JPH04138459A - Planographic printing plate and production thereof - Google Patents

Planographic printing plate and production thereof

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Publication number
JPH04138459A
JPH04138459A JP25883490A JP25883490A JPH04138459A JP H04138459 A JPH04138459 A JP H04138459A JP 25883490 A JP25883490 A JP 25883490A JP 25883490 A JP25883490 A JP 25883490A JP H04138459 A JPH04138459 A JP H04138459A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing plate
parts
polymerized
lithographic printing
unpolymerized
Prior art date
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Pending
Application number
JP25883490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yuji Kondo
祐司 近藤
Akihiro Mori
明広 毛利
Masato Katayama
正人 片山
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Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP25883490A priority Critical patent/JPH04138459A/en
Publication of JPH04138459A publication Critical patent/JPH04138459A/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To allow the stable formation of the planographic printing plate by dry processing by polymerizing a polymerizable compd. selectively in parts to form polymerized latent images consisting of polymerized parts and unpolymerized part, roughening the surface of the unpolymerized parts and polymerizing the unpolymerized parts. CONSTITUTION:The polymerizable compd. 2 of the original plate for planographic printing having the polymerizable compd. and a polymn. initiator is polymerized selectively in parts to form the polymerized latent images consisting of the polymerized parts 2-a and the unpolymerized parts 2-b. The surface of the unpolymerized part is then roughened and the unpolymerized parts 2-b subjected to the surface roughening are polymerized. Fine rugged patterns are formed by the simple and rapid method in this way and the rugged parts are the hydrophilic parts which are liable to be wet. The smooth parts are the water-repellent parts. The planographic printing plate is thus obtd.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、平版印刷版及びその製造方法に関し、特に乾
式処理により製造される平版印刷版とその製造方法に関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a lithographic printing plate and a method for manufacturing the same, and particularly to a lithographic printing plate manufactured by dry processing and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来、平版印刷版は、通常、非画線部が親水性、画線部
が撥水性を示す画像が形成されており、印刷を行う場合
、非画線部は親水性、すなわちインク反発性を高めるた
めに、湿し水が付与さ蜆 インクの付着が妨げら汰 画
線部のみにインクが付着して印刷用紙等に転写される。
Conventionally, on lithographic printing plates, an image is usually formed in which the non-image areas are hydrophilic and the image areas are water repellent. To increase the print quality, dampening water is applied to prevent ink from adhering.The ink adheres only to the image area and is transferred to the printing paper, etc.

このような平版印刷版に哄 ワイポン版、28版、多層
平版、半凹版、半凸版などがある。いずれも、アルミニ
ウム、亜鉛、アルミニウムー銖 鉄−銅一クロムなどの
金属板上に感光性物質が塗布さ枳 像露光 現像等の過
程を経て金属板上に画像が形成される。
Examples of such lithographic printing plates include the Waipon plate, the 28-plate, the multilayer lithographic plate, the semi-intaglio plate, and the semi-letter plate. In either case, a photosensitive substance is coated on a metal plate such as aluminum, zinc, aluminum-iron-copper monochromium, etc., and an image is formed on the metal plate through processes such as image exposure and development.

また、金属板表面には微細な凹凸が形成されている場合
(砂目立て)が一般的であり、その形成方法は種々ある
力\ その中でも、硫酸、リン酸の電解浴を用いた電解
研磨(陽極酸化)が多用されている。この砂目は感光性
物質の密着を向上する役目を果たすと同時に湿し水に対
する親和性、すなわち保水性の向上にも極めて有効に働
く。
In addition, fine irregularities are generally formed on the surface of a metal plate (graining), and these can be formed using various forces.Among these, electrolytic polishing using an electrolytic bath of sulfuric acid or phosphoric acid ( anodic oxidation) is widely used. This grain serves to improve the adhesion of the photosensitive material, and at the same time is extremely effective in improving the affinity for dampening water, that is, the water retention capacity.

更く 湿し水を用いない3M社のDriography
や、東し■、大日本印刷−の水なし平版があり、実用化
されてきている力\ これらはシリコーンゴムのインク
反発性を利用しているもので、アルミニウム等の金属板
上にシリコーンゴム層が存在し、上述と同様、露光 現
像を行い、製造される。また、シリコーンゴムの代わり
にフッ素樹脂を用いた水なし平版印刷版も検討されてお
り、3M社はDryDuplicating Syst
emとして発表している。
Further 3M's Driography that does not use dampening water
There are waterless lithographic plates made by Toshi, Toshi, and Dai Nippon Printing, which are being put into practical use. These make use of the ink repellency of silicone rubber, and they are coated with silicone rubber on a metal plate such as aluminum. There are layers, and they are manufactured by exposure and development in the same way as described above. Waterless lithographic printing plates using fluororesin instead of silicone rubber are also being considered, and 3M has developed a DryDuplicating System.
It is announced as em.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、従来の平版印刷版の場合、いずれも印刷
版(レジスト画像)形成の際の現像工程において、有機
溶剤や、水を使用する必要のある湿式1程であり、液管
珠 メンテナンスや廃液処理等の煩雑な工程を含んでお
り、かつ、溶剤による環境汚染という社会問題をも有し
ている。
However, in the case of conventional lithographic printing plates, the development process when forming the printing plate (resist image) is a wet process that requires the use of organic solvents and water, which requires maintenance and disposal of liquid waste. It involves complicated processes such as, and also poses a social problem of environmental pollution due to solvents.

また、光による粘着性の差を利用する現像法、いわゆる
、ビールアパート処理による現像法もあり、これは湿式
1程を不要としているカー 画像形成にあずからない部
分を剥離、廃棄する必要があり、装置が複雑化し また
、コストパフォーマンスに対して好ましくない。
There is also a developing method that utilizes the difference in tackiness caused by light, the so-called beer-apart processing, which eliminates the need for a wet process. , the equipment becomes complicated, and it is not favorable in terms of cost performance.

更に非画線部に形成される砂目法 前述したように多く
の場合、電解研摩により形成される力\この方法は湿式
であり、上記の現像工程と同様の問題点を有しており、
また同一の砂目で複数形成することは難しい。
In addition, the grain method formed in the non-image area As mentioned above, in many cases, the force formed by electrolytic polishing is wet.
Also, it is difficult to form multiple grains with the same grain.

本発明の課題法 上述の種々の問題点を解決することで
あり、特に、平版印刷に用いる平版印刷版を簡便、迅速
にしかも再現性良く、乾式処理で安定に形成し得る平版
印刷版の製造方法及び耐刷性の良い平版印刷版を提供す
ることにある。
The object of the present invention is to solve the various problems mentioned above, and in particular, to produce a lithographic printing plate that can be formed easily, quickly, with good reproducibility, and stably by dry processing. The object of the present invention is to provide a method and a lithographic printing plate with good printing durability.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明者らは、上述した課題を解決するべく鋭意検討し
た結果 少なくとも重合性化合物と重合開始剤を有する
平版印刷版用原版を画像に応じて部位選択的に重合させ
、重合部と未重合部の硬さの差を利用することによりき
わめて簡便、迅速な方法で、かつ乾式処理により微細な
凹凸(粗面)パターンを形成することができ、その凹凸
部分が濡れ易く、親木部分となり、平滑部分が撥水部分
となり、平版印刷ができるという知見に至り、本発明の
平版印刷版及びその製造方法を完成した本発明の平版印
刷版の製造方法について説明する。
As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have determined that a lithographic printing plate precursor having at least a polymerizable compound and a polymerization initiator is site-selectively polymerized according to the image, and the polymerized and unpolymerized areas are By taking advantage of the difference in hardness, it is possible to form a fine unevenness (rough surface) pattern in an extremely simple and quick method and by dry processing. The method of manufacturing the lithographic printing plate of the present invention will now be described, in which the lithographic printing plate of the present invention and the method of manufacturing the same were completed based on the discovery that the portion becomes a water-repellent portion and can be used for lithographic printing.

本発明の平版印刷版の製造方法とは、少なくとも重合性
化合物と重合開始剤を有する平版印刷版用原版に対して
、 (a)該重合性化合物を部位選択的に重合させ、重合部
と未重合部とからなる重合潜像を形成する過程、 (b)該未重合部を粗面化する過程、 (c)該粗面化された未重合部を重合させる過程、とを
含むことを特徴とするものである。
The method for producing a lithographic printing plate of the present invention includes: (a) site-selectively polymerizing the polymerizable compound to a lithographic printing plate precursor having at least a polymerizable compound and a polymerization initiator; (b) roughening the unpolymerized portion; and (c) polymerizing the roughened unpolymerization portion. That is.

本発明において、平版印刷版用原版が含有する重合性化
合物を部位選択的(所望のパターン)に重合させる過程
の際に、重合させた部分が本発明でいうところの「重合
部」であり、重合させなかった部分が本発明でいうとこ
ろの「未重合部」である。そして、その「重合部」と「
未重合部」とからなる所望のパターンが本発明でいうと
ころの「潜像」である。なお、その重合と叫 架橋の場
合をも含へ また、 「未重合部」は全く重合しなかっ
た場合のみではなく、実質的に未重合である場合をも含
むものである。
In the present invention, during the process of site-selectively (desired pattern) polymerizing the polymerizable compound contained in the lithographic printing plate precursor, the polymerized portion is the "polymerized portion" as referred to in the present invention, The portion that is not polymerized is the "unpolymerized portion" as referred to in the present invention. And, the "polymerization part" and "
A desired pattern consisting of "unpolymerized parts" is the "latent image" in the present invention. In addition, the term "unpolymerized portion" includes not only the case where no polymerization occurs but also the case where the polymerization is substantially unpolymerized.

以下、本発明の平版印刷版の製造方法の態様を、図面を
用いて詳細に説明する。
Hereinafter, embodiments of the method for manufacturing a lithographic printing plate of the present invention will be explained in detail with reference to the drawings.

先ず、第1図(a)に示すような、支持体1の上に、重
合性化合物及び重合開始剤を含む重合層2が形成されて
なる平版印刷版用原版を用意する。ここで、重合層中の
重合性化合物の重合時、酸素がラジカルの生成を妨害す
るので、必要に応じて重合層2の上にポリエステルフィ
ルム、ポリビニルアルコール等からなる酸素バリヤー層
4を設けてもよい。
First, as shown in FIG. 1(a), a lithographic printing plate precursor having a support 1 and a polymer layer 2 containing a polymerizable compound and a polymerization initiator is prepared. Here, since oxygen interferes with the generation of radicals during polymerization of the polymerizable compound in the polymerization layer, an oxygen barrier layer 4 made of polyester film, polyvinyl alcohol, etc. may be provided on the polymerization layer 2 as necessary. good.

ついで、適当なマスク5を介して、重合層2が含有する
光重合開始剤の吸収波長を含む光により、重合層2を露
光して、その重合層2内の重合性化合物を重合させ、マ
スク5のパターンに応じた重合部2−aと未重合部2−
bとからなる潜像を形成する。
Next, the polymer layer 2 is exposed to light including the absorption wavelength of the photopolymerization initiator contained in the polymer layer 2 through a suitable mask 5, so that the polymerizable compound in the polymer layer 2 is polymerized, and the mask is removed. Polymerized portion 2-a and unpolymerized portion 2- according to pattern 5
A latent image consisting of b is formed.

ここで用いられるマスクは、透過部と非透過部とからな
るマスクを用いるのが好ましい。すなわち、重合潜像の
重合部および未重合部が各々についてほぼ同じ重合度(
硬さ)になるようなマスクを用いるのが望ましい。また
、上記マスク露光以外のアナログ露光 デジタル露光な
どであってもよい。
The mask used here is preferably a mask consisting of a transparent part and a non-transparent part. In other words, the polymerized and unpolymerized parts of the polymerized latent image each have approximately the same degree of polymerization (
It is desirable to use a mask that has a hardness. Further, analog exposure, digital exposure, etc. other than the mask exposure described above may be used.

