JPH04174349A - X-rays topography device - Google Patents
X-rays topography deviceInfo
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は、試料で回折したX線、すなわち回折X線によ
ってフィルムを照射することにより、そのフィルム上に
回折X線像を撮影するX線トポグラフィ装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an X-ray method for photographing a diffraction X-ray image on a film by irradiating the film with X-rays diffracted by a sample, that is, diffraction X-rays. Relating to a topography device.
特に、試料およびフィルムを走査移動させて広い範囲の
回折X線像を得ることのできる、いわゆるラングカメラ
に関する。In particular, it relates to a so-called Lang camera that can scan and move a sample and film to obtain a diffraction X-ray image over a wide range.
[従来の技術]
X線トポグラフィ装置を用いることによってフィルム上
に撮影された回折X線像は、主に、単結晶試料の格子欠
陥や格子歪などの検査を行う場合に視覚的に観察される
。[Prior Art] A diffraction X-ray image taken on a film using an X-ray topography device is mainly visually observed when inspecting lattice defects and lattice distortion of a single crystal sample. .
一般にX線トポグラフィ装置は、第6図に示すように、
X線源1から放射されたX線の線幅を制限して試料2へ
入射させる第1スリット部材3と、試料2で回折したX
線の線幅を制限する第2スリット部材4と、X線進行方
向に関して第2スリット部材4の後流位置に配設される
フィルム5とを有している。第6図に示した上記各要素
の配置形態は、試料2の表面からX線を入射させて裏面
から回折X線を取り出すという透過配置に設定されてい
る。この配置形態とは別に、第7図に示すように、試料
2の表面からX線を入射させて同じく表面から回折X線
を取り出すという反射配置の形態をとることもできる。Generally, an X-ray topography device, as shown in Fig. 6,
A first slit member 3 limits the line width of the X-rays emitted from the X-ray source 1 and allows the X-rays to enter the sample 2;
It has a second slit member 4 that limits the line width of the line, and a film 5 disposed downstream of the second slit member 4 in the X-ray traveling direction. The arrangement of the above-mentioned elements shown in FIG. 6 is set to a transmission arrangement in which X-rays are incident on the front surface of the sample 2 and diffracted X-rays are extracted from the back surface. Apart from this arrangement, as shown in FIG. 7, it is also possible to adopt a reflection arrangement in which X-rays are incident on the surface of the sample 2 and diffracted X-rays are extracted from the same surface.
透過配置(第6図)は、主に、結晶内部の格子欠陥像を
観察する場合に適用される。これに対し反射配置(第7
図)は、主に、結晶の表面層だけの格子欠陥を観察する
場合に用いられる。The transmission arrangement (FIG. 6) is mainly applied when observing a lattice defect image inside a crystal. On the other hand, the reflection arrangement (7th
(Figure) is mainly used to observe lattice defects only in the surface layer of a crystal.
X線トポグラフィ装置、特にラングカメラにおいては、
試料2およびフィルム5を走査台(図示せず)上に載せ
、X線撮影中、その走査台を移動させることによって試
料2およびフィルム5をA−A方向へ平行に走査移動さ
せるようになっている。これにより、広い範囲の回折X
線像が撮影できるようになっている。In X-ray topography equipment, especially Lang cameras,
The sample 2 and film 5 are placed on a scanning table (not shown), and during X-ray imaging, by moving the scanning table, the sample 2 and film 5 are scanned in parallel in the A-A direction. There is. This allows for a wide range of diffraction
Line images can be taken.
ところで、近年においては、lI定される単結晶試料が
大口径化している。従って大口径、例えば11005a
〜200 am程度の試料を測定対象とする場合、特に
反射配置形態(第7図)で測定を行うときに、次のよう
な問題がある。すなわち、仮に。Incidentally, in recent years, the diameter of single crystal samples for which lI is determined has become larger. Therefore, large diameter, e.g. 11005a
When measuring a sample of about 200 am, the following problems arise, especially when measuring in the reflective configuration (FIG. 7). That is, if.
第1スリット部材3と試料2との間隔りを小さく設定し
ておくと、試料2をA−A方向へ走査移動させた際に、
試料2と第1スリット部材3とがぶつかってしまうとい
うことである。このような衝突を回避するため、従来の
この種のX線トポグラフィ装置においては、第1スリッ
ト部材3と試料2との間の間隔りを、試料2を走査移動
させた場合にも両者が互いにぶつかり合わない程度に大
きくとっていた。If the distance between the first slit member 3 and the sample 2 is set small, when the sample 2 is scanned in the A-A direction,
This means that the sample 2 and the first slit member 3 collide with each other. In order to avoid such collisions, in this type of conventional X-ray topography apparatus, the distance between the first slit member 3 and the sample 2 is set such that the distance between the first slit member 3 and the sample 2 is such that even when the sample 2 is scanned and moved, the two They were made large enough that they wouldn't collide.
