JPH04157357A - Automatic fluid controlling apparatus - Google Patents

Automatic fluid controlling apparatus

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JPH04157357A
JPH04157357A JP28162290A JP28162290A JPH04157357A JP H04157357 A JPH04157357 A JP H04157357A JP 28162290 A JP28162290 A JP 28162290A JP 28162290 A JP28162290 A JP 28162290A JP H04157357 A JPH04157357 A JP H04157357A
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reduction potential
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Abstract

PURPOSE:To follow fluid ingredients which are changing by measuring potentials when reagents of amounts corresponding to the upper and lower limits in terms of management of concentration of pre-specified processing fluid are put in respectively by oxidation-reduction potential electrodes. CONSTITUTION:An active ingredient amount of processing fluid sampled by a sampling means 100 is obtained by oxidation-reduction potential(ORP) electrodes 19, 20 from change in potential by titration, and these respective means are controlled by a control means 102. When oxidation-reduction potential of the processing fluid is measured, a six-way solenoid valve 4 is switched from a path A to a path B, and a constant amount of the processing fluid is led to either of reaction cells 17, 18 by switching of a three-way solenoid valve 8. Reagents of amounts corresponding to the upper and lower limits in an oxidation-reduction potential range of the pre-specified processing fluid are added to the processing fluid to measure the oxidation-reduction potential by the electrodes 19, 20. Since it is compared with a pre-specified reference potential, it is easy to detect whether it is within a set range thereby permitting the control.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、半導体製造用処理液の成分量の管理に好適
な自動液管理装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to an automatic liquid management device suitable for managing the amount of components in a processing liquid for semiconductor manufacturing.

「従来の技術」 従来より、例えば半導体の製造工程等で用いられる剥離
液(処理液)は、種々な方法で分析、管理され、更に省
人化及び品質管理の向上を目的として、前記分析、管理
の自動化が行われてきた。
"Prior Art" Conventionally, stripping solutions (processing solutions) used, for example, in semiconductor manufacturing processes, have been analyzed and managed using various methods. Management has been automated.

この種の自動液管理装置として例えば本発明者が先に提
案した装置(特願平2−38713号)では、硫酸と過
酸化水素水とが混合された剥離液をポンプ等を用いたオ
ンラインでサンプリングし、その後、このサンプリング
した剥離液を吸光度計で測定してその劣化度を管理する
とともに、この剥離液を分析機器内の反応セル内に供給
し、この反応セル内において酸化還元電位電極による電
位差滴定分析を行ない、剥離液中の有効成分の濃度を検
出している。
As an example of this type of automatic liquid management device, in the device previously proposed by the present inventor (Japanese Patent Application No. 2-38713), a stripping liquid containing a mixture of sulfuric acid and hydrogen peroxide is applied online using a pump or the like. After that, the sampled stripping solution is measured with an absorbance meter to control its degree of deterioration, and the stripping solution is supplied to a reaction cell in an analytical instrument, and the redox potential is measured by an electrode in this reaction cell. Potentiometric titration analysis is performed to detect the concentration of active ingredients in the stripping solution.

そして、このような分析では、制御部内に設けられたコ
ンピュータにより、ポンプ、バルブなどの機器の動作を
制御するとともに、前記反応セル内に滴定した試薬の滴
下量に基づき、処理液中の硫酸濃度、過酸化水素濃度を
算出し、その算出結果をCR’1’あるいはプリンタに
出力していた。
In such an analysis, a computer installed in the control unit controls the operation of equipment such as pumps and valves, and also determines the sulfuric acid concentration in the treated liquid based on the amount of the titrated reagent dripped into the reaction cell. , the hydrogen peroxide concentration was calculated, and the calculation results were output to CR'1' or a printer.

「発明が解決しようとする課題」 ところで、上記の自動液管理装置にあっては、電位差滴
定分析を行う場合、一定量の試薬を注入した後電位変化
を検出し、さらにその変化量に応じて次の注入量を決定
し再度滴定を繰り返すといった手法を採用している。
"Problem to be Solved by the Invention" By the way, in the above-mentioned automatic liquid management device, when performing potentiometric titration analysis, a change in potential is detected after a certain amount of reagent is injected, and then a change in potential is detected according to the amount of change. A method is adopted in which the next injection amount is determined and the titration is repeated again.

しかしながら、このように電位差滴定を滴定−電位測定
−滴定の繰り返しで行うと、滴定時間に時間がかかり過
ぎてしまい、処理液の濃度変化に滴定分析が追従できず
、処理液の管理が迅速に行えないといった不満がある。
However, when potentiometric titration is performed by repeating titration-potential measurement-titration in this way, the titration time takes too much time, making it impossible for titration analysis to follow changes in the concentration of the treated solution, making it difficult to manage the treated solution quickly. I am dissatisfied with not being able to do it.