更に光重合でなく、サーマルヘッド、熱ペンなどを用い
た熱重合であってもよい。また、露光と加熱を同時に行
い、重合速度を速めることもできる。
Furthermore, instead of photopolymerization, thermal polymerization using a thermal head, thermal pen, etc. may be used. Furthermore, the polymerization rate can be increased by simultaneously performing exposure and heating.

尚、この過程において、露光を行う場合には、その光源
として、例え【戴 太陽兜 タングステンランプ、水銀
灯、ハロゲンランス キセノンランス 蛍光灯などを挙
げることができる。また、ネガマスクを用いない露光と
しては、例えば、液晶シャッターアレイ、CRT、  
オプティカルファイバーチューブ等を挙げることができ
る。
In this process, when exposure is performed, examples of the light source include a tungsten lamp, a mercury lamp, a halogen lamp, a xenon lamp, and a fluorescent lamp. In addition, examples of exposure without using a negative mask include liquid crystal shutter array, CRT,
Examples include optical fiber tubes.

次いで、第1図(b)に示すように、重合部21、未重
合部2−bからなる平版印刷版用原版3に微細な凹凸が
形成された粗面形成媒体6を押圧し、重合部2−aと未
重合部2−bの硬度の差を利用して、粗面形成媒体6の
微細な凹凸を転写形成する。即ち、未重合部2−bは柔
らかい状態であり、重合部2−aは重合により高分子化
及び/または架橋し、硬い状態になっているので、重合
部2−aには粗面形成媒体6の微細な凹凸は転写されず
、かつ未重合部2−bに粗面形成媒体6の微細な凹凸が
転写される適当な圧力を粗面形成媒体6に加え、未重合
部2−bにのみ微細な凹凸が転写形成される。
Next, as shown in FIG. 1(b), the rough surface forming medium 6 in which fine irregularities are formed is pressed against the planographic printing plate precursor 3 consisting of the polymerized portion 21 and the unpolymerized portion 2-b, so that the polymerized portion Using the difference in hardness between 2-a and the unpolymerized portion 2-b, fine irregularities on the rough surface forming medium 6 are transferred and formed. That is, the unpolymerized part 2-b is in a soft state, and the polymerized part 2-a has been polymerized and/or crosslinked by polymerization and is in a hard state. Appropriate pressure is applied to the rough surface forming medium 6 so that the fine irregularities of the rough surface forming medium 6 are not transferred and the fine irregularities of the rough surface forming medium 6 are transferred to the unpolymerized portion 2-b. Only fine irregularities are transferred and formed.

ここで用いられる粗面形成媒体としては、平版印刷版用
原版に押圧することにより粗面形成媒体上の微細な凹凸
が破壊されることなく、押圧時の加重に十分に耐えられ
ることが必要であり、その要求を満たすものであればど
のようなものでも良く、例えば、アルミニウム、亜鉛、
銅、鋼等の金属板、ポリエチレンテレフタレート等のプ
ラスチックフィルム、ガラス、糺 樹脂コート糺 アル
ミニウム等の金属箔の張られた糺 ゴム、更に、それら
の複合体、例えlf、  ゴム弾性層を有した金属板、
プラスチックフィルム、ガラス 紙等、更にアルミニウ
ム、亜鉛、銅、ニッケル、クロム、鉄がメツキ、蒸着、
あるいはスパッタされた金属板、プラスチックフィルム
、ガラス、紙等を用いることができる。これらの表面を
粗面化する方法としては、粗面形成媒体の材質により異
なる八例え111  ブラシ研摩法、電解研摩法、ボー
ル研摩法、化学研摩法、ホーニング研摩法などの方法が
とら汰 更にこれらの方法により形成された粗面を有す
る型を利用して、成形により粗面を形成してもよい。
The roughening medium used here needs to be able to sufficiently withstand the load during pressing without destroying the minute irregularities on the roughening medium when pressed against the planographic printing plate master. Any material can be used as long as it meets the requirements, such as aluminum, zinc,
Metal plates such as copper and steel, plastic films such as polyethylene terephthalate, glass, glue, resin coated glue, glue covered with metal foil such as aluminum, rubber, and composites thereof, such as lf, metals with rubber elastic layers. board,
Plastic films, glass paper, etc., as well as aluminum, zinc, copper, nickel, chromium, and iron are plated, vapor-deposited,
Alternatively, a sputtered metal plate, plastic film, glass, paper, etc. can be used. There are eight methods for roughening these surfaces, which vary depending on the material of the roughening medium, including brush polishing, electrolytic polishing, ball polishing, chemical polishing, and honing. A rough surface may be formed by molding using a mold having a rough surface formed by the method described above.

上記方法により形成される粗面の程度は、中心線平均粗
さで001〜2μmであり、平均開口径は、10μm以
下が望ましい。また、粗面形成媒体6の凹凸部表面には
、離型性を良くするために、シリコン系樹脂、フッ素系
樹脂等の皮膜が形成されていてもよい。
The roughness of the surface formed by the above method is preferably 0.01 to 2 .mu.m in center line average roughness, and the average opening diameter is preferably 10 .mu.m or less. Further, a film of silicone resin, fluorine resin, or the like may be formed on the surface of the uneven portion of the rough surface forming medium 6 in order to improve mold release properties.

更に、本発明に用いる粗面形成媒体6は、第1図(b)
に示したような、平板状だけでなく、円筒机ロール状な
ど特に限定されるものではない。
Furthermore, the rough surface forming medium 6 used in the present invention is shown in FIG. 1(b).
It is not limited to the shape of a flat plate as shown in Figure 2, but also the shape of a cylindrical desk roll.

また、粗面の形成されない平版印刷版用原版の重合合成
 即ち平滑部分の程度としては、中心線平均粗さで10
00人未満が好ましく、更に700Å以下が好ましく、
最適には500Å以下である。
In addition, in the polymerization synthesis of a lithographic printing plate precursor in which no rough surface is formed, the degree of the smooth portion is 10 in terms of center line average roughness.
00 people, more preferably 700 Å or less,
The optimum thickness is 500 Å or less.

この(b)までの過程で得られたものは、そのまま平版
印刷版として使用可能である力く、未重合部の硬度が小
さいために、その未重合部上に形成された粗面が印刷時
、ブランケット、インク着はローラー 水着はローラー
等により押しっぷさ汰 濡れ性が初期と変わっていく場
合があり、印刷物の画質低下を招き、耐刷性にも劣るた
め、以下に説明する(c)の過程により重合層2全体を
重合性化合物の重合及び/または架橋物とするのがよい
The material obtained through the process up to (b) can be used as a lithographic printing plate as is.Since the hardness of the unpolymerized area is small, the rough surface formed on the unpolymerized area is rough during printing. , blankets, and ink suits are pressed by rollers Swimsuits are pressed by rollers, etc. The wettability may change from the initial state, leading to a decline in the image quality of printed matter and poor printing durability, so we will explain (c) below. It is preferable that the entire polymerized layer 2 is formed into a polymerized and/or crosslinked product of a polymerizable compound by the process described above.

即ち、第1図(c)に示すように、第1図(a)と同一
の光源を用い、光及び/または熱を重合層全面に加えて
、支持体上の重合層全体を重合性化合物の重合及び/ま
たは架橋物とする。
That is, as shown in FIG. 1(c), using the same light source as in FIG. 1(a), light and/or heat is applied to the entire surface of the polymerized layer to cover the entire surface of the polymerized layer on the support with the polymerizable compound. Polymerized and/or crosslinked product.

本発明では下に述べるような電子写真の手法を用いて、
第2図に示すような画像形成方法により平版印刷版を製
造することも可能である。
In the present invention, using the electrophotographic method described below,
It is also possible to produce a lithographic printing plate by an image forming method as shown in FIG.

即ち、第2図に示すように、導電体7、光導電体8、支
持体1及び重合層2が積層さ枳 その重合層2表面にコ
ロナ放電により帯電させる。次に上記同様適当なマスク
5を介して重合層2が含有する光重合開始剤の吸収波長
を含へ かつ、光導電体8の吸収波長を含む光により重
合層2を露光して、その重合層2内の重合性化合物を重
合させて、マスク5のパターンに応じた重合部Z−aと
未重合部2−bとからなる重合潜像を形成すると同時へ
 露光部の光導電体の抵抗値が下がり、その部分の表面
電荷量が減少し、帯電潜像を得る(第2図(b))。次
に加熱することにより、熱とクーロン引力により、未重
合部2−bが変形し、帯電量及び/または未重合部2−
bの硬度に応じて、微細な凹凸が形成させ、次いで、冷
却を行い、支持体と光導電体とを剥離することにより第
2図(d)に示すような平版印刷版を得る。なお、加熱
する際の温度としては、未重合部の示す軟化温度と、重
合部の示す軟化温度の間の温度であり、重合部の軟化変
形が生じない範囲で、高い温度が好ましい。
That is, as shown in FIG. 2, a conductor 7, a photoconductor 8, a support 1, and a polymer layer 2 are laminated, and the surface of the polymer layer 2 is charged by corona discharge. Next, as described above, the polymer layer 2 is exposed through a suitable mask 5 to light that includes the absorption wavelength of the photopolymerization initiator contained in the polymerization layer 2 and includes the absorption wavelength of the photoconductor 8, and the polymerization layer 2 is exposed to light that includes the absorption wavelength of the photoconductor 8. At the same time, the polymerizable compound in the layer 2 is polymerized to form a polymerized latent image consisting of a polymerized area Z-a and an unpolymerized area 2-b according to the pattern of the mask 5.Resistance of the photoconductor in the exposed area The value decreases, the amount of surface charge in that area decreases, and a charged latent image is obtained (FIG. 2(b)). Next, by heating, the unpolymerized part 2-b is deformed by heat and Coulomb attraction, and the amount of charge and/or the unpolymerized part 2-b is changed.
Fine irregularities are formed depending on the hardness of b, followed by cooling and peeling off the support and photoconductor to obtain a lithographic printing plate as shown in FIG. 2(d). The heating temperature is between the softening temperature of the unpolymerized portion and the softening temperature of the polymerized portion, and a high temperature is preferred as long as the softening and deformation of the polymerized portion does not occur.

更に、耐刷性を向上するため、前述の製造方法と同様 
平版印刷版の重合層の全体を重合性化合物の重合物とす
ることが好ましい(第2図(d))。
Furthermore, in order to improve printing durability, the same manufacturing method as above was used.
It is preferable that the entire polymer layer of the lithographic printing plate is made of a polymer of polymerizable compounds (FIG. 2(d)).

上記露光時において、光源を重合層に含まれる光重合開
始剤の吸収波長と光導電体の吸収波長を含む光源とした
力ζ 各々の吸収波長を含む別光源として、露光を2回
・行うことも可能であり、その順序としては、光重合開
始剤の吸収波長を含む光源による露光 次いで、光導電
体の吸収波長を含む光源による露光 あるいはその逆の
順序での2−n= 回置光としてもよい。
During the above exposure, the light source is a light source that includes the absorption wavelength of the photopolymerization initiator contained in the polymerization layer and the absorption wavelength of the photoconductor, and the exposure is performed twice using a separate light source that includes the absorption wavelengths of each of the absorption wavelengths. It is also possible to perform exposure using a light source containing the absorption wavelength of the photopolymerization initiator, followed by exposure using a light source containing the absorption wavelength of the photoconductor, or in the reverse order as 2-n = rotational light. Good too.

光導電体として屯 種々のものが用いられる力ζイオウ
、セレンアモルファスシリコン;セレン−テルル、セレ
ンーヒ素、セレン−イオウ等の合金;酸化亜鉛;亜鉛あ
るいはカドミウムの硫化物、等の無機化合物;ゼラチン
−ハロゲン化銀; アントラセン、アセナフテン、ベン
ジジンポリビニルカルバゾール等の有機化合物等を含む
ものが好ましい。
Various materials are used as photoconductors: Sulfur, selenium, amorphous silicon; alloys such as selenium-tellurium, selenium-arsenic, selenium-sulfur; zinc oxide; inorganic compounds such as zinc or cadmium sulfides; gelatin; Silver halide: Those containing organic compounds such as anthracene, acenaphthene, and benzidine polyvinylcarbazole are preferred.