[発明が解決しようとする課題] −X線トポグラ
フィ装置を用いて実行される測定として、上記透過配置
および反射配置の各形態における測定以外に、セクショ
ントポグラフ測定と呼ばれる測定形態が知られている。[Problems to be Solved by the Invention] - As measurements performed using an X-ray topography apparatus, in addition to the measurements in the above-mentioned transmission arrangement and reflection arrangement, a measurement form called section topography measurement is known.
このセクショントポグラフ測定というのは、第8図に示
すように、第1スリット部材3、試料2、第2スリット
部材4、そしてフィルム5の各要素を用いることは上記
の各配置形態と変わりがなく、また配置形態それ自体も
第6図に示した透過配置とほとんど同じである。異なっ
ている点は、第1スリット部材3のスリット幅Swが1
0μm程度といったきわめて狭い幅に設定されているこ
とと、試料2およびフィルム5が走査移動することなく
位置固定されていることである。As shown in FIG. 8, this section topography measurement uses the elements of the first slit member 3, sample 2, second slit member 4, and film 5, which are the same as the above-mentioned arrangement forms. , and the arrangement itself is almost the same as the transmission arrangement shown in FIG. The difference is that the slit width Sw of the first slit member 3 is 1.
The width is set to be extremely narrow, about 0 μm, and the sample 2 and film 5 are fixed in position without scanning.
このセクショントポグラフ測定においては、第1スリッ
ト部材3によってX線がきわめて狭い線幅に制限され、
そのX線が試料2を透過する。その際、試料内部で回折
したX線が第2スリット部材4を通過してフィルム5上
に撮像される。このセクショントポグラフ測定によれば
、試料の断面方向の欠陥分布観察を行うことができる。In this section topography measurement, the X-rays are limited to an extremely narrow line width by the first slit member 3,
The X-rays pass through the sample 2. At that time, X-rays diffracted inside the sample pass through the second slit member 4 and are imaged on the film 5. According to this section topography measurement, it is possible to observe the defect distribution in the cross-sectional direction of the sample.
従来のX線トポグラフィ装置のように、大口径試料を反
射配置形態(第7図)で測定する場合を考慮して、@1
スリット3と試料2との間の間隔りを大きく設定した場
合には、上記セクショントポグラフ測定において良好な
測定結果が得られないことが判明した。その理由は、第
1スリット部材3から試料2へ向かって8射するX線は
、ある広がり角αを有しており、従って、スリット・試
料間の間隔りが大きく設定されていると、試料2を照射
するX線の照射面積Wが大きくなり過ぎて、精度の高い
断面X線回折情報を得ることができなくなるからである
。@1 Considering the case where a large-diameter sample is measured in a reflection configuration (Fig. 7) like a conventional X-ray topography device,
It has been found that if the distance between the slit 3 and the sample 2 is set large, good measurement results cannot be obtained in the above-mentioned section topography measurement. The reason is that the eight X-rays emitted from the first slit member 3 toward the sample 2 have a certain spread angle α, and therefore, if the distance between the slit and the sample is set large, the This is because the irradiation area W of the X-rays that irradiate 2 becomes too large, making it impossible to obtain highly accurate cross-sectional X-ray diffraction information.
本発明は、従来のX線トポグラフィ装置における上記の
問題点に鑑みてなされたものであって、透過配置、反射
配置、そしてセクショントポグラフの全ての形態におけ
る測定において鮮明な回折X線像を得ることのできるX
線トポグラフィ装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems in conventional X-ray topography devices, and it is an object of the present invention to obtain clear diffraction X-ray images in measurements in all forms of transmission arrangement, reflection arrangement, and section topography. X that can be done
The purpose is to provide a line topography device.
