JPH04167527A - Bump transfer device and its transfer method - Google Patents

Bump transfer device and its transfer method

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JPH04167527A
JPH04167527A JP29470890A JP29470890A JPH04167527A JP H04167527 A JPH04167527 A JP H04167527A JP 29470890 A JP29470890 A JP 29470890A JP 29470890 A JP29470890 A JP 29470890A JP H04167527 A JPH04167527 A JP H04167527A
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JP
Japan
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bump
glass substrate
semiconductor chip
substrate
bump transfer
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Pending
Application number
JP29470890A
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Japanese (ja)
Inventor
Satoru Imai
了 今井
Shigekazu Hirano
平野 茂和
Yasutoshi Kitazawa
北沢 安敏
Toshiaki Suketa
助田 俊明
Shinichi Kasahara
慎一 笠原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
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Abstract

PURPOSE:To enable a semiconductor chip to be pressed against a glass substrate while constantly monitoring the bump transfer surface and keeping the parallelism by a method wherein the title bump transfer device is provided with an X table for mounting a bump feeder part and a bump transfer part so as to shift either one of them to the position beneath a substrate holding part. CONSTITUTION:The title bump transfer device is composed of the bump transfer part 7 for pressing a semiconductor chip 2 mounted on a heater block 71 against a glass substrate 1 held by a substrate holder part 5 and of an X table 8 on which a bump feeder part 6 and the bump transfer part 7 are mounted move either one of them to the position beneath the substrate holding part 5. On the other hand, a television camera 9 for monitoring the bump transfer part 7 through an observation window 53 is disposed above the substrate holder 5. Through these procedures, the semiconductor chip 2 can be pressed against the glass substrate 1 while monitoring the bump transfer surface and keeping the parallelism.

Description

【発明の詳細な説明】 〔概 要〕 フェイスダウン方式で実装される半導体集積回路の製造
、特に半導体チップにAuバンプを転写する装置および
方法に関し、 バンプの転写に際して半導体チップのバンプ転写面を絶
えず監視し、且つ平行性を維持しなから半導体チップを
ガラス基板に押付は可能な、バンプ転写装置およびその
転写方法の提供を目的とし、観察窓付のヒーターブロッ
クおよび補強ガラス板からなりバンプか形成されたガラ
ス基板を真空吸着する基板保持部と、ガラス基板用の受
け台およびXYθZテーブルからなり基板保持部にガラ
ス基板をセットするバンプ供給部と、ヒーターブロック
、加圧シリンダ、およびXYθテーブルからなり、ヒー
ターブロック上に載置された半導体チップを基板保持部
に真空吸着されたガラス基板に押し付けるバンプ転写部
と、バンプ供給部およびバンプ転写部を搭載しいずれか
一方を基板保持部の下に移動せしめるXテーブルとで構
成され、且つ観察窓を通してバンプの転写部を監視する
テレビカメラか基板保持部の上方に設置されてなるよう
に構成する。
[Detailed Description of the Invention] [Summary] Regarding the manufacture of semiconductor integrated circuits that are mounted in a face-down method, particularly regarding an apparatus and method for transferring Au bumps onto a semiconductor chip, the bump transfer surface of the semiconductor chip is constantly touched during bump transfer. The purpose of the present invention is to provide a bump transfer device and its transfer method that can press a semiconductor chip onto a glass substrate while monitoring and maintaining parallelism. It consists of a substrate holder that vacuum-chucks the glass substrate, a holder for the glass substrate, and an XYθZ table, a bump supply unit that sets the glass substrate on the substrate holder, a heater block, a pressure cylinder, and an XYθ table. , a bump transfer unit that presses the semiconductor chip placed on the heater block onto the glass substrate vacuum-adsorbed by the substrate holder, a bump supply unit, and a bump transfer unit, one of which is moved below the substrate holder. The device is configured such that a television camera for monitoring the bump transfer portion through an observation window is installed above the substrate holder.