第2図の態様の導電体として哄 広範な導電性材料の中
から選択させるカー 例えIf、  アルミニウム、銅
、ステンレス、白金、金、クロム、ニッケル、リン青銅
、炭素などや、導電性ポリマーあるいは、各種ポリマー
中に金属フィラーを分散させたもの等が用いられる。
As a conductor in the embodiment of Figure 2, there is a wide range of conductive materials to choose from, such as aluminum, copper, stainless steel, platinum, gold, chromium, nickel, phosphor bronze, carbon, etc., conductive polymers, or Various types of polymers in which metal fillers are dispersed are used.

次に本発明の平版印刷版の製造方法に用いられる平版印
刷版用原版について説明する。
Next, the lithographic printing plate precursor used in the method for manufacturing a lithographic printing plate of the present invention will be described.

本発明で用いられる平版印刷版用原版は、少なくとも重
合性化合物と、重合開始剤を有している。
The lithographic printing plate precursor used in the present invention contains at least a polymerizable compound and a polymerization initiator.

重合性化合物としては、 1分子中に反応性ビニル基を
少なくとも1個持つ化合物が利用でき、例えC戴  反
応性ビニル基含有単量倣 反応性ビニル基含有オリゴマ
ー及び反応性ビニル基含有ポリマーからなる群より選択
される1種以上のものを用いることができる。
As the polymerizable compound, a compound having at least one reactive vinyl group in one molecule can be used. One or more types selected from the group can be used.

これら化合物の反応性ビニル基として哄 スチレン系ビ
ニル基 アクリル酸系ビニル基 メタクリル酸系ビニル
基、アリル系ビニル基、ビニルエーテルなどの他に酢酸
ビニルなどのエステル系ビニル基など重合反応性を有す
る置換もしくは無置換のビニル基が挙げられる。
The reactive vinyl groups of these compounds include styrene vinyl groups, acrylic acid vinyl groups, methacrylic acid vinyl groups, allyl vinyl groups, vinyl ethers, and ester vinyl groups such as vinyl acetate. Examples include unsubstituted vinyl groups.

このような条件を満たす重合性化合物の具体例は次の通
りである。
Specific examples of polymerizable compounds that satisfy such conditions are as follows.

例え+f、  スチレン、メチルスチレン、クロルスレ
ン、ブロモスチレン、メトキシスチレン、ジメチルアミ
ノスチレン、シアノスチレン、ニトロスチレン、ヒドロ
キシスチレン、アミノスチレン、カルボキシスチレン、
アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、ア
クリル酸シクロヘキシル、アクリルアミド、メタクリル
酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタク
リル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸フ
ェニル、メタクリル酸シクロヘキシノ区 ビニルピリジ
ン、N−ビニルピロリドン、N−ビニルイミダゾール、
2−ビニルイミダゾール、N−メチル−2−ビニルイミ
ダゾール、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエー
テル、イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビ
ニルエーテル、フェニルビニルエーテル、p−メチルフ
ェニルビニルエーテル、p−クロルフェニルビニルエー
テルなどの一価の単量体ニ ジビニルベンゼン、シュウ酸ジスチリル、マロン酸ジス
チリル、コハク酸ジスチリル、グルタル酸ジスチリル、
アジピン酸ジスチリル、マレイン酸ジスチリル、フマル
酸ジスチリル、β、β°−ジメチルグルタル酸ジスチリ
ル、2−ブロモグルタル酸ジスチリル、a、α −ジク
ロログルタル酸ジスチリル、テレフタル酸ジスチリル、
シュウ酸ジ(エチルアクリレート)、シュウ酸ジ(メチ
ルアクリレート)、マロン酸ジ(エチルアクリレ−ト)
、マロン酸ジ(メチルエチルアクリレート)、コハク酸
ジ(エチルアクリレート)、グルタル酸ジ(エチルアク
リレート)、アジピン酸ジ(エチルアクリレート)、マ
レイン酸ジ(エチルアクリレート)、フマル酸ジ(エチ
ルアクリレート)、β、β′−ジメチルグルタル酸ジ(
エチルアクリレート)、エチレンジアクリルアミド、プ
ロピレンジアクリルアミド、1.4−フ二二レンジアク
リルアミド、1,4−フェニレンビス(オキシエチルア
クリレート)、1.4−フェニレンビス(オキシメチル
エチルアクリレート)、1.4−ビス(アクリロイルオ
キシエトキシ)シクロヘキサン、1.4−ビス(アクリ
ロイルオキシメチルエトキシ)シクロヘキサン、1,4
−ビス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイル)ベ
ンゼン、1.4−ビス(アクリロイルオキシメチルエト
キシカルバモイル)ベンゼン、1.4−ビス(アクリロ
イルオキシエトキシカルバモイル)シクロヘキサン、ビ
ス(アクリロイルオキシエトキシカルバモイルシクロヘ
キシル)メタン、シュウ酸ジ(エチルメタクリレート)
、シュウ酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、マロン
酸ジ(エチルメタクリレート)、マロン酸ジ(メチルエ
チルメタクリレート)、コハク酸ジ(エチルメタクリレ
ート)、コハク酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、
グルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、アジピン酸ジ
(エチルメタクリレート)、マレイン酸ジ(エチルメタ
クリレート)、フマル酸ジ(エチルメタクリレート)、
フマル酸ジ(メチルエチルメタクリレート)、β、β°
−ジメチルグルタル酸ジ(エチルメタクリレート)、1
.4−フェニレンビス(オキシエチルメタクリレート)
、1.4−ビス(メタクリロイルオキシエトキシ)シク
ロヘキサンアクリロイルオキシエトキシエチルビニルエ
ーテルなどの2価の単量体 ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールト
リ (ヒドロキシスチレン)、ジペンタエリスリトール
へキサアクリレート、シアヌル酸トリアクリレート、シ
アヌル酸トリメタクリレート、1,1.1−)リメチロ
ールプロパントリアクリレート、1,1.1−)リメチ
ロールプロパントリメタクリレート、シアヌル酸トリ 
(エチルアクリレート)、1,1.1−)リメチロール
プロパントリ(エチルアクリレート)、シアヌル酸トリ
(エチルビニルエーテル)、1,1.1−)リメチロー
ルプロパントリ(トルエンジイソシアネート)とヒドロ
キシエチルアクリレートとの縮合物、1.1.1− )
リメチロールプロパントリ(ヘキサンジイソシアネート
)とp−ヒドロキシスチレンとの縮合物などの3価の単
量体。
Example +f, styrene, methylstyrene, chlorthrene, bromostyrene, methoxystyrene, dimethylaminostyrene, cyanostyrene, nitrostyrene, hydroxystyrene, aminostyrene, carboxystyrene,
Acrylic acid, methyl acrylate, ethyl acrylate, cyclohexyl acrylate, acrylamide, methacrylic acid, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, butyl methacrylate, phenyl methacrylate, cyclohexino methacrylate, vinylpyridine, N- Vinylpyrrolidone, N-vinylimidazole,
Monovalent monomers such as 2-vinylimidazole, N-methyl-2-vinylimidazole, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, isobutyl vinyl ether, β-chloroethyl vinyl ether, phenyl vinyl ether, p-methylphenyl vinyl ether, p-chlorophenyl vinyl ether divinylbenzene, distyryl oxalate, distyryl malonate, distyryl succinate, distyryl glutarate,
distyryl adipate, distyryl maleate, distyryl fumarate, β,β°-dimethylglutarate distyryl, 2-bromoglutarate distyryl, a,α-dichloroglutarate distyryl, distyryl terephthalate,
Oxalic acid di(ethyl acrylate), oxalic acid di(methyl acrylate), malonic acid di(ethyl acrylate)
, malonic acid di(methyl ethyl acrylate), succinic acid di(ethyl acrylate), glutaric acid di(ethyl acrylate), adipic acid di(ethyl acrylate), maleic acid di(ethyl acrylate), fumaric acid di(ethyl acrylate), β,β′-dimethylglutarate di(
ethyl acrylate), ethylene diacrylamide, propylene diacrylamide, 1,4-phenylene diacrylamide, 1,4-phenylene bis(oxyethyl acrylate), 1.4-phenylene bis(oxymethyl ethyl acrylate), 1.4 -bis(acryloyloxyethoxy)cyclohexane, 1,4-bis(acryloyloxymethylethoxy)cyclohexane, 1,4
-Bis(acryloyloxyethoxycarbamoyl)benzene, 1,4-bis(acryloyloxymethylethoxycarbamoyl)benzene, 1,4-bis(acryloyloxyethoxycarbamoyl)cyclohexane, bis(acryloyloxyethoxycarbamoylcyclohexyl)methane, dioxalate (ethyl methacrylate)
, dioxalate (methyl ethyl methacrylate), di malonate (ethyl methacrylate), di malonate (methyl ethyl methacrylate), di succinate (ethyl methacrylate), di succinate (methyl ethyl methacrylate),
Glutaric acid di(ethyl methacrylate), adipic acid di(ethyl methacrylate), maleic acid di(ethyl methacrylate), fumaric acid di(ethyl methacrylate),
Fumaric acid di(methyl ethyl methacrylate), β, β°
-dimethylglutarate di(ethyl methacrylate), 1
.. 4-Phenylenebis(oxyethyl methacrylate)
, 1.4-bis(methacryloyloxyethoxy)cyclohexane acryloyloxyethoxyethyl vinyl ether and other divalent monomers pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tri(hydroxystyrene), dipentaerythritol hexaacrylate, Cyanuric acid triacrylate, cyanuric acid trimethacrylate, 1,1.1-)limethylolpropane triacrylate, 1,1.1-)limethylolpropane trimethacrylate, cyanuric acid triacrylate
(ethyl acrylate), 1,1.1-)limethylolpropane tri(ethyl acrylate), cyanuric acid tri(ethyl vinyl ether), 1,1.1-)limethylolpropane tri(toluene diisocyanate) and hydroxyethyl acrylate condensate, 1.1.1-)
A trivalent monomer such as a condensate of limethylolpropane tri(hexane diisocyanate) and p-hydroxystyrene.

エチレンテトラアクリルアミド、プロピレンテトラアク
リルアミドなどの4価の単量体ジペンタエリスリトール
モノヒドロキシペンタアクリレートなどの5価の単量体 ジペンタエリスリトールへキサアクリレートなどの6価
の単量体など、更には、オリゴマーまたはポリマーの末
端に反応性ビニル基を残した重合性化合物、あるいはオ
リゴマーまたはポリマーの側鎖に反応性ビニル基をつけ
た重合性化合物などを挙げることができる。
Tetravalent monomers such as ethylene tetraacrylamide and propylene tetraacrylamide, pentavalent monomers such as dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, hexavalent monomers such as dipentaerythritol hexaacrylate, and oligomers. Alternatively, examples thereof include a polymerizable compound in which a reactive vinyl group is left at the end of the polymer, or a polymerizable compound in which a reactive vinyl group is attached to the side chain of an oligomer or polymer.

なお、これらの重合性化合物を二種以上組み合わせて用
いることも可能である。
Note that it is also possible to use two or more of these polymerizable compounds in combination.

本発明に用いる平版印刷版用原板に含有される重合開始
剤は、光重合開始剤及び/または熱重合開始剤である。
The polymerization initiator contained in the lithographic printing plate blank used in the present invention is a photopolymerization initiator and/or a thermal polymerization initiator.

熱重合開始剤としては、公知の開始剤などを使用するこ
とができ、例え1戴  アゾ系開始舷 過酸化物系開始
剤を挙げることができる。
As the thermal polymerization initiator, any known initiator may be used, such as an azo peroxide initiator.

