JPH04177226A - 第2高調波発生装置 - Google Patents
第2高調波発生装置Info
- Publication number
- JPH04177226A JPH04177226A JP30379590A JP30379590A JPH04177226A JP H04177226 A JPH04177226 A JP H04177226A JP 30379590 A JP30379590 A JP 30379590A JP 30379590 A JP30379590 A JP 30379590A JP H04177226 A JPH04177226 A JP H04177226A
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- Japan
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- optical path
- optical material
- nonlinear optical
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- Pending
Links
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 43
- 230000005284 excitation Effects 0.000 claims description 8
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- 230000008030 elimination Effects 0.000 abstract 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、低ノイズでかつ高出力の第2高調波発生装置
に関するものである。
に関するものである。
[従来の技術]
従来、非線形光学材料を用いて第2高調波を発生する装
置において、非線形光学材料によって生ずる位相のズレ
をλ/4板等の位相補償素子により調整し、基本波レー
ザ光から第2高調波への変換効率を向上させかつノイズ
を除去できることが特公平1−152782号等で提案
されている。しかし、位相補償索ンをレーザ共振器内に
挿入することによる出力損失および補償素子の微調整が
煩雑であること、また部品数が多くなるため小型化の点
で難しさがあった。
置において、非線形光学材料によって生ずる位相のズレ
をλ/4板等の位相補償素子により調整し、基本波レー
ザ光から第2高調波への変換効率を向上させかつノイズ
を除去できることが特公平1−152782号等で提案
されている。しかし、位相補償索ンをレーザ共振器内に
挿入することによる出力損失および補償素子の微調整が
煩雑であること、また部品数が多くなるため小型化の点
で難しさがあった。
[発明の解決しようとする問題点]
本発明の目的は、従来の第2高調波発生装置におけるノ
イズ低減の手段として前述の欠点を解消し、安定かつ高
出力を得るものである。
イズ低減の手段として前述の欠点を解消し、安定かつ高
出力を得るものである。
[問題点を解決するための手段]
本発明は、前述の問題点を解決すべくなされたものであ
り、共振器外より励起光を入射する励起光源と、該共振
器内の光軸上に配置されたレーザ媒質及び非線形光学材
料とを備えた第2高調波発生装置において、該非線形光
学材料中を通過する基本波レーザ光の光路長を、該非線
形光学材料を光軸に対して移動させることによって調整
する機械的な光路長調整手段と、該光路長をさらに熱的
あるいは電気的に微調整する非機械的な光路長微調整手
段とを設けたことを特徴とする第2高調波発生装置を提
供するものである。
り、共振器外より励起光を入射する励起光源と、該共振
器内の光軸上に配置されたレーザ媒質及び非線形光学材
料とを備えた第2高調波発生装置において、該非線形光
学材料中を通過する基本波レーザ光の光路長を、該非線
形光学材料を光軸に対して移動させることによって調整
する機械的な光路長調整手段と、該光路長をさらに熱的
あるいは電気的に微調整する非機械的な光路長微調整手
段とを設けたことを特徴とする第2高調波発生装置を提
供するものである。
本発明では、レーザ共振器外に設けた半導体レーザ等の
励起光源と、Nd: YAG、 Nd: YLF等のレ
ーザ媒質を用いたレーザ共振器内に非線形光学材料を挿
入することにより、レーザ媒質より発振した基本波レー
ザ光を第2高調波に変換する装置において、非線形光学
材料によって生ずる基本波レーザ光の固有偏光ベクトル
の位相のずれを、位相補償素子を用いることな(非線形
光学材料自体の位相のずれを微調整することにより、第
2高調波出力光の安定性向上及び高効率化を図るもので
ある。
励起光源と、Nd: YAG、 Nd: YLF等のレ
ーザ媒質を用いたレーザ共振器内に非線形光学材料を挿
入することにより、レーザ媒質より発振した基本波レー
ザ光を第2高調波に変換する装置において、非線形光学
材料によって生ずる基本波レーザ光の固有偏光ベクトル
の位相のずれを、位相補償素子を用いることな(非線形
光学材料自体の位相のずれを微調整することにより、第
2高調波出力光の安定性向上及び高効率化を図るもので
ある。
非線形光学材料としてはKNbO,、KH2PO,、K
