JPH04155800A - Device for displaying region where beam adjustment parameter can be set - Google Patents

Device for displaying region where beam adjustment parameter can be set

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JPH04155800A
JPH04155800A JP27943990A JP27943990A JPH04155800A JP H04155800 A JPH04155800 A JP H04155800A JP 27943990 A JP27943990 A JP 27943990A JP 27943990 A JP27943990 A JP 27943990A JP H04155800 A JPH04155800 A JP H04155800A
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Abstract

PURPOSE:To easily adjust a beam in the optimum state by providing a means for calculating parameter region on the basis of a preset approximate expression and its display means, and making a parameter setting region a region where beam adjustment parameter can be set. CONSTITUTION:When a accelerating conditions of a beam (such as kinds of accelerated particles, energy, number of electric charges, etc.) are decided, an approximate expression presenting an orbital radius just before a phase slit is preliminarily been obtained off-line, and at the time of actual adjustment a parameter setting region is calculated on the basis of the approximate expression, and it is shown on a display 13 in real time as a region where beam adjustment parameter can be set. Thus, the duty of an operater is to make micro-adjustment of an adjustment parameter by means of a setting means such as a rotary encoder 14, a mouse 15, etc., within the shown feasible region, so that a beam can be adjusted in the optimum state.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、サイクロトロンにおいてその中心領域におけ
るビームの状態を調整する調整用パラメータを設定する
際、調整用パラメータの設定可能領域を表示するための
表示装置に関する。
Detailed Description of the Invention (Industrial Application Field) The present invention provides a method for displaying the settable area of the adjustment parameter when setting the adjustment parameter for adjusting the state of the beam in the central region of the cyclotron. Related to display devices.

(従来の技術) 一般に、サイクロトロンでは、入射ビームを加速面に入
射する入射系、入射ビームを加速面、すなわち中心領域
で周回軌道運動させるため加速面に対して垂直に磁場を
発生させる゛ためのマグネット系、及び入射ビームを加
速するための加速電界を発生する高周波系、及び、加速
ビームを引き出す引出系が備えられている。
(Prior art) Generally, in a cyclotron, there is an input system that makes the incident beam enter the acceleration surface, and a magnetic field that generates a magnetic field perpendicular to the acceleration surface in order to cause the incident beam to move in an orbit around the acceleration surface, that is, the central region. A magnet system, a high frequency system that generates an accelerating electric field for accelerating the incident beam, and an extraction system that extracts the accelerated beam are provided.

このようなサイクロトロンでは、最適な加速ビームを引
き出すため各県においてビーム電流を観測してこれらビ
ーム電流に基づいて各県において調整用パラメータを調
節するようにしている。調整用パラメータとしては、電
磁石、磁気レンズ。
In such a cyclotron, beam currents are observed in each prefecture and adjustment parameters are adjusted in each prefecture based on these beam currents in order to extract the optimum accelerated beam. Adjustment parameters include electromagnets and magnetic lenses.

高周波装置等の要因があげられる。Factors such as high frequency equipment can be cited.

(発明が解決しようとする課題) ところで、従来のサイクロトロンでは、予め各県におけ
る調整用パラメータを初期設定値として設定しておく。
(Problems to be Solved by the Invention) In the conventional cyclotron, adjustment parameters for each prefecture are set in advance as initial setting values.

その後、ビーム電流を観測してビーム電流の変化に基づ
いて各調整用パラメータを変更してビーム電流が最大と
なる調整用パラメータを設定するようにしている。
After that, the beam current is observed and each adjustment parameter is changed based on the change in the beam current, so that the adjustment parameter that maximizes the beam current is set.

しかしながら、従来のように調整用パラメータを変更す
る際には、オペレータが試行錯誤によって各調整用パラ
メータを微調整しなければならず、調整用パラメータの
調整が極めて面倒であるという問題点がある。
However, when changing the adjustment parameters as in the past, there is a problem in that the operator must finely adjust each adjustment parameter through trial and error, making adjustment of the adjustment parameters extremely troublesome.