アゾ系開始剤と憾 分子中に窒素−窒素二重結合を少な
くとも1個以上有する有機化合物で、例え代 アゾビス
イソブチロニトリル、アゾビスシクロヘキサンカルボニ
トリル、アゾビスメチルフェネチルカルボニトリル、ア
ゾビス−8ec−アミロニトリル、アゾビスフェニルエ
タン、アゾビスシクロへキシルプロピロニトリル、アゾ
ビスメチルクロロエタン、 トリチルアゾベンゼン、フ
ェニルアゾイソブチロニトリル、’ 9−(p−ニトロ
フェニルアゾ)−9−フェニルフルオレンなどを挙げる
ことができる。
Azo initiators are organic compounds having at least one nitrogen-nitrogen double bond in the molecule, such as azobisisobutyronitrile, azobiscyclohexanecarbonitrile, azobismethylphenethylcarbonitrile, azobis-8ec - Amylonitrile, azobisphenylethane, azobiscyclohexylpropylonitrile, azobismethylchloroethane, trityl azobenzene, phenylazoisobutyronitrile, '9-(p-nitrophenylazo)-9-phenylfluorene, etc. I can do it.

また、過酸化物系開始剤としては分子中に酸素一酸素結
合を少なくとも1個以上有する有機化合物であればほと
んど全ての化合物が含まれる。例えに メチルエチルケ
トンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド
、3,3.5−)リメチルシクロヘキサノンバーオキサ
イド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチ
ルアセトンパーオキサイド、1,1°−ビス(tert
−ブチルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロ
ヘキサン、1,1°−ビス(tert−ブチルパーオキ
シ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(te
rt−ブチフレバーオキシ)パレラート、2,2゛−ビ
ス(tert−ブチルパーオキシ)ブタン、tert−
ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオ
キサイド、2.5−ジメチルヘキサン−2−シバイドロ
バ−オキサイド、1,1゜3.3−テトラメチルブチル
ハイドロパーオキサイド、ジーter七−ブチルパーオ
キサイド、tert−プチルクミルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、a、a’−ビス(tert−ブ
チルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2.5−ジメ
チル−2,5−ジ(tert−ブチルパーオキシ)ヘキ
サン、2.5−ジメチル−2,5−ジー友ト (tert−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、アセチ
ルパーオキサイド、インブチリルパーオキサイド、オク
タノイルパーオキサイド、デカノイルパーオキサイド、
ラウロイルパーオキサイド、3,5.5−トリメチルヘ
キサノイルパーオキサイド、過酸化コハク酸、過酸化ベ
ンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイルパーオキサイド
、m−トルオイルパーオキサイド、ジイソプロピルパー
オキシジカーボネート、ジー2−エチルへキシルパオキ
シジカーボネート、ジ−n−プロピルパーオキシジカー
ボネート、ジー2−エトキシエチルパーオキシジカーボ
ネート、ジメトキシイソプロビルパーオキシジカーボネ
ート、ジ(3−メチル−3−メトキシブチル)パーオキ
シジカーボネート、tert−ブチルパーオキシアセテ
ート、tert−ブチルパーオキシイソブチレート、七
er七−プチルパーオキシピバレート、tert−ブチ
ルパーオキシネオデカノエート、tert−ブチルパー
オキシオクタノエート、tert−ブチルパーオキシ−
3,5,5−)リメチルヘキサノエート、tert−ブ
チルパーオキシラウレート、七ert−ブチルパーオキ
シベンゾエート、ジーtert−ブチルシバーオキシイ
ソフタレート、2.5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾ
イルパーオキシ)ヘキサン、tert−ブチル過酸化マ
レイン酸、tert−ブチルパーオキシイソプロビルカ
ーボネート等を挙げることができるカ\ 本発明はこれ
らに限定されるものではなく、この他の公知の熱重合開
始剤も使用できる。
The peroxide initiator includes almost all organic compounds having at least one oxygen-oxygen bond in the molecule. For example, methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3,3,5-)limethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1°-bis(tert
-butylperoxy)-3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1°-bis(tert-butylperoxy)cyclohexane, n-butyl-4,4-bis(te
rt-Butyflavoroxy)parerate, 2,2゛-bis(tert-butylperoxy)butane, tert-
Butyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2-sibide lobaroxide, 1,1゜3.3-tetramethylbutyl hydroperoxide, tert-7-butyl peroxide, tert-butyl peroxide Mil peroxide, dicumyl peroxide, a, a'-bis(tert-butylperoxyisopropyl)benzene, 2,5-dimethyl-2,5-di(tert-butylperoxy)hexane, 2,5-dimethyl -2,5-tert-butylperoxyhexyne-3, acetyl peroxide, imbutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide,
lauroyl peroxide, 3,5.5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, m-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2- Ethylhexyl peroxydicarbonate, di-n-propyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxydicarbonate, di(3-methyl-3-methoxybutyl)peroxydicarbonate carbonate, tert-butylperoxyacetate, tert-butylperoxyisobutyrate, 7er7-butylperoxypivalate, tert-butylperoxyneodecanoate, tert-butylperoxyoctanoate, tert-butyl Peroxy
3,5,5-)limethylhexanoate, tert-butylperoxylaurate, 7ert-butylperoxybenzoate, di-tert-butylciberoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di( Examples include benzoylperoxy)hexane, tert-butylperoxymaleic acid, tert-butylperoxyisopropyl carbonate, etc. The present invention is not limited to these, and other known thermal polymerization initiators can be used. Agents can also be used.

光重合開始剤としては、例えばカルボニル化合物、イオ
ウ化合物、ハロゲン化合物、レドックス系光重合開始剤
などを挙げることができる。
Examples of the photopolymerization initiator include carbonyl compounds, sulfur compounds, halogen compounds, and redox photopolymerization initiators.

具体的に叫 カルボニル化合物としては、例えば、ベン
ジル、4.4°−ジメトキシベンジル、ジアセチル、カ
ンファーキノンなどのジケトン類;例えば4,4゛−ビ
ス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4.4゛−ジメ
トキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;例えば
アセトフェノン、4−メトキシアセトフェノンなどのア
セトフェノン類;ベンゾインアルキルエーテル類;例え
ば2−クロロチオキサントン、2,4−シクロロチオキ
サントン、2.4−ジエチルチオキサントン、チオキサ
ントン−3−カルボン酸−β−メトキシエチルエステル
などのチオキサントン類; ジアルキルアミノ基を有す
るカルコン類およびスチリルケトン類;3,3°−カル
ボニルビス(7−メドキシクマリン)、3.3’−カル
ボニルビス(7−ジニチルアミノクマリン)などのクマ
リン類などが挙げられる。
Specifically, carbonyl compounds include, for example, diketones such as benzyl, 4.4°-dimethoxybenzyl, diacetyl, and camphorquinone; for example, 4,4゛-bis(diethylamino)benzophenone, 4.4゛-dimethoxybenzophenone, etc. benzophenones; for example, acetophenones such as acetophenone and 4-methoxyacetophenone; benzoin alkyl ethers; for example, 2-chlorothioxanthone, 2,4-cyclothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, thioxanthone-3-carboxylic acid-β -thioxanthone such as methoxyethyl ester; chalcones and styryl ketones having a dialkylamino group; 3,3°-carbonylbis(7-medoxycoumarin), 3,3'-carbonylbis(7-dinithylaminocoumarin) ) and other coumarins.

イオウ化合物としては、例えばジベンゾチアゾリルスル
フィド、デシルフェニルスルフィド、ジスルフィド類な
どが挙げられる。
Examples of the sulfur compound include dibenzothiazolyl sulfide, decylphenyl sulfide, and disulfides.

ハロゲン化合物としては、例えば四臭化炭乳キノリンス
ルホニルクロライド、トリハロメチル基を有するS−)
リアジン類などが挙げられる。
Examples of halogen compounds include carbon tetrabromide quinolinesulfonyl chloride, S-) having a trihalomethyl group,
Examples include riazine.

レドックス系の光重合開始剤としては、3価の鉄イオン
化合物(例えばクエン酸第2鉄アンモニウム)と過酸化
物などを組み合せて用いるものや、リボフラビン、メチ
レンブルーなどの光還元性色素とトリエタノールアミン
、アスコルビン酸などの還元剤を組み合せて用いるもの
などが挙げられる。
Redox-based photopolymerization initiators include those used in combination with trivalent iron ion compounds (e.g. ferric ammonium citrate) and peroxide, and those used in combination with photoreducible dyes such as riboflavin and methylene blue and triethanolamine. , those using a combination of reducing agents such as ascorbic acid, and the like.

また以上に述べた光重合開始剤において、2種−※− 以上の光重合開始剤を組み合せてより効率の良い光重合
を行なうこともできる。
Moreover, among the photopolymerization initiators described above, more efficient photopolymerization can be carried out by combining two or more types of photopolymerization initiators.

この様な光重合開始剤の組み合せとしては、ジアルキル
アミノ基を有するカルコンおよびスチリルケトン類やク
マリン類と、 トリハロメチル基を有するS−)リアジ
ン類やカンファーキノンとの組み合せなどが挙げられる
Examples of such a combination of photopolymerization initiators include a combination of chalcone, styryl ketones, or coumarins having a dialkylamino group, and S-) riazine or camphorquinone having a trihalomethyl group.

また、本発明で用いられる平版印刷版用原版は適宜用い
られるバインダーと共に、前述の必須成分を溶剤に溶解
して、金鳳 プラスチック、紙などの支持体上に塗布乾
燥して、あるいはバインダー自身で強度が保たれる場合
には、上記支持体を用いずにバインダーで形成されるフ
ィルムまたはシート状物中に前記必須成分を含有させて
重合層単層として成形することができる。
The lithographic printing plate precursor used in the present invention can be prepared by dissolving the above-mentioned essential components in a solvent together with an appropriately used binder, and applying and drying the solution onto a support such as plastic or paper, or by using the binder itself. If the strength is maintained, the above-mentioned essential components can be contained in a film or sheet-like product formed from a binder without using the above-mentioned support, and the product can be formed as a single polymer layer.

なお、本発明の平版印刷版用原版の形状としては、平板
、円筒次 ロール状など特に限定されるものではない。
The shape of the lithographic printing plate precursor of the present invention is not particularly limited, such as a flat plate or a cylindrical roll shape.

本発明における平版印刷版用原版の重合層は、0.5μ
m〜2狐 好ましくは1μm〜0.1mm程度の厚さに
成膜して使用することが望ましい。
The polymer layer of the lithographic printing plate precursor in the present invention is 0.5μ
m to 2 foxes It is desirable to form a film to a thickness of about 1 μm to 0.1 mm before use.

