JPH04155336A - Diagram processing device - Google Patents

Diagram processing device

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JPH04155336A
JPH04155336A JP2279822A JP27982290A JPH04155336A JP H04155336 A JPH04155336 A JP H04155336A JP 2279822 A JP2279822 A JP 2279822A JP 27982290 A JP27982290 A JP 27982290A JP H04155336 A JPH04155336 A JP H04155336A
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graphic data
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graphic
diagram
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Abstract

PURPOSE:To create photo mask describing date with high accuracy with the duplicated sections of diagram data removed while being unaffected by the number of photo masks by storing the design pattern diagram data of a hierarchical structure, selecting the diagram data for a higher hierarchy and a lower hierarchy, and thereby handling all data. CONSTITUTION:The design pattern diagram data of a hierarchical structure including duplicated diagrams is stored in a diagram data memory device 10. The coordinate data of the respective data is stored in a coordinate data memory device 12. A comparison program compares the diagram of a selected hierarchy with the diagram of a lower hierarchy to find out duplicated sections between both of the hierarchies, so that the coordinate data for the duplicated sections between the diagrams is thereby obtained. The duplicated sections are removed from the higher hierarchical diagram by a duplicated diagram removing program based on the coordinate data of the duplicated sections, so that the diagram data for higher hierarchies is thereby changed based on the diagram of the higher hierarchy in which removal processing has been over.

Description

【発明の詳細な説明】 [概要S 図形処理装置に係り、詳しくは半導体装置の製造プロセ
スにおいて使用されるフォトマスクの設計パターン図形
データからフォトマスク描画データを作成する図形処理
装置に関し、 フォトマスクのパターンの数に影響されることなく、重
複部分の図形データを除去でき、高精度のフォトマスク
描画データを作成することを目的とし、 階層構造の設計パターン図形データを記憶する図形デー
タ記憶手段と、図形データ記憶手段から上位の階層図形
データを人力し、その上位の階層図形データとその上位
の階層に対して下位の階層図形データとを比較し、上位
の階層のパターンを構成する各図形の中から下位の階層
のパターンの存在領域に交差又は含まれる図形を選択す
る図形データ選択手段と、前記図形データ選択手段か選
択した上位階層の図形と下位階層のパターンを構成する
各図形とを比較し、両階層間における図形の重複部分を
求める図形比較手段と、前記図形比較手段にて求めた重
複部分を上位階層の前記図形から除去し、その除去した
図形を前記上位の階層のパターンを構成する図形として
その上位の階層図形データを変更する重複図形除去手段
と、前記重複図形除去手段にて変更した上位の階層図形
データを下位の階層図形データとし、上位の階層図形デ
ータを順次最上位の階層図形データまで前記各手段に基
づいて変更処理を実行させる繰り返し手段とにより構成
した。
[Detailed Description of the Invention] [Summary S] Relates to a graphic processing device, more specifically, relates to a graphic processing device that creates photomask drawing data from design pattern graphic data of a photomask used in the manufacturing process of a semiconductor device; A graphic data storage means for storing design pattern graphic data in a hierarchical structure, with the purpose of creating highly accurate photomask drawing data by removing graphic data in overlapping portions without being affected by the number of patterns; The upper hierarchical graphic data is manually input from the graphic data storage means, the upper hierarchical graphic data is compared with the lower hierarchical graphic data, and the data of each graphic forming the upper hierarchical pattern is compared. A figure data selection means for selecting a figure that intersects with or is included in the existence area of a pattern in a lower hierarchy from the figure data selection means, and a figure in the upper hierarchy selected by the figure data selection means and each figure constituting the pattern in a lower hierarchy is compared. , a figure comparing means for determining an overlapping part of figures between both hierarchies, and a figure comparing means for removing the overlapping part found by the figure comparing means from the figure of the upper layer, and forming a pattern of the upper layer with the removed figure. a duplicate figure removing means for changing the upper hierarchical figure data as a figure; and the upper hierarchical figure data changed by the duplicate figure removing means as the lower hierarchical figure data, and the upper hierarchical figure data is sequentially transferred to the top layer. and a repeating means for executing change processing based on each of the above-mentioned means up to the graphic data.

