JPH04172698A - Semiconductor integrated circuit - Google Patents

Semiconductor integrated circuit

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JPH04172698A
JPH04172698A JP2299517A JP29951790A JPH04172698A JP H04172698 A JPH04172698 A JP H04172698A JP 2299517 A JP2299517 A JP 2299517A JP 29951790 A JP29951790 A JP 29951790A JP H04172698 A JPH04172698 A JP H04172698A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
transistor
transistors
integrated circuit
semiconductor integrated
Prior art date
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Pending
Application number
JP2299517A
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Japanese (ja)
Inventor
Koji Okamura
岡村 浩治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Kyushu Ltd
Original Assignee
NEC Kyushu Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To eliminate the need of enlarging the memory cell size of a semiconductor integrated circuit by providing a plurality of kinds of memory cell transistors having different gate turning-on threshold voltages and a voltage transformation circuit which changes the voltages applied across the gates of the memory cell transistors. CONSTITUTION:Memory cell transistors 3 having different threshold voltages and a voltage transformation circuit 7 which can arbitrarily change the gate voltages for turning on the transistors 3 are provided. Since the plurality of kinds of memory cell transistors 3 having different threshold voltages are provided, plural kinds of information can be held by means of one memory cell transistor 3. Therefore, the cell size of this semiconductor device can be reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体集積回路に係り、特に不揮発性型集積回
路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to semiconductor integrated circuits, and particularly to nonvolatile integrated circuits.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図は従来の不揮発性集積回路の回路図である。第3
図において、行(ワード)デコーダ1、及び列(ビット
)デコーダ2とにより、メモリセルトランジスタ3を選
択し、出力4へ情報を出力し、この動作を繰り返すこと
で、メモリセルトランジスタ3の任意の情報を得ること
が出来た。
FIG. 3 is a circuit diagram of a conventional nonvolatile integrated circuit. Third
In the figure, a row (word) decoder 1 and a column (bit) decoder 2 select a memory cell transistor 3, output information to an output 4, and repeat this operation to select an arbitrary memory cell transistor 3. I was able to obtain information.

例えば、ワード線AをOv、ワード線B、C,Dを5V
、 ビット線Aを5V、 ビット線B、C,DをOVと
した場合、出力4はメモリセルトランジスタ(A)が、
デプレッション型(D型)の場合ハOV 、エンハンス
メント型(E型)の場合は5Vとなる。第3図に於いて
、メモリセルトランジスタ(A)、(B)、(C)、(
D)が、E型。
For example, word line A is Ov, word lines B, C, and D are 5V.
, When bit line A is set to 5V and bit lines B, C, and D are set to OV, output 4 is the memory cell transistor (A).
In the case of depression type (D type), it is OV, and in the case of enhancement type (E type), it is 5V. In FIG. 3, memory cell transistors (A), (B), (C), (
D) is type E.

E型、D型、E型であった場合、出力はそれぞれ5 V
 、  5 V 、  OV 、  5 V トナリ、
情報トシテハ、1.1,0.1となる。
For E type, D type, and E type, the output is 5 V each.
, 5 V, OV, 5 V Tonari,
The information is 1.1, 0.1.

従来の不揮発性型集積回路では、製造工程に於いて注入
法によりデプレッション型トランジスタとエンハンスメ
ント型トランジスタとを形成し、このメモリセル内の任
意のトランジスタを選択し、選択されたトランジスタが
デプレッション型かエンハンスメント型かを判断するこ
とにより、トランジスタの情報を“1”または“0”と
じて得でいた。
In conventional non-volatile integrated circuits, a depletion type transistor and an enhancement type transistor are formed by an implantation method in the manufacturing process, and any transistor in this memory cell is selected, and whether the selected transistor is a depletion type or an enhancement type transistor is formed. By determining the type of transistor, information about the transistor could be determined as "1" or "0".