本発明の課題は調整用パラメータを調整する際、ビーム
電流を最大にするための調整用パラメータ設定可能領域
を表示することのできる表示装置を提供することにある
An object of the present invention is to provide a display device that can display a region in which adjustment parameters can be set to maximize beam current when adjusting adjustment parameters.

(課題を解決するための手段) 本発明によれば、入射ビームを加速面に導く入射系を備
え、該入射系は複数の磁気レンズを有するレンズ群と該
レンズ群の後端側に配置されたインフレクタとを備えて
おり、前記入射系から入射されたビームを中心領域で周
回軌道連動をさせつつ加速して該加速ビームを取り出す
ようにしたサイクロトロンに用いられ、前記中心領域に
おける調整用パラメータの設定可能領域の算出に必要な
データを入力する手段と、前記中心領域のビーム軌道を
調整するための調整用パラメータを設定する設定手段と
、あらかしめ作成された前記中心領域のビーム軌道の近
似式にもとづいてパラメータ設定領域を算出する手段と
、該パラメータ設定領域を表示する表示手段とを有し、
前記パラメータ設定領域を前記ビーム調整用パラメータ
設定可能領域とするようにしたことを特徴とするビーム
調整用パラメータの設定可能領域表示装置が得られる。
(Means for Solving the Problems) According to the present invention, an entrance system is provided that guides an incident beam to an acceleration surface, and the entrance system includes a lens group having a plurality of magnetic lenses and a rear end side of the lens group. The inflector is used in a cyclotron that accelerates the beam incident from the input system while interlocking the orbit in the central region and takes out the accelerated beam, and the adjustment parameter in the central region is a means for inputting data necessary for calculating a settable area of the area, a setting means for setting adjustment parameters for adjusting the beam trajectory of the central area, and an approximation of the beam trajectory of the central area that has been created in advance. comprising means for calculating a parameter setting area based on a formula, and display means for displaying the parameter setting area,
There is obtained a beam adjustment parameter settable area display device characterized in that the parameter setting area is the beam adjustment parameter settable area.

(作用) 本発明では、ビームの加速条件(加速粒子の種類、エネ
ルギー、電荷数等)が決まった時点でオフラインで位相
スリット直前での軌道半径を表わす近似式を求めておき
、実際の調整時にはその近似式にもとずいてパラメータ
設定領域を算出し、このパラメータ設定領域をビーム調
整用パラメータ設定可能領域として表示する。
(Function) In the present invention, when the beam acceleration conditions (type of accelerated particles, energy, number of charges, etc.) are determined, an approximate expression expressing the orbital radius immediately before the phase slit is obtained off-line, and during actual adjustment. A parameter setting area is calculated based on the approximate expression, and this parameter setting area is displayed as a beam adjustment parameter setting possible area.

従って、オペレータはこの表示されたビーム調整用パラ
メータ設定可能領域内でロータリエンコーダ、マウス等
の設定手段により調整パラメータを微調整すればよく、
その結果、ビームを容易に最適状態とすることができる
Therefore, the operator only has to fine-tune the adjustment parameters within this displayed beam adjustment parameter setting area using a setting means such as a rotary encoder or a mouse.
As a result, the beam can be easily brought into the optimum state.

(実施例) 以下本発明について実施例によって説明する。(Example) The present invention will be explained below with reference to Examples.

第1図を参照して、一般に、サイクロトロンは入射系1
、N極2NとS極2Sとによる主電磁石を有するマグネ
ット系2、高周波系3、及びデフレクタを有する引出系
4を備えており、入射系1は複数の磁気レンズユLを有
するレンズ群とこのレンズ群の後端側に配置されたイン
フレクタとを備えている。
Referring to FIG. 1, in general, a cyclotron has an input system 1
, a magnet system 2 having a main electromagnet with a north pole 2N and a south pole 2S, a high frequency system 3, and an extraction system 4 having a deflector.The entrance system 1 includes a lens group having a plurality of magnetic lens units L and this lens. and an inflector disposed on the rear end side of the group.