「課題を解決するための手段」 そこで、この発明の自動液管理装置では、処理液をサン
プリングするサンプリング手段と、サンプリングされた
処理液の有効成分量を滴定による電位変化から求める検
出手段と、これら各手段を制御する制御手段とを具備し
、上記検出手段が酸化還元電位電極からなり、予め設定
した処理液の濃度の管理上の上限値と下限値とに相当す
る槍の試薬を投入したときの電位をそれぞれ酸化還元電
位電極で測定し、これら測定値と予め設定した基準電位
とを比較する処理液管理機能が上記制御手段に設けられ
てなることにより、処理液の酸化還元電位が予め設定し
た範囲内にあるか否かを検出し、処理液の管理を行うよ
うにして上記課題を解決した。
"Means for Solving the Problem" Therefore, the automatic liquid management device of the present invention includes a sampling means for sampling the processing liquid, a detection means for determining the amount of active ingredients in the sampled processing liquid from a potential change by titration, and and a control means for controlling each means, wherein the detection means comprises an oxidation-reduction potential electrode, and when a spear reagent corresponding to a preset upper and lower limit value for concentration of the processing liquid is introduced. The control means is provided with a treatment liquid management function that measures the potentials of each with redox potential electrodes and compares these measured values with a preset reference potential, so that the redox potential of the treatment liquid can be set in advance. The above-mentioned problem was solved by detecting whether it was within the specified range and managing the processing liquid.

「作用 」 この発明の自動液管理装置によれば、処理液管理機能に
より、予め設定した処理液の酸化還元電位範囲の上限値
と下限値とにそれぞれ相当する量の試薬を処理液に加え
、該処理液の酸化還元電位を上記酸化還元電位電極で測
定して予め設定した基準電位と比較するようにしたので
、処理液の濃度が予め設定した範囲内にあるか否かを容
易に検出することが可能になる。
"Function" According to the automatic liquid management device of the present invention, the processing liquid management function adds reagents in amounts corresponding to the upper and lower limits of the preset redox potential range of the processing liquid to the processing liquid, The oxidation-reduction potential of the processing liquid is measured with the oxidation-reduction potential electrode and compared with a preset reference potential, so it is easy to detect whether the concentration of the processing liquid is within the preset range. becomes possible.

「実施例」 この発明の一実施例を第1図〜第3図を参照して説明す
る。なお、この実施例は本発明をレジストの処理液(剥
離液)の管理装置に適用した場合の一実施例である。
"Embodiment" An embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 to 3. This embodiment is an example in which the present invention is applied to a resist processing liquid (stripping liquid) management device.

まず、第1図(A)により自動液管理装置全体の概略構
成を説明すると、第1図(A)において符号1は図示路
の処理槽より処理液が供給される処理液供給路である。
First, the general structure of the entire automatic liquid management apparatus will be described with reference to FIG. 1(A). In FIG. 1(A), reference numeral 1 denotes a processing liquid supply path through which processing liquid is supplied from the processing tank along the illustrated path.

ここで、前記処理液としては、半導体用シリコンウェハ
上のノボラック樹脂等からなるレジストを剥離してこれ
を溶解する、硫酸−過酸化水素水系の溶液が挙げられる
Here, examples of the processing liquid include a sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous solution that peels off and dissolves a resist made of novolak resin or the like on a semiconductor silicon wafer.

この処理液供給路lにはその経路中に冷却器2、ポンプ
3、六方電磁弁4が順次配設されている。
A cooler 2, a pump 3, and a hexagonal solenoid valve 4 are sequentially arranged in this processing liquid supply path 1.

六方電磁弁4は、その一つの口4aを上記処理液供給路
lの下流に接続したもので、第1図中実線で示す経路A
と破線で示す経路Bとを自動的に切り換えるものであり
、通常は経路Aを採るように設定されたものである。ま
た、この六方電磁弁4の口4bと口4eとには、これら
を連結するサンプリング配管5が配設されており、また
口4Cには、サンプリング配管5内の試料(処理液)を
送り出すために、例えば純水を圧送するためのポンプ6
を経路中に配した圧送路7が接続されている。
The six-way solenoid valve 4 has one port 4a connected downstream of the processing liquid supply path 1, and is connected to the path A indicated by the solid line in FIG.
and route B indicated by a broken line, and is normally set to take route A. In addition, a sampling pipe 5 is provided between the ports 4b and 4e of the six-way solenoid valve 4, and a sampling pipe 5 is provided to connect the ports 4b and 4e, and the port 4C is used to send out the sample (processing liquid) in the sampling pipe 5. For example, a pump 6 for pumping pure water
A pressure feeding path 7 is connected thereto.