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

このような従来の不揮発性集積回路では、メモリセルト
ランジスタが、デプレッション型とエンハンスメント型
との2種類からなっており、1つのトランジスタで“1
”または“0”の1つのデータしか記憶できない為に、
大容皿化が進むにつれて、半導体装置面積か拡大し、そ
れに伴なう歩留低下により、半導体装置の大容皿化を妨
げていた。
In such conventional non-volatile integrated circuits, memory cell transistors are of two types: depletion type and enhancement type, and one transistor has “1
” or “0” because only one data can be stored.
As the size of the semiconductor device becomes larger, the area of the semiconductor device increases, and the resulting decrease in yield hinders the development of the semiconductor device.

本発明の目的は、前記間過点を解決し、メモリセルサイ
ズが拡大せずに済むようにした半導体集積回路を提供す
ることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a semiconductor integrated circuit that solves the above problem and eliminates the need for increasing memory cell size.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の半導体集積回路の構成は、オンするゲート会し
きい値電圧が互いに異なる複数種のメモリセルトランジ
スタと、前記メモリセルトランジスタのゲート印加電圧
を変更する変圧回路とを備えたこ七を特徴とする。
The structure of the semiconductor integrated circuit of the present invention is characterized by comprising a plurality of types of memory cell transistors having different gate threshold voltages for turning on, and a transformer circuit for changing the voltage applied to the gate of the memory cell transistor. do.

〔実施例〕 次に本発明について図面を参照して説明する。〔Example〕 Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例の半導体集積回路を示す回路
図である。第1図において、本実施例は、行(ワード)
デコーダ1と、列(ピント)デコーダ2と、変圧回路7
と、トランジスタ(A)と、トランジスタ(B)とを備
えている。トランジスタ3は、トランジスタ(A)とト
ランジスタ(B)の2種類からなる。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a semiconductor integrated circuit according to an embodiment of the present invention. In FIG. 1, in this embodiment, a row (word)
Decoder 1, column (focus) decoder 2, and transformer circuit 7
, a transistor (A), and a transistor (B). The transistor 3 consists of two types: a transistor (A) and a transistor (B).

第1図において、本実施例は、行デコーダ1とメモリセ
ルトランジスタ3との間に変圧回路7を有し、メモリセ
ルトランジスタ3は半導体製造過程に於いてメモリセル
トランジスタ・ゲート部のイオン注入量を変えて数回行
ない、しきい値電圧が、0V(D型)、2V、4V、e
Vの4種のトランジスタを有している。例えば、第1図
に於いて、メモリセルトランジスタ(A)のしきい値電
圧を6V、トランジスタ(B)のしきい値電圧を2Vと
した場合、ビット線Aを5V、  ビット線BをOV、
ワード線B、C,Dを5Vとし、ワード線Aの電圧をO
V、2V、4Vと変圧して行った場合、メモリセルトラ
ンジスタ(A)のしきい値電圧が6Vである為、トラン
ジスタは常にOFFであり、出力は常に5Vとなる。同
様に、トランジスタ(B)の場合、ワード線への電圧か
OVの時、出力は5V、2Vの時、OV、4Vの時、O
Vとなる。
In FIG. 1, this embodiment has a transformer circuit 7 between a row decoder 1 and a memory cell transistor 3. The threshold voltage is 0V (D type), 2V, 4V, e
It has four types of V transistors. For example, in FIG. 1, if the threshold voltage of the memory cell transistor (A) is 6V and the threshold voltage of the transistor (B) is 2V, the bit line A is 5V, the bit line B is OV,
Word lines B, C, and D are set to 5V, and word line A voltage is set to O.
When the voltage is changed to V, 2V, and 4V, the threshold voltage of the memory cell transistor (A) is 6V, so the transistor is always OFF and the output is always 5V. Similarly, in the case of transistor (B), when the voltage to the word line is OV, the output is 5V, when it is 2V, it is OV, and when it is 4V, the output is O
It becomes V.