二産業上の利用分野二 本発明は図形処理装置に係り、詳しくは半導体装置の製
造プロセスにおいて使用されるフォトマスクの設計パタ
ーン図形データからフォトマスク描画データを作成する
図形処理装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a graphic processing apparatus, and more particularly to a graphic processing apparatus that creates photomask drawing data from design pattern graphic data of a photomask used in a semiconductor device manufacturing process.

半導体装置の大規模化及び高密度化に伴いフォトマスク
のパターンの数か増大し、その増大は設計パターン図形
データ及びフォトマスク描画データの増大につながる。
As the scale and density of semiconductor devices increases, the number of photomask patterns increases, and this increase leads to an increase in design pattern graphic data and photomask drawing data.

その結果、これらデータを記憶する記憶手段の大容量化
を抑える上でもフォトマスクの設計パターン図形データ
の合理的な処理が要求される。
As a result, rational processing of photomask design pattern graphic data is required in order to suppress the increase in the capacity of storage means for storing these data.

U従来の技術5 半導体装置の製造プロセスにおいて使用されるフォトマ
スクの設計パターン図形データは階層構造となっている
。例えは、1つの基本パターン又は所定数のパターンで
第1階層図形データを定義し、複数の前記第1階層図形
データ(最下位階層図形データ)と所定のパターンとで
第2階層図形データ(上位階層図形データ)を定義し、
さらに、複数の前記第2階層図形データ(この場合、下
位階層図形データとなる)と所定のパターンとて第3階
層図形データ(この場合、上位階層図形データとなる)
を定義し、以下、順次下位の階層の図形データを用いて
上位の階層の図形データか定義されるようにしたもので
ある。
U Prior Art 5 Design pattern graphic data of a photomask used in the manufacturing process of a semiconductor device has a hierarchical structure. For example, the first layer graphic data is defined by one basic pattern or a predetermined number of patterns, and the second layer graphic data (upper layer graphic data) is defined by a plurality of the first layer graphic data (lowest layer graphic data) and a predetermined pattern. Hierarchical figure data) is defined,
Furthermore, the plurality of second layer graphic data (in this case, it becomes lower layer graphic data) and the third layer graphic data (in this case, it becomes upper layer graphic data) in a predetermined pattern.
, and then the graphic data of the upper hierarchy is defined using the graphic data of the lower hierarchy.

詳述すれば、第1O図に示す半導体装置の図形データA
は第9図に示すようにまず下位の階層図形データAl、
A2等にて定義され、その階層図形データA Iは下位
の階層図形データalにて定義され、階層図形データA
2は下位の階層図形データal、a2.a3にて定義さ
れる。
To be more specific, the graphic data A of the semiconductor device shown in FIG.
As shown in FIG. 9, first, the lower hierarchical graphic data Al,
The hierarchical graphic data A I is defined in the lower hierarchical graphic data al, and the hierarchical graphic data A I is defined in the lower hierarchical graphic data al.
2 are lower hierarchical graphic data al, a2. Defined in a3.

そして、このように階層構造にて構成された設計パター
ン図形データから高精度のフォトマスクを作成するため
にはフォトマスク描画データから重複する図形データを
除去する必要かあった。そこで、従来ではこの重複部分
の図形データの除去は各階層を全て展開しなければ、重
複部分を探し出すことはできず、重複部分の図形データ
を除去できなかった。
In order to create a highly accurate photomask from design pattern graphic data configured in a hierarchical structure as described above, it is necessary to remove duplicate graphic data from the photomask drawing data. Conventionally, the overlapping portions of graphic data could not be removed unless all layers were expanded to find the overlapping portions.

そして、設計パターン図形データを構成する各階層の図
形データを全て展開しなければならないので、定義した
図形データか全て展開されることからその図形データを
記憶する記憶手段は大容量の記憶手段であった。
Since it is necessary to expand all the graphic data of each layer that constitutes the design pattern graphic data, the storage means for storing the graphic data must have a large capacity because all the defined graphic data is expanded. Ta.

