JPH04184727A - Manufacture of optical disc stamper - Google Patents

Manufacture of optical disc stamper

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Publication number
JPH04184727A
JPH04184727A JP31480190A JP31480190A JPH04184727A JP H04184727 A JPH04184727 A JP H04184727A JP 31480190 A JP31480190 A JP 31480190A JP 31480190 A JP31480190 A JP 31480190A JP H04184727 A JPH04184727 A JP H04184727A
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JP
Japan
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glass substrate
photoresist
stamper
optical disc
substrate surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP31480190A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Akiyama
雄治 秋山
Michio Mitsui
教夫 三津井
Mitsuru Toyokawa
満 豊川
Toshiyuki Kashiwagi
俊行 柏木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPH04184727A publication Critical patent/JPH04184727A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To obtain a high density optical disc without fail by a method wherein, after a glass substrate surface is subjected to a coupling agent treatment, a photoresist layer is formed and apertures corresponding to recorded information are formed in the photoresist layer by exposure and development and recesses corresponding to recorded information are formed by etching and, after metal plating is applied, the metal plating layer is removed. CONSTITUTION:A glass substrate surface 11a is treated with coupling agent containing metal atoms such as Si and Ti which have hydrophilic groups on one side of the atoms and lipophilic groups on the other. Then the glass substrate surface 11a is coated with photoresist 12 and the photoresist layer is exposed and developed into a required pattern to form apertures 13. Then the glass substrate surface 11a is etched through the apertures 13 by using the photoresist 12 as etching resist to form recesses 14 and the photoresist is removed. Then metal plating is applied to the glass substrate surface 11a. With this constitution, a stamper for forming a high density recording optical disc can be obtained without fail.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ビデオディスク、コンパクトディスク、光磁
気ディスク等の光ディスク、特に高密度記録の光ディス
クの作製に用いられる光ディスク用スタンバ−の作製方
法に係わる。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for producing an optical disc standber used for producing optical discs such as video discs, compact discs, and magneto-optical discs, particularly optical discs with high density recording. Involved.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明は、光ディスク用スタンバ−の作製方法に係り、
ガラス基体面にカップリング剤処理を行って後フォトレ
ジストを形成し、これに露光、現像処理によって記録情
報に応じた開口を形成して、このフォトレジストをマス
クとしてガラス基体面にエツチングを行ってガラス基体
面に記録情報に応じた凹部を形成し、このガラス基体面
に金属メッキを施し、この金属メッキ層をガラス基体面
から剥離してこれを光ディスクを得るためのスタンパ−
1或いはこのスタンパ−を得るためのメタルマスクとす
るものであって、このようにして高密度記録の光ディス
クを形成するためのスタンパ−を確実に得ることができ
るようにする。
The present invention relates to a method for producing a standber for an optical disc,
After applying a coupling agent treatment to the glass substrate surface, a photoresist is formed, and an opening corresponding to the recorded information is formed in this through exposure and development treatment, and the glass substrate surface is etched using this photoresist as a mask. A concave portion corresponding to recorded information is formed on the glass substrate surface, metal plating is applied to this glass substrate surface, and this metal plating layer is peeled off from the glass substrate surface and used as a stamper for obtaining an optical disk.
1 or a metal mask for obtaining this stamper, and thus it is possible to reliably obtain a stamper for forming a high-density recording optical disk.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

例えば第4図にその工程図を示すように、ビデオディス
ク、コンパクトディスク、光磁気ディスク等の光ディス
クを得る方法としては、平滑面(1a)を有するガラス
基体(1)のその面(1a)上に、全面的にフォトレジ
スト(2)を塗布し、これに対し記録しようとする情報
に応じたパターン露光をなし、その後現像処理を行って
所要のパターンの開口(3)を穿設する(第4図A)。
For example, as shown in the process diagram in FIG. 4, a method for obtaining optical discs such as video discs, compact discs, magneto-optical discs, etc. is as follows: A photoresist (2) is applied to the entire surface, exposed in a pattern according to the information to be recorded, and then developed to form openings (3) in the required pattern (the first Figure 4A).

次に開口(3)内を含んで全面的にNi等の金属を、こ
の後の電気メッキを行うための無電解メッキ、蒸着スパ
ッタ等によって被着して導電化膜(4)を形成する(第
4図B)。
Next, a metal such as Ni is deposited on the entire surface including the inside of the opening (3) by electroless plating, vapor deposition sputtering, etc. for subsequent electroplating to form a conductive film (4). Figure 4B).

更にこれの上Niの電気メッキによって金属電気メッキ
層(5)を形成する(第4図C)。
Furthermore, a metal electroplating layer (5) is formed on this by electroplating Ni (FIG. 4C).