TiOPO,、LL、NbO,等の非線形光学結晶、非
線形光学ガラス、有機非線形光学材料等を用い、該非線
形光学材料を透過する基本波レーザ光の光路長を微調整
し位相のずれを抑制する。具体的な手段としては、まず
光路長調整手段としては、■該非線形光学材料の光入出
射面の少なくともいずれか一方を傾斜面として非線形光
学材料を光軸に対して垂直な方向にスライドさせるか、
あるいは■非線形光学材料を光軸に対して傾ける等の手
段により、予めある程度位相のずれをなくすよう調整し
ておいた上で、■非線形光学材料を温調して熱膨張させ
る、■非線形光学材料の側面に電圧を印加し屈折率を変
化させる、■非線形光学材料の側面に圧電素子を貼り付
けその入力電力に依存した超音波のパワーにより屈折率
を変化させる等の非機械的光路長微調整手段を非線形光
学材料の先人出射面以外の少なくとも1面に設け、基本
波レーザ光の光路長を微調し、非線形光学材料による位
相のズレを完全にゼロにするものである。また、上記■
〜◎の手段を2つ以上組み合わせて設けても良い。
TiOPO,、LL、NbO,等の非線形光学結晶、非
線形光学ガラス、有機非線形光学材料等を用い、該非線
形光学材料を透過する基本波レーザ光の光路長を微調整
し位相のずれを抑制する。具体的な手段としては、まず
光路長調整手段としては、■該非線形光学材料の光入出
射面の少なくともいずれか一方を傾斜面として非線形光
学材料を光軸に対して垂直な方向にスライドさせるか、
あるいは■非線形光学材料を光軸に対して傾ける等の手
段により、予めある程度位相のずれをなくすよう調整し
ておいた上で、■非線形光学材料を温調して熱膨張させ
る、■非線形光学材料の側面に電圧を印加し屈折率を変
化させる、■非線形光学材料の側面に圧電素子を貼り付
けその入力電力に依存した超音波のパワーにより屈折率
を変化させる等の非機械的光路長微調整手段を非線形光
学材料の先人出射面以外の少なくとも1面に設け、基本
波レーザ光の光路長を微調し、非線形光学材料による位
相のズレを完全にゼロにするものである。また、上記■
〜◎の手段を2つ以上組み合わせて設けても良い。
本発明により、低ノイズかつ高効率の第2高調波発生装
置が可能で、光ディスク・レーザプリンター等の光メデ
ィアへの応用が図れる。
置が可能で、光ディスク・レーザプリンター等の光メデ
ィアへの応用が図れる。
本発明の第2高調波発生装置を、光ディスク、光磁気デ
ィスク等の記録媒体の読み取り装置(ピックアップ)の
検出光源として用いれば、より高記録密度の情報の読み
取りを安定的かつ読み取り誤差も小さ(可能にできる。
ィスク等の記録媒体の読み取り装置(ピックアップ)の
検出光源として用いれば、より高記録密度の情報の読み
取りを安定的かつ読み取り誤差も小さ(可能にできる。
[作用]
本発明において、非線形光学材料中を基本波レーザ光が
透過する際に生ずる位相のズレを完全にゼロに微調整す
ることにより、位相補償素子等を挿入することを必要と
せず、第2高調波発生装置を安定かつ高出力に作動させ
ることが可能である。
透過する際に生ずる位相のズレを完全にゼロに微調整す
ることにより、位相補償素子等を挿入することを必要と
せず、第2高調波発生装置を安定かつ高出力に作動させ
ることが可能である。
第4図、第5図は、従来構成の代表例を示したものであ
る。図中左方の励起光源の半導体レーザは省略しである
。第4図では、レーザ媒質7から発振した基本波レーザ
光は非線形光学材料1を透過し共振用ミラー6で反射さ
れ、再び非線形光学材料1を通過しレーザ媒質7へ入射
する。基本波レーザ光は非線形光学材料1を透過するご
とに位相差を生じるため、時間に対し不安定性を引き起
こす。これは具体的にはレーザ光のノイズとして観察さ
れる。第5図は、位相補償素子の一つであるえ/4板8
を挿太し、光軸に対し45゛回転させレーザノイズを除
去せしめるものである。
る。図中左方の励起光源の半導体レーザは省略しである
。第4図では、レーザ媒質7から発振した基本波レーザ
光は非線形光学材料1を透過し共振用ミラー6で反射さ
れ、再び非線形光学材料1を通過しレーザ媒質7へ入射
する。基本波レーザ光は非線形光学材料1を透過するご
とに位相差を生じるため、時間に対し不安定性を引き起
こす。これは具体的にはレーザ光のノイズとして観察さ
れる。第5図は、位相補償素子の一つであるえ/4板8
を挿太し、光軸に対し45゛回転させレーザノイズを除
去せしめるものである。
[実施例]
第1図は、非線形光学材料1の光出射面側をα=89.
8°に傾斜させ、光軸に対して垂直にスライドさせるこ
とにより位相のズレを±5°以内に調整した上でベルチ
ェ素子2を用いて温度制御することにより非線形光学材
料1を熱膨張させて光路長を微調整し位相のずれを完全
にゼロにせしめるものである。非線形光学材料としてK
TiOPO4結晶を用いた場合、温度制御により 1.
6°/℃の精度で位相のズレを微調整でき、±3℃の範
囲で0.01’Cの温度制御をすることにより完全に位
相差をゼロに微調整できた。
8°に傾斜させ、光軸に対して垂直にスライドさせるこ
とにより位相のズレを±5°以内に調整した上でベルチ
ェ素子2を用いて温度制御することにより非線形光学材
料1を熱膨張させて光路長を微調整し位相のずれを完全
にゼロにせしめるものである。非線形光学材料としてK
TiOPO4結晶を用いた場合、温度制御により 1.