「発明か解決しようとする課題] しかしなから、半導体装置の大規模化、高密度化に伴い
フォトマスクのパターンの数か大幅に増大すると、展開
した全ての図形データを記憶する大記憶容量の記憶手段
か存在しなくなり、上記のような方法で重複した図形デ
ータを除去することかできなくなる。
``Invention or Problem to be Solved'' However, as semiconductor devices become larger and more dense, the number of photomask patterns increases significantly, resulting in a large storage capacity to store all the developed graphic data. The storage means no longer exists, and it becomes impossible to remove duplicate graphic data using the method described above.

本発明は上記問題点を解消するためになされたものであ
って、その目的はフォトマスクのパターンの数に影響さ
れることなく、重複部分の図形デ−タを除去でき、高精
度のフォトマスク描画データを作成することができる図
形処理装置を提供することにあるっ [課題を解決するための手段]・ 第1図は本発明の原理説明図である。
The present invention has been made to solve the above problems, and its purpose is to remove overlapping graphic data without being affected by the number of patterns on a photomask, and to create a highly accurate photomask. An object of the present invention is to provide a graphic processing device capable of creating drawing data. [Means for Solving the Problems] Fig. 1 is a diagram explaining the principle of the present invention.

図形データ記憶手段1は階1構造の設計パターン図形デ
ータを記憶する。図形データ選択手段2は図形データ記
憶手段1から上位の階層図形データを入力し、その上位
の階層図形データとその上位の階層に対して下位の階層
図形データとを比較するとともに、上位の階層のパター
ンを構成する各図形の中から下位の階層のパターンの存
在領域に交差又は含まれる図形を選択する。
The graphic data storage means 1 stores design pattern graphic data of a one-level structure. The graphic data selection means 2 inputs the upper hierarchical graphic data from the graphic data storage means 1, and compares the upper hierarchical graphic data with the lower hierarchical graphic data with respect to the upper hierarchical level. From among the figures constituting the pattern, a figure that intersects with or is included in the existence area of a pattern in a lower hierarchy is selected.

図形比較手段3は図形データ選択手段2が選択した上位
の階層の図形と下位階層のパターンを構成する各図形と
を比較し、両階層間における図形の重複部分を求める。
The figure comparison means 3 compares the figure of the upper hierarchy selected by the figure data selection means 2 with each figure constituting the pattern of the lower hierarchy, and finds the overlapping part of the figures between the two hierarchies.

重複図形除去手段4は図形比較手段3にて求めた重複部
分を上位階層の前記図形から除去し、その除去した図形
をその上位の階層のパターンを構成する図形としてその
上位の階層図形データを変更し出力する。
The duplicate figure removing means 4 removes the overlapping portion found by the figure comparison means 3 from the figure in the upper hierarchy, and changes the figure data in the upper hierarchy by treating the removed figure as a figure constituting the pattern in the upper hierarchy. and output.

一方、繰り返し手段5は重複図形除去手段4にて変更し
た上位の階層図形データを下位の階層図形データとし、
図形データ選択手段2に出力して上位の階層図形データ
を順次最上位の階層図形データまで前記各手段に基づい
て変更処理を実行させる。
On the other hand, the repeating means 5 uses the upper hierarchical figure data changed by the duplicate figure removing means 4 as the lower hierarchical figure data,
The data is output to the graphic data selection means 2, and the upper hierarchical graphic data is sequentially changed to the highest hierarchical graphic data based on the above-mentioned means.

7作用下。7 under action.