第2図に示す様に、ワード線が何Vの時出力か5Vから
OVとなるかで、メモリセルトランジスタの情報を判断
することで、1つのメモリセルトランジスタ3で2つの
情報を得ることが可能となる。
As shown in FIG. 2, by determining the information of the memory cell transistor based on the output voltage of the word line and whether it changes from 5V to OV, it is possible to obtain two pieces of information with one memory cell transistor 3. It becomes possible.

本実施例に於いてはメモリセルトランジスタ(A)のh
l報は“1,1”メモリセルトランジスタ(B)の情報
は“0.1”となり、第3図に示す従来の不揮発性集積
回路と比較し、半数のトランジスタで同等の情報量を持
つことが可能となる。
In this embodiment, h of the memory cell transistor (A)
The information of the memory cell transistor (B) is "0.1", and compared to the conventional non-volatile integrated circuit shown in Figure 3, half the transistors have the same amount of information. becomes possible.

このように、本実施例では、メモリセル)・ランジスタ
に於いて、イオン注入法によりデブレッシロン型トエン
ハンスメント型トランジスタを形成し、半導体製造過程
に於いて情報を記憶させる不揮発性型集積回路に於いて
、メモリセルトランジスタが複数種のしきい値電圧から
なり、さらにメモリセルトランジスタをONさせるゲー
ト電圧を任意に変更させることのできる変圧回路を有す
るたけで済む。
As described above, in this embodiment, deblecron type enhancement type transistors are formed in memory cells and transistors by ion implantation, and in nonvolatile integrated circuits that store information during the semiconductor manufacturing process. It is sufficient to have a memory cell transistor having a plurality of types of threshold voltages and a transformer circuit capable of arbitrarily changing the gate voltage for turning on the memory cell transistor.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、本発明は、しきい値電圧を異なっ
た複数種のメモリセルトランジスタを宵する為、1つの
メモリセルトランジスタで複数の情報を保持することが
可能であり、結果的に半導体装置のセルサイズ縮小1夛
留向上等の効果がある。
As explained above, since the present invention uses multiple types of memory cell transistors with different threshold voltages, it is possible to hold multiple pieces of information with one memory cell transistor, and as a result, semiconductor This has the effect of reducing the cell size of the device and improving storage capacity.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の一実施例の不揮発性集積回路の回路図
、第2図は第1図に於いてワード線の電圧に対する出力
電圧と得られる情報との対応表を示す図、第3図は従来
の不揮発性集積回路の回路図である。 1・・・行(ワード)デコーダ、2・・・列(ビット)
デコーダ、3・・・メモリセルトランジスタ、4・・・
出力、5・・・ワード線、6・・・ビ・ソト線、7・・
・変圧回路。
FIG. 1 is a circuit diagram of a non-volatile integrated circuit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a diagram showing a correspondence table between the output voltage and the information obtained with respect to the word line voltage in FIG. 1, and FIG. The figure is a circuit diagram of a conventional nonvolatile integrated circuit. 1... Row (word) decoder, 2... Column (bit)
Decoder, 3...Memory cell transistor, 4...
Output, 5...word line, 6...bi-soto line, 7...
・Transformer circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  オンするゲート・しきい値電圧が互いに異なる複数種
のメモリセルトランジスタと、前記メモリセルトランジ
スタのゲート印加電圧を変更する変圧回路とを備えたこ
とを特徴とする半導体集積回路。
1. A semiconductor integrated circuit comprising: a plurality of types of memory cell transistors having different gate/threshold voltages to be turned on; and a transformer circuit for changing the voltage applied to the gates of the memory cell transistors.
JP2299517A 1990-11-05 1990-11-05 Semiconductor integrated circuit Pending JPH04172698A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5457650A (en) * 1993-07-12 1995-10-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus and method for reading multi-level data stored in a semiconductor memory

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5457650A (en) * 1993-07-12 1995-10-10 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus and method for reading multi-level data stored in a semiconductor memory
US5852575A (en) * 1993-07-12 1998-12-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Apparatus and method for reading multi-level data stored in a semiconductor memory

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