[課題を解決するための手段]
上記の目的を達成するため、本発明に係るX線トポグラ
フィ装置は、X線源から放射されたX線の線幅を制限し
て試料へ入射させる第1スリット部材と、試料で回折し
たX線の線幅を制限する第2スリット部材と、X線進行
方向に関して第2スリット部材の後流位置に配設される
フィルムと、試料およびフィルムを平行に走査移動させ
る走査駆動手段と、試料へのX線入射角度を変更するた
めに試料を回動させることのできるω回転台とを有する
X線トポグラフィ装置であって、上記第1スリット部材
と上記試料との間の間隔を相対的に変更するための第1
スリット位置変更手段を設けたことを特徴としている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the X-ray topography apparatus according to the present invention includes a first slit that limits the line width of the X-rays emitted from the X-ray source and allows the X-rays to enter the sample. A member, a second slit member that limits the line width of X-rays diffracted by the sample, a film disposed downstream of the second slit member with respect to the X-ray traveling direction, and the sample and film are scanned in parallel. an X-ray topography apparatus having a scanning drive means for rotating the sample, and an ω rotary table capable of rotating the sample to change the angle of incidence of the X-rays on the sample, wherein the first slit member and the sample The first step to relatively change the spacing between
It is characterized by providing a slit position changing means.
[作用]
X線トポグラフィ装置による測定形態が、透過配置(W
6図)、反射配置(第7図)、そしてセクショントポグ
ラフ(第8図)の各形態間で変更されると、それに対応
して第1スリット位置変更手段によって、第1スリット
部材(3)と試料(2)との間の間隔(L)が変更させ
る。具体的には、反射配置の場合はそのスリット・試料
間の間隔(L)を大きく設定する。これにより、走査移
動する試料(2)とIIlスリット部材(3)との衝突
が防止される。[Operation] The measurement mode by the X-ray topography device is the transmission arrangement (W
6), reflection arrangement (Fig. 7), and section topography (Fig. 8), the first slit member (3) and The distance (L) between the sample (2) and the sample (2) is changed. Specifically, in the case of a reflective arrangement, the distance (L) between the slit and the sample is set large. This prevents collision between the scanningly moving sample (2) and the IIl slit member (3).
一方、セクショントポグラブ測定の場合はスリット・試
料間の間隔(L)を小さく設定する。これにより、試料
(2)に対するX線照射@(W)が非常に狭くなり、精
度の高い、すなわち分解能の高い測定を行うことが可能
とがる。On the other hand, in the case of section topograph measurement, the distance (L) between the slit and the sample is set small. This makes the X-ray irradiation @(W) on the sample (2) very narrow, making it possible to perform measurements with high precision, that is, high resolution.
透過配置の場合は、スリット・試料量間隔(L)は広く
ても、あるいは狭くてもどちらでも良い。In the case of a transmission arrangement, the slit/sample amount interval (L) may be wide or narrow.
[実施例]
第1図は本発明に係るX線トポグラフィ装置の一実施例
の平面図を、そして第2図はそのX線トポグラフィ装置
の側面図を示している。[Embodiment] FIG. 1 shows a plan view of an embodiment of the X-ray topography apparatus according to the present invention, and FIG. 2 shows a side view of the X-ray topography apparatus.
第1図において、テーブル6の右側部にX線管16が固
定して設けられ、そのX線管16の中にX線源1が設け
られている。このX線源1からは、いわゆるポイント状
のX線Rが取り出される。X線管16の左側のテーブル
6上には第1コリメータ筒17が固定して設けられてい
る。また、第1コリメータ筒17の左側先端に第2コリ
メータ筒18が接続されている。第2コリメータ筒18
は、ボルト2oを緩めることによって第1コリメータ筒
17から取り外すことができるようになっている。第2
コリメータ筒18の左側先端には、ボルト19によって
第1スリット部材3が着脱可能に装着されている。この
第1スリット部材3は、第2コリメータ筒18を取り外
した状態の第1コリメータ筒17の左側先端にボルト2
0によって着脱可能に装着することもできる。In FIG. 1, an X-ray tube 16 is fixedly provided on the right side of the table 6, and an X-ray source 1 is provided within the X-ray tube 16. From this X-ray source 1, so-called point-shaped X-rays R are extracted. A first collimator tube 17 is fixedly provided on the table 6 on the left side of the X-ray tube 16. Further, a second collimator tube 18 is connected to the left end of the first collimator tube 17 . Second collimator tube 18
can be removed from the first collimator tube 17 by loosening the bolts 2o. Second
The first slit member 3 is removably attached to the left end of the collimator tube 18 with a bolt 19 . This first slit member 3 has a bolt 2 attached to the left end of the first collimator tube 17 with the second collimator tube 18 removed.
0, it can also be detachably attached.