図形データ記憶手段1は階層構造の設計パターン図形デ
ータを記憶し、図形データ選択手段2は図形データ記憶
手段1から上位の階層のパターンを構成する各図形と、
下位の階層パターンを構成する各図形とを比較し、下位
の階層のパターンの存在領域に対し交差又は含まれる上
位の階層パターンを構成する各図形を選択する。そして
、図形比較手段3は図形データ選択手段2か選択した上
位の階層の図形と下位階層のパターンを構成する各図形
とを比較し、両階層間における図形の重複部分を求める
。その後、重複図形除去手段4は図形比較手段3にて求
めた重複部分を上位階層の前記図形から除去し、その除
去した図形を上位の階層図形データとして変更する。更
に、繰り返し手段5は重複図形除去手段4にて変更した
上位の階層図形データを下位の階層図形データとして前
記図形データ選択手段2に出力する。そして、上述した
手順により上位の階層図形データを順次変更し、最上位
の階層図形データまで前記各手段に基づいて実行して変
更し、階層構造の設計パターン図形データを出力する。
The graphic data storage means 1 stores design pattern graphic data in a hierarchical structure, and the graphic data selection means 2 selects each figure constituting a pattern in a higher hierarchy from the graphic data storage means 1,
Each figure constituting the lower hierarchical pattern is compared with each other, and each figure constituting the upper hierarchical pattern that intersects with or is included in the existence area of the lower hierarchical pattern is selected. Then, the figure comparison means 3 compares the figure of the upper hierarchy selected by the figure data selection means 2 with each figure constituting the pattern of the lower hierarchy, and finds the overlapping part of the figures between the two hierarchies. After that, the duplicate figure removing means 4 removes the overlapping portion found by the figure comparing means 3 from the figure in the upper hierarchy, and changes the removed figure as the figure data in the upper hierarchy. Further, the repeating means 5 outputs the upper hierarchical graphic data changed by the duplicate graphic removing means 4 to the graphic data selecting means 2 as lower hierarchical graphic data. Then, the upper hierarchical graphic data is sequentially changed according to the above-described procedure, and the hierarchical graphic data at the highest level is executed and changed based on each of the above-mentioned means, and hierarchically structured design pattern graphic data is output.

[実施例] 以下、本発明を具体化した図形処理装置の一実施例を図
面に従って説明する。
[Embodiment] An embodiment of a graphic processing device embodying the present invention will be described below with reference to the drawings.

第2図に示すように、図形データ記憶装置10は重複図
形を含む階層構造の設計パターン図形データが記憶され
ていて、同階層構造の設計パターン図形データは処理装
置11に出力されるようになっている。座標データ記憶
装置12は各階層図形データを構成する各図形の座標を
記憶するようになっている。
As shown in FIG. 2, the graphic data storage device 10 stores design pattern graphic data with a hierarchical structure including overlapping graphics, and the design pattern graphic data with the same hierarchical structure is output to the processing device 11. ing. The coordinate data storage device 12 stores the coordinates of each figure constituting each hierarchical figure data.

前記処理装置11には制御ブロク′ラム記憶装置13か
接続され、この制御プログラム記憶装置13のプログラ
ムに基づいて前記図形データ記憶装置IOに記憶された
階層構造の設計パターン図形データを処理するようにな
っている。そして、前記制御プログラム記憶装置13は
図形選択プロクラム、図形比較プロクラム及び重複図形
除去プログラムか格納されている。
A control block program storage device 13 is connected to the processing device 11, and the hierarchically structured design pattern graphic data stored in the graphic data storage device IO is processed based on the program in the control program storage device 13. It has become. The control program storage device 13 stores a graphic selection program, a graphic comparison program, and a duplicate graphic removal program.

前記図形選択プログラムは図形データ記憶装置10の階
層構造の設計パターン図形データから上位の階層図形デ
ータを入力するとともに、その上位の階層図形データに
対して下位の階層図形データを入力するプログラムであ
る。又、図形選択プログラムは上位の階層のパターンを
構成する各図形の中から下位の階層図形データに基づき
下位の階層のパターンの存在領域に交差又は含まれる図
形を選択するプログラムである。
The graphic selection program is a program that inputs upper hierarchical graphic data from the hierarchically structured design pattern graphic data of the graphic data storage device 10, and also inputs lower hierarchical graphic data with respect to the upper hierarchical graphic data. The figure selection program is a program that selects a figure that intersects with or is included in an area where a pattern of a lower hierarchy exists, based on lower hierarchy figure data, from among the figures constituting a pattern of an upper hierarchy.

そして、前記処理装置11により上位の階層図形パター
ンを構成する各図形データ及び下位の階層図形パターン
を構成する各図形データの座標データを前記座標データ
記憶装置12に記憶するようになっている。
The processing device 11 stores coordinate data of each graphic data constituting the upper hierarchical graphic pattern and each graphic data constituting the lower hierarchical graphic pattern in the coordinate data storage device 12.