本発明に使用可能なバインダーとしては、広範な樹脂か
ら選択することができるカー 具体的には、例工は  
ニトロセルロー人 リン酸セルロース、硫酸セルロース
、酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セル
ロース、ミリスチン酸セルロース、パルミチン酸セルロ
ース、酢酸・プロピオン酸セルロース、酢酸・酪酸セル
ロースなどのセルロースエステル類; メチルセルロー人 エチルセルロー人 プロピルセルロ
ース、ブチルセルロースなどのセルロースエーテル類; ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリ
ビニルブチラール、ポリビニルアセタール、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドンなどのビニル樹脂類
; スチレン−ブタジェンコポリマー スチレン−アクリロ
ニトリルコポリマー、スチレン−ブタジェン−アクリロ
ニトリルコポリマー 塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマ
ーなどの共重合樹脂類ポリメチルメタクリレート、ポリ
メチルアクリレート、ポリブチルアクリレート、ポリア
クリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミド、ポ
リアクリロニトリルなどのアクリル樹脂類;ポリエチレ
ンテレフタレートなどのポリエステル類;例えば、ポリ
(4,4−イソプロピリデン、ジフェニレン−ツー1.
4−シクロヘキシレンジメチレンカーボネート)、ポリ
(エチレンジオキシ−3,3°−フェニレンチオカーボ
ネート)、ポリ(4,4°−イソプロピリデンジフェニ
レンカーボネートーコーテレフタレート)、ポリ(4,
4°−イソプロピリデンジフェニレンカーボネート)、
ポリ(4,4’−5ec−ブチリデンジフェニレンカー
ボネート)、ポリ(4,4’イソプロピリデンジフエニ
レンカーボネート−ブロック−オキシエチレン)などの
ポリアクレート樹脂類 ポリアミド類; ポリイミド類、エポキシ樹脂類フェノ
ール樹脂類 ポリエチレン、ポリプロピレン、塩素化ポリエチレンな
どのポリオレフィン類 およびゼラチンなどの天然高分子などが挙げられる。
The binder that can be used in the present invention can be selected from a wide range of resins.
Nitrocellulose People Cellulose esters such as cellulose phosphate, cellulose sulfate, cellulose acetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose myristate, cellulose palmitate, cellulose acetate/propionate, cellulose acetate/butyrate; Methylcellulose people Ethylcellulose people Cellulose ethers such as propyl cellulose and butyl cellulose; Vinyl resins such as polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinyl acetate, polyvinyl butyral, polyvinyl acetal, polyvinyl alcohol, and polyvinylpyrrolidone; Styrene-butadiene copolymer Styrene-acrylonitrile copolymer, styrene- Copolymer resins such as butadiene-acrylonitrile copolymer, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer; acrylic resins such as polymethyl methacrylate, polymethyl acrylate, polybutyl acrylate, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, polyacrylamide, polyacrylonitrile; polyethylene terephthalate, etc. polyesters; for example, poly(4,4-isopropylidene, diphenylene-two-1.
4-cyclohexylene dimethylene carbonate), poly(ethylenedioxy-3,3°-phenylene thiocarbonate), poly(4,4°-isopropylidene diphenylene carbonate coated terephthalate), poly(4,
4°-isopropylidene diphenylene carbonate),
Polyacrylate resins such as poly(4,4'-5ec-butylidene diphenylene carbonate), poly(4,4'isopropylidene diphenylene carbonate-block-oxyethylene), polyamides; polyimides, epoxy resins, phenolic resins Examples include polyolefins such as polyethylene, polypropylene, and chlorinated polyethylene, and natural polymers such as gelatin.

またこの他に、必要に応じて、光変色防止剤、固体潜弧
 界面活性舷 帯電防止剤、などを本発明に用いる平版
印刷版用原版に添加することもできる。
In addition, a photodiscoloration inhibitor, a solid latent arc surfactant antistatic agent, and the like may be added to the lithographic printing plate precursor used in the present invention, if necessary.

本発明に用いる平版印刷版用原版における上記成分の好
ましい配合比として1)重合性化合物100重量部に対
して、重合開始剤が好ましくは0.1重量部〜30重量
脈 より好ましくは0.5重量部〜20重量部である。
The preferred blending ratio of the above components in the lithographic printing plate precursor used in the present invention is: 1) The polymerization initiator is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 100 parts by weight of the polymerizable compound. Parts by weight to 20 parts by weight.

以上説明してきた材料及び製造方法により、本発明の平
版印刷版を完成することができるカー 予め平版印刷版
用原版の重合層中に光透過制御を行い得る材料を含有さ
せ、直接レーザー等により書き込むことによって平版印
刷版を得ることもできる。このような光透過制御を行い
得る材料として、湿式銀塩、乾式銀塩、高分子液晶など
がある力町乾式処理で簡便であること、及びその透過率
のコントラストが大きくとれることから、乾式銀塩を一
γ− 使用するのが好ましい。
The lithographic printing plate of the present invention can be completed using the materials and manufacturing method described above.A material capable of controlling light transmission is contained in the polymer layer of a lithographic printing plate precursor in advance, and is directly written with a laser or the like. A lithographic printing plate can also be obtained by this method. Wet silver salt, dry silver salt, polymer liquid crystal, etc. are materials that can perform such light transmission control.Dry silver salt is used because dry processing is simple and allows for a large contrast in transmittance. Preference is given to using mono-γ-salts.

即ち、このような平版印刷服代 支持体上に少なくとも
感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤、重合性化合物
及び光重合開始剤を含む感光層が積層されてなる平版印
刷版用原版を用い、該原版に対して、 (a)像露光する過程、 (b)該原版を加熱する過程、 (c)該原版に全面露光を施し、前記重合性化合物を重
合させ、重合部と未重合部とからなる重合潜像を形成す
る過程、 (d)該未重合部を粗面化する過程、 (e)該粗面化された未重合部を重合させる過程、とを
含むことを特徴とする方法により製造される。
That is, a lithographic printing plate precursor comprising such a support is laminated with a photosensitive layer containing at least a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator. (a) imagewise exposing the original plate, (b) heating the original plate, (c) exposing the entire surface of the original plate to polymerize the polymerizable compound, and separate the polymerized parts and unpolymerized parts. (d) roughening the unpolymerized portion; and (e) polymerizing the roughened unpolymerized portion. Manufactured by a method.

以下、上記平版印刷版の製造方法の態様を、図面を用い
て詳細に説明する。
Hereinafter, aspects of the method for manufacturing the lithographic printing plate will be described in detail with reference to the drawings.

上記(a)の過程哄 光による画像書き込みを行う過程
であり、第3図(a)に示すように、支持体1の上に形
成された少なくとも感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還
元寿L 重合性化合物及び光重合開始−銘一 剤を含む感光層9に画像露光やデジタル露光によって所
望の画像を露光する。この結果 露光部9−a内の感光
性ハロゲン化銀上に、銀核10が生成しこれが潜像を形
成する。尚、生成した銀核10は感光層9に含まれてい
る有機銀塩と還元剤との熱反応の触媒となる。
The process of (a) above is a process of writing an image using light, and as shown in FIG. 3(a), at least the photosensitive silver halide, organic silver salt, and L A desired image is exposed on the photosensitive layer 9 containing a polymerizable compound and a photopolymerization initiator by image exposure or digital exposure. As a result, silver nuclei 10 are generated on the photosensitive silver halide in the exposed area 9-a, forming a latent image. The generated silver nuclei 10 serve as a catalyst for the thermal reaction between the organic silver salt contained in the photosensitive layer 9 and the reducing agent.

この潜像書き込みにおける露光の条件には、得られる重
合潜像に、十分なコントラスト等の所望の特性を得るこ
とのできる条件を感光体中に含有させたハロゲン化銀の
濃度に応じて適宜選択して用いればよい。この過程にお
いて感光性ハロゲン化銀を使用するので、高感度な書き
込みが可能となる。
The exposure conditions for writing this latent image are appropriately selected depending on the concentration of silver halide contained in the photoreceptor, so that desired characteristics such as sufficient contrast can be obtained in the resulting polymerized latent image. You can use it as Since photosensitive silver halide is used in this process, highly sensitive writing is possible.

また第3図(a)において、感光層上に哄 必要に応じ
て前記同様に酸素バリヤー層4を積層しても良く、ここ
で代 この層は酸素バリヤー層としての役割の他、還元
剤等の昇華防止などの役目も兼ねている。
In addition, in FIG. 3(a), if necessary, an oxygen barrier layer 4 may be laminated on the photosensitive layer in the same manner as described above. It also has the role of preventing sublimation.

次に上記過程(b)において、潜像が形成された感光層
9を加熱すると、第3図(b)に示すように、露光部9
−aにおいて選択的に銀核10が触媒として作用し、有
機銀塩と還元剤とが反応し 有機銀塩は銀原子11に還
元されると同時に還元剤は酸化体12どなる。
Next, in the above step (b), when the photosensitive layer 9 on which the latent image is formed is heated, the exposed portion 9 is heated as shown in FIG. 3(b).
In -a, the silver nucleus 10 selectively acts as a catalyst, and the organic silver salt and the reducing agent react, and the organic silver salt is reduced to silver atoms 11, and at the same time, the reducing agent becomes an oxidant 12.

この(b)の過程における加熱は、感光層の組成等に応
じて一概には言えない力\ 60℃から200℃、より
好ましくは70℃から150℃にて、 1秒から5分、
より好ましくは3秒から60秒間加熱処理をすれば良い
。一般的に高温では短時間です本 低温では長時間の加
熱が必要となる。加熱手段としては、ホットプレート、
ヒートロール、サーマルヘッドなどを使用する方法の他
、支持体の発熱素子上に通電して加熱する方法や、レー
ザー光照射による加熱方法などが利用できる。
The heating in the step (b) is performed at a temperature of 60°C to 200°C, preferably 70°C to 150°C, for 1 second to 5 minutes, depending on the composition of the photosensitive layer, etc.
More preferably, the heat treatment may be performed for 3 seconds to 60 seconds. In general, high temperatures require short heating times; low temperatures require long heating times. As a heating means, a hot plate,
In addition to the method of using a heat roll, a thermal head, etc., a method of heating by supplying electricity to a heating element of the support, a method of heating by laser light irradiation, etc. can be used.

続いて、第3図(C)に示すようく 上記(c)の過程
で感光層9側から全面露光し、感光層9中に含まれる光
重合開始剤を解裂させ、ラジカル種を発生させる。この
ラジカル種により、重合性化合物の重合反応が起こり、
感光層9中に重合部が形成される。その際、感光層9に
おいては黒色の銀原子11及び/または還元剤の酸化体
12が光を吸収し、それによって光の透過量が異なるの
で、露光部9−aと未露光部9−bとで重合物の形成状
態に差が生じ、その差によって重合潜像が形成される。
Subsequently, as shown in FIG. 3(C), in the process of (c) above, the entire surface of the photosensitive layer 9 is exposed to light to cleave the photopolymerization initiator contained in the photosensitive layer 9 and generate radical species. . This radical species causes a polymerization reaction of the polymerizable compound,
A polymerized portion is formed in the photosensitive layer 9. At this time, in the photosensitive layer 9, the black silver atoms 11 and/or the oxidized product 12 of the reducing agent absorb light, and the amount of light transmitted differs accordingly, so that the exposed area 9-a and the unexposed area 9-b A difference occurs in the state of formation of the polymer, and a polymerized latent image is formed due to the difference.

ここでの還元剤は、上述のように生成する酸化体が全面
露光の光を吸収して重合性化合物の重合を禁止する能力
を有するものである力C1ラジカルをクエンチする酸化
体を生成する還元剤を用いた場合、(b)の過程で生成
する酸化体によりラジカルがクエンチされて重合が禁止
さ札 露光部9−aでは重合物が形成されず、未露光部
9−bでは重合物が形成さ汰 酸化体の量に応じて重合
物の形成状態に差のある重合潜像が形成されることにな
る。このように、重合禁止能の異なる酸化体を生成する
還元剤については後で述べる。
The reducing agent used here is a reducing agent that generates an oxidant that quenches the C1 radical, which has the ability to absorb the light of full-surface exposure and inhibit the polymerization of the polymerizable compound as described above. When a chemical agent is used, the radicals are quenched by the oxidant generated in the process (b) and polymerization is inhibited. No polymer is formed in the exposed area 9-a, and no polymer is formed in the unexposed area 9-b. Formation A polymerization latent image is formed, which differs in the formation state of the polymer depending on the amount of oxidant. Reducing agents that produce oxidants having different polymerization inhibiting abilities will be described later.

上記過程(a)及び(C)において用いられる光源とし
ては、例えJf、  太陽光 タングステンランプ、水
銀灯、ハロゲンランプ、キセノンランプ、蛍光灯、L 
E D、  レーザー光線などが使え、直書きあるいは
前述同様マスクを介した露光を行うことができ、これら
の過程で用いる光の波長は同じであっても異なっていて
も良い。尚、過程(a)及び(C)において、同一波長
の光を用いても、通常ハロゲン化銀は光重合開始剤より
も十分に高い感光感度を有するので、上記過程(a)に
おいて光重合が起きない程度の強度の光で十分な潜像書
き込みが行える。各光源の発色分布に応じて増感色素を
感光層形成時に加えておけばより効果的である。
The light sources used in the above steps (a) and (C) include, for example, Jf, sunlight, tungsten lamp, mercury lamp, halogen lamp, xenon lamp, fluorescent lamp, L
ED, laser beam, etc. can be used, and direct writing or exposure through a mask as described above can be performed, and the wavelengths of light used in these processes may be the same or different. In addition, even if light of the same wavelength is used in steps (a) and (C), silver halide usually has a sufficiently higher photosensitivity than the photopolymerization initiator, so photopolymerization does not occur in step (a) above. Sufficient latent image writing can be performed with light of an intensity that does not cause this. It is more effective if a sensitizing dye is added at the time of forming the photosensitive layer according to the color distribution of each light source.