ここで、サンプリング配管5は、その内部に貯留する処
理液のmが予め決められた風に設定されており、定量の
ため用いられるようになっている。
Here, the sampling pipe 5 has a predetermined value m of the processing liquid stored therein, and is used for quantitative determination.

さらに、この六方電磁弁4の口4dには三方電磁弁8に
連結する流路9が、また口4rには三方電磁弁IOに連
結する流路11がそれぞれ接続されている。三方電磁弁
10には、処理槽(図示路)につながる返送路12とド
レン槽13につながるドレン路14とが接続されており
、このような構成のもとに六方電磁弁4から導出される
処理液は、処理槽に返送され、あるいはドレン槽13に
導かれるようになっている。
Furthermore, a flow path 9 connected to the three-way solenoid valve 8 is connected to the port 4d of the six-way solenoid valve 4, and a flow path 11 connected to the three-way solenoid valve IO is connected to the port 4r. The three-way solenoid valve 10 is connected to a return path 12 that connects to a processing tank (path shown) and a drain path 14 that connects to a drain tank 13, and with this configuration, the water is led out from the six-way solenoid valve 4. The processing liquid is returned to the processing tank or guided to the drain tank 13.

三方電磁弁9には、第1の測定路15と第2の測定路1
6とが接続されており、第1の測定路15には第1の反
応セルが17が、また第2の測定路I6には第2の反応
セル18がそれぞれ配設されている。
The three-way solenoid valve 9 has a first measurement path 15 and a second measurement path 1.
A first reaction cell 17 is provided in the first measurement path 15, and a second reaction cell 18 is provided in the second measurement path I6.

これら反応セル17.18には、それぞれのセル内にサ
ンプリングされた処理液の有効成分量を滴定による電位
変化から求める、滴定分析用のセンサとしてのORP 
(酸化還元電位)電極19.20が設けられ、さらにセ
ル底部に滴定後の試料を排出するための排出路21.2
2が配設されている。排出路21゜22にはそれぞれの
経路中に電磁弁23.24が配設されており、またこれ
ら排出路21.22が合流した後にはポンプ25が配設
されており、さらにこの合流路26は前記ドレン路14
に合流している。ここで、反応セル17.18内の滴定
後の試料は、電磁弁23.24が開放されることによっ
て自重により落下して合流路26を経てドレン路14に
導かれ、あるいはポンプ25によって強制的にドレン路
14に導かれる。なお、ポンプ25により排出する場合
には、ドレン槽13内に液面センサを設置し、その信号
によって排出のタイミングを決定するようにしてもよい
These reaction cells 17 and 18 have an ORP as a sensor for titration analysis, which determines the amount of active ingredient in the processing liquid sampled in each cell from the change in potential caused by titration.
(oxidation-reduction potential) electrodes 19.20 are provided, and a discharge channel 21.2 for discharging the titrated sample at the bottom of the cell.
2 are arranged. A solenoid valve 23, 24 is disposed in each of the discharge passages 21, 22, and a pump 25 is disposed after the discharge passages 21, 22 merge, and a pump 25 is disposed in the discharge passage 21, 22. is the drain passage 14
is merging with. Here, the sample after titration in the reaction cell 17.18 falls under its own weight by opening the solenoid valve 23.24 and is guided to the drain path 14 via the confluence path 26, or is forced by the pump 25. is led to the drain passage 14. In addition, when draining by the pump 25, a liquid level sensor may be installed in the drain tank 13, and the timing of draining may be determined based on a signal from the liquid level sensor.

また、前記第1の反応セル17内には第1の試薬管27
と第2の試薬管28とがそれぞれの一端を臨ませて配設
されており、第2の反応セル18内には第3の試薬管2
9がその一端を臨ませて配設されて0る。これら第!、
第2、第3の試薬管27,28.29は、それぞれその
管路中に滴定ポンプ30a、 30b、 30cを配設
したもので、その端部側に配設された試薬瓶31a、 
31b、 31cから滴定ポンプ30a、 30b、 
30cによって試薬を前記反応セル17あるいは反応セ
ル18内に一定m供給するものである。なお、試薬瓶3
1a内には試薬として過マンガン酸カリウム(KMnO
,)が、試薬瓶31b内には硫酸(H,So、)が、試
薬瓶31c内1こは水酸化ナトリウム(NaOH)がそ
れぞれ収容されている。
Furthermore, a first reagent tube 27 is provided in the first reaction cell 17.
and a second reagent tube 28 are arranged with one end facing each other, and a third reagent tube 2 is disposed in the second reaction cell 18.
9 is placed with one end facing out. These numbers! ,
The second and third reagent tubes 27, 28, and 29 have titration pumps 30a, 30b, and 30c disposed in their respective channels, and a reagent bottle 31a disposed at the end thereof,
31b, 31c to titration pumps 30a, 30b,
30c supplies a constant m of reagent into the reaction cell 17 or 18. In addition, reagent bottle 3
1a contains potassium permanganate (KMnO) as a reagent.
, ), sulfuric acid (H, So, ) is contained in the reagent bottle 31b, and sodium hydroxide (NaOH) is contained in the reagent bottle 31c.