〔産業上の利用分野〕[Industrial application field]

本発明はフェイスダウン方式で実装される半導体集積回
路の製造に係り、特に半導体チップに金(Au)バンプ
を転写する装置および方法に関する。
The present invention relates to the manufacture of semiconductor integrated circuits mounted in a face-down manner, and more particularly to an apparatus and method for transferring gold (Au) bumps onto a semiconductor chip.

フェイスダウン方式で基板の導体パターンに直接実装さ
れる半導体集積回路は、予め半導体チップの電極にAu
で形成されたバンプを付着させてあり、実装に際して半
導体チップを基板の導体パターンに押し付け、バンプの
Auを基板の導体パターンと半導体チップの電極に拡散
させる。
Semiconductor integrated circuits that are mounted directly on the conductor pattern of a substrate using the face-down method are manufactured by applying Au to the electrodes of the semiconductor chip in advance.
During mounting, the semiconductor chip is pressed against the conductor pattern of the substrate, and the Au of the bumps is diffused into the conductor pattern of the substrate and the electrodes of the semiconductor chip.

しかし半導体チップの電極に付着させたバンプの高さに
ばらつきがあると、半導体チップを基板の導体パターン
に押し付けたときにバンプか導体パターンに接触せず、
導体パターンへの拡散か行われないで接続不良を生じる
という問題かある。
However, if there are variations in the height of the bumps attached to the electrodes of the semiconductor chip, when the semiconductor chip is pressed against the conductor pattern on the substrate, the bumps or the conductor pattern may not come into contact with each other.
There is also the problem that the diffusion into the conductor pattern is not carried out, resulting in poor connections.

そこでバンプを−様な高さて半導体チップに付着させる
装置と方法の開発か要望されている。
Therefore, there is a need to develop an apparatus and method for attaching bumps to semiconductor chips at different heights.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

第3図はバンプを転写する方法の原理を示す図、第4図
は従来のバンプ転写装置を示す側面図である。
FIG. 3 is a diagram showing the principle of a method for transferring bumps, and FIG. 4 is a side view showing a conventional bump transfer device.

バンプを形成するガラス基板lは第3図(alに示す如
く、ガラス板11の全面を覆ってなる透明電極層12と
更にその上に形成されたマスク層13からなり、マスク
層13を介して透明電極層12にAuめっきを施すこと
によって、第3図(b)に示す如くマスク層13の開口
部にバンプ14が形成される。
As shown in FIG. 3 (al), the glass substrate l on which the bumps are formed consists of a transparent electrode layer 12 covering the entire surface of the glass plate 11 and a mask layer 13 formed on top of the transparent electrode layer 12. By applying Au plating to the transparent electrode layer 12, bumps 14 are formed in the openings of the mask layer 13, as shown in FIG. 3(b).

かかるガラス基板lに半導体チップ2を押し付は加熱す
ると、ガラス基板l上のバンプ14は半導体チップ2の
電極21に拡散し、第3図(C1に示す如く半導体チッ
プ2をガラス基板1から離すと、バンプ14と透明電極
層12の結合力に比へバンプ14と電極21の結合力の
方か強く、ガラス基板1上のバンプ14は半導体チップ
2の電極21に転写される。・従来のバンプ転写装置は
第4図に示す如くガラス基板保持部3と、半導体チップ
2を保持し移動させる半導体チップ保持部4を存し、ガ
ラス基板保持部3はガラス基板1を真空吸着し加熱する
ヒーターブロック31と、X軸方向およびY軸方向に移
動すると共に水平に回転可能なXYθテーブル32とて
、また半導体チップ保持部4は支持軸41の周りを回動
する移動アーム42と、昇降機構43を介して移動アー
ム42の先端に装着されたヒーターブロック44とで構
成され、半導体チップ2はヒーターブロック44に保持
されると共に加熱される。
When the semiconductor chip 2 is pressed onto the glass substrate 1 and heated, the bumps 14 on the glass substrate 1 are diffused into the electrodes 21 of the semiconductor chip 2, and the semiconductor chip 2 is separated from the glass substrate 1 as shown in FIG. 3 (C1). Then, the bonding force between the bumps 14 and the electrodes 21 is stronger than the bonding force between the bumps 14 and the transparent electrode layer 12, and the bumps 14 on the glass substrate 1 are transferred to the electrodes 21 of the semiconductor chip 2. As shown in FIG. 4, the bump transfer device includes a glass substrate holding section 3 and a semiconductor chip holding section 4 that holds and moves the semiconductor chip 2. The glass substrate holding section 3 includes a heater that vacuum-chucks and heats the glass substrate 1. The block 31, the XYθ table 32 which can move in the X-axis direction and the Y-axis direction and can rotate horizontally, and the semiconductor chip holder 4 has a moving arm 42 which rotates around the support shaft 41, and an elevating mechanism 43. The semiconductor chip 2 is held by the heater block 44 and heated at the same time.