そして、導電化膜(4)と金属電気メッキ層(4)とに
よる金属メッキ層(6)をガラス基体(1)から剥離し
てスタンパ−(7)を作製する(第4図D)。
Then, the metal plating layer (6) consisting of the conductive film (4) and the metal electroplating layer (4) is peeled off from the glass substrate (1) to produce a stamper (7) (FIG. 4D).

このようにして得たスタンパ−())によって、例えば
アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等を成型してスタ
ンパ−(5)の凹凸面が転写された逆パターンの凸凹面
による凹部(8)すなわち情報ピットが形成された光デ
ィスク(9)を得る(第4図E)。
With the thus obtained stamper ()), for example, acrylic resin, polycarbonate resin, etc. are molded to form concave portions (8), that is, information pits, formed by the concave and convex surface of the reverse pattern onto which the concave and convex surface of the stamper (5) is transferred. A formed optical disc (9) is obtained (FIG. 4E).

ところが、このようにして得た光ディスク(7)の情報
記録面、すなわちそのスタンパ−(5)の凹凸面が第4
図Cをみて明らかなようにその大部分がレジスト(2)
の面で形成されるものであり、このレジスト(2)の面
は、平滑にすくれているものではないことから、光学的
表面として問題があり、更に、凹部(力の側面がレジス
ト(2)の側面を踏襲する50゜程度傾いた面となるの
で特に高記録密度化に伴って情報ピットのピッチ及び大
きさが小さくなってくるにつれ、その表面性の問題と共
に、その記録、再生特性に問題が生じて来る。
However, the information recording surface of the optical disc (7) obtained in this way, that is, the uneven surface of the stamper (5) is
As is clear from Figure C, most of it is resist (2)
The surface of this resist (2) is not smooth and concave, which poses a problem as an optical surface. ), and as the pitch and size of information pits become smaller with higher recording densities, problems arise not only in surface properties but also in recording and playback characteristics. Problems arise.

このようにレジスト(2)の表面性の問題を解決するも
のとして、その作製方法の工程図を第5図に示すように
、ガラス基体(1)の平滑面(1a)上に、フォトレジ
スト(12)を全面的に塗布し、これに対し露光、現像
を行って所要のパターンの開口(3)を有するレジスト
(2)を形成する(第5図A)。
In order to solve the problem of the surface properties of the resist (2), as shown in FIG. 12) is applied over the entire surface, and is exposed and developed to form a resist (2) having a desired pattern of openings (3) (FIG. 5A).

このレジスト(2)を、エツチングレジストとして、そ
の開口(3)を通じてガラス基体(1)の面(1a)を
RIE(反応性イオンエツチング)、或いは弗酸による
化学的エツチングによって凹部(8)、すなわち情報ピ
ットを形成する(第5図B)。
Using this resist (2) as an etching resist, the surface (1a) of the glass substrate (1) is etched through the opening (3) by RIE (reactive ion etching) or by chemical etching with hydrofluoric acid to form the recess (8), i.e. Information pits are formed (Figure 5B).

レジスト(2)を除去することによって情報ピット(凹
部)(8)を有する光ディスク(9)を形成する(第5
図C)。
By removing the resist (2), an optical disc (9) having information pits (recesses) (8) is formed (fifth
Figure C).

しかしながら、実際上このようにガラス基体(1)上に
フォトレジストを塗布して得たレジスト(2)は、ガラ
ス基体(1)との密着性に問題があり、これをマスクと
してガラス基体(1)をエツチングして得た凹部(8)
、すなわち情報ピットの形状寸法の精度を低下させると
いう問題があり、高密度化に問題がある。
However, in practice, the resist (2) obtained by coating the photoresist on the glass substrate (1) in this way has a problem in adhesion to the glass substrate (1), and this is used as a mask to coat the glass substrate (1). ) Recess (8) obtained by etching
That is, there is a problem in that the accuracy of the shape and size of the information pits is reduced, and there is a problem in increasing the density.

更に、このように第5図の工程を経て、1枚づつ光ディ
スク(9)を作製することは、著しく生産性が低い。そ
こで、第5図Cで得たガラス基体(1)をメッキ原盤と
して、これに第4図B−Dで説明したと同様の寸法によ
って金属メッキ層(6)を形成し、これをガラス基体(
1)から剥離して光ディスクを得るためのスタンパ−を
作製するということが考えれらる。しかしながら、実際
上ガラス面にNi等の無電解メッキ、スパッタ等による
導電化膜(4)を形成したり、これの上に電気メッキ層
(5)を形成することはガラス面とNiの密着力が弱い
ことから、そのその無電解メッキ、スパッタリング、電
気メンキ時の応力でこのNi層が剥離してしまって、精
度の低下を来す。
Furthermore, manufacturing the optical disks (9) one by one through the steps shown in FIG. 5 in this way has extremely low productivity. Therefore, using the glass substrate (1) obtained in FIG. 5C as a plating master, a metal plating layer (6) was formed on it with the same dimensions as explained in FIG. 4B-D, and this was applied to the glass substrate (
It is conceivable to prepare a stamper for obtaining an optical disk by peeling from 1). However, in practice, it is difficult to form a conductive film (4) on the glass surface by electroless plating, sputtering, etc. of Ni, or to form an electroplated layer (5) on this because of the adhesion between the glass surface and Ni. Since the Ni layer is weak, the stress during electroless plating, sputtering, and electric polishing causes the Ni layer to peel off, resulting in a decrease in precision.