このような構成の自動液管理装置にあっては、通常は六
方電磁弁4を経路へにすることにより、処理液をサンプ
リング配管5および流路11.返送路12を経て処理槽
(図示路)に戻し、あるいは三方電磁弁10を切り換え
ることによりドレン路14を通じてドレン槽13に導く
In an automatic liquid management device having such a configuration, normally the hexagonal solenoid valve 4 is routed to route the processing liquid to the sampling pipe 5 and the flow path 11. It is returned to the processing tank (path shown) through the return path 12, or led to the drain tank 13 through the drain path 14 by switching the three-way solenoid valve 10.

一方、処理液の酸化還元電位を測定する場合には、経路
Bに切り換えて、上述した経路Aに処理液を流通させた
際サンプリング配管5内に残存する処理液を、圧送路7
より純水を送り出すことにより押し出して流路9に導く
。そして、三方電磁弁8を適宜切り換えることによって
反応セル17゜18のいずれかに一定量の処理液を導く
。ここで、反応セル17においては、試薬瓶31aおよ
び試薬瓶31bよりそれぞれ一定量、すなわち予め設定
した処理液の酸化還元電位範囲の下限値に化学量論的に
相当する量の過マンガン酸カリウムの標準溶液および一
定量の硫酸の標準溶液が供給され、その酸化還元電位が
測定される。さらに、この反応セル17に、予め設定し
た処理液の酸化還元電位範囲の上限値と下限値との差に
化学量論的に相当する量の過マンガン酸カリウムの標準
溶液および一定量の硫酸の標準溶液が供給され、その酸
化還元電位が測定される。そして、このような測定によ
り、処理液の酸化還元電位が予め設定された酸化還元電
位の管理範囲内にあるか否かが検出される。
On the other hand, when measuring the oxidation-reduction potential of the processing liquid, the processing liquid remaining in the sampling pipe 5 when the processing liquid is passed through the above-mentioned path A is transferred to the pressure feeding path 7 by switching to path B.
By sending out more pure water, it is pushed out and guided to the flow path 9. Then, by appropriately switching the three-way solenoid valve 8, a certain amount of processing liquid is introduced into either of the reaction cells 17 and 18. Here, in the reaction cell 17, a certain amount of potassium permanganate is supplied from the reagent bottle 31a and the reagent bottle 31b, that is, an amount stoichiometrically equivalent to the lower limit of the preset redox potential range of the treatment liquid. A standard solution and a constant amount of a standard solution of sulfuric acid are supplied and their redox potentials are measured. Furthermore, in this reaction cell 17, a standard solution of potassium permanganate in an amount stoichiometrically equivalent to the difference between the upper and lower limits of the preset redox potential range of the processing liquid and a certain amount of sulfuric acid were added. A standard solution is provided and its redox potential is measured. Through such measurements, it is detected whether the redox potential of the processing liquid is within a preset redox potential control range.

さらに、このような測定が終了した後、電磁弁23ある
いは電磁弁24が開かれ、測定後の処理液は合流路z6
を通ってドレン槽13に導かれる。
Furthermore, after such a measurement is completed, the solenoid valve 23 or 24 is opened, and the treated liquid after the measurement flows into the confluence path z6.
It is guided to the drain tank 13 through the drain tank 13.

なお、上記の構成において、第1図(A )+こ符号1
00で示す範囲の構成をサンプリング手段とする。
In addition, in the above configuration, FIG.
The configuration in the range indicated by 00 is used as the sampling means.

また、第1図(B)において符号102で示すものは制
御手段であって、この制御手段102には、キーボード
等の入力手段103と、装置の運転状況、処理状況等を
CIt ’l’表示する出力手段104(例えば、第1
図(A)と同様の系統図が記され、各構成要素に対応す
る箇所にランプなどがある表示パネル)が設けられ、か
つ、上述したごとく、予め設定した処理液の酸化還元電
位範囲の上限値と下限値とにそれぞれ化学量論的に相当
する量の試薬を処理液に加え、該処理液の酸化還元電位
を上記酸化還元電位で測定して予め設定した基準値と比
較する処理液管理機能105が内蔵されている。
Further, in FIG. 1(B), the reference numeral 102 is a control means, and this control means 102 includes an input means 103 such as a keyboard, and a CIt 'l' display for displaying the operating status, processing status, etc. of the apparatus. output means 104 (for example, the first
A system diagram similar to that shown in Figure (A) is shown, a display panel with lamps etc. is provided at locations corresponding to each component), and as described above, the upper limit of the oxidation-reduction potential range of the processing liquid is set in advance. Processing solution management in which an amount of reagent stoichiometrically corresponding to the value and the lower limit value is added to the processing solution, and the redox potential of the processing solution is measured at the above redox potential and compared with a preset reference value. A function 105 is built-in.