また、上記(c)の過程で露光時に平版印刷版用原版を
加熱する手段を用いても良い。これは重合を促進するた
めのもので、新たに加熱しても、上記(b)の過程での
余熱を利用しても良いが、感光層中の有機銀塩と還元剤
の酸化還元反応が起こらない条件で加熱する必要があり
、有機銀塩と還元剤との組合せによっても条件は異なる
力f1  加熱温度としてはおよそ120℃以下、好ま
しくは90℃以下、更に好ましくは60℃以下である。
Further, in the step (c) above, a means for heating the lithographic printing plate precursor during exposure may be used. This is to promote polymerization, and it may be heated again or the residual heat from the process (b) above may be used, but the oxidation-reduction reaction between the organic silver salt and the reducing agent in the photosensitive layer is It is necessary to heat under conditions where this does not occur, and the conditions vary depending on the combination of the organic silver salt and the reducing agent.The heating temperature is about 120°C or lower, preferably 90°C or lower, and more preferably 60°C or lower.

次いで、第3図(d)に示すように、酸素バリヤー層4
を剥離した後、重合部91、未重合部9−bからなる平
版印刷版用原版3に微細な凹凸が形成された粗面形成媒
体6を押圧し 重合部9−aと未重合部9−bの硬度の
差を利用して、粗面形成媒体6の微細な凹凸を第3図(
e)に示すように転写形成する。その後、前述同様に全
面露光することにより支持体上の感光層全体を重合性化
合物の重合物とし、平版印刷版が得られる(第3図(f
))。
Next, as shown in FIG. 3(d), an oxygen barrier layer 4 is formed.
After peeling off, the rough surface forming medium 6 in which fine irregularities are formed is pressed against the lithographic printing plate precursor 3 consisting of the polymerized part 91 and the unpolymerized part 9-b. Using the difference in hardness of b, the fine irregularities of the rough surface forming medium 6 are formed as shown in Fig. 3 (
Transfer formation is performed as shown in e). Thereafter, by exposing the entire surface to light in the same manner as described above, the entire photosensitive layer on the support is made into a polymer of the polymerizable compound, and a lithographic printing plate is obtained (Fig. 3 (f)
)).

以上説明してきた本発明の平版印刷版の製造方法におい
て、平版印刷版用原版としては、少なくとも感光性ハロ
ゲン化銀、有機銀塩、還元剤、重合性化合物及び光重合
開始剤を有する感光層−層からなるものを使用したハ 
これに限るものではなく、例えζf1  支持体上に少
なくとも重合性化合物、光重合開始剤を有する重合層、
更に少なくとも感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
を有する乾式銀塩層が積層されてなる二層構成の平版印
刷版用原版、また別々の支持体上に乾式銀塩層と重合層
をそれぞれ形成し、それらをラミネートした二層構成の
平版印刷版用原版を用いることも可能である。これらの
場合、上記製造過程(C)と(d)の間に、像露光され
た乾式銀塩層と、重合潜像の形成された重合層とを剥離
する過程が必要となるカー その他の過程については全
く上記の方法と同一である。
In the method for producing a lithographic printing plate of the present invention as described above, the lithographic printing plate precursor includes a photosensitive layer containing at least a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator. A material that uses layers
Examples include, but are not limited to, a polymeric layer having at least a polymerizable compound and a photopolymerization initiator on a ζf1 support,
Furthermore, a planographic printing plate precursor having a two-layer structure in which a dry silver salt layer containing at least a photosensitive silver halide, an organic silver salt, and a reducing agent is laminated, and a dry silver salt layer and a polymerization layer are formed on separate supports. It is also possible to use a planographic printing plate precursor having a two-layer structure in which each layer is formed and then laminated. In these cases, between the above manufacturing steps (C) and (d), a process of peeling off the imagewise exposed dry silver salt layer and the polymerized layer on which the polymerized latent image has been formed is required. The method is exactly the same as above.

ここで、乾式銀塩層と重合層を剥離し易くするために、
乾式銀塩層と重合層との間にポリエチレンフィルム、ポ
リビニルアルコール等からなる中間層を設けることが好
ましい。
Here, in order to make it easier to peel off the dry silver salt layer and the polymerized layer,
It is preferable to provide an intermediate layer made of polyethylene film, polyvinyl alcohol, etc. between the dry silver salt layer and the polymerized layer.

次に、上記方法に用いられる平版印刷版用原版に含まれ
る材料について説明する。
Next, materials contained in the lithographic printing plate precursor used in the above method will be explained.

重合性化合物及び粉本 更にバインダー 添加剤等は前
述の製造方法と同様であり、光重合開始剤としては、前
述の光重合開始剤が相当する。
The polymerizable compound, powder, binder, additives, etc. are the same as those in the above-mentioned manufacturing method, and the photopolymerization initiator corresponds to the above-mentioned photopolymerization initiator.

上記方法の平版印刷版用原版に含まれる感光性ハロゲン
化銀としては、塩化銀、臭化銀、塩臭化銀、沃臭化銀、
塩沃臭化銀などを挙げることができ、これらは通常の写
真乳剤に対して行なわれるような化学増藤 光学増感処
理が施されていてもよい。
The photosensitive silver halide contained in the lithographic printing plate precursor used in the above method includes silver chloride, silver bromide, silver chlorobromide, silver iodobromide,
Examples include silver chloroiodobromide, which may be subjected to chemical sensitization or optical sensitization treatment as is applied to ordinary photographic emulsions.

また、粒子内のハロゲン組成が均一あるいは異なった多
重構造を採っていても良い。ハロゲン組成、粒子サイズ
、粒子サイズ分布などが異なった二種以上のハロゲン化
銀を併用しても良い。
Furthermore, the halogen composition within the particles may be uniform or may have a different multilayer structure. Two or more types of silver halides having different halogen compositions, grain sizes, grain size distributions, etc. may be used in combination.

有機銀塩としては、例え1戴  脂肪族カルボン酸、芳
香族カルボン酸、メルカプト基もしくはa−水素を有す
るチオカルボニル基化合物、およびイミノ基含有化合物
などとの銀塩である。
Examples of organic silver salts include silver salts with aliphatic carboxylic acids, aromatic carboxylic acids, thiocarbonyl group compounds having a mercapto group or a-hydrogen, and imino group-containing compounds.

脂肪族カルボン酸として代 酢酸、酪酸、コハク酸、セ
バシン酸、アジピン酸、オレイン酸、リノール酸、リル
ン酸、酒石酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸
、樟脳酸などがあるカー一般的に炭素数が少ないはど銀
塩としては不安定であるので適度な炭素数(例え番f1
  炭素数16〜26の範囲のもの)を有するものが好
ましい。
Aliphatic carboxylic acids such as acetic acid, butyric acid, succinic acid, sebacic acid, adipic acid, oleic acid, linoleic acid, linoleic acid, linoleic acid, tartaric acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, camphoric acid etc. If there is a small number of carbon atoms, the silver salt is unstable, so an appropriate number of carbon atoms (for example, f1
Those having a carbon number of 16 to 26 are preferred.

芳香族カルボン酸として憾 安息香酸誘導本キノリン酸
誘導体、ナフタレンカルボン酸誘導本サリチル酸誘導体
、没食子酸、タンニン酸、フタル酸、フェニル酢酸誘導
倣 ピロメリット酸等がある。
Examples of aromatic carboxylic acids include quinolinic acid derivatives derived from benzoic acid, salicylic acid derivatives derived from naphthalenecarboxylic acid, gallic acid, tannic acid, phthalic acid, and pyromellitic acid derived from phenylacetic acid.

メルカプト基又はa−水素を有するチオカルボニル基化
合物としては、3−メルカプト−4−フエニ4シ ル−1,2,4−)リアゾール、2−メルカプトベンゾ
イミダゾール、2−メルカプト−5−アミノチアジアゾ
ール、2−メルカプトベンゾチアゾール、S−アルキル
チオグリコール酸(アルキル基炭素数12〜23)、ジ
チオ酢酸などジチオカルボン酸類、チオステアロアミド
などチオアミド類、5−カルボキシ−1−メチル−2−
フェニル−4−チオピリジン、メルカプトトリアジン、
2−メルカプトベンゾオキサゾール、メルカプトオキサ
ジアゾール又は3−アミノ−5−ベンジルチオ−1,2
,4−)リアゾールなど、米国特許第4、123.27
4号記載のメルカプト化合物が挙げられる。
Examples of mercapto group or a-hydrogen-containing thiocarbonyl group compounds include 3-mercapto-4-pheny4cyl-1,2,4-)riazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercapto-5-aminothiadiazole, 2-mercapto-5-aminothiadiazole, -Mercaptobenzothiazole, S-alkylthioglycolic acid (alkyl group having 12 to 23 carbon atoms), dithiocarboxylic acids such as dithioacetic acid, thioamides such as thiostearamide, 5-carboxy-1-methyl-2-
phenyl-4-thiopyridine, mercaptotriazine,
2-mercaptobenzoxazole, mercaptooxadiazole or 3-amino-5-benzylthio-1,2
, 4-) Riazole et al., U.S. Pat. No. 4,123.27
Examples include mercapto compounds described in No. 4.

イミノ基を含有する化合物としては、特公昭44−30
270号又は同45−18416号記載のベンゾトリア
ゾール若しくはその誘導体、例えばベンゾトリアゾール
、メチルベンゾトリアゾールなどアルキル置換ベンゾイ
ミダゾール凱 5−クロロベンゾトリアゾール等、ハロ
ゲン置換ベンゾトリアゾール類、ブチルカルボイミドベ
ンゾトリアゾールなどカルボイミドベンゾトリアゾール
類、特開昭58−4ト 118639号記載のニトロベンゾトリアゾール凱 特
開昭58−115638号記載のスルホベンゾトリアゾ
ール、カルボキシベンゾトリアゾールもしくはその塩 
またはヒドロキシベンゾトリアゾールなど、米国特許4
,220,709号記載の1.2.4−トリアゾールや
IH−テトラゾール、カルバゾール、サッカリン、イミ
ダゾール及びその誘導体などが代表例として挙げられる
As a compound containing an imino group, Japanese Patent Publication No. 44-30
Benzotriazole or its derivatives described in No. 270 or No. 45-18416, such as benzotriazole, alkyl-substituted benzimidazoles such as methylbenzotriazole, halogen-substituted benzotriazoles such as 5-chlorobenzotriazole, and carboimides such as butylcarboimide benzotriazole. Benzotriazoles, nitrobenzotriazole Kai described in JP-A-58-4-118639 Sulfobenzotriazole, carboxybenzotriazole or salt thereof described in JP-A-58-115638
or hydroxybenzotriazole, etc., U.S. Pat.
Typical examples include 1,2,4-triazole, IH-tetrazole, carbazole, saccharin, imidazole, and derivatives thereof, which are described in No. 220,709.