そこで、このNi層の形成に当って、ガラス基体(1)
の表面のNi層の被着面を弗酸等で粗面化するとか、表
面に例えばセラミックを焼付けるなどの方法が採られる
が、このようにして表面性を低下させることは、このN
i金属層を剥離して得たスタンパ−の凹凸面の鏡面性を
阻害し情報記録光学面の特性低下を来す。
Therefore, in forming this Ni layer, the glass substrate (1)
Methods such as roughening the surface to which the Ni layer is adhered with hydrofluoric acid, etc., or baking ceramics on the surface are used, but reducing the surface roughness in this way
This impairs the specularity of the uneven surface of the stamper obtained by peeling off the metal layer, resulting in deterioration of the characteristics of the information recording optical surface.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

本発明は、高密度光ディスクを確実に得ることのできる
光ディスク用スタンバ−の作製方法を提供する。
The present invention provides a method for producing an optical disc stand bar that can reliably produce a high-density optical disc.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明は、ガラス基体面をSi、 Ti等の金属原子の
少くとも一方に親水基を有し、他方に親油基を有するカ
ップリング剤により処理する工程と、ガラス基体面にフ
ォトレジストを塗布する工程と、このフォトレジストを
所要のパターンに露光、現像して開口を形成する工程と
、フォトレジストをエツチングレジストとしてその開口
を通じてガラス基体面をエツチングして凹部を形成する
工程と、フォトレジストを除去する工程と、凹部内を含
んでガラス基体面に金属メッキを施す工程と、この金属
メッキをガラス基体面から剥離工程を得て、スタンパ−
またはスタンパ−を得るためのメタルマスクを作製する
The present invention involves a step of treating a glass substrate surface with a coupling agent having a hydrophilic group on at least one of metal atoms such as Si or Ti and a lipophilic group on the other, and coating a photoresist on the glass substrate surface. a step of exposing and developing the photoresist in a desired pattern to form an opening; a step of using the photoresist as an etching resist and etching the surface of the glass substrate through the opening to form a recess; A step of removing the metal, a step of applying metal plating to the surface of the glass substrate including the inside of the recess, and a step of peeling off the metal plating from the surface of the glass substrate.
Or make a metal mask to obtain a stamper.

また本発明においては、上述したガラス基体面に金属メ
ッキを施す前に、その凹部内を含んでガラス基体面を洗
浄し、上述したと同様のカップリング剤で処理する。
Further, in the present invention, before applying metal plating to the above-mentioned glass substrate surface, the glass substrate surface, including the inside of the recess, is cleaned and treated with the same coupling agent as described above.

〔作用〕[Effect]

上述した本発明製法では、ガラス基体に凹部を形成し、
これに金属メッキ層を形成し、これを剥離してスタンパ
−或いはスタンパ−を得るに供するマスターを形成する
ので、このスタンパ−の、情報ピットを形成するための
凹凸面は、すぐれた表面性を有する。
In the manufacturing method of the present invention described above, a recess is formed in the glass substrate,
A metal plating layer is formed on this, and this is peeled off to form a stamper or a master used to obtain a stamper, so the uneven surface of the stamper for forming information pits has excellent surface properties. have

そして、ガラス基体に凹部を形成するためのフォトレジ
ストをカップリング剤処理されたガラス基体面に被着す
るので、すぐれた密着性をもって形成することができ、
これをエツチングレジストとしてガラス基体面にRIE
、或いは化学的エツチングによって形成する。凹部は、
高精度に形成できる。したがってこれをメッキ原盤とし
て形成したスタンパ−1更にこれにより得る光ディスク
を高精度にすぐれた光学的情報面として形成することが
できる。
Then, since the photoresist for forming the recesses in the glass substrate is applied to the surface of the glass substrate treated with the coupling agent, it is possible to form the recesses with excellent adhesion.
RIE this onto the glass substrate surface as an etching resist.
, or by chemical etching. The recess is
Can be formed with high precision. Therefore, the stamper 1 formed using this as a plating master and the optical disk obtained thereby can be formed with high precision as an excellent optical information surface.