ガラス基板保持部3のXYθテーブル32を操作するこ
とによって、ガラス基板l上に形成されたバンプは所定
の位置に位置決めされる。一方、移動アーム42を回動
させることによって半導体チップ2か所定の位置に位置
決めされる。半導体チップ2か所定の位置に位置決めさ
れるとヒーターブロック44が降下して、半導体チップ
2をヒーターブロック31に真空吸着されたガラス基板
lに押し付け、ガラス基板1上に形成されたバンプを半
導体チップ2に転写する。
By operating the XYθ table 32 of the glass substrate holder 3, the bumps formed on the glass substrate l are positioned at predetermined positions. On the other hand, by rotating the moving arm 42, the semiconductor chip 2 is positioned at a predetermined position. When the semiconductor chip 2 is positioned at a predetermined position, the heater block 44 descends, presses the semiconductor chip 2 against the glass substrate l vacuum-adsorbed by the heater block 31, and transfers the bumps formed on the glass substrate 1 to the semiconductor chip. Transfer to 2.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかし従来のバンプ転写装置はバンプを転写する面が半
導体チップの下面にあり、例えば半導体チップとガラス
基板上に形成されたバンプの相対位置かずれても検知で
きない。また半導体チップを保持するヒーターブロック
が移動アームの先端に装着されており、転写のため半導
体チップをガラス基板に押し付けた際に移動アームが持
ち上がり、甚だしいときはガラス基板の面に対して半導
体チップのバンプ転写面が傾斜し、半導体チップに転写
されたバンプの高さが一様にならないという問題があっ
た。
However, in the conventional bump transfer device, the surface on which the bumps are transferred is on the lower surface of the semiconductor chip, and therefore it is not possible to detect, for example, a shift in the relative position of the bumps formed on the semiconductor chip and the glass substrate. In addition, a heater block that holds the semiconductor chip is attached to the tip of the moving arm, and when the semiconductor chip is pressed against the glass substrate for transfer, the moving arm lifts up, and in extreme cases, the semiconductor chip may move against the surface of the glass substrate. There is a problem in that the bump transfer surface is inclined and the heights of the bumps transferred to the semiconductor chip are not uniform.

本発明の目的はバンプの転写に際して半導体チップのバ
ンプ転写面を絶えず監視し、且つ平行性を維持しなから
半導体チップをガラス基板に押し付は可能な、バンプ転
写装置およびその転写方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a bump transfer device and a transfer method thereof, which can constantly monitor the bump transfer surface of a semiconductor chip during bump transfer and press the semiconductor chip onto a glass substrate while maintaining parallelism. There is a particular thing.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

第1図は本発明になるバンプ転写装置を示す側面図であ
る。なお全図を通し同じ対象物は同一記号で表している
FIG. 1 is a side view showing a bump transfer device according to the present invention. The same objects are represented by the same symbols throughout the figures.