入射ビームは入射系1によってデイ−電極5上の加速面
に入射され、マグネット系2から加速面に■直に加えら
れる磁場によって周回軌道運動を行う。一方、高周波系
3によって入射ビームには高周波加速電界が加えられ、
これによって、入射ビームか加速される。そして、引出
系4から加速ビームが引き出される。この際、各系毎に
ビーム電流がビーム電流検出センサによって検出される
The incident beam is made incident on the acceleration surface on the day electrode 5 by the incidence system 1, and is caused to undergo orbital motion by the magnetic field directly applied to the acceleration surface from the magnet system 2. On the other hand, a high frequency accelerating electric field is applied to the incident beam by the high frequency system 3,
This accelerates the incident beam. Then, the accelerated beam is extracted from the extraction system 4. At this time, the beam current is detected for each system by a beam current detection sensor.

第2図を参照して1本発明による設定可能領域表示装置
は、サイクロトロンの中心領域における調整用パラメー
タの設定可能領域の算出に必要なデータを入力するビー
ム条件入力装置11.演算装置(以下、CPUと呼ぶ)
12.及びディスブレイ13を備えている。ビーム条件
、とじては、加速粒子の種類、エネルギー、電荷数等が
あげられる。CPU12には、調整用パラメータの設定
手段として、値の変更の容易なロータリエンコーダ14
あるいはマウス15等が接続されている。
Referring to FIG. 2, the settable area display device according to the present invention includes a beam condition input device 11 for inputting data necessary for calculating the settable area of adjustment parameters in the central region of the cyclotron. Arithmetic unit (hereinafter referred to as CPU)
12. and a display 13. Beam conditions include the type of accelerated particles, energy, number of charges, etc. The CPU 12 includes a rotary encoder 14 whose values can be easily changed as means for setting adjustment parameters.
Alternatively, a mouse 15 or the like is connected.

CPUI 2にはまた。サイクロトロンの中心領域にお
ける磁場データ、電場データを記憶した磁場データベー
ス16.電場データベース17が接続されている。
Also for CPUI 2. Magnetic field database storing magnetic field data and electric field data in the central region of the cyclotron 16. An electric field database 17 is connected.

第3図はサイクロトロンの中心領域の構造とビーム軌道
の表示例を示し、インフレクタの出口21、ブラー22
.第1.第2の位相スリット23゜24が示されている
Figure 3 shows an example of displaying the structure of the central region of the cyclotron and the beam trajectory, showing the inflector exit 21, blur 22
.. 1st. A second phase slit 23° 24 is shown.

インフレクタ出口21より2つの位相スリット23.2
4までの区間を中心領域ブロックと呼ぶ。
Two phase slits 23.2 from the inflector outlet 21
The section up to 4 is called a central area block.

インフレクタにより加速平面に導かれたビームは、中心
磁場による偏向力とデイ−電極による加速力を受けて三
次元空間における曲線運動を行う。
The beam guided to the acceleration plane by the inflector undergoes a curved motion in three-dimensional space under the deflection force of the central magnetic field and the acceleration force of the day electrode.

そして、中心領域における粒子の運動は。And the motion of the particles in the central region is.

以下弦臼 d P/dt   −q(E +ル XB)    (
1)で表わされる。(但し、Pは粒子の運動量、qは粒
子の電荷、Eは電場、Vは粒子速度、Bは磁場を表わす
。) 上記の微分方程式を微小時間Δを毎に解いてV・Δtの
変位を順次累算してゆくことにより、ある初期条件の粒
子の軌道を求めることができる。
The following string mortar d P/dt −q (E + le XB) (
1). (However, P is the momentum of the particle, q is the charge of the particle, E is the electric field, V is the particle velocity, and B is the magnetic field.) Solving the above differential equation at every minute time Δ, the displacement of V・Δt can be calculated. By sequentially accumulating the values, the trajectory of the particle under a certain initial condition can be determined.