前記図形比較プロクラムは前記図形選択プロクラムによ
って選択された上位階層の図形と下位階層のパターンを
構成する各図形とを比較し、両階層間における図形の重
複部分を求め、前記座標データ記憶手段12の座標デー
タに基づいて図形重複部分の座標データを求めるように
なっている。
The figure comparison program compares the figure in the upper hierarchy selected by the figure selection program with each figure constituting the pattern in the lower hierarchy, determines the overlapping part of figures between the two hierarchies, and stores the figure in the coordinate data storage means 12. Based on the coordinate data, the coordinate data of the overlapping part of the figure is determined.

前記重複図形除去プロクラムは前記図形比較プログラム
によって求められた図形重複部分の座標データに基づい
て上位階層の図形から重複部分を醸去し、除去処理した
図形を上位の階層のパターンを構成する図形としてその
上位の階層図形データを変更するようになっている。
The duplicate figure removal program removes the duplicate parts from the upper layer figures based on the coordinate data of the figure overlap parts obtained by the figure comparison program, and uses the removed figures as figures constituting the upper layer pattern. The upper hierarchical graphic data is changed.

又、処理装置J1には前記制御プロクラム記憶装置13
に基づいて変更した階層図形データを順次記憶する変更
図形データ記憶装置17か接続されている。
The processing device J1 also includes the control program storage device 13.
A modified graphic data storage device 17 is connected to sequentially store hierarchical graphic data modified based on the data.

次に、上記のように構成された図形処理装置により上述
した階層図形データ、Alalの図形処理について説明
する。
Next, graphic processing of the above-described hierarchical graphic data, Alal, by the graphic processing apparatus configured as described above will be explained.

第3,4図に示すように、階層構造の設計パターン図形
データとなる上位の階層図形データA I、下位の階層
図形データa1及び配置構成は図形テータ記憶装置10
に記憶されている。そして、処理装置11はこの各階層
図形データA1.alの座標値及び上位の階層図形デー
タA I及び下位の階層図形データalの配置辛標を座
標データ記憶装置12に一旦記憶する。
As shown in FIGS. 3 and 4, the upper hierarchical graphic data A I, the lower hierarchical graphic data a1, and the arrangement configuration are the graphic data storage device 10, which is the hierarchically structured design pattern graphic data.
is stored in The processing device 11 then processes each hierarchical graphic data A1. The coordinate values of al and the arrangement marks of the upper hierarchical graphic data A1 and the lower hierarchical graphic data al are temporarily stored in the coordinate data storage device 12.

つまり、第3図に示すように上位の階層図形データA1
は4つの図形5l−84によって構成され、各図形S1
〜S4における各端点の座標値と、上位の階層図形デー
タA1の最小座標値(Xl。
In other words, as shown in FIG. 3, the upper hierarchical graphic data A1
is composed of four figures 5l-84, each figure S1
The coordinate values of each end point in ~S4 and the minimum coordinate value (Xl.

y+)及び最大座標値(X2 、 Y2 )とを記憶す
る。同様に、第4図に示すように下位の階層図形データ
alは3つの図形P1〜P3によって構成され、各図形
PI−P3における各端点の座標値と、下位の階層図形
データalの最小座標値(X3、Y3)及び最大座標値
(x4.Y4 )とを記憶する。
y+) and maximum coordinate values (X2, Y2). Similarly, as shown in FIG. 4, the lower hierarchical figure data al is composed of three figures P1 to P3, and the coordinate values of each end point in each figure PI-P3 and the minimum coordinate value of the lower hierarchical figure data al (X3, Y3) and the maximum coordinate value (x4.Y4).

そして、処理装置11は制御プログラム記憶装置13の
図形選択プログラムに基づいて上位の階層図形データA
1における図形5l−34が下位の階層図形データal
の存在領域に交差又は含まれる上位の階層図形データA
1の図形5l−34を選択する。
Then, the processing device 11 selects upper hierarchical graphic data A based on the graphic selection program in the control program storage device 13.
The figure 5l-34 in 1 is the lower hierarchical figure data al
Upper hierarchical graphic data A that intersects or is included in the existence area of
Select figure 1 5l-34.