還元剤としては、モノフェノール類、ビスフェノール類
、 トリスフェノール類、テトラキスフェノール類、モ
ノナフトール類、ビスナフトール類、ジヒドロキシナフ
タレン類、 トリヒドロキシナフタレン類、ジヒドロキ
シベンゼン類、 トリヒドロキシベンゼン類、テトラヒ
ドロキシベンゼン類、ヒドロキシアルキルモノエーテル
凱 アルコルビン酸類、3−ピラゾリドン類、 ピラゾ
リン類、 ピラゾロン類、還元性糖類、フェニレンジア
ミン類、ヒドロキシアミン類、レダクトン類、ヒドロオ
キサミン酸類、 ヒドラゾン類、アミドオキシム類、N
−ヒドロキシ尿素類を挙げることができ、これらの化合
物の具体例は、特開昭51−22431号、米国特許第
3.615.533号、同第3.679.426号、同
第3.672゜904号、同第3.751.252号、
同第3.751.255号、同第3.782.949号
、同第3,801,321号、同第3.794゜488
号、同第3.893.863号、同第3.887.37
6号、ベルギー特許第786.086号、米国特許第3
.770.448号、同第3.819.382号、同第
3.773.512号、同第3.928゜686号、同
第3.839.048号、同第3.887.378号、
特公昭51−35851号、特開昭50−36143号
、米国特許第3、827.889号、同第3.756.
829号、特開昭50−36110号、特開昭50−1
16023号、特開昭50−147711号、特開昭5
1−23721号、特開昭50−99719号、特開昭
51−32324号、特開昭51−51933号、特開
昭50−140113号、特開昭52−84727号、
米国特許第3,589,503号各明細書に記載されて
いる。
Reducing agents include monophenols, bisphenols, trisphenols, tetrakisphenols, mononaphthols, bisnaphthols, dihydroxynaphthalenes, trihydroxynaphthalenes, dihydroxybenzenes, trihydroxybenzenes, and tetrahydroxybenzenes. , hydroxyalkyl monoethers, alkorbic acids, 3-pyrazolidones, pyrazolines, pyrazolones, reducing sugars, phenylenediamines, hydroxyamines, reductones, hydrooxamic acids, hydrazones, amidoximes, N
Specific examples of these compounds include JP-A-51-22431, U.S. Pat. No. 3.615.533, U.S. Pat. No. 904, No. 3.751.252,
Same No. 3.751.255, Same No. 3.782.949, Same No. 3,801,321, Same No. 3.794゜488
No. 3.893.863, No. 3.887.37
No. 6, Belgian Patent No. 786.086, U.S. Patent No. 3
.. 770.448, 3.819.382, 3.773.512, 3.928°686, 3.839.048, 3.887.378,
Japanese Patent Publication No. 51-35851, Japanese Patent Publication No. 50-36143, U.S. Pat. No. 3,827.889, U.S. Pat. No. 3,756.
No. 829, JP-A-50-36110, JP-A-50-1
No. 16023, JP-A-50-147711, JP-A-5
1-23721, JP 50-99719, JP 51-32324, JP 51-51933, JP 50-140113, JP 52-84727,
It is described in US Pat. No. 3,589,503.

ここで、露光部と未露光部との光の吸収量(透過量)の
コントラストを大きくするためには、モル吸光係数の大
きな酸化体が好ましく、このような酸化体を形成する還
元剤として、芳香族ヒドロキシ化合物類が望ましい。以
下にこの芳香族ヒドロキシ化合物類について詳細に説明
する。
Here, in order to increase the contrast in the amount of light absorbed (transmitted) between the exposed area and the unexposed area, an oxidant with a large molar extinction coefficient is preferable, and as a reducing agent to form such an oxidant, Aromatic hydroxy compounds are preferred. The aromatic hydroxy compounds will be explained in detail below.

下記一般式(I)、 (n)、 (m)、 (rv)及
び(V)で表される化合物は、有機銀塩との酸化還元反
応により生成した還元剤の酸化体力ぐ、ラジカルをクエ
ンチすることにより重合禁止能を発現するものである。
The compounds represented by the following general formulas (I), (n), (m), (rv) and (V) quench radicals by oxidizing the reducing agent generated by the redox reaction with the organic silver salt. By doing so, it exhibits the ability to inhibit polymerization.

〔但し、上記一般式(r)〜(m)中、R1,R2゜R
3、Rs 、 R6は各々独立して、水素原子、ハロゲ
ン原子、ヒドロキシル基 置換または未置換のアルキル
基 置換または未置換のアラルキル庖 置換または未置
換のアリール基 アルコキシル基置換または未置換のシ
クロアルキル基を表わし、R4は水素原子、ハロゲン原
子、置換または未置換のアルキル基 置換または未置換
のアラルキル豚置換または未置換のアリール基 置換ま
たは未置換のシクロアルキル基 カルボキシル幕 カル
ボン酸エステル基を表わし、Aは酸素原子または硫黄原
子を表わし、Rは水素原子、未置換アルキル基 置換ま
たは未置換のアラルキル基を表わし、2は2価の連結基
であってアルキリデン基 置換または未置換のアラルキ
リデン基または硫黄原子を表わし、nはOまたは1を表
わす。〕前記一般式(1)〜(m)で表わされる還元剤
における置換基R1〜R6について説明する。
[However, in the above general formulas (r) to (m), R1, R2゜R
3.Rs and R6 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, an alkoxyl group-substituted or unsubstituted cycloalkyl group , R4 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a carboxyl group, a carboxylic acid ester group, and A represents an oxygen atom or a sulfur atom, R represents a hydrogen atom, an unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, and 2 represents a divalent linking group, which is an alkylidene group, a substituted or unsubstituted aralkylidene group, or a sulfur atom. , and n represents O or 1. ] The substituents R1 to R6 in the reducing agents represented by the general formulas (1) to (m) will be explained.

ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原
子、ヨウ素原子などが挙げられる。
Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換または未置換のアルキル基としては、炭素数1から
18までの直鎖または分岐のアルキル基で、好ましくは
、例えば、メチル、エチル、プロピル、l−プロピル、
 ブチル、七−ブチル、 アミル、i−アミル、ヘキシ
ル、テキシル、ヘプチル、オクチル、−昏 ノニル、 ドデシル、ステアリル、メトキシエチル、エ
トキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、プ
ロポキシブチル、i−プロポキシブチル、t−ブトキシ
エチル、ヘキシルオキシブチル、ヒドロキシメチル、ヒ
ドロキシエチル、ヒドロキシプロピル、ヒドロキシブチ
ル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシヘキシル、ヒドロ
キシヘプチル、アミノメチル、ジメチルアミノメチル、
アミノエチル、ジメチルアミノエチル、モルホリノエチ
ル、ピペリジノエチル、アミノプロピル、ジエチルアミ
ノプロピル、ジプロピルアミノエチル、アミノブチル、
モルホリノブチル等である。
The substituted or unsubstituted alkyl group is a linear or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, preferably, for example, methyl, ethyl, propyl, l-propyl,
Butyl, 7-butyl, amyl, i-amyl, hexyl, thexyl, heptyl, octyl, -nonyl, dodecyl, stearyl, methoxyethyl, ethoxyethyl, ethoxypropyl, ethoxybutyl, propoxybutyl, i-propoxybutyl, t- Butoxyethyl, hexyloxybutyl, hydroxymethyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, hydroxybutyl, hydroxypentyl, hydroxyhexyl, hydroxyheptyl, aminomethyl, dimethylaminomethyl,
Aminoethyl, dimethylaminoethyl, morpholinoethyl, piperidinoethyl, aminopropyl, diethylaminopropyl, dipropylaminoethyl, aminobutyl,
Morpholinbutyl and the like.

置換または未置換のアラルキル基としては、炭素数7か
ら19のもので、好ましくは例え代 ベンジル、フェネ
チル、ベンズヒドリル、 トリチル、フェニルプロピル
、ナフチルメチル、クロロベンジル、ジクロロベンジル
、メトキシベンジル、メチルベンジル等である。
The substituted or unsubstituted aralkyl group has 7 to 19 carbon atoms, preferably benzyl, phenethyl, benzhydryl, trityl, phenylpropyl, naphthylmethyl, chlorobenzyl, dichlorobenzyl, methoxybenzyl, methylbenzyl, etc. be.

置換または未置換のアリール基としては、炭素数6から
16のもので、例えは フェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、 トリル、キシリル、クメニル、
メシチル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオ
ロフェニル等である。
Substituted or unsubstituted aryl groups have 6 to 16 carbon atoms, such as phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, tolyl, xylyl, cumenyl,
Mesityl, chlorophenyl, methoxyphenyl, fluorophenyl, etc.

アルコキシル基としては、炭素数1から18のもので、
好ましくは、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、i−プ
ロポキシ、ブトキシ基等である。
The alkoxyl group has 1 to 18 carbon atoms,
Preferred are methoxy, ethoxy, propoxy, i-propoxy, butoxy groups and the like.

置換または未置換のシクロアルキル基としては、炭素数
5から18のもので、好ましくは、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、メチ
ルシクロヘキシル、ジメチルシクロヘキシル、エチルシ
クロヘキシル基等である。
The substituted or unsubstituted cycloalkyl group has 5 to 18 carbon atoms, preferably cyclopentyl, cyclohexyl, cycloheptyl, cyclooctyl, methylcyclohexyl, dimethylcyclohexyl, ethylcyclohexyl and the like.

カルボン酸エステル基としては、炭素数2から10のも
ので、好ましくは、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル基等である。
The carboxylic acid ester group has 2 to 10 carbon atoms, preferably methoxycarbonyl, ethoxycarbonyl, propoxycarbonyl and the like.

アルキリデン基としては、炭素数1から8のもので、好
ましくは、メチレン、エチリデン、ブチリデン、ヘキシ
リデン基等である。
The alkylidene group has 1 to 8 carbon atoms, and is preferably a methylene, ethylidene, butylidene, hexylidene group, or the like.

アラルキリデン基としては、炭素数7から18のもので
、好ましくは、ベンジリデン、ナフチルメチレン、p−
ジメチルアミノフェニルメチレン、p−ヒドロキシフェ
ニルメチレン、p−トリルメチレン基等である。
The aralkylidene group has 7 to 18 carbon atoms, preferably benzylidene, naphthylmethylene, p-
These include dimethylaminophenylmethylene, p-hydroxyphenylmethylene, p-tolylmethylene, and the like.

以下に、前記−紋穴(+)〜(m)で表わされる還元剤
のうち、特に好ましいものの具体例を挙げるカー 本発
明に用いる還元剤はこれらに限定されるものではない。
Specific examples of particularly preferred reducing agents among the reducing agents represented by the above-mentioned -Momonana (+) to (m) are listed below.The reducing agent used in the present invention is not limited to these.

一般式(I)で表わされる還元剤の具体例として憾 例
えlf、1.4−ジヒドロキシナフタレン、4−メトキ
シ−1−ナフトール、4−エトキシ−1−ナフトール、
5−メチル−4−メトキシ−1−ナフトール、1.5−
ジヒドロキシナフタレン、4−クロロ−1−ナフトール
、5−クロロ−1−ナフトール、4−メチルチオ−1−
ナフトール、4−エチルチオ−1−ナフトール、6−フ
ェニル−4−メチル−1−ナフトール、6−フェニル−
4−メトキシ−1−ナフトール、6−ベンジル−1−ナ
フトール、6−ベンジル−4−メトキシ−1−ナフトー
ル、4−メチル−1,7−ジヒドロキシナフタレン、4
−メトキシ−6−ベンジル−1−ナフトール、4−メト
キシ−6−シクロヘキシル− シルー1−ナフトール、4−メチルチオ−6−シクロヘ
キジルー1−ナフトール、3.4−ジメチル−1−ナフ
トール、4−ベンジロキシ−1−ナフトール等が挙げら
れる。
Specific examples of the reducing agent represented by general formula (I) include lf, 1,4-dihydroxynaphthalene, 4-methoxy-1-naphthol, 4-ethoxy-1-naphthol,
5-Methyl-4-methoxy-1-naphthol, 1.5-
Dihydroxynaphthalene, 4-chloro-1-naphthol, 5-chloro-1-naphthol, 4-methylthio-1-
Naphthol, 4-ethylthio-1-naphthol, 6-phenyl-4-methyl-1-naphthol, 6-phenyl-
4-methoxy-1-naphthol, 6-benzyl-1-naphthol, 6-benzyl-4-methoxy-1-naphthol, 4-methyl-1,7-dihydroxynaphthalene, 4
-Methoxy-6-benzyl-1-naphthol, 4-methoxy-6-cyclohexyl- 1-naphthol, 4-methylthio-6-cyclohexyl-1-naphthol, 3.4-dimethyl-1-naphthol, 4-benzyloxy- Examples include 1-naphthol.