上記課題は観察窓53付のヒーターブロック51および
補強ガラス板52からなり、バンプか形成されたガラス
基板lを真空吸着する基板保持部5と、ガラス基板1用
の受け台61およびXYθZテーブル62からなり、基
板保持部5にガラス基板lをセットするバンプ供給部6
と、ヒーターブロック71、加圧シリンダ72、および
XYθテーブル73からなり、ヒーターブロック71上
に載置された半導体チップ2を、基板保持部5に真空吸
着されたガラス基板lに押し付けるバンプ転写部7と、
バンプ供給部6およびバンプ転写部7を搭載し、いずれ
か一方を基板保持部5の下に移動せしめるXテーブル8
とて構成され、且つ観察窓53を通してバンプの転写部
を監視するテレビカメラ9か、基板保持部5の上方に設
置されてなる本発明のバンプ転写装置。
The above-mentioned problem consists of a heater block 51 with an observation window 53 and a reinforced glass plate 52, a substrate holder 5 for vacuum suctioning the glass substrate l on which bumps are formed, a pedestal 61 for the glass substrate 1, and an XYθZ table 62. The bump supply section 6 sets the glass substrate l on the substrate holding section 5.
and a bump transfer section 7, which is composed of a heater block 71, a pressure cylinder 72, and an XYθ table 73, and presses the semiconductor chip 2 placed on the heater block 71 onto the glass substrate l vacuum-adsorbed by the substrate holding section 5. and,
An X table 8 on which the bump supply section 6 and the bump transfer section 7 are mounted and one of which is moved under the substrate holding section 5
The bump transfer apparatus of the present invention is configured such that a television camera 9 for monitoring the bump transfer portion through an observation window 53 is installed above the substrate holding section 5.

およびテレビカメラ9で監視しなからバンプ供給部6の
XYθZテーブル62を操作し、受け台61上のガラス
基板lを所定の位置に位置決めし、基板保持部5にガラ
ス基板lを真空吸着させるバンプ供給工程と、Xテーブ
ル8を操作しバンプ転写部7を基板保持部5の下に移動
させる移動工程と、。
Then, while monitoring with the TV camera 9, operate the XYθZ table 62 of the bump supply section 6, position the glass substrate l on the holder 61 at a predetermined position, and vacuum-adsorb the glass substrate l onto the substrate holding section 5. a supply step, and a moving step of operating the X table 8 to move the bump transfer section 7 below the substrate holding section 5.

テレビカメラ9で監視しなからバンプ転写部7のXYθ
テーブル73を操作し、ヒーターブロック71上に載置
された半導体チップ2を、所定の位置に位置決めする半
導体チップ位置決め工程と、加圧シリンダ72を上昇せ
しめて半導体チップ2を、基板保持部5に真空吸着され
たガラス基板1に押し付ける転写工程と、Xテーブル8
を操作しバンプ供給部6を基板保持部5の下に移動させ
る移動工程と、基板保持部5に真空吸着されていたガラ
ス基板lを、受け台61に戻す復旧工程を含む本発明の
バンプ転写方法によって達成される。
The XYθ of the bump transfer section 7 is monitored by the TV camera 9.
A semiconductor chip positioning step in which the table 73 is operated to position the semiconductor chip 2 placed on the heater block 71 at a predetermined position, and the pressure cylinder 72 is raised to place the semiconductor chip 2 on the substrate holder 5. A transfer process of pressing onto the vacuum-adsorbed glass substrate 1 and an X table 8
The bump transfer method of the present invention includes a moving step of moving the bump supply section 6 under the substrate holding section 5 by operating the substrate holding section 5, and a restoring step of returning the glass substrate l that was vacuum-adsorbed to the substrate holding section 5 to the holder 61. achieved by the method.

〔作 用〕[For production]