つまり、第5図に示すように処理装置11は下位の階層
図形データalの最小座標値(X3.Y3)及び最大座
標値(X4 、Y、)に基づいて下位の階層図形データ
a1の存在領域を求め、この存在領域内に上位の階層図
形データA1における各図形5l−84の各端点の座標
値に基づいて求められた各図形81〜S4の存在領域か
交差又は含まれるかを判断する。この結果、各図形81
〜S4のうち、図形S2〜S4が下位の階層図形データ
a1の存在領域に交差又は含まれるため図形82〜S4
か選択される。
That is, as shown in FIG. 5, the processing device 11 determines the existence area of the lower hierarchical graphic data a1 based on the minimum coordinate value (X3, Y3) and maximum coordinate value (X4, Y,) of the lower hierarchical graphic data al. Then, it is determined whether the existence area of each of the figures 81 to S4 obtained based on the coordinate values of the end points of each of the figures 5l to 84 in the upper layer graphic data A1 intersects or is included in this existence area. As a result, each figure 81
~S4, since the figures S2 to S4 intersect with or are included in the existence area of the lower hierarchical figure data a1, the figures 82 to S4
or selected.

そして、第6図に示すように処理装置11は前記図形比
較プログラムに基づいて前記図形選択プログラムによっ
て選択された上位の階層図形データの図形S2〜S4と
、下位の階層図形データa1の図形PI−P3とを比較
し、両階層、AI、a1間における図形S2〜S4.P
I〜P3の重複部分を求める。
Then, as shown in FIG. 6, the processing device 11 selects the graphics S2 to S4 of the upper hierarchical graphic data selected by the graphic selection program based on the graphic comparison program and the graphic PI-S4 of the lower hierarchical graphic data a1. Figures S2 to S4 between both layers, AI, and a1 are compared with P3. P
Find the overlapping portion of I to P3.

即ち、処理装置11は下位の階層図形データa1の各図
形PI−P3の各端点に基づいて各図形P1〜P3の存
在領域を求め、この存在領域に対し前記上位の階層図形
データAIにおける図形82〜S4とどれだけ重複して
いるかを求める。この結果、上位の階層図形データAI
における図形S2の一部と下位の階層図形データa1に
おける図形P1の一部が重複するとともに、上位の階層
図形データA1における図形S4の一部と下位の階層図
形データalにおける図形P2の一部が重複する。そし
て、処理装置11はこの重複部分となる重複図形Jl、
J2の最小座標値(X3.Y、)、(Xs 、  Ys
 )及び最大座標値(X8.Y6)、(X7 、  Y
7 )を前記座標データ記憶装置l2から読み出して求
める。
That is, the processing device 11 determines the existence area of each figure P1 to P3 based on each end point of each figure PI-P3 of the lower hierarchical figure data a1, and calculates the existence area of each figure 82 in the upper hierarchical figure data AI with respect to this existence area. ~Find how much overlap with S4. As a result, the upper hierarchical graphic data AI
A part of the figure S2 in the lower hierarchical figure data a1 overlaps with a part of the figure P1 in the lower hierarchical figure data a1, and a part of the figure S4 in the upper hierarchical figure data A1 and a part of the figure P2 in the lower hierarchical figure data al overlap. Duplicate. Then, the processing device 11 processes the overlapping figure Jl, which is the overlapping part,
Minimum coordinate value of J2 (X3.Y,), (Xs, Ys
) and maximum coordinate values (X8.Y6), (X7, Y
7) is read out from the coordinate data storage device l2.

その後、第7図に示すように、処理装置11は前記重複
図形Jl、J2の最小座標値(Xs。Y3)、(Xs 
、 Y5 )及び最大座標値(X6.Y6)、(X7 
、 Y7 )により、制御プログラム記憶装置13の重
複図形除去ブロク′ラムに基づいて上位の階層図形デー
タA Iの図形S2.S4から重複図形Jl、J2の存
在領域骨だけを削除する。
Thereafter, as shown in FIG. 7, the processing device 11 processes the minimum coordinate values (Xs.Y3), (Xs.
, Y5 ) and maximum coordinate values (X6.Y6), (X7
, Y7), the graphics S2. Only the existing region bones of the duplicate figures Jl and J2 are deleted from S4.