上記制御手段IQ2は、人力手段10′Aの入力データ
に基づき、以下の処理手段(1’)を制御し、かつこの
処理手段(P)の制御結果に基づき、およびこの処理手
段(P)を制御することによって得られた検出手段(Q
)の検出データに基づき、上記表示パネル104に運転
状況および処理状況を表示させるようになっている。
The control means IQ2 controls the following processing means (1') based on the input data of the human power means 10'A, and also controls the processing means (P) based on the control result of this processing means (P). The detection means obtained by controlling (Q
) Based on the detected data, the display panel 104 displays the operating status and processing status.

なお、上記処理手段(P)としては、冷却器2、六方電
磁弁4、三方電磁弁10、滴定ポンプ31a、31b、
3tc、 N磁弁23.24、ポンプ25などがあり、
また上記検出手段(Q)としては□ n P 11:L
極20,21がある。
The processing means (P) includes a cooler 2, a six-way solenoid valve 4, a three-way solenoid valve 10, titration pumps 31a, 31b,
3tc, N solenoid valve 23.24, pump 25, etc.
In addition, as the detection means (Q), □ n P 11:L
There are poles 20 and 21.

次に、制御手段102に記憶されている自動液管理装置
の制御内容について第2図および第3図を参照して説明
する。
Next, the control contents of the automatic liquid management device stored in the control means 102 will be explained with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図はこの自動液管理装置のフローを説明するための
図で。なお、明細書中の「ステップn」は第2図中のr
sPnJに対応する。
FIG. 2 is a diagram for explaining the flow of this automatic liquid management device. Note that "step n" in the specification refers to r in FIG.
Corresponds to sPnJ.

くステップ1〉 入力手段103により、分析を行うための処理液の酸化
還元電位の管理範囲、すなわちその上限値81と下限値
atとを設定するとともに、測定電位の基準値(基準電
位)VOを設定する。ここで、基準値V。とじては、処
理液にその濃度の管理上の上限値に相当する最の試薬を
投入したときの電位と、下限値に相当する量の試薬を投
入したときの電位との間の電位に設定される。
Step 1> Using the input means 103, set the management range of the oxidation-reduction potential of the processing liquid for analysis, that is, its upper limit value 81 and lower limit value at, and also set the reference value (reference potential) VO of the measured potential. Set. Here, the reference value V. Finally, set the potential between the potential when the highest amount of reagent corresponding to the upper limit of concentration is added to the processing solution and the potential when the amount of reagent corresponding to the lower limit is added. be done.

くステップ2〉 六方電磁弁4を第1図(A)中の実線で示す経路へに設
定し、三方電磁弁8を適宜設定しかつポンプ6を駆動さ
せて、圧送路7から純水を例えば第1の反応セル17内
に供給し、その内部を洗浄する。
Step 2> Set the six-way solenoid valve 4 to the path shown by the solid line in FIG. It is supplied into the first reaction cell 17 and the inside thereof is cleaned.

また、三方電磁弁9を切り換えることにより、第2の反
応セル18も同様に洗浄4−る。なお、この間、処理液
供給路Iから供給された処理液は、サンプリング配管5
を経由して流路11側に導かれる。
Furthermore, by switching the three-way solenoid valve 9, the second reaction cell 18 is similarly cleaned. Note that during this time, the processing liquid supplied from the processing liquid supply path I is transferred to the sampling pipe 5.
It is guided to the flow path 11 side via.

くステップ3〉 電磁弁23を開状態に設定しかつポンプ25を駆動して
、上記反応セル17内の洗浄液を合流路26を介してド
レン槽13に排出する。また、同様に反応セル18内の
洗浄液の排出ら行う。
Step 3> The electromagnetic valve 23 is set to an open state and the pump 25 is driven to discharge the cleaning liquid in the reaction cell 17 to the drain tank 13 via the confluence channel 26. Further, the cleaning liquid inside the reaction cell 18 is drained in the same manner.

くステップ4〉 六方電磁弁4を経路への状態にし、サンプリング配管5
内に処理液を流通させ(ステップ2の説明を参照)、さ
らにこのサンプリング配管5内に満たされた所定量の処
理液を流路9、三方電磁弁8を介して反応セル17(1
g)に供給する。
Step 4> Set the six-way solenoid valve 4 to the path, and connect the sampling pipe 5.
A predetermined amount of the processing liquid filled in the sampling pipe 5 is then passed through the flow path 9 and the three-way solenoid valve 8 to the reaction cell 17 (
g).