更に、上述した凹部を形成したガラス基体をメッキ原盤
として、シランカップリング剤処理を施して、金属メッ
キ層を形成することによって、例えばこの金属メッキ層
を無電解メッキ(化学メッキ)による導電化膜とこれの
上に電気メッキを施して形成したときにその応力による
剥離を生ずることがない程度の密着性を得ることかでき
、しかもこの金属メッキ層をガラス基体面から良好に剥
離させることができて高精度のスタンパ−1或いは更に
スタンパ−を得るためのメタルマスターを得ることがで
きた。
Furthermore, by using the glass substrate with the above-mentioned recesses as a plating master and treating it with a silane coupling agent to form a metal plating layer, for example, this metal plating layer can be made into a conductive film by electroless plating (chemical plating). When formed by electroplating on top of this, it is possible to obtain adhesion to the extent that peeling does not occur due to the stress, and furthermore, this metal plating layer can be easily peeled off from the glass substrate surface. As a result, we were able to obtain a highly accurate stamper 1 or a metal master for obtaining a stamper.

〔実施例〕〔Example〕

第1図を参照して本発明の一実施例を説明する。 An embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.

この例においては、先ず第1図Aに示すように、表面(
lla)を研磨して平滑面としたガラス基体(11)の
表面をカップリング剤処理する。そしてこのガラス基体
(11)上に、膜厚がこれに対する露光波長のλ/4n
(n:屈折率)以上の例えば500人〜1500人の例
えばポジ型の感光性樹脂すなわちポジ型のフォトレジス
ト(12)を塗布する。
In this example, first, as shown in FIG. 1A, the surface (
The surface of the glass substrate (11), which has been polished to a smooth surface, is treated with a coupling agent. Then, on this glass substrate (11), the film thickness is λ/4n of the exposure wavelength for this.
(n: refractive index) or more, for example, 500 to 1,500 positive photosensitive resins, ie, positive photoresists (12), are applied.

第1図Bに示すように、フォトレジスト(12)に対し
例えばレーザー光照射による記録情報に応じたパターン
露光を行い第1図Cに示すように、例えばアセトンによ
る現像を行って開口(13)を形成する。このとき、フ
ォトレジスト(12)の現像後の開口(13)のレーザ
光入射側端面における開ロ輻W1ガラス基体(11)と
の境界部における開口軸W、より大となるようにレーザ
光hνのエネルギー、出力を調節して記録情報に応じて
選択的に露光する。
As shown in FIG. 1B, the photoresist (12) is exposed in a pattern according to recorded information, for example, by laser beam irradiation, and as shown in FIG. form. At this time, the laser beam hν is adjusted so that the aperture axis W at the boundary with the glass substrate (11) becomes larger than the aperture radius W1 at the laser beam incident side end face of the aperture (13) after development of the photoresist (12). The energy and output are adjusted to selectively expose light according to the recorded information.

なお、このときのレーザ光hνは、フォトレジスト層(
12)の表面でスポット径が0.4μイとなるようにし
た。
Note that the laser beam hν at this time is applied to the photoresist layer (
12) The spot diameter was set to 0.4μ on the surface.

このようにしてW+ >Wzの断面台形の開口(13)
を形成する。
In this way, an opening (13) with a trapezoidal cross section of W+ > Wz
form.

このときの開口部(13)のガラス基体(11)側にお
ける開口幅W2は、0.4mm以下となった。
At this time, the opening width W2 of the opening (13) on the glass substrate (11) side was 0.4 mm or less.

次に、開口(13)を有するフォトレジスト(12)を
エツチングマスクとしてガラス基体(11)の面(ll
a)を例えば最終的に得る光ディスクに対する記録再生
に用いる光の波長λのλ/4nの深さにエツチングして
凹部を形成する。
Next, using the photoresist (12) having the opening (13) as an etching mask, the surface (ll) of the glass substrate (11) is
A) is etched to a depth of, for example, λ/4n of the wavelength λ of light used for recording and reproduction on the optical disc to be finally obtained, thereby forming a recessed portion.

この結果、第1図りに示すように、凹部(14)の開口
幅W、はフォトレジスト(11)の開口(13)の幅W
2に応じた幅として形成される。
As a result, as shown in the first diagram, the opening width W of the recess (14) is the width W of the opening (13) of the photoresist (11).
It is formed with a width corresponding to 2.

次いで、フォトマスクを除去し、洗浄し、再びガラス基
体(11)の凹部(14)内を含んでその表面をカップ
リング剤処理する。
Next, the photomask is removed, washed, and the surface of the glass substrate (11) including the inside of the recess (14) is again treated with a coupling agent.