第1スリット部材3には、第3図に示すように、そのほ
ぼ中央に上下方向へ延びるスリット21が形成されてい
る。X線源1から放射されたX線はこのスリット21に
よってその線幅が制限される。As shown in FIG. 3, the first slit member 3 has a slit 21 formed substantially in the center thereof and extending in the vertical direction. The line width of the X-rays emitted from the X-ray source 1 is limited by the slit 21.
第1コリメータ筒17および第2コリメータ筒18の下
方に位置するテーブル6上に、円盤状の20回転台7が
設けられ、さらにその20回転台7の上に、同じく円盤
状のω回転台8が設けられている。ω回転台8は0回転
軸9(第2図)によって駆動されて、テーブル6と直角
な方向に延びる試料軸線φを中心として回転できる。ま
た、20回転台7は、20回転輪10(第2図)によっ
て駆動されて同じく試料軸線φを中心として回転できる
。この場合、20回転台7とω回転台8の回転はそれぞ
れ互いに独立して行うことができるようになっている。A disk-shaped 20-turn table 7 is provided on the table 6 located below the first collimator tube 17 and the second collimator tube 18, and further on the 20-turn table 7 is a disk-shaped ω-turn table 8. is provided. The ω rotary table 8 is driven by a 0-rotation shaft 9 (FIG. 2) and can rotate around a sample axis φ extending perpendicular to the table 6. Further, the 20-turn table 7 is driven by a 20-turn wheel 10 (FIG. 2) and can similarly rotate around the sample axis φ. In this case, the 20-turn table 7 and the ω-turn table 8 can be rotated independently of each other.
ω回転台8の上には、走査台11が配設されている。こ
の走査台11は、ω回転台8の上に固定されたパルスモ
ータ12(第1図)によって駆動されてガイドレール1
3に沿って矢印A−A方向(第1図)へ往復直線移動す
る。この走査台11上には、単結晶試料2およびフィル
ム5が固定されている。従って一走査台11が上記A−
A方向へ移動する場合には、それに伴って試料2および
フィルム5も同じ方向へ平行移動する。A scanning table 11 is arranged on the ω rotary table 8 . This scanning table 11 is driven by a pulse motor 12 (FIG. 1) fixed on the ω rotary table 8, and the guide rail 1
3 in the direction of arrow A-A (FIG. 1). On this scanning table 11, a single crystal sample 2 and a film 5 are fixed. Therefore, one scanning stage 11 is
When moving in the A direction, the sample 2 and film 5 also move in parallel in the same direction.
試料2は、走査台11上に固定された状態で、上記第2
コリメータ筒18の先端に装着された第1スリット部材
3にできる限り接近する位置にセットされるようになっ
ている。The sample 2 is fixed on the scanning table 11, and the sample 2 is placed on the second
It is set at a position as close as possible to the first slit member 3 attached to the tip of the collimator tube 18.
20回転台7上には、ω回転台8の他に円柱状の支柱1
4が上方へ向けて固定配置されている。20 On the turntable 7, in addition to the ω turntable 8, there is a cylindrical support 1.
4 is fixedly arranged facing upward.
この支柱14の上端には、水平方向へ延びるアーム15
が固定されており、そのアーム15の先端に第2スリッ
ト部材4が取り付けられている。この第2スリット部材
4にも、第3図に示した第1スリット部材3と同様な上
下方向へ延びるスリットが形成されている。また、第2
スリット部材4は、試料2とフィルム5の間に配置され
ており、走査台11の移動によって試料2およびフィル
ム5が平行移動する場合にも、位置固定の状態に保持さ
れる。At the upper end of this support 14, an arm 15 extending in the horizontal direction is provided.
is fixed, and the second slit member 4 is attached to the tip of the arm 15. This second slit member 4 also has a slit extending in the vertical direction similar to the first slit member 3 shown in FIG. 3. Also, the second
The slit member 4 is disposed between the sample 2 and the film 5, and is held in a fixed position even when the sample 2 and the film 5 are moved in parallel due to the movement of the scanning table 11.
20回転台7の左端には、突出部22が設けられていて
、その突出部22にX線検出器23が固定配置されてい
る。A protrusion 22 is provided at the left end of the 20-turn table 7, and an X-ray detector 23 is fixedly disposed on the protrusion 22.
上記構成より成るX線トポグラフィ装置は、透過配置に
よる測定を念頭おいて各構成要素が配置されている。以
下、その透過配置形態による測定方法について説明する
。In the X-ray topography apparatus having the above configuration, each component is arranged with measurement in a transmission arrangement in mind. The measurement method using the transmission arrangement will be explained below.