中心領域の調整用パラメータとして1例えばデイ−電圧
、中心領域の磁場、ビーム入射位相の3つを選び、これ
らのいずれかを変化させた時の他の調整用パラメータの
設定可能領域をアルタイムに計算し表示するのが本発明
の目的である。これは、第3図に示したブラー22.第
1.第2の位相スリット23.24等にビームがあたら
ないように通過させる必要があるからである。
For example, choose three parameters for adjusting the center region: day voltage, magnetic field in the center region, and beam incidence phase, and change the settable range of other adjustment parameters in real time when any of these is changed. It is an object of the present invention to calculate and display. This is the blur 22. shown in FIG. 1st. This is because the beam needs to pass through without hitting the second phase slits 23, 24, etc.

第3図に示した3種類のビーム軌道は、デイ−電圧を4
0.50.60kVに設定した時の粒子の運動をRK 
(Runge−Kutta−Gill)法で計算したも
のである。
The three types of beam trajectories shown in Figure 3 have a day voltage of 4
RK is the particle motion when set to 0.50.60kV.
(Runge-Kutta-Gill) method.

上述した理由で、デイ−電圧、中心領域の磁場。For the reasons mentioned above, the day voltage, the magnetic field in the central region.

ビーム入射位相を微調整して、ビームがブラー22で遮
断されることなく、シかも第1. w42の位相スリッ
ト23.24を通過する条件の探索をリアルタイムで行
う必要がある。
By finely adjusting the beam incidence phase, the beam can be adjusted to the first position without being blocked by the blur 22. It is necessary to search for conditions for passing through the phase slits 23 and 24 of w42 in real time.

ここで、前述したRK法によってビーム軌道の全体像を
比較的正確に求めることができるが、逐次計算のために
長い計算時間を必要とする。(例えば、VAX3100
で1粒子のトレースに約4秒必要である。)このため、
RK法による軌道計算方法にもとづいて調整時にリアル
タイムで設定可能領域を探索することは現実的でない。
Here, although the RK method described above can relatively accurately obtain the overall image of the beam trajectory, it requires a long calculation time due to sequential calculation. (For example, VAX3100
It takes about 4 seconds to trace one particle. )For this reason,
It is not realistic to search for a settable area in real time during adjustment based on the trajectory calculation method using the RK method.

そこで、軌道の近似モデルを作成し、それに基づいて設
定可能領域を算出する。中心領域のアクセプタンスを決
めているのは、2つの位相スリットの位置r@l+  
r、2とギャップdallda2であり。
Therefore, an approximate model of the trajectory is created and a settable area is calculated based on it. What determines the acceptance of the central region is the position of the two phase slits r@l+
r,2 and gap dalda2.

位相スリットの位置での粒子の軌道半径rl+r2が rat−ds+/2< r、< r、、+cL+/2 
(2)’ @2  d a2/ 2 < r 、2< 
r 12+ d 12/ 2  (3)を満たしていれ
ば、その粒子は中心領域を通過することになる。つまり
、設定可能領域を計算するためには+  rl+  r
2とデイー電圧V、初期位相φ、中心磁場の増分mの関
数関係+rl−fl(v、  φ、m)および、r2−
f2 (V、φ、m)がわかればよい。この関数f、、
f2については次数、係数とも不明であるので、あらか
じめ関数形を決めずに周知のGMDH法を用いて近似式
を導出する。
The orbit radius rl+r2 of the particle at the position of the phase slit is rat-ds+/2<r,<r,,+cL+/2
(2)' @2 d a2/ 2 < r , 2 <
If r 12+ d 12/2 (3) is satisfied, the particle will pass through the central region. In other words, to calculate the settable area + rl + r
2 and Day voltage V, initial phase φ, central magnetic field increment m +rl-fl(v, φ, m) and r2-
It is sufficient to know f2 (V, φ, m). This function f,
Since the order and coefficients of f2 are unknown, an approximate expression is derived using the well-known GMDH method without determining the function form in advance.