第1図に示す如く観察窓付のヒーターブロックおよび補
強ガラス板からなり、バンプか形成されたガラス基板を
真空吸着する基板保持部と、ガラス基板用の受け台およ
びXYθZテーブルからなり、基板保持部にガラス基板
をセットするバンプ供給部と、ヒーターブロック、加圧
シリンダ、およびXYθテーブルからなり、ヒーターブ
ロック上に載置された半導体チップを、基板保持部に真
空吸着されたガラス基板に押し付けるハンプ転写部と、
バンプ供給部およびバンプ転写部を搭載し、いずれか一
方を基板保持部の下に移動せしめるXテーブルとて構成
され、且つ観察窓を通してバンプの転写部を監視するテ
レビカメラが、基板保持部の上方に設置されてなる本発
明のバンプ転写装置によって、バンプの転写に際して半
導体チップのバンプ転写面を絶えず監視し、且つ平行性
を維持しなから半導体チップをガラス基板に押し付は可
能な、バンプ転写装置およびその転写方法を実現するこ
とかできる。
As shown in Fig. 1, the substrate holder consists of a heater block with an observation window and a reinforced glass plate, which vacuum-chucks the glass substrate on which bumps are formed, and a holder for the glass substrate and an XYθZ table. A hump transfer system consists of a bump supply section that sets a glass substrate on a substrate, a heater block, a pressure cylinder, and an XYθ table, and that presses a semiconductor chip mounted on the heater block onto a glass substrate that is vacuum-adsorbed on a substrate holder. Department and
The bump supply section and the bump transfer section are mounted on an X table that moves one of them below the substrate holder, and a television camera that monitors the bump transfer section through an observation window is mounted above the substrate holder. The bump transfer device of the present invention, which is installed at It is possible to realize an apparatus and a transfer method thereof.

〔実施例〕〔Example〕

以下添付図により本発明の実施例について説明する。な
お第2図は本発明になるバンプ転写方法を説明するフロ
ーチャートである。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. Note that FIG. 2 is a flowchart for explaining the bump transfer method according to the present invention.

本発明になるバンプ転写装置は第1図に示す如く基板保
持部5と、Xテーブル8に搭載されたバンプ供給部6お
よびバンプ転写部7と、基板保持部5の上方に設置され
てなるテレビカメラ9とて構成され、観察窓53付のヒ
ーターブロック51および補強ガラス板52からなる基
板保持部5は、バンプか形成されたガラス基板1を真空
吸着するすると共に、補強ガラス板52を介して真空吸
着されたガラス基板lを加熱する。
As shown in FIG. 1, the bump transfer device according to the present invention includes a substrate holding section 5, a bump supply section 6 and a bump transfer section 7 mounted on an X table 8, and a television set above the substrate holding section 5. A substrate holder 5 configured as a camera 9 and consisting of a heater block 51 with an observation window 53 and a reinforced glass plate 52 vacuum-chucks the glass substrate 1 on which bumps have been formed, and The vacuum-adsorbed glass substrate l is heated.

またX軸方向、Y軸方向およびX軸方向に移動し水平に
回転可能なXYθZテーブル62と、XYθZテーブル
62に装着された受け台61からなるバンプ供給部6は
、受け台61上に載置されたガラス基板1を所定の位置
に位置決めして基板保持部5に供給する。
In addition, the bump supply section 6 is composed of an XYθZ table 62 that can move in the X-axis direction, the Y-axis direction, and the X-axis direction and can rotate horizontally, and a pedestal 61 mounted on the XYθZ table 62. The glass substrate 1 thus prepared is positioned at a predetermined position and supplied to the substrate holder 5.

更に載置された半導体チップ2を加熱するヒーターブロ
ック71と、X軸方向およびY軸方向に移動すると共に
水平に回転するXYθテーブル73と、ヒーターブロッ
ク71を押し上げる加圧シリンダ72からなるバンプ転
写部7は、基板保持部5に真空吸着されているガラス基
板lに半導体チップ2を位置決めし、半導体チップ2を
ガラス基板1に押し付けてバンプの転写を行う。
Furthermore, a bump transfer section includes a heater block 71 that heats the mounted semiconductor chip 2, an XYθ table 73 that moves in the X- and Y-axis directions and rotates horizontally, and a pressure cylinder 72 that pushes up the heater block 71. At step 7, the semiconductor chip 2 is positioned on the glass substrate 1 which is vacuum-adsorbed by the substrate holder 5, and the semiconductor chip 2 is pressed against the glass substrate 1 to transfer bumps.