以下、通常の光ディスクの製造技術に準じてマザー、ス
タンパ−等を作製して光ディスクを作製する。
Thereafter, a mother, a stamper, etc. are prepared according to ordinary optical disk manufacturing techniques to produce an optical disk.

例えば、上述のようにして得た凹部(14)を有するガ
ラス基板(11)をメッキ原盤としこれに対して第1図
已に示すように、例えば触媒であるパラジウムのすず酸
コロイドによる前処理を行って後、例えばNiを無電解
メッキ(化学メッキ)するとか、或いはスパッタリング
して導電化膜厚(15)を形成し、これの上に例えばN
iの電気メッキ(16)を形成して所要の強度を有する
金属メッキ層(17)を形成する。
For example, the glass substrate (11) having the recesses (14) obtained as described above is used as a plating master plate, and as shown in FIG. After that, a conductive film (15) is formed by electroless plating (chemical plating) or sputtering with Ni, and on top of this, for example, N is applied.
Electroplating (16) of i is formed to form a metal plating layer (17) having the required strength.

次に、第1図Fに示すように、メッキ層(17)をガラ
ス基板(11)より剥離してスタンパ−ないしはスタン
パ−を形成するためのメタルマスクを作製する。この剥
離されたスタンパ−或いはメタルマスク(18)には、
基体(11)に形成されたピットすなわち凹部(14)
が転写された凸部(19)が形成される。
Next, as shown in FIG. 1F, the plating layer (17) is peeled off from the glass substrate (11) to produce a stamper or a metal mask for forming a stamper. This peeled stamper or metal mask (18) has
Pit or recess (14) formed in the base (11)
A convex portion (19) to which is transferred is formed.

次いで、これをメタルマスクとするときは同第1図Fに
示すように、このメタルマスク(18)によってマザー
(20)を転写作製する。
Next, when this is used as a metal mask, a mother (20) is transferred and produced using this metal mask (18), as shown in FIG. 1F.

この結果、このマザー(20)には、メタルマスク(1
8)に形成された凸部(19)が転写された凹部(21
)が形成される。
As a result, this mother (20) has a metal mask (1
The concave part (21) to which the convex part (19) formed in
) is formed.

次に、第1図Gに示すように、マザー(20)によって
スタンパ−(22)を作製する。
Next, as shown in FIG. 1G, a stamper (22) is produced using a mother (20).

このスタンパ−(22)には、マザー(20)に形成さ
れた凹部(21)が転写された凸部(23)が形成され
る。
This stamper (22) is formed with a convex portion (23) to which the concave portion (21) formed on the mother (20) is transferred.

次いで、第1図Hに示すように、スタンパ−(22)を
例えばアクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等に押し付
けるとかモールド成型に用いて光デイスク基板(24)
を作製する。
Next, as shown in FIG. 1H, the optical disk substrate (24) is stamped by pressing the stamper (22) onto, for example, acrylic resin or polycarbonate resin, or by using a mold.
Create.

この光デイスク基板(24)には、スタンパ−(22)
に形成された凸部(23)に応じた凹部(25)すなわ
ちピットが形成される。
This optical disk substrate (24) has a stamper (22).
A recess (25), that is, a pit, is formed corresponding to the protrusion (23) formed in the groove.

この光ディスク(24)には第1図Iに示すように、凹
部(ピット)(25)内を含めて例えばアルミニウム等
の反射膜(26)として形成する。
As shown in FIG. 1I, this optical disk (24) is formed with a reflective film (26) made of, for example, aluminum, including the inside of the recess (pit) (25).

また、第1図Jに示すように、反射膜(26)上に樹脂
等による保護膜層(27)を形成し、高密度光ディスク
を完成する。
Further, as shown in FIG. 1J, a protective film layer (27) made of resin or the like is formed on the reflective film (26) to complete a high-density optical disc.