1過m淀
まず、20回転軸10(第2図)によって2θ回転台7
を適宜の角度だけ回転移動させて、単結晶試料2に対す
るX線検出器23の角度位置を、測定しようとしている
試料2に固有のX線回折面に対応する角度位置に設定し
て、その位置に固定する。次に、0回転軸9(第2図)
によってω回転台8を適宜の角度だけ回転移動させ、X
線検出器23によって測定されるX線強度が最大になる
角度位置でω回転台8、従って試料2を固定する。First, the 2θ rotary table 7 is rotated by the 20 rotary shaft 10 (Fig. 2).
is rotated by an appropriate angle to set the angular position of the X-ray detector 23 with respect to the single crystal sample 2 to an angular position corresponding to the X-ray diffraction plane specific to the sample 2 to be measured, and then Fixed to. Next, the zero rotation axis 9 (Fig. 2)
Rotate the ω rotary table 8 by an appropriate angle by
The ω rotary table 8 and therefore the sample 2 are fixed at an angular position where the X-ray intensity measured by the ray detector 23 is maximum.
これにより、初期設定が終了する。This completes the initial settings.
その後、X線源1からX線を放射し続けながら、パルス
モータ12によって走査台11をA−A方向(第1図)
へ平行移動させる。これにより、フィルム5の表面には
、広い範囲にわたる試料2の内部の回折X線像が撮影さ
れる。これが第6図に示した、透過配置形態によるトポ
グラフ測定である。After that, while continuing to emit X-rays from the X-ray source 1, the scanning table 11 is moved in the A-A direction (Fig. 1) by the pulse motor 12.
Move parallel to . As a result, a diffraction X-ray image of the interior of the sample 2 over a wide range is photographed on the surface of the film 5. This is the topographic measurement using the transmission configuration shown in FIG.
セ シ ン ポ −フ
本装置を用いてセクショントポグラフ測定(第8図)を
行う場合には、次のような処理が行われる。When performing section topography measurement (Fig. 8) using this device, the following processing is performed.
すなわち、第1コリメータ筒17および第2コリメータ
筒18は上記の状態のままにしておいて、第1スリット
部材3を、より一層スリット幅Sv(第3図参照)の狭
いもの、例えばスリット幅10μm程度のものに取り替
える。そして、走査台11を移動させることなく、すな
わち試料2を固定した状態でその試料2にX線を照射す
る。これにより、第8図に示したように、フィルム5上
にセクショントポグラフ像、すなわち試料2の内部新面
の回折X線像が撮影される。That is, the first collimator tube 17 and the second collimator tube 18 are left in the above state, and the first slit member 3 is changed to one having a narrower slit width Sv (see FIG. 3), for example, a slit width of 10 μm. Replace with something similar. Then, the sample 2 is irradiated with X-rays without moving the scanning table 11, that is, with the sample 2 fixed. As a result, as shown in FIG. 8, a section topographic image, that is, a diffraction X-ray image of the new inner surface of the sample 2 is photographed on the film 5.
反H111遣
さらに、本装置を用いて反射配置形態によるトポグラフ
測定を行う場合には、次のような処理が行われる。In addition to the anti-H111 method, when the present apparatus is used to perform topographic measurement using a reflection configuration, the following processing is performed.
まず、第2コリメータ筒18を第1コリメータ筒17か
ら取り外す、そして、第1コリメータ筒17の試料側先
端に第1スリット部材3を装着する。この場合、第1コ
リメータ筒17に装着される第1スリット部材3のスリ
ット21(第3図)は、上記セクショントポグラフ測定
の場合に用いられるスリットに比べて、よりスリット幅
の広いものが用いられる。First, the second collimator tube 18 is removed from the first collimator tube 17, and the first slit member 3 is attached to the sample-side tip of the first collimator tube 17. In this case, the slit 21 (FIG. 3) of the first slit member 3 attached to the first collimator tube 17 has a wider slit width than the slit used in the section topography measurement described above. .
以上のように、第2コリメータ筒18が取り外されると
、第1コリメータ筒17の先端に装着された第1スリッ
ト部材3と試料2との間の間隔が大きく広げられる。従
って、試料2.第2スリット部材4そしてフィルム5を
第7図に示す反射配置形態に回転移動する際、それら各
要素が第1スリット部材3にぶつかるという不都合がな
くなる。As described above, when the second collimator tube 18 is removed, the distance between the first slit member 3 attached to the tip of the first collimator tube 17 and the sample 2 is greatly expanded. Therefore, sample 2. When the second slit member 4 and the film 5 are rotated into the reflective configuration shown in FIG. 7, the inconvenience that these elements collide with the first slit member 3 is eliminated.