6°/℃の精度で位相のズレを微調整でき、±3℃の範
囲で0.01’Cの温度制御をすることにより完全に位
相差をゼロに微調整できた。
第2図、第3図は上述の温度制御の代りに電極3あるい
は圧電素子4を用いてそれぞれ電圧印加による電気光学
効果及び超音波を用いる手段を示したものである。この
場合、非線形光学材料の屈折率が変化し光路長が微調整
できる。
は圧電素子4を用いてそれぞれ電圧印加による電気光学
効果及び超音波を用いる手段を示したものである。この
場合、非線形光学材料の屈折率が変化し光路長が微調整
できる。
位相差の粗調としては、上述の非線形光学材料lの光出
射面を傾斜させ光軸に対して垂直にスライドさせる手段
の他に、非線形光学材料lを光軸に対して傾ける方法、
加工寸法調整等の高精度加工による方法等を用いること
が可能である。
射面を傾斜させ光軸に対して垂直にスライドさせる手段
の他に、非線形光学材料lを光軸に対して傾ける方法、
加工寸法調整等の高精度加工による方法等を用いること
が可能である。
[発明の効果]
本発明は、励起光源、レーザ共振器内のレーザ媒質、非
線形光学材料からなる第2高調波発生装置において温度
調整、電圧印加あるいは超音波印加等の手段を用いて非
線形光学材料中を基本波レーザ光が通過することによっ
て生ずる固有偏光ベクトルの位相のずれを完全に抑制す
ることにより、第2高調波光を安定かつ高出力に得るこ
とができる。
線形光学材料からなる第2高調波発生装置において温度
調整、電圧印加あるいは超音波印加等の手段を用いて非
線形光学材料中を基本波レーザ光が通過することによっ
て生ずる固有偏光ベクトルの位相のずれを完全に抑制す
ることにより、第2高調波光を安定かつ高出力に得るこ
とができる。
第1図〜第3図は本発明の実施例を示し、光路長微調整
手段を有する非線形光学材料の基本構成の側面図であり
、第4図は従来の第2高調波発生装置のブロック図であ
り、第5図は従来のノイズ除去のため位相補償素子のλ
/4板を挿入した場合のブロック図である。 1:非線形光学材料 2:ベルチェ素子
手段を有する非線形光学材料の基本構成の側面図であり
、第4図は従来の第2高調波発生装置のブロック図であ
り、第5図は従来のノイズ除去のため位相補償素子のλ
/4板を挿入した場合のブロック図である。 1:非線形光学材料 2:ベルチェ素子
Claims (5)
- (1)共振器外より励起光を入射する励起光源と、該共
振器内の光軸上に配置されたレーザ媒質及び非線形光学
材料とを備えた第2高調波発生装置において、該非線形
光学材料中を通過する基本波レーザ光の光路長を、該非
線形光学材料を光軸に対して移動させることによって調
整する機械的な光路長調整手段と、該光路長をさらに熱
的あるいは電気的に微調整する非機械的な光路長微調整
手段とを設けたことを特徴とする第2高調波発生装置。 - (2)該光路長微調整手段は温調素子である請求項1の
第2高調波発生装置。 - (3)該光路長微調整手段は電気光学効果により非線形
光学材料の屈折率を変化せしめる電圧印加用の電極であ
る請求項1の第2高調波発生装置。 - (4)該光路長微調整手段は非線形光学材料内に超音波
を発生せしめ屈折率を変化せしめる圧電素子である請求
項1の第2高調波発生装置。 - (5)請求項1〜4のいずれかの第2高調波発生装置を
情報検出用の光源として用いた光記録媒体の情報読み取
り装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30379590A JPH04177226A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 第2高調波発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30379590A JPH04177226A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 第2高調波発生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04177226A true JPH04177226A (ja) | 1992-06-24 |
Family
ID=17925390
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30379590A Pending JPH04177226A (ja) | 1990-11-13 | 1990-11-13 | 第2高調波発生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04177226A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002099007A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Sony Corp | レーザ光発生装置およびそれを用いた光学装置 |
EP1220389A1 (en) * | 2001-09-07 | 2002-07-03 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Optical path length variation for laser influencing |
WO2010029817A1 (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | 日本電気株式会社 | 光源装置及び画像表示装置 |
-
1990
- 1990-11-13 JP JP30379590A patent/JPH04177226A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002099007A (ja) * | 2000-09-21 | 2002-04-05 | Sony Corp | レーザ光発生装置およびそれを用いた光学装置 |
EP1220389A1 (en) * | 2001-09-07 | 2002-07-03 | Agilent Technologies, Inc. (a Delaware corporation) | Optical path length variation for laser influencing |
WO2010029817A1 (ja) * | 2008-09-10 | 2010-03-18 | 日本電気株式会社 | 光源装置及び画像表示装置 |
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