に銅
箔を張り付けてなることを特徴とする銅張積層板。
(2) A copper-clad laminate, characterized in that the prepreg according to claim (1) is laminated and a copper foil is pasted on the surface.
JP32503390A 1990-11-26 1990-11-26 Prepreg and copper-clad laminated board Pending JPH04192489A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32503390A JPH04192489A (en) 1990-11-26 1990-11-26 Prepreg and copper-clad laminated board

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP32503390A JPH04192489A (en) 1990-11-26 1990-11-26 Prepreg and copper-clad laminated board

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH04192489A true JPH04192489A (en) 1992-07-10

Family

ID=18172403

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP32503390A Pending JPH04192489A (en) 1990-11-26 1990-11-26 Prepreg and copper-clad laminated board

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH04192489A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996039457A1 (en) * 1995-06-05 1996-12-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aromatic cyanate ester silane coupling agents
US5912377A (en) * 1995-06-05 1999-06-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aromatic cyanate ester silane coupling agents
US6306669B1 (en) 1998-04-17 2001-10-23 Kabushki Kaisha Toshiba Method of manufacturing semiconductor device

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996039457A1 (en) * 1995-06-05 1996-12-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aromatic cyanate ester silane coupling agents
US5912377A (en) * 1995-06-05 1999-06-15 Minnesota Mining And Manufacturing Company Aromatic cyanate ester silane coupling agents
US6217943B1 (en) 1996-06-05 2001-04-17 3M Innovative Properties Company Aromatic cyanate ester silane coupling agents
US6306669B1 (en) 1998-04-17 2001-10-23 Kabushki Kaisha Toshiba Method of manufacturing semiconductor device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101897426B1 (en) Halogen-free resin composition and prepreg and laminated prepared therefrom
KR101319677B1 (en) Insulating resin composition for printed circuit board and printed circuit board comprising the same
JP2006319324A (en) Resin-laminated board for printed circuit board, and its manufacturing method
CN108485182B (en) High-frequency resin composition and prepreg and laminated board manufactured by using same
TWI654243B (en) Resin composition, and prepreg, metal foil laminate, and printed circuit board prepared using the same
JP2004182851A (en) Resin composition, prepreg, and printed wiring board therewith
CN108440901B (en) High-frequency resin composition, and prepreg, interlayer insulating film and laminated board prepared from high-frequency resin composition
CN103992622A (en) Halogen-free resin composition, prepreg prepared from halogen-free resin composition and laminated board prepared from halogen-free resin composition and used for printed circuit
CN109517010A (en) Fire-retardant compound, preparation method and application
EP3075782A1 (en) Epoxy resin composition, prepreg and laminate using same
EP3392286B1 (en) Epoxy resin composition and prepreg, laminated board and printed-circuit board comprising same
CN110669328A (en) Resin composition containing phosphorus flame retardant BMI and application thereof
JP2003253018A (en) Prepreg and printed wiring board using the same
CN105131597A (en) Halogen-free resin composition and prepreg using halogen-free resin composition and printed circuit laminated board
US5319244A (en) Triazine thin film adhesives
TW201903037A (en) Halogen-free epoxy resin composition and prepreg and laminate using the same
JPH04192489A (en) Prepreg and copper-clad laminated board
CN115181395B (en) Thermosetting resin composition and application thereof
US5206074A (en) Adhesives on polymide films and methods of preparing them
US5436301A (en) Epoxy resin-impregnated prepreg
JPS5856276B2 (en) Manufacturing method for flame-retardant and heat-resistant copper-clad laminates
JPH04300952A (en) Thermosetting resin composition and prepreg and copper-clad laminated board produced by using the same
CN109593200B (en) Flame-retardant resin prepolymer, and resin composition, prepreg and laminated board prepared from same
JP2017132651A (en) Glass cloth, prepreg and printed wiring board
JP3081972B2 (en) Flame-retardant resin composition and prepreg and copper-clad laminate using the same