上述のスタンパ−の製造方法におけるカップリング剤処
理に用いるカップリング剤は、S1+ TI等の金属原
子の少くとも一方に親水基、他方に親油基を有するすな
わち例えば末端にアミノ基、エポキシ基等を有する例え
ばシランカップリング剤と、チタン系カップリング剤を
用い得る。シランカップリング剤としては、例えばT−
(2−アミノエチル)・アノミプロビル・トリメトキシ
・シラン(NHzChCHJHCHzCI(zcHzs
i(OCH+)z )の例えば■東し・ダウンエンダ・
シリコーン社製、製品名586020Pを用いた。この
ようなカップリング剤、例えばシランカップリング剤に
よる密着性の向上は、・Si (OCHs)が加水分解
して・Si (OH) 3となり、これがガラス表面の
5i−OHと水素結合し、更に加熱によりSi −0−
5iの化学結合となり強固な密着力が得られることに因
る。そしてフォトレジスト(12)との密着力は、残る
疎水基(親油基)のアミノM (NH,−、−NH−)
がレジストと反応することに因る。更に化学メッキ層と
の密着力は、アミノ基の極性により、化学メッキに際し
て行われ前処理の例えばパラジウムのすず酸コロイドと
の間に親和力が生じ、適度な密着力と剥離性が得られる
ものと考えられる。
The coupling agent used in the coupling agent treatment in the above-mentioned stamper manufacturing method has a hydrophilic group on at least one side and a lipophilic group on the other side of the metal atoms such as S1+ TI, that is, for example, an amino group, an epoxy group, etc. at the terminal. For example, a silane coupling agent and a titanium-based coupling agent can be used. As the silane coupling agent, for example, T-
(2-Aminoethyl)・Anomiprovir・Trimethoxy・Silane (NHzChCHJHCHzCI (zcHzs
i(OCH+)z) For example, ■East, Down Ender,
Product name 586020P manufactured by Silicone Co., Ltd. was used. The improvement of adhesion by such a coupling agent, such as a silane coupling agent, is due to the hydrolysis of ・Si (OCHs) to ・Si (OH) 3, which forms a hydrogen bond with 5i-OH on the glass surface, and further Si -0- by heating
This is due to the chemical bonding of 5i, which provides strong adhesion. The adhesion with the photoresist (12) is determined by the remaining hydrophobic groups (lipophilic groups), amino M (NH,-, -NH-).
This is due to the reaction of the resist with the resist. Furthermore, the adhesion with the chemical plating layer is due to the polarity of the amino group, which creates an affinity with the pretreatment such as palladium stannic acid colloid performed during chemical plating, resulting in appropriate adhesion and removability. Conceivable.

上述の方法によれば、ガラス基体(11)上に、フォト
レジスト(12)によるエツチングマスクを形成し、そ
の開口(13)を通じてエツチングを行って凹部(14
)を形成するので、第4図Cで説明したレジストによる
凹部に比し側面の傾むきを小さくでき、特に凹部(14
)の形成をRIE等の異方性エツチングによって形成す
れば、より垂直性にすぐれた寸法精度の高い凹部(14
)を形成することができる。
According to the above method, an etching mask made of photoresist (12) is formed on the glass substrate (11), and etching is performed through the opening (13) to form the recess (14).
), the slope of the side surface can be made smaller compared to the recess formed by the resist explained in FIG. 4C.
) is formed by anisotropic etching such as RIE, the recess (14
) can be formed.

尚、上述した例では、金属メッキ層(17)をメタルマ
スクとして、スタンパ−(22)を作製した場合である
が、金属メッキ層(17)自体をスタンパ−として光デ
ィスクの成型を行うこともできる。
In the above example, the stamper (22) is produced using the metal plating layer (17) as a metal mask, but it is also possible to mold an optical disc using the metal plating layer (17) itself as a stamper. .

また、上述の本発明作製方法において、第1図りで得た
凹部(14)を形成したガラス基体(11)に対する金
属メッキ層(17)の形成、すなわちスタンパ−ないし
はメタルマスク(18)の作製は同一ガラス基体(11
)に対し数回繰返えし用いることができ、この場合、そ
の都度メッキ処理前に、メッキ原盤としてのガラス基体
(11)を洗浄し、シランカップリング処理する。
In addition, in the above-described manufacturing method of the present invention, the formation of the metal plating layer (17) on the glass substrate (11) in which the recessed portion (14) obtained in the first drawing is formed, that is, the manufacture of the stamper or metal mask (18) is performed. Same glass substrate (11
) can be used repeatedly several times, in which case the glass substrate (11) as a plating master is cleaned and subjected to silane coupling treatment each time before plating treatment.

更に上述のフォトレジスト(12)に対するレーザー光
によるパターン露光について説明する。
Furthermore, the pattern exposure of the above-mentioned photoresist (12) with laser light will be explained.

通常、レーザ光hνをガラス基体(11)上のフォトレ
ジスト層(12)に集光させて照射すると、レーザ光h
νは第2図Aに示すような分布となり、またこのときの
レーザ光hνの強度分布は、同図中−点鎖線aで示す分
布となる。このような条件で現像可能な状態に露光され
る領域は、同図中破線すで囲まれる領域、すなわちレー
ザ光hνの強度分布に応した形となる。
Normally, when the laser beam hv is focused and irradiated onto the photoresist layer (12) on the glass substrate (11), the laser beam hv
ν has a distribution as shown in FIG. 2A, and the intensity distribution of the laser beam hν at this time has a distribution shown by a dashed-dotted line a in the figure. The area exposed to a developable state under these conditions is the area surrounded by the broken line in the figure, that is, the shape corresponds to the intensity distribution of the laser beam hv.