〈ステップ5〉 ORr−’電極19(20)i、:より、反応セル+7
(18)内の滴定液注入前の処理液の電位Vlを測定す
る。
<Step 5> From ORr-' electrode 19 (20) i, reaction cell +7
Measure the potential Vl of the treatment liquid before injecting the titrant in (18).

〈ステップ6〉 滴定ポンプ30a、 30bを駆動させ、ステップ1で
設定した、処理液の酸化還元電位の管理範囲の下限値に
化学量論的に相当する量(A1)の標準溶液を全量−度
に反応セル17内に注入する。
<Step 6> Drive the titration pumps 30a and 30b, and add the standard solution in an amount (A1) stoichiometrically equivalent to the lower limit of the control range of the redox potential of the treatment liquid set in step 1. is injected into the reaction cell 17.

くステップ7〉 ORP電極19により、反応セル17内の処理液の電位
■、を測定する。
Step 7> The ORP electrode 19 measures the potential of the processing liquid in the reaction cell 17.

くステップ8〉 滴定ポンプ30a、30bを駆動させ、ステップ1で設
定した、処理液の酸化還元電位の管理範囲の上限値に、
ステップ6で注入した標準溶液量と合わせて化学量論的
に相当するN(At)となるよう、すなわち上限値と下
限値との差に相当する量の標準溶液を全量−度に反応セ
ル17内に注入する。
Step 8> The titration pumps 30a and 30b are driven to bring the oxidation-reduction potential of the treatment liquid to the upper limit of the control range set in step 1.
Add the standard solution to the reaction cell 17 in an amount equivalent to the difference between the upper limit and the lower limit, so that the amount of the standard solution injected in step 6 becomes the stoichiometrically equivalent N(At). Inject inside.

くステップ9〉 ORP電極19により、反応セル17内の処理液の電位
V、を測定する。
Step 9> The potential V of the processing liquid in the reaction cell 17 is measured by the ORP electrode 19.

くステップ10> ステップ6およびステップ8にて測定された電位V、、
V、より、サンプリングされた当初の処理液の電位■1
が設定した管理範囲内にあるか否かを判断する。(第3
図を参照して後述する。)〈ステップII> ステップIOでの判断を出力し、表示パネル+114で
その判断を表示する。
Step 10 > Potential V measured in step 6 and step 8,
From V, the potential of the sampled initial processing solution ■1
Determine whether or not it is within the set management range. (3rd
This will be described later with reference to the drawings. ) <Step II> Output the judgment at step IO and display the judgment on the display panel +114.

くステップ12〉 ステップ3と同様にして、反応セル17内の処理液を排
出する。
Step 12> In the same manner as in Step 3, the processing liquid in the reaction cell 17 is discharged.

くステップ+3> 処理液を引き続きサンプリングしてその管理を行うか否
か、すなわち連続運転を行うか否かを判断し、YESの
場合にはステップ2に戻って運転を繰り返し、NOの場
合にはS ’r OPとなる。
Step +3> Determine whether or not to continue sampling and managing the processing liquid, that is, whether or not to perform continuous operation. If YES, return to step 2 and repeat the operation; if NO, repeat the operation. It becomes S'r OP.

次に、第3図により、処理液の電位が設定した管理範囲
内にあるか否か、すなわち処理液が設定した管理濃度範
囲にあるか否かを判断するフローについて説明する。
Next, a flow for determining whether the potential of the processing liquid is within the set control range, that is, whether the processing liquid is within the set control concentration range will be described with reference to FIG.

くステップ10−1> サンプリングした処理液の酸化還元電位がステップIて
設定した測定電位の基準値V。以下であるか否かを判断
し、YESの場合にはステップ10−2に進み、N、O
の場合にはステップl0−3に進む。
Step 10-1> The oxidation-reduction potential of the sampled processing liquid is the reference value V of the measurement potential set in Step I. If it is YES, proceed to step 10-2 and proceed to step 10-2.
In this case, the process proceeds to step l0-3.

〈ステップ10−2> ステップ7にて測定された、酸化還元電位の管理範囲の
下限値に化学量論的に相当する量の標準溶液を注入した
処理液の電位V、とvoとを比較し、第4図中カーブ(
1)で示すようにV、≧voである場合にはすでにサン
プリングされた処理液の濃度が下限値以下であると判断
し、ステップ1O−4に進み、第4図中カーブ(Il)
、(I[I)で示すようにV、≧Voでない場合にはス
テップ10−5に進む。
<Step 10-2> Compare the potential V of the treatment solution measured in Step 7, in which an amount of the standard solution stoichiometrically equivalent to the lower limit of the control range of the redox potential is injected, and vo. , the curve in Figure 4 (
As shown in 1), if V≧vo, it is determined that the concentration of the sampled processing liquid is below the lower limit, and the process proceeds to step 1O-4, where the curve (Il) in FIG.
, (I[I), if V≧Vo is not satisfied, the process proceeds to step 10-5.