また、反射配置測定においては、透過配置測定の場合と
同様にして測定の最中に、試料2およびフィルム5がA
−A方向へ走査移動される(第7図)。その場合−本実
施例によれば、第2コリメータ筒18が取り外されるこ
とによって第1スリット部材3と試料2との間隔が十分
に大きくとられているので、試料2あるいはフィルム5
が第1スリット部材3とぶつかるといった不都合がなく
なる。In addition, in the reflection arrangement measurement, the sample 2 and the film 5 are
- It is scanned and moved in the A direction (FIG. 7). In that case, according to this embodiment, since the second collimator cylinder 18 is removed and the distance between the first slit member 3 and the sample 2 is sufficiently large, the sample 2 or the film 5
This eliminates the inconvenience of collision with the first slit member 3.
以上のように、本実施例によれば、第2コリメータ筒1
8を取り外すことにより反射配置形態によるトポグラフ
測定を行うことが可能となる。−方、第2コリメータ筒
18を用いることにより、第1スリツト3を試料2にき
わめて接近して配置することができ、その結果、精度の
高い、すなわち分解能の良いセクショントポグラフ像を
得ることもできる。As described above, according to this embodiment, the second collimator tube 1
By removing 8, it becomes possible to perform topographic measurement using a reflection arrangement. - On the other hand, by using the second collimator tube 18, the first slit 3 can be placed very close to the sample 2, and as a result, a section topographic image with high precision, that is, good resolution can be obtained. .
上記説明では、第2コリメータ筒18を用いた状態で透
過配置形態(第6図)によるトポグラフ測定を行うもの
とした。しかしながら、透過配置形態による測定に関し
ては、第2コリメータ筒18を用いてもあるいは用いな
くても、すなわち第1スリット部材3を試料2に近づけ
た状態あるいは遠ざけた状態のいずれの状態でも測定を
行うことが可能である。In the above description, it is assumed that topographic measurement is performed using the transmission configuration (FIG. 6) using the second collimator tube 18. However, regarding the measurement using the transmission arrangement, the measurement can be performed with or without using the second collimator tube 18, that is, with the first slit member 3 close to the sample 2 or with it away from the sample 2. Is possible.
w4図は、第1スリット部材3と試料2との間の間隔を
変更するための機構である第1スリット位置変更手段に
関する他の実施例を示している。Figure w4 shows another embodiment of the first slit position changing means, which is a mechanism for changing the distance between the first slit member 3 and the sample 2.
この実施例においては、第1コリメータ筒17の外周上
に312コリメータ筒18が嵌合されており、矢印B−
B−で示すように、第2コリメータ筒18が第1コリメ
ータ簡17の軸方向へ相対直線移動できるようになって
いる。そして、IJ!1スリット部材3は常に第2コリ
メータ筒18の先端に装着されている。In this embodiment, a 312 collimator tube 18 is fitted onto the outer periphery of the first collimator tube 17, and the arrow B-
As shown by B-, the second collimator cylinder 18 can be relatively linearly moved in the axial direction of the first collimator cylinder 17. And IJ! The one-slit member 3 is always attached to the tip of the second collimator tube 18.
この実施例においてセクショントポグラフ測定(第8図
)を行う場合には、図示のように、第2コリメータ筒1
8を試料2の方向へ引き出して、第1スリット部材3を
試料2に極めて近い位置に配置する。一方、反射配置形
態(第7図)による測定を行う場合は、第2コリメータ
筒18をB−方向、すなわちj11コリメータ筒17の
方向へ押し込んで、M1スリット部材3を試料2から遠
ざける。これにより、試料2およびフィルム5の平行走
査移動が支障なく行われる。In this embodiment, when performing section topography measurement (Fig. 8), the second collimator cylinder 1 is
8 toward the sample 2, and the first slit member 3 is placed in a position extremely close to the sample 2. On the other hand, when performing measurement using the reflection arrangement (FIG. 7), the second collimator tube 18 is pushed in the B- direction, that is, in the direction of the J11 collimator tube 17, and the M1 slit member 3 is moved away from the sample 2. Thereby, the parallel scanning movement of the sample 2 and the film 5 is performed without any problem.
第5図は、本発明に係るX線トポグラフィ装置のさらに
他の実施例を示している。FIG. 5 shows yet another embodiment of the X-ray topography apparatus according to the present invention.