従って、これを現像すると、第2図Bに示すように、露
光された部分に形成される開口(13)は、レーザ光入
射側端面における開口幅W、がガラス基体(工1)との
境界部における開口幅W!より大となされ、断面形状が
いわゆる台形状となる。
Therefore, when this is developed, as shown in FIG. 2B, the opening (13) formed in the exposed part has an opening width W at the end face on the laser beam incident side that is at the boundary with the glass substrate (step 1). Opening width W! It is made larger and has a so-called trapezoidal cross-sectional shape.

そこで、このような強度分布特性を有するレーザ光の出
力を変化させれば、この出力に応じた露光を行うことか
できる。
Therefore, by changing the output of the laser beam having such intensity distribution characteristics, exposure can be performed in accordance with this output.

すなわち、第3図Aに示すように、ガラス基体(11)
上に形成されたフォトレジスト(12)に図中左から右
に行くに従い次第に出力が小さくなるようにレーザ光h
v、、hνz l  hv3.hv、のスポット径は、
いずれもレジスト(12)の表面で0.4μmとなるよ
うにする。
That is, as shown in FIG. 3A, the glass substrate (11)
Laser light h is applied to the photoresist (12) formed above in such a way that the output gradually decreases from left to right in the figure.
v,, hνz l hv3. The spot diameter of hv is
In both cases, the thickness is set to 0.4 μm on the surface of the resist (12).

次いで、露光されたレジスト層(12)を現像すると第
3図Bに示すように、一番強い出力で露光された部分に
形成される開口(13a)は、レーザ光hν1の入射側
の端面における開口幅W0がガラス基体(11)との境
界部における開口幅W、2と略同じ幅(0,4μm)と
なる。一方、レーザ光hν2゜hv3の出力を次第に弱
くして露光して形成した開口(13b) 、 (13c
)においては、レーザ光hv、。
Next, when the exposed resist layer (12) is developed, as shown in FIG. The opening width W0 is approximately the same width (0.4 μm) as the opening width W,2 at the boundary with the glass substrate (11). On the other hand, apertures (13b) and (13c) were formed by exposure while gradually weakening the output of the laser beam hv2゜hv3.
), the laser beam hv,.

hv3の入射側の端面における開口幅W b、、W、。Aperture width W b,, W, at the end surface on the incident side of hv3.

がガラス基体(11)との境界部における開口幅Wh2
゜Wc2に対して小さくなる。例えば、レーザ光hν2
゜hv3の入射側の端面における開口幅W、、、Wc。
is the opening width Wh2 at the boundary with the glass substrate (11)
°Wc2 becomes smaller. For example, the laser beam hν2
Opening width W, , Wc at the end face on the incident side of °hv3.

が0.4μmであるのに対して、ガラス基一体(11)
との境界部における開口幅Wbt、 Wc2がそれぞれ
0.2μm、 0.1μmとなる。一方、一番弱い出力
で露光した部分に形成される開口(13d)は、レーザ
光hν4による現像可能な状態の露光領域がガラス基体
(11)まで到達しないため、レーザ光hν4の入射側
の端面における開口幅W41は0.4μmとなるものの
、ガラス基体(11)上には開口されない。
is 0.4 μm, whereas the glass substrate (11)
The opening widths Wbt and Wc2 at the boundary between the two are 0.2 μm and 0.1 μm, respectively. On the other hand, the opening (13d) formed in the part exposed with the weakest output is the end surface on the incident side of the laser beam hν4 because the exposed area in a state where it can be developed by the laser beam hν4 does not reach the glass substrate (11). Although the opening width W41 is 0.4 μm, it is not opened on the glass substrate (11).

このようにレーザ光のスポット径をレジスト層表面で一
定にしても、このレーザ光の出力によって形成される開
口部の形状が異なったものとなる特性を利用することに
よってフォトレジスト(12)に対するレーザ光の出力
の選定によって、第1図Cの開口(13)のガラス基体
(11)側の開口幅 W2の選定、すなわち、光ディス
クの微小ピット、つまり、高密度記録の光ディスクを得
ることができることになる。
In this way, even if the spot diameter of the laser beam is made constant on the surface of the resist layer, the shape of the aperture formed by the laser beam varies depending on the output of the laser beam. By selecting the light output, it is possible to select the aperture width W2 of the aperture (13) on the glass substrate (11) side in FIG. Become.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述したように本発明によれば、第1図りに示す凹部(
14)を有するガラス基体(11)をメッキ原盤として
、金属メッキ(17)を形成するものであることから最
終的に得る光ディスクは、この表面性にすぐれたガラス
面による凹凸を踏襲した表面性を有するものであって冒
頭に述べたようなフォトレジスト面によらないことから
、光学的にすぐれた情報ビットを形成することができる
As described above, according to the present invention, the recess shown in the first diagram (
Since the metal plating (17) is formed using the glass substrate (11) having a glass substrate (14) as a plating master, the final optical disc has a surface quality that follows the unevenness of the glass surface with excellent surface properties. Since it does not depend on the photoresist surface as mentioned at the beginning, optically excellent information bits can be formed.