本発明になるバンプ転写装置はバンプ転写面か半導体チ
ップ2の上面にあり、半導体チップ2のバンプへの位置
決め時はもちろん転写時も、基板保持部5の観察窓53
を通してバンプ転写面をテレビカメラ9て監視てきる。
The bump transfer device according to the present invention is provided on the bump transfer surface or the upper surface of the semiconductor chip 2, and is used not only during positioning of the semiconductor chip 2 to the bumps but also during transfer, using the observation window 53 of the substrate holder 5.
A TV camera 9 is used to monitor the bump transfer surface through the TV camera 9.

以下第2図にしたがって本発明になるバンプ転写方法を
詳細に説明する。
The bump transfer method according to the present invention will be explained in detail below with reference to FIG.

■ 移動工程:Xテーブル8を操作してバンプ供給部6
を基板保持部5の下に移動させる。
■ Moving process: Operate the X table 8 to move the bump supply section 6
is moved below the substrate holder 5.

■ バンプ供給工程:テレビカメラ9で監視しなからバ
ンプ供給部6のXYθZテーブル62を操作し、受け台
61上のガラス基板lを基板保持部5の所定の位置に真
空吸着させる。
(2) Bump supply process: While monitoring with the television camera 9, the XYθZ table 62 of the bump supply section 6 is operated to vacuum-adsorb the glass substrate l on the pedestal 61 to a predetermined position on the substrate holding section 5.

■ 移動工程:Xテーブル8を操作しバンプ転写部7を
基板保持部5の下に移動させる。半導体チップ2はバン
プ転写部7の移動に先立ってヒーターブロック71上に
載置されている。
(2) Moving process: The bump transfer section 7 is moved below the substrate holding section 5 by operating the X table 8. The semiconductor chip 2 is placed on the heater block 71 before the bump transfer section 7 is moved.

■ 半導体チップ位置決め工程:テレビカメラ9て監視
しなからバンプ転写部7のXYθテーブル73を操作し
、基板保持部5に真空吸着されているガラス基板lの所
定の位置に半導体チップ2を位置決めする。
■ Semiconductor chip positioning process: While monitoring with the television camera 9, operate the XYθ table 73 of the bump transfer unit 7 to position the semiconductor chip 2 at a predetermined position on the glass substrate l vacuum-adsorbed to the substrate holding unit 5. .

■ 転写工程:テレビカメラ9で監視しなから加圧シリ
ンダ72を上昇せしめ、半導体チップ2をガラス基板l
に押し付けてバンプを転写したあと加圧シリンダ72を
降下させる。
■ Transfer process: The pressure cylinder 72 is raised while being monitored by the television camera 9, and the semiconductor chip 2 is transferred to the glass substrate l.
After the bumps are transferred by pressing the cylinder 72, the pressure cylinder 72 is lowered.

■ 移動工程:Xテーブル8を操作してバンプ供給部6
を基板保持部5の下に移動させる。
■ Moving process: Operate the X table 8 to move the bump supply section 6
is moved below the substrate holder 5.

■ 復旧工程・XYθZテーブル62を操作して受け台
61をガラス基板1に接近させ、基板保持部5から分離
されたガラス基板lを再び受け台61に載置する。その
間にバンプか転写された半導体チップ2をヒーターブロ
ック71から取り出し、新しい半導体チップ2をヒータ
ーブロック71に載置する。
(2) Restoration process - The XYθZ table 62 is operated to bring the pedestal 61 closer to the glass substrate 1, and the glass substrate 1 separated from the substrate holder 5 is placed on the pedestal 61 again. In the meantime, the semiconductor chip 2 on which the bumps have been transferred is taken out from the heater block 71, and a new semiconductor chip 2 is placed on the heater block 71.

ガラス基板lには複数個の半導体チップ2に転写するハ
ンプか形成されており、全てのバンプか転写されるまで
前記のバンプ供給工程がち復旧工程にいたる工程を繰り
返す。
Humps to be transferred to a plurality of semiconductor chips 2 are formed on the glass substrate 1, and the steps from the bump supply process to the recovery process are repeated until all the bumps are transferred.