この実施例では、20回転台7がテーブル6上に直接に
設置されるのではなくて、上方から見て方形状の基台2
4を介してテーブル6上に設けられている。一方、コリ
メータ筒25は、第2図あるいは第4図に示した先の実
施例とは異なって。In this embodiment, the 20-turn table 7 is not directly installed on the table 6, but a rectangular base 2 when viewed from above.
4 on the table 6. On the other hand, the collimator tube 25 is different from the previous embodiment shown in FIG. 2 or FIG.
その長さが変更可能になっていない。従って、第1スリ
ット部材3の位置は不動である。Its length is not changeable. Therefore, the position of the first slit member 3 remains unchanged.
上記基台24の奥側側面は、テーブル6上に設置された
直線状のガイドレール26に押し当てられている。この
基台24は、テーブル6上に固定されているのではなく
て、上記ガイドレール26に沿ってテーブル6上を移動
できるようになっている。このガイドレール26は、コ
リメータ筒25の軸方向に対して平行に設けられており
、従ってそのガイドレール26に沿って移動する基台2
4は、コリメータ筒25の左端に装着された第1スリッ
ト部材3に対して近づいたり(図の右方向)あるいは遠
ざかる(図の左方向)ように位置変位する。このように
、試料2が載置されている基台24を位置変位させるこ
とにより、反射配置形態(第7図)の測定に際しては試
料2と第1スリット部材3との間隔を広くとり、一方、
セクショントポグラフ測定(第8図)に際しては両者の
間隔をできる限り接近させる。The rear side surface of the base 24 is pressed against a linear guide rail 26 installed on the table 6. This base 24 is not fixed on the table 6, but is movable on the table 6 along the guide rail 26. This guide rail 26 is provided parallel to the axial direction of the collimator tube 25, and therefore the base 26 moves along the guide rail 26.
4 moves toward or away from the first slit member 3 attached to the left end of the collimator tube 25 (to the right in the figure) or away from the first slit member 3 (to the left in the figure). In this way, by displacing the position of the base 24 on which the sample 2 is placed, the distance between the sample 2 and the first slit member 3 is widened when measuring the reflection arrangement form (FIG. 7), and the distance between the sample 2 and the first slit member 3 is widened. ,
When measuring the section topography (FIG. 8), the distance between the two should be made as close as possible.
[発明の効果]
本発明によれば、X線トポグラフィ装置において、X線
進行方向に関して試料の上流側に配置された第1スリッ
ト部材とその試料との間の間隔を変更できるようにした
ので、1つの装置で透過配置、反射配置、そしてセクシ
ョントポグラフの各測定をそれぞれ精度良く行うことが
できるようになった。[Effects of the Invention] According to the present invention, in the X-ray topography apparatus, the distance between the first slit member disposed on the upstream side of the sample with respect to the X-ray traveling direction and the sample can be changed. It is now possible to perform each measurement of transmission arrangement, reflection arrangement, and section topography with high precision using a single device.
第1図は本発明に係るX線トポグラフィ装置の一実施例
を示す平面図、第2図はその実施例の側面図、第3図は
そのX線トポグラフィ装置の要部を示す斜視図、114
図は第1スリット位置変更手段の変形実施例を示す平面
図、第5図は本発明に係るX線トポグラフィ装置の別の
実施例を示す側面図、第6図は透過配置状態に設定され
たX線トポグラフィ装置を図式的に示す図、第7図は反
射配置状態に設定されたX線トポグラフィ装置を図式的
に示す図、 I!8図はX線トポグラフィ装置によって
セクショントポグラフ測定を行っている様子を図式的に
示す図である。
1・−・Xll源、2・・・試料、3・・・第1スリッ
ト部材。
4・・・第2スリット部材、5−・・フィルム、8・・
・ω回転台、11・・・走査台、12・・・パルスモー
タ、13・・・ガイドレール、17・・・第1コリメー
タ筒、18・・・第2コリメータ筒、24・・・基台、
25・・・コリメータ筒、26・・・ガイドレール第2
図
第3図FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the X-ray topography apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a side view of the embodiment, and FIG. 3 is a perspective view showing the main parts of the X-ray topography apparatus.
The figure is a plan view showing a modified embodiment of the first slit position changing means, FIG. 5 is a side view showing another embodiment of the X-ray topography apparatus according to the present invention, and FIG. Diagrammatic representation of an X-ray topography device, FIG. 7 is a diagrammatic representation of an X-ray topography device set in reflective configuration, I! FIG. 8 is a diagram schematically showing how section topography is measured by an X-ray topography device. 1... Xll source, 2... Sample, 3... First slit member. 4... Second slit member, 5-... Film, 8...