そして、第8図に示すように、処理装置J1は下位の階
層図形データa1の存在領域に交差又は含まれなかった
上位の階層図形データAIの図形Slと、除去処理した
上位の階層図形データAIの図形82〜S4とを合成し
、変更した新たな上位の階層図形データ、へ1として変
更図形データ記憶装置17に記憶する。
Then, as shown in FIG. 8, the processing device J1 removes the graphics Sl of the upper hierarchical graphic data AI that intersects with or is not included in the existence area of the lower hierarchical graphic data a1, and the upper hierarchical graphic data AI that has been removed. The graphics 82 to S4 are synthesized and stored in the modified graphic data storage device 17 as new modified upper hierarchical graphic data, 1.

尚、本実施例においては上位の階層図形データA1及び
下位の階層図形データa1の2層構造の図形処理を行っ
たか、2層構造以上の場合には処理装置11か上位の階
層図形データA1を下位の階層図形データとし、この変
更した下位の階層図形データに対応した上位の階層図形
データを図形データ記憶装置10から読み出し、上位の
階層図形データの図形処理を上記の順序によって繰り返
し実行して変更すれはよい。
In this embodiment, graphic processing is performed for a two-layer structure of upper hierarchical graphic data A1 and lower hierarchical graphic data a1, or in the case of a two-layer structure or more, the processing device 11 processes the upper hierarchical graphic data A1. The upper hierarchical graphic data is changed by reading out the upper hierarchical graphic data corresponding to the changed lower hierarchical graphic data from the graphic data storage device 10, and repeatedly executing the graphic processing of the upper hierarchical graphic data in the above order. It's fine.

従って、変更図形データ記憶装置17から描画データに
よる設計パターン図形データを読み出して高精度のフォ
トマスクを作成することかできる。
Therefore, a highly accurate photomask can be created by reading design pattern graphic data based on drawing data from the modified graphic data storage device 17.

又、重なり合う重複図形を上位と下位の階層図形データ
を比較しながら上位の階層図形データから順次削除して
いくため、従来の様に階層構造の設計パターン図形を全
て展開して重複図形の削除を行う必要がなくなり、図形
データを記憶する記憶容量を小さくすることかできる。
In addition, in order to sequentially delete overlapping figures starting from the upper hierarchical figure data while comparing the upper and lower hierarchical figure data, it is not possible to expand all the design pattern figures in the hierarchical structure and delete the duplicate figures, as in the past. There is no need to do this, and the storage capacity for storing graphic data can be reduced.

この結果、半導体装置の大規模化、高密度化に伴うフォ
トマスクのパターン数に影響されることなく、高精度の
フォトマスク描画データを迅速に作成することかできる
As a result, highly accurate photomask drawing data can be quickly created without being affected by the number of photomask patterns accompanying the increase in scale and density of semiconductor devices.