くステップ10−3> 液を排出して上記ステップ2に戻る。Step 10-3> Drain the liquid and return to step 2 above.

くステップ10−4> 上記ステップ11にて処理液の濃度が管理範囲の下限値
以下であることを出力(表示)する。
Step 10-4> In step 11, it is output (displayed) that the concentration of the processing liquid is below the lower limit of the control range.

くステップ10−5> ステップ9にて測定された、酸化還元電位の管理範囲の
上限値に化学量論的に相当するmの標準溶液を注入した
処理液のTri位V、と■。とを比較し、第4図中カー
ブ([1)で示ずようにvJ≧■oである場合にはすで
にサンプリングされた処理液の濃度が管理範囲内である
と判断してステップ10−6に進み、第4図中カーブ(
I[l)で示ずように■3≧Voでない場合には処理液
の濃度が」1限値以上であると判断しステップ10−7
に進む。
Step 10-5> The Tri position V of the treatment solution into which the standard solution of m, which stoichiometrically corresponds to the upper limit of the control range of the redox potential measured in Step 9, is injected. If vJ≧■o as shown in the curve ([1) in FIG. Proceed to the curve in Figure 4 (
As shown in I[l], if ■3≧Vo, it is determined that the concentration of the processing liquid is greater than the limit value ``1'', and step 10-7
Proceed to.

くステップ10−6> 上記ステップ11にて処理液が管理範囲内であることを
出力(表示)する。
Step 10-6> In step 11, it is output (displayed) that the processing liquid is within the control range.

くステップ10−7> 上記ステップIIにて処理液が管理範囲の上限値以上で
あることを出力(表示)する。
Step 10-7> In step II, it is output (displayed) that the processing liquid is above the upper limit of the control range.

このような自動液管理装置にあっては、処理液管理機能
105により、予め設定した処理液の酸化還元電位範囲
の上限値と下限値とにそれぞれ化学量論的に相当する量
を試薬を処理液に加え、該処理液の酸化還元電位を酸化
還元電位電極で測定して予め設定した基準値と比較し、
これにより処理液の濃度が予め設定した範囲内にあるか
否かを容易に検出するようにしたので、従来のごとく濃
度を直接測定してその測定値により処理液を管理する場
合に比べ格段に早く処理液の状態を管理することができ
、よって自動処理ラインで刻々と変化する液成分の追従
が可能になる。また、使用する滴定用試薬の使用量が常
に一定であるため、液追加の時期が明確になり、装置自
体の管理も容易になる。さらに、液濃度を直接分析する
ことなく、管理範囲内にあるか否かを検知するだけであ
るから装置の単純化が図れる。
In such an automatic liquid management device, the processing liquid management function 105 processes reagents in amounts stoichiometrically corresponding to the upper and lower limits of the preset redox potential range of the processing liquid. In addition to the treatment liquid, the redox potential of the treatment liquid is measured with a redox potential electrode and compared with a preset reference value,
This makes it easy to detect whether the concentration of the processing liquid is within a preset range, which is much easier than the conventional method of directly measuring the concentration and managing the processing liquid based on the measured value. The state of the processing liquid can be managed quickly, making it possible to follow the ever-changing liquid components on an automatic processing line. Furthermore, since the amount of titration reagent used is always constant, the timing of addition of liquid is clear, and the management of the apparatus itself becomes easy. Furthermore, the apparatus can be simplified because it is only necessary to detect whether the liquid concentration is within the control range without directly analyzing the liquid concentration.

なお、第1図(A)における処理液供給路l中に、ポン
プ3と六方電磁弁4との間に吸光度計などの吸光度測定
機構を設けて、処理液の劣化検知、すなわち処理液のレ
ノスト溶解に伴う活性の劣化検知を行うようにしてもよ
い。
In addition, an absorbance measurement mechanism such as an absorbance meter is provided between the pump 3 and the hexagonal solenoid valve 4 in the processing liquid supply path l in FIG. Deterioration of activity due to dissolution may be detected.

また、上記実施例では処理液が硫酸−過酸化水素水系の
ものに適用した場合を示したが、他に例えば塩酸−過酸
化水素水系やアンモニア−過酸化水素水系などの処理液
に適用することもできるのはらちろんである。
In addition, although the above example shows a case in which the treatment liquid is a sulfuric acid-hydrogen peroxide aqueous system, it may also be applied to other treatment liquids such as a hydrochloric acid-hydrogen peroxide aqueous system or an ammonia-hydrogen peroxide aqueous system. Of course you can do it too.