このように観察窓付のヒーターブロックおよび補強ガラ
ス板からなり、バンプか形成されたガラス基板を真空吸
着する基板保持部と、ガラス基板用の受け台およびXY
19Zテーブルからなり、基板保持部にガラス基板をセ
ットするバンプ供給部と、ヒーターブロック、加圧シリ
ンダ、およびXYθテーブルからなり、ヒーターブロッ
ク上に載置された半導体チップを、基板保持部に真空吸
着されたガラス基板に押し付けるバンプ転写部と、バン
プ供給部およびバンプ転写部を搭載し、いずれか一方を
基板保持部の下に移動せしめるXテーブルとて構成され
、且つ観察窓を通してバンプの転写部を監視するテレビ
カメラか、基板保持部の上方に設置されてなる本発明の
バンプ転写装置によって、バンプの転写に際して半導体
チップのバンプ転写面を絶えず監視し、且つ平行性を維
持しなから半導体チップをガラス基板に押し付は可能な
、バンプ転写装置およびその転写方法を実現することが
できる。
As described above, it consists of a heater block with an observation window and a reinforced glass plate, and includes a substrate holder that vacuum sucks the glass substrate on which bumps have been formed, a holder for the glass substrate, and an XY
Consisting of a 19Z table, it consists of a bump supply unit that sets the glass substrate on the substrate holder, a heater block, a pressure cylinder, and an XYθ table, which vacuum suctions the semiconductor chip placed on the heater block onto the substrate holder. The bump transfer unit is equipped with a bump transfer unit that presses against the glass substrate, a bump supply unit, and a bump transfer unit. During bump transfer, the bump transfer surface of the semiconductor chip is constantly monitored by a monitoring television camera or by the bump transfer device of the present invention installed above the substrate holder, and the semiconductor chip is transferred while maintaining parallelism. It is possible to realize a bump transfer device and a transfer method thereof that can be pressed onto a glass substrate.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

上述の如く本発明によればバンプの転写に際して半導体
チップのバンプ転写面を絶えず監視し、且つ平行性を維
持しなから半導体チップをガラス基板に押し付は可能な
、バンプ転写装置およびその転写方法を提供することか
できる。
As described above, the present invention provides a bump transfer device and a transfer method thereof, which constantly monitors the bump transfer surface of a semiconductor chip during bump transfer and can press the semiconductor chip onto a glass substrate while maintaining parallelism. can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明になるバンプ転写装置を示す側面図、 第2図は本発明になるバンプ転写方法を説明するフロー
チャート、 第3図はバンプを転写する方法の原理を示す図、第4図
は従来のバンプ転写装置を示す側面図、である。図にお
いて lはガラス基板、   2は半導体チップ、5は基板保
持部、   6はバンプ供給部、7はハンプ転写部、 
 8はXテーブル、9はテレビカメラ、 51はヒータ
ーブロック、52は補強ガラス板、 53は観察窓、6
1は受け台、     62はXYθZテーブル、71
はヒーターブロック、72は加圧シリンダ、73はXY
θテーブル、 をそれぞれ表す。 第1図 本発明になるバンプ転写方法を説明するフローチャート
第2図 (a) (b) バンプを転写する方法の原理を示す図
FIG. 1 is a side view showing a bump transfer device according to the present invention, FIG. 2 is a flowchart explaining the bump transfer method according to the present invention, FIG. 3 is a diagram showing the principle of the bump transfer method, and FIG. 1 is a side view showing a conventional bump transfer device. In the figure, l is a glass substrate, 2 is a semiconductor chip, 5 is a substrate holding part, 6 is a bump supply part, 7 is a hump transfer part,
8 is an X table, 9 is a TV camera, 51 is a heater block, 52 is a reinforced glass plate, 53 is an observation window, 6
1 is a cradle, 62 is an XYθZ table, 71
is the heater block, 72 is the pressure cylinder, 73 is the XY
θ table, respectively represent. Fig. 1: Flowchart explaining the bump transfer method according to the present invention Fig. 2 (a) (b) Diagram showing the principle of the bump transfer method