[発明の効果] 以上詳述したように、本発明はフォトマスクのパターン
の数に影響されることなく、重複部分の図形データを除
去でき、高精度のフォトマスク描画データを作成するこ
とかできる優れた効果を有する。
[Effects of the Invention] As detailed above, the present invention can remove overlapping graphic data without being affected by the number of patterns on a photomask, and can create highly accurate photomask drawing data. Has excellent effects.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の原理説明図、 第2図は本発明を具体化した図形処理装置の構成図、 第3図は階層図形データA 1のレイアウトを示す説明
図、 第4図は階層図形データalのレイアウトを示す説明図
、 第5図は階層図形データa1に基づいて階層図形データ
AIか選択された説明図、 第6図は階層図形データa】に基づいて選択された階層
図形データAIと階層図形データalとが重複する部分
を示す説明図、 第7図は階層図形データAIから重複した部分を除去し
たことを示す説明図、 第8図は新たな階層図形データAIとしたことを示す説
明図、 第9図は図形データの階層構造を示す説明図、第1O図
は半導体集積回路の図形データを示す説明図である。 図において、 lは図形データ記憶手段、 2は図形データ選択手段、 3は図形比較手段、 4は重複図形除去手段、 5は繰り返し手段である。 第9図 図形データの階層構造を示す説明図 第10図
Fig. 1 is an explanatory diagram of the principle of the present invention, Fig. 2 is a configuration diagram of a graphic processing device embodying the present invention, Fig. 3 is an explanatory diagram showing the layout of hierarchical graphic data A1, and Fig. 4 is a diagram showing the layout of hierarchical graphic data A1. An explanatory diagram showing the layout of data al; FIG. 5 is an explanatory diagram showing hierarchical graphic data AI selected based on hierarchical graphic data a1; FIG. 6 is an explanatory diagram showing hierarchical graphic data AI selected based on hierarchical graphic data a] FIG. 7 is an explanatory diagram showing the overlapped portion between the hierarchical graphic data AI and the hierarchical graphic data AI, FIG. FIG. 9 is an explanatory diagram showing the hierarchical structure of graphic data, and FIG. 10 is an explanatory diagram showing graphic data of a semiconductor integrated circuit. In the figure, 1 is a figure data storage means, 2 is a figure data selection means, 3 is a figure comparison means, 4 is a duplicate figure removal means, and 5 is a repetition means. Figure 9: Explanatory diagram showing the hierarchical structure of graphic data Figure 10

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、階層構造の設計パターン図形データを記憶する図形
データ記憶手段(1)と、 図形データ記憶手段(1)から上位の階層図形データを
入力し、その上位の階層図形データとその上位の階層に
対して下位の階層図形データとを比較し、上位の階層の
パターンを構成する各図形の中から下位の階層のパター
ンの存在領域に交差又は含まれる図形を選択する図形デ
ータ選択手段(2)と、 前記図形データ選択手段(2)が選択した上位階層の図
形と下位階層のパターンを構成する各図形とを比較し、
両階層間における図形の重複部分を求める図形比較手段
(3)と、前記図形比較手段(3)にて求めた重複部分
を上位階層の前記図形から除去し、その除去した図形を
前記上位の階層のパターンを構成する図形としてその上
位の階層図形データを変更する重複図形除去手段(4)
と、 前記重複図形除去手段(4)にて変更した上位の階層図
形データを下位の階層図形データとし、上位の階層図形
データを順次最上位の階層図形データまで前記各手段に
基づいて変更処理を実行させる繰り返し手段(5)と を設けたことを特徴とする図形処理装置。
[Scope of Claims] 1. Graphic data storage means (1) for storing design pattern graphic data in a hierarchical structure; and inputting upper hierarchical graphic data from the graphic data storage means (1), and storing the upper hierarchical graphic data. graphic data that compares the upper layer with the lower layer graphic data and selects a shape that intersects with or is included in the existence area of the lower layer pattern from among the shapes that make up the upper layer pattern. a selection means (2), comparing the upper layer figure selected by the figure data selection means (2) with each figure constituting the lower layer pattern;
A figure comparing means (3) for determining the overlapping part of figures between both hierarchies; and removing the overlapping part found by the figure comparing means (3) from the figure of the upper layer, and comparing the removed figure with the figure of the upper layer. Duplicate figure removal means (4) for changing upper hierarchical figure data as figures constituting the pattern.
Then, the upper hierarchical graphic data changed by the duplicate graphic removing means (4) is made into lower hierarchical graphic data, and the upper hierarchical graphic data is sequentially changed based on the above-mentioned means up to the highest hierarchical graphic data. A graphic processing device characterized by comprising: repeating means (5) for causing execution.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1997048019A1 (en) * 1996-06-11 1997-12-18 Hitachi, Ltd. Method of manufacturing photomask, method of manufacturing phase-shifting mask, and method of manufacturing semiconductor device
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US9292643B2 (en) 2003-12-17 2016-03-22 Mentor Graphics Corporation Mask creation with hierarchy management using cover cells
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