また、第1図りで示した凹部(14)を有するメッキ原
盤としてのガラス基体(11)に対し、シランカップリ
ング剤等のカップリング剤処理の適用によってガラス基
体(11)に対し良好な密着性をもって、しかも金属メ
ッキ層(エフ)の形成後は適度の剥離性をもってこれを
剥離でき、このガラス基板は繰返えし利用して複数のス
タンパ−を得ることができるので、高精度のスタンパ−
を量産的に作製することができる。
In addition, by applying a coupling agent treatment such as a silane coupling agent to the glass substrate (11) as a plating master having the recesses (14) shown in the first diagram, good adhesion to the glass substrate (11) can be achieved. Furthermore, after the metal plating layer (F) is formed, it can be peeled off with appropriate releasability, and this glass substrate can be used repeatedly to obtain multiple stampers, making it possible to obtain a high-precision stamper.
can be mass-produced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明による光ディスク用スタンパ−の作製方
法の一例の工程図、第2図及び第3図はフォトレジスト
への露光と開口との関係の説明図、第4図及び第5図は
それぞれ従来方法の工程図である。 (11)はガラス基体、(12)はフォトレジスト、(
17)は金属メッキ層である。 1尤し一す゛光と開口との関係の銑斬111第3図 水発岨方法の1郡図 第1図(での1) 第1図(ぞの2) フォトレジ゛ストへ11’)開口輪の言えジ■乃第2図 名1来の光テlズク用ズタンパーの葎!!!!去弘のエ
ネ駈記第4図 第5図
FIG. 1 is a process diagram of an example of a method for manufacturing a stamper for an optical disk according to the present invention, FIGS. 2 and 3 are explanatory diagrams of the relationship between exposure of a photoresist and an aperture, and FIGS. 4 and 5 are Each is a process diagram of a conventional method. (11) is a glass substrate, (12) is a photoresist, (
17) is a metal plating layer. Figure 1 (Part 1) Figure 1 (Part 1) Figure 1 (Part 2) To the photoresist 11') The opening wheel is the name of the second figure, the name of the first light, and the tamper for the light! ! ! ! Sakuhiro's Energy Journey Figure 4 Figure 5

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ガラス基体面を金属原子の少くとも一方に親水基を
有し、他方に親油基を有するカップリング剤によって処
理する工程と、 上記ガラス基体面にフォトレジストを塗布する工程と、 このフォトレジストを所要のパターンに露光、現像して
開口を形成する工程と、 上記フォトレジストをエッチングレジストとして上記開
口を通じて上記ガラス基体面をエッチングして凹部を形
成する工程と、 上記フォトレジストを除去する工程と、 上記凹部内を含んで上記ガラス基体面に金属メッキを施
す工程と、 この金属メッキを上記ガラス基体面から剥離する工程と
、 を有することを特徴とする光ディスク用スタンパーの作
製方法。 2、請求項1に於て上記ガラス基体面に金属メッキを施
す前に、上記凹部内を含んで上記ガラス基体面を洗浄し
、金属原子の少くとも一方に親水基を有し、他方に親油
基を有するカップリング剤によって処理する ことを特徴とする光ディスク用スタンパーの作製方法。
[Claims] 1. A step of treating the surface of the glass substrate with a coupling agent having a hydrophilic group on at least one of the metal atoms and a lipophilic group on the other, and applying a photoresist to the surface of the glass substrate. a step of exposing and developing the photoresist in a desired pattern to form an opening; a step of etching the glass substrate surface through the opening using the photoresist as an etching resist to form a recess; An optical disc stamper comprising: removing a photoresist; applying metal plating to the surface of the glass substrate including the inside of the recess; and peeling off the metal plating from the surface of the glass substrate. How to make 2. In claim 1, before applying metal plating to the glass substrate surface, the glass substrate surface including the inside of the recess is cleaned, and at least one of the metal atoms has a hydrophilic group and the other has a hydrophilic group. A method for producing a stamper for an optical disc, the method comprising processing with a coupling agent having an oil base.
JP31480190A 1990-11-20 1990-11-20 Manufacture of optical disc stamper Pending JPH04184727A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0694916A2 (en) 1994-07-27 1996-01-31 Sony Corporation Method of fabricating stamper

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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