入力データx−(v、  φ、ml は幾通りかの設定
値の組における軌道半径をRK法により算出して用いる
。また、基礎関数は1次式を用いる。
The input data x-(v, φ, ml is used by calculating the orbital radius in several sets of setting values by the RK method. Also, a linear equation is used as the basic function.

z−a、+a、x、+a2 x2+a3 x、 2+a
4 X22+a5x、X2    (4)本装置におい
ては、ビームの加速条件(粒子種類、エネルギーなど)
が決まった時点でオフラインで近似式を求めておき、調
整時には、オンラインで’l+’2を近似計算すること
により1表示のリアルタイム性を確保している。
z-a, +a, x, +a2 x2+a3 x, 2+a
4 X22+a5x, X2 (4) In this device, beam acceleration conditions (particle type, energy, etc.)
When the equation is decided, an approximate formula is obtained off-line, and when making adjustments, 'l+'2 is approximated online to ensure real-time performance of one display.

次に、調整用パラメータの設定可能領域を算出するため
に式(2)、(3)を満たさない程度を表す関数w(v
、  φ、m)を W−V/工2+W2 ’         (5)Wl
 −maX (l r、 −rail−d、/2.  
IW2 ”’tmaX (I r2  rs21  d
s2/2.(と定義し、それを目的関数とする非線形最
小化8題として定式化する。w −0となる領域をすで
1゜提案した方法(特願平2−165528号)で関め
れば、それが設定可能領域である。その−例づ第4図に
示す。第4図(a)は入射ビーム位相2デイ−電圧との
間の表示例を示し、第4図(b)は中心磁場とデイ−電
圧との間の表示例を示す。
Next, in order to calculate the settable region of the adjustment parameter, we use a function w(v
, φ, m) as W-V/work2+W2' (5) Wl
-maX (l r, -rail-d, /2.
IW2 ”'tmaX (I r2 rs21 d
s2/2. (Define this as the objective function and formulate it as eight nonlinear minimization problems. If we solve the region where w −0 is 1° using the method proposed (Japanese Patent Application No. 165528/1999), we get This is the settable region. An example of this is shown in Figure 4. Figure 4 (a) shows an example of the display between the incident beam phase and the 2-day voltage, and Figure 4 (b) shows the central magnetic field. An example of display between and day voltage is shown.

現在の設定値はクロスカーソルで示す。The current setting value is indicated by a cross cursor.

なお、入射ビームはインフレクタの中心軌道12対して
、半径方向(Δr)、角度方向(Δpr)に分布がある
が、ここでは中心軌道に乗ってい1粒子(Δr−0,Δ
pr−0)で入射ビームを0表して、設定可能領域を求
めた。
Note that the incident beam has distribution in the radial direction (Δr) and angular direction (Δpr) with respect to the central orbit 12 of the inflector, but here, one particle (Δr−0, Δ
The settable region was determined by representing the incident beam as 0 (pr-0).

オペレータは第4図(a)、(b)に示されζような表
示を監視しながらロークリエンコーダ14やマウス15
によりデイ−電圧、中心磁場、ビーム入射位相を微調整
し、ビームが2つの位相スリットを通過するのに最適な
調整用パラメータを〕)  求める。なお、要求される
取出しビーム品質に応〕)  じて、この中心領域ブロ
ックのアクセプタンスを丹   決めている位相スリッ
トの位置1幅を調整することもできる。
The operator operates the low encoder 14 and the mouse 15 while monitoring the displays shown in FIGS. 4(a) and 4(b).
Finely adjust the day voltage, central magnetic field, and beam incident phase using the following steps to find the optimal adjustment parameters for the beam to pass through the two phase slits. Note that, depending on the required quality of the extracted beam, it is also possible to adjust the position 1 width of the phase slit that determines the acceptance of this central region block.