・ω rotating table, 11... scanning table, 12... pulse motor, 13... guide rail, 17... first collimator tube, 18... second collimator tube, 24... base ,
25... Collimator tube, 26... Guide rail second
Figure 3
Claims (4)
へ入射させる第1スリット部材と、 試料で回折したX線の線幅を制限する第2スリット部材
と、 X線進行方向に関して第2スリット部材の後流位置に配
設されるフィルムと、 試料およびフィルムを平行に走査移動させる走査駆動手
段と、 試料へのX線入射角度を変更するために試料を回動させ
ることのできるω回転台と を有するX線トポグラフィ装置において、 上記第1スリット部材と上記試料との間の相対的な間隔
を変更するための第1スリット位置変更手段を設けたこ
とを特徴とするX線トポグラフィ装置。(1) A first slit member that limits the line width of the X-rays emitted from the X-ray source and allows them to enter the sample; a second slit member that limits the line width of the X-rays diffracted by the sample; A film disposed downstream of the second slit member in terms of direction; a scanning drive means for scanning and moving the sample and the film in parallel; and rotating the sample to change the angle of incidence of X-rays on the sample. An X-ray topography apparatus having an ω rotary table capable of Line topography device.
第1コリメータ筒と、その第1コリメータ筒の試料側先
端に着脱可能に接続される第2コリメータ筒とを有して
おり、 上記第1スリット部材は、第1コリメータ筒の先端ある
いは第1コリメータに接続された状態の第2コリメータ
の先端のいずれかに装着されることを特徴とする請求項
1記載のX線トポグラフィ装置。(2) The first slit position changing means is removably attached to a first collimator tube disposed in a fixed position between the X-ray source and the sample, and a sample-side tip of the first collimator tube. and a second collimator tube to be connected, and the first slit member is attached to either the tip of the first collimator tube or the tip of the second collimator connected to the first collimator. The X-ray topography apparatus according to claim 1, characterized in that:
第1コリメータ筒と、その第1コリメータの外周上に第
1コリメータに対して相対移動可能に設けられた第2コ
リメータ筒とを有しており、 上記第1スリット部材は、第2コリメータ筒の先端に装
着されることを特徴とする請求項1記載のX線トポグラ
フィ装置。(3) The first slit position changing means includes a first collimator tube disposed in a fixed position between the X-ray source and the sample, and a first collimator tube arranged on the outer periphery of the first collimator. 2. The X-ray topography apparatus according to claim 1, further comprising: a second collimator tube that is provided so as to be relatively movable; and the first slit member is attached to the tip of the second collimator tube. .
ω回転台が載置される基台と、 その基台が上記第1スリット部材へ近づきあるいは遠ざ
かる方向へ移動するよに案内するガイドレールと を有することを特徴とする請求項1記載のX線トポグラ
フィ装置。(4) The first slit position changing means includes a base on which the second slit member, the film, the scanning drive means, and the ω rotary table are placed, and a direction in which the base approaches or moves away from the first slit member. 2. The X-ray topography apparatus according to claim 1, further comprising a guide rail for guiding the X-ray topography apparatus to move to.
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---|---|---|---|
JP30150090A JP2919598B2 (en) | 1990-11-07 | 1990-11-07 | X-ray topography equipment |
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Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04174349A true JPH04174349A (en) | 1992-06-22 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006349481A (en) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | Photographing method of crystal defect having in-plane oriented dislocation line in single crystal sample by x-ray topograph |
KR20130112001A (en) * | 2012-04-02 | 2013-10-11 | 가부시키가이샤 리가쿠 | X-ray topography apparatus |
-
1990
- 1990-11-07 JP JP30150090A patent/JP2919598B2/en not_active Expired - Fee Related
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JP2006349481A (en) * | 2005-06-15 | 2006-12-28 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | Photographing method of crystal defect having in-plane oriented dislocation line in single crystal sample by x-ray topograph |
KR20130112001A (en) * | 2012-04-02 | 2013-10-11 | 가부시키가이샤 리가쿠 | X-ray topography apparatus |
JP2013213720A (en) * | 2012-04-02 | 2013-10-17 | Rigaku Corp | X-ray topography device |
US9335282B2 (en) | 2012-04-02 | 2016-05-10 | Rigaku Corporation | X-ray topography apparatus |
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---|---|
JP2919598B2 (en) | 1999-07-12 |
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