「発明の効果」 以上説明したようにこの発明の自動液管理装置は、処理
液管理機能により、予め設定した処理液の酸化還元電位
範囲の上限値と下限値とにそれぞ相当する量の試薬を処
理液に加え、該処理液の酸化還元電位を酸化還元電位電
極で測定して予め設定した基準電位と比較するようにし
、これにより処理液の濃度が予め設定した範囲内にある
か否かを容易に検出することができるようにしたしので
あるから、従来のごとく濃度を直接測定してその測定値
により処理液を管理する場合に比へ格段に早く処理液の
状態を管理することができ、よって自動処理ラインで刻
々と変化する液成分の追従が可能になり、信頼性の高い
液管理を行うことができる。また、使用する滴定用試薬
の使用量が常に一定であるため、液追加の時期が明確に
なり、装置自体の管理も容易になる。さらに、’am度
を直接分析することなく、管理範囲内にあるか否かを検
知するだけであるから、装置の単純化が図れ、よって装
置の小型化、低価格化を可能にすることができる。
"Effects of the Invention" As explained above, the automatic liquid management device of the present invention uses the processing liquid management function to supply reagents in amounts corresponding to the upper and lower limits of the preset redox potential range of the processing liquid. is added to the processing solution, and the redox potential of the processing solution is measured with a redox potential electrode and compared with a preset reference potential, thereby determining whether the concentration of the processing solution is within a preset range. Since we have made it possible to easily detect the concentration, it is possible to control the condition of the processing liquid much faster than when directly measuring the concentration and managing the processing liquid based on the measured value as in the past. Therefore, it is possible to follow the ever-changing liquid components on an automatic processing line, and highly reliable liquid management can be performed. Furthermore, since the amount of titration reagent used is always constant, the timing of addition of liquid is clear, and the management of the apparatus itself becomes easy. Furthermore, since it only detects whether or not it is within the control range without directly analyzing the 'am degree, the equipment can be simplified, making it possible to make the equipment smaller and lower in price. can.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)〜第3図は本発明の自動液管理装置の一実
施例を示す図であって、第1図(A)は全体概略構成図
、第1図(B)は制御装置を示す図、第2図は本装置の
メインフローを示すフローチャート、第3図は装置の制
御手段における処理液管理機能を示すフローチャート、
第4図は処理液管理機能により処理液が管理濃度範囲に
あるか否かを判断するフローを補足説明するためのグラ
フである。 19.20・・・・・・ORP電極(酸化還元電位電極
)100・・・・・・サンプリング手段 102・・・・・・制御手段 105・・・・・・処理液管理機能。
FIG. 1(A) to FIG. 3 are diagrams showing one embodiment of the automatic liquid management device of the present invention, in which FIG. 1(A) is an overall schematic configuration diagram, and FIG. 1(B) is a control device. FIG. 2 is a flowchart showing the main flow of the device, FIG. 3 is a flowchart showing the processing liquid management function in the control means of the device,
FIG. 4 is a graph for supplementary explanation of the flow of determining whether the processing liquid is within the control concentration range by the processing liquid management function. 19.20...ORP electrode (oxidation-reduction potential electrode) 100...Sampling means 102...Control means 105...Processing liquid management function.

Claims (1)

【特許請求の範囲】  処理液をサンプリングするサンプリング手段と、サン
プリングされた処理液の有効成分量を滴定による電位変
化から求める検出手段と、これら各手段を制御する制御
手段とを具備してなる自動液管理装置であって、 上記検出手段が酸化還元電位電極からなり、予め設定し
た処理液の濃度の管理上の上限値と下限値とに相当する
量の試薬を投入したときの電位をそれぞれ酸化還元電位
電極で測定し、これら測定値と予め設定した基準電位と
を比較する処理液管理機能が上記制御手段に設けられて
なることを特徴とする自動液管理装置。
[Scope of Claims] An automated system comprising sampling means for sampling the processing liquid, detection means for determining the amount of active ingredients in the sampled processing liquid from changes in potential due to titration, and control means for controlling each of these means. The liquid management device is characterized in that the detection means includes an oxidation-reduction potential electrode, and the detection means is configured to oxidize the potential when an amount of reagent corresponding to a preset upper limit and lower limit of the concentration of the processing liquid is added. An automatic liquid management device characterized in that the control means is provided with a processing liquid management function that measures the reduction potential with an electrode and compares these measured values with a preset reference potential.
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CN114778648A (en) * 2022-04-24 2022-07-22 深圳科瑞德健康科技有限公司 Test system and measurement method for oxidation-reduction potential value of aqueous solution
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