之    (発明の効果) 以上説明したように本発明では、表示装置にリアルタイ
ムに調整用パラメータ設定可能領域を表示するようにし
たから、オペレータはこの表示されたビーム調整用パラ
メータ設定可能領域内て贋整パラメータを微調整すれば
よく、その結果、ビームを容易に最適状態とすることが
できるという効果がある。
(Effects of the Invention) As explained above, in the present invention, since the adjustment parameter settable area is displayed on the display device in real time, the operator can check whether the beam adjustment parameters can be set within the displayed beam adjustment parameter settable area or not. It is only necessary to finely adjust the alignment parameters, and as a result, the beam can be easily brought to an optimum state.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明が適用されるサイクロトロンの概略図、
第2図は本発明によるビーム調整用パラメータ設定可能
領域表示装置の一実施例を概略的に示すブロック図、第
3図はサイクロトロンの中心領域の構造とビーム軌道を
例示した図、第4はデイスプレィ装置上の調整用パラメ
ータ設定能領域を二次元的に示す図。 11・・・ビーム条件入力装置、12・・・演算装置(
CPU) 、13・・・デイスプレィ、14・・・ロー
リエンコーダ、15・・・マウス、21・・・インフレ
タの出0.22・・・ブラー、23.24・・・第1゜
2の位相スリット。 図 可 タ ク 第 第2図 第3図 ヒLム入村イα相[de5J       中心8i場
[Gαμ5sj−が21
FIG. 1 is a schematic diagram of a cyclotron to which the present invention is applied;
Fig. 2 is a block diagram schematically showing an embodiment of the beam adjustment parameter setting area display device according to the present invention, Fig. 3 is a diagram illustrating the structure of the central area of the cyclotron and the beam trajectory, and Fig. 4 is a diagram of the display. FIG. 2 is a diagram two-dimensionally showing an adjustment parameter setting area on the device. 11... Beam condition input device, 12... Arithmetic device (
CPU), 13...Display, 14...Lori encoder, 15...Mouse, 21...Inflator output 0.22...Blur, 23.24...1st degree 2nd phase slit . Fig. 2 Fig. 3 Himimura Irimura I α phase

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、入射ビームを加速面に導く入射系を備え、該入射系
は複数の磁気レンズを有するレンズ群と該レンズ群の後
端側に配置されたインフレクタとを備えており、前記入
射系から入射されたビームを中心領域で周回軌道運動を
させつつ加速して該加速ビームを取り出すようにしたサ
イクロトロンに用いられ、前記中心領域における調整用
パラメータの設定可能領域の算出に必要なデータを入力
する手段と、前記中心領域のビーム軌道を調整するため
の調整用パラメータを設定する設定手段と、あらかじめ
作成された前記中心領域のビーム軌道の近似式にもとづ
いてパラメータ設定領域を算出する手段と、該パラメー
タ設定領域を表示する表示手段とを有し、前記パラメー
タ設定領域を前記ビーム調整用パラメータ設定可能領域
とするようにしたことを特徴とするビーム調整用パラメ
ータの設定可能領域表示装置。 2、請求項1記載のビーム調整用パラメータの設定可能
領域表示装置において、前記調整用パラメータは、ディ
ー電圧、初期位相、中心磁場であることを特徴とするビ
ーム調整用パラメータの設定可能領域表示装置。
[Claims] 1. An entrance system that guides an incident beam to an accelerating surface, the entrance system comprising a lens group having a plurality of magnetic lenses and an inflector disposed on the rear end side of the lens group. This system is used in a cyclotron that accelerates a beam incident from the input system while orbiting in the central region and extracts the accelerated beam, and is used to calculate the settable region of adjustment parameters in the central region. a means for inputting necessary data, a setting means for setting adjustment parameters for adjusting the beam trajectory of the central region, and a parameter setting area based on an approximation formula for the beam trajectory of the central region created in advance. A beam adjustment parameter settable area, comprising: a calculation means; and a display means for displaying the parameter setting area, and the parameter setting area is the beam adjustment parameter settable area. Display device. 2. The beam adjustment parameter settable area display device according to claim 1, wherein the adjustment parameters are a Dee voltage, an initial phase, and a central magnetic field. .
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017208774A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社日立製作所 Accelerator and particle beam irradiation apparatus

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WO2017208774A1 (en) * 2016-06-02 2017-12-07 株式会社日立製作所 Accelerator and particle beam irradiation apparatus

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