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1)観察窓(53)付のヒーターブロック(51)およ
び補強ガラス板(52)からなり、バンプが形成された
ガラス基板(1)を真空吸着する基板保持部(5)と、
該ガラス基板(1)用の受け台(61)およびXYθZ
テーブル(62)からなり、該基板保持部(5)に該ガ
ラス基板(1)をセットするバンプ供給部(6)と、ヒ
ーターブロック(71)、加圧シリンダ(72)、およ
びXYθテーブル(73)からなり、該ヒーターブロッ
ク(71)上に載置された半導体チップ(2)を、該基
板保持部(5)に真空吸着された該ガラス基板(1)に
押し付けるバンプ転写部(7)と、該バンプ供給部(6
)および該バンプ転写部(7)を搭載し、いずれか一方
を該基板保持部(5)の下に移動せしめるXテーブル(
8)とで構成され、且つ該観察窓(53)を通してバン
プの転写部を監視するテレビカメラ(9)が、該基板保
持部(5)の上方に設置されてなることを特徴とするバ
ンプ転写装置。 2)テレビカメラ(9)で監視しなからバンプ供給部(
6)のXYθZテーブル(62)を操作し、受け台(6
1)上のガラス基板(1)を所定の位置に位置決めし、
基板保持部(5)に該ガラス基板(1)を真空吸着させ
るバンプ供給工程と、 Xテーブル(8)を操作しバンプ転写部(7)を該基板
保持部(5)の下に移動させる移動工程と、テレビカメ
ラ(9)で監視しなから該バンプ転写部(7)のXYθ
テーブル(73)を操作し、ヒーターブロック(71)
上に載置された半導体チップ(2)を、所定の位置に位
置決めする半導体チップ位置決め工程と、 加圧シリンダ(72)を上昇せしめて該半導体チップ(
2)を、該基板保持部(5)に真空吸着された該ガラス
基板(1)に押し付ける転写工程と、該Xテーブル(8
)を操作し該バンプ供給部(6)を該基板保持部(5)
の下に移動させる移動工程と、該基板保持部(5)に真
空吸着されていた該ガラス基板(1)を、該受け台(6
1)に戻す復旧工程を含むことを特徴とするバンプ転写
方法。
[Claims] 1) A substrate holder (5) consisting of a heater block (51) with an observation window (53) and a reinforced glass plate (52), which vacuum-adsorbs the glass substrate (1) on which bumps are formed. and,
A pedestal (61) for the glass substrate (1) and XYθZ
It consists of a table (62), a bump supply section (6) for setting the glass substrate (1) on the substrate holding section (5), a heater block (71), a pressure cylinder (72), and an XYθ table (73). ), and a bump transfer unit (7) that presses the semiconductor chip (2) placed on the heater block (71) onto the glass substrate (1) vacuum-adsorbed by the substrate holding unit (5); , the bump supply section (6
) and the bump transfer section (7), and an X table (
8), and a television camera (9) for monitoring the bump transfer portion through the observation window (53) is installed above the substrate holding portion (5). Device. 2) Monitor the bump supply section (with a TV camera (9)).
6), operate the XYθZ table (62) and
1) Position the upper glass substrate (1) in a predetermined position,
A bump supply step in which the glass substrate (1) is vacuum-adsorbed onto the substrate holding part (5), and a movement in which the bump transfer part (7) is moved below the substrate holding part (5) by operating the X table (8). The process and the XYθ of the bump transfer part (7) are monitored with a television camera (9).
Operate the table (73) and move the heater block (71)
A semiconductor chip positioning step of positioning the semiconductor chip (2) placed on top at a predetermined position; and a step of raising the pressure cylinder (72) to remove the semiconductor chip (2).
2) onto the glass substrate (1) vacuum-adsorbed by the substrate holder (5);
) to move the bump supply section (6) to the substrate holding section (5).
The glass substrate (1), which had been vacuum-adsorbed to the substrate holder (5), is moved to the bottom of the holder (6).
A bump transfer method characterized by including a restoration step of returning to step 1).
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