−紋穴(n)で表わされる還元剤の具体例としては、例
えIf、  8−ヒドロキシキノリン、4.8−ジヒド
ロキシキノリン−2−カルボン酸、4−ヒドロキシキノ
リン−2−カルボン酸、4−メチル−8−ヒドロキシキ
ノリン、4−ベンジル−8−ヒドロキシキノリン、4.
8−ジヒドロキシ−5−メチルキノリン等が挙げられる
- Specific examples of the reducing agent represented by Monka (n) include If, 8-hydroxyquinoline, 4,8-dihydroxyquinoline-2-carboxylic acid, 4-hydroxyquinoline-2-carboxylic acid, 4-methyl -8-hydroxyquinoline, 4-benzyl-8-hydroxyquinoline, 4.
Examples include 8-dihydroxy-5-methylquinoline.

一般式(m)で表わされる還元剤の具体例としては、例
えIf、  2.2’−メチレンビス(6−t−ブチル
−1,4−ジヒドロキシベンゼン)、2.2’−メチレ
ンビス(4−メトキシフェノール)、2.2“−メチレ
ンビス(4,6−ジー七−ブチルフェノールンビス(4
−メチル−6−t−ブチルフェノール)2、2゛−ブチ
リデンビス(4−メトキシフェノール)、“ 111 2、2°−ブチリデンビス(6−七−ブチル−1.4−
ジヒドロキシベンゼン)、2.2’−チオビス(4−メ
トキシフェノール)、2,2゛−チオビス(6−メチル
−1.4−ジヒドロキシ ロキシベンゼン)、2.2°−チオビス(4.6−ジー
t−ブチルフェノール)、ビス(2−ヒドロキシ−5−
メチフレフェニル)フェニルメタン、(3−七−ブチフ
レー5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)(5−メト
キシ−2−ヒドロキシフェニル)メタン等が挙げられる
Specific examples of the reducing agent represented by the general formula (m) include If, 2.2'-methylenebis(6-t-butyl-1,4-dihydroxybenzene), 2.2'-methylenebis(4-methoxybenzene), phenol), 2.2"-methylenebis(4,6-di-7-butylphenolbis(4
-methyl-6-t-butylphenol) 2,2゛-butylidenebis(4-methoxyphenol), " 111 2,2°-butylidenebis(6-7-butyl-1,4-
dihydroxybenzene), 2,2'-thiobis(4-methoxyphenol), 2,2'-thiobis(6-methyl-1,4-dihydroxybenzene), 2,2'-thiobis(4,6-di-t) -butylphenol), bis(2-hydroxy-5-
Methifrephenyl) phenylmethane, (3-7-butiflephenyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) (5-methoxy-2-hydroxyphenyl)methane, and the like.

〔但し 上記−紋穴(■)、 (V)中Rは水素原子、
置換または未置換アルキル基 置換または未置換アラル
キル基を表し、R?,R11は各々独立して、水素原子
、ハロゲン原子、置換または未置換のアルキル基 置換
または未置換のアリール五 置換または未置換のアラル
キル基を表し、R9は水素原子、ヒドロキシル基 置換
または未置換のアルキル基を表す。nは0または1であ
る。〕一般般式■)で表される還元剤の具体例としては
、例えく 1−メトキシ−5−ヒドロキシアントラセン
、1−エトキシ−5−ヒドロキシアントラセン、1−メ
トキシ−4−メチル−5−ヒドロキシアントラセン、1
−メトキシ−4.8−ジメチル−5−ヒドロキシアント
ラセン等が挙げられる。
[However, R in the above - Monana (■), (V) is a hydrogen atom,
Substituted or unsubstituted alkyl group Represents a substituted or unsubstituted aralkyl group, R? , R11 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, and R9 represents a hydrogen atom, a hydroxyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, Represents an alkyl group. n is 0 or 1. ] Specific examples of the reducing agent represented by general formula (1) include 1-methoxy-5-hydroxyanthracene, 1-ethoxy-5-hydroxyanthracene, 1-methoxy-4-methyl-5-hydroxyanthracene. ,1
-methoxy-4,8-dimethyl-5-hydroxyanthracene and the like.

一般式(V)で表される還元剤の具体例として鷹 例え
I戴 4,4゛−ジメトキシ−2,2°−ビナフトール
、4、4゛−ジェトキシ−2,2°−ビナフトール、4
,4°−ジメチル−2,2゛−ビナフトール、4,4°
−ジエチル−2,2°−ビナフトール等が挙げられる 次に、下記−紋穴(vr)及び(■)で表される還元剤
は、有機銀塩との酸化還元反応により生成した酸化体が
光重合開始剤の吸収波長域の光を吸収することにより重
合を禁止する能力を発現する還元剤である。
Specific examples of the reducing agent represented by general formula (V) include: 4,4゛-dimethoxy-2,2°-binaphthol, 4,4゛-jethoxy-2,2°-binaphthol, 4
, 4°-dimethyl-2,2′-binaphthol, 4,4°
- Diethyl-2,2°-binaphthol, etc.Next, the reducing agents represented by the following -Momonena (vr) and (■) are the oxidants produced by the redox reaction with organic silver salts, which are photoresist. It is a reducing agent that exhibits the ability to inhibit polymerization by absorbing light in the absorption wavelength range of the polymerization initiator.

〔但し、−紋穴(Vl)及び(■)東 1−1.+2お
よび+2’ +1  各々独立に、水素原子、ハロゲン
原子、置換または未置換のアルキル基 置換または未置
換のシクロアルキル基 置換または未置換のアラルキル
基を示し、rおよびroは各々独立に、水素原子、ハロ
ゲン原子、置換または未置換のアルキル基 置換または
未置換のアリール基 置換または未置換のアラルキル基
 アルコキシル基を示し、mは1〜3の整数、Yは1価
〜3価の連結基として、置換または未置換のアラルキル
基 置換アミノ基 アルキリデン基 置換または未置換
のアラルキリデン基 メチン基を示し、Zはアルキリデ
ン幕 置換または未置換のアラルキリデン基を示す。 
〕 一般式(Vl)及び(■)において、未置換アルキル基
は、炭素数1から18の直鎖又は分岐アルキル基などで
あり、例え(xl  メチル、エチル、プロピル、i−
プロピル、ブチル、七−ブチル、i−ブチル、アミル、
ピアミル、5ec−アミル、テキシル、ヘキシル、ヘプ
チル、オクチル、ノニル、 ドデシル、ステアリルなど
を挙げることができる。
[However, - Monana (Vl) and (■) Higashi 1-1. +2 and +2' +1 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted cycloalkyl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, r and ro each independently represent a hydrogen atom , a halogen atom, a substituted or unsubstituted alkyl group, a substituted or unsubstituted aryl group, a substituted or unsubstituted aralkyl group, an alkoxyl group, m is an integer of 1 to 3, and Y is a monovalent to trivalent linking group, Substituted or unsubstituted aralkyl group Substituted amino group Alkylidene group Substituted or unsubstituted aralkylidene group Methine group, Z represents alkylidene group Substituted or unsubstituted aralkylidene group.
] In the general formulas (Vl) and (■), the unsubstituted alkyl group is a straight chain or branched alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, such as (xl methyl, ethyl, propyl, i-
Propyl, butyl, 7-butyl, i-butyl, amyl,
Examples include piamyl, 5ec-amyl, thexyl, hexyl, heptyl, octyl, nonyl, dodecyl, stearyl, and the like.

置換アルキル基は、炭素数2から18のアルコキシアル
キル基 炭素数1から18のハロゲノアルキル基 炭素
数1から18のヒドロキシアルキル幕炭素数1から18
のアミノアルキル基などであり、例えば、アルコキシア
ルキル基としては、メトキシエチル、エトキシメチル、
エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキシブチル、
プロポキシメチル、プロポキシブチル、i−プロポキシ
ペンチル、t−ブトキシエチル、ヘキシロキシブチルな
どを挙げることができる。
The substituted alkyl group is an alkoxyalkyl group having 2 to 18 carbon atoms, a halogenoalkyl group having 1 to 18 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 1 to 18 carbon atoms, or a hydroxyalkyl group having 1 to 18 carbon atoms.
For example, alkoxyalkyl groups include methoxyethyl, ethoxymethyl,
Ethoxyethyl, ethoxypropyl, ethoxybutyl,
Examples include propoxymethyl, propoxybutyl, i-propoxypentyl, t-butoxyethyl, hexyloxybutyl, and the like.

ハロゲノアルキル基としては、例えば、クロロメチル、
クロロエチル、ブロモエチル、クロロプロピル、クロロ
ブチル、クロロヘキシル、クロロオクチルなどを挙げる
ことができる。
Examples of the halogenoalkyl group include chloromethyl,
Examples include chloroethyl, bromoethyl, chloropropyl, chlorobutyl, chlorohexyl, chlorooctyl, and the like.

ヒドロキシアルキル基としてiL  例え1戴  ヒト
ー絽− ロキシメチル、ヒドロキシエチル、ヒドロキシプロピル
、ヒドロキシブチル、ヒドロキシペンチル、ヒドロキシ
ヘキシル、ヒドロキシヘプチルなどを挙げることができ
る。
Examples of the hydroxyalkyl group include iL-roxymethyl, hydroxyethyl, hydroxypropyl, hydroxybutyl, hydroxypentyl, hydroxyhexyl, and hydroxyheptyl.

アミノアルキル基としては、例え番x1  アミノメチ
ル、アセチルアミノメチル、ジメチルアミノメチル、ア
ミノエチル、アセチルアミノエチル、ジメチルアミノエ
チル、ジエチルアミノエチル、モルホリノエチル、ピペ
リジノエチル、ジエチルアミノプロピル、ジプロピルア
ミノエチル、アセチルアミノプロピル、アミノブチル、
モルホリノブチル、などを挙げることができる。
Examples of aminoalkyl groups include: x1 aminomethyl, acetylaminomethyl, dimethylaminomethyl, aminoethyl, acetylaminoethyl, dimethylaminoethyl, diethylaminoethyl, morpholinoethyl, piperidinoethyl, diethylaminopropyl, dipropylaminoethyl, acetylaminopropyl , aminobutyl,
Examples include morpholinobutyl.

シクロアルキル基としては、例え番f1  シクロペン
チル、シクロヘキシル、シクロヘプチルである。
Examples of the cycloalkyl group include f1 cyclopentyl, cyclohexyl, and cycloheptyl.

アラルキル基としては、例え番f1  ベンジル、クロ
ロベンジル、フェネチルなどである。
Examples of the aralkyl group include benzyl, chlorobenzyl, and phenethyl.

アリール基としては、炭素数6から16のもので、好ま
しくは、例え(fl  フェニル、ナフチル、アントリ
ル、フェナントリル、 トリル、キシリル、クメニル、
メシチル、クロロフェニル、メトキシフェニル、フルオ
ロフェニル等である。
The aryl group has 6 to 16 carbon atoms, preferably eg (fl phenyl, naphthyl, anthryl, phenanthryl, tolyl, xylyl, cumenyl,
Mesityl, chlorophenyl, methoxyphenyl, fluorophenyl, etc.

アルコキシル基としては、炭素数1から18のもので、
好ましくは、メトキシ、エトキシ、 プロポキシ、l−
プロポキシ、ブトキシなどである。
The alkoxyl group has 1 to 18 carbon atoms,
Preferably methoxy, ethoxy, propoxy, l-
Propoxy, butoxy, etc.

以上のうち、R2、R2’として好ましい置換基は、塩
素原子、臭素原子、メチル、エチル、i−プロピル、t
−ブチル、5ec−アミル、テキシル、エトキシメチル
、エトキシエチル、クロロメチル、ヒドロキシメチル、
アミノメチル、ジメチル−アミノメチル、ベンジルであ
り、特に好ましい置換基は、塩素原子、七−ブチル、テ
キシルであるrlとして好ましい置換基は、塩素原子、
メチル、エチル、i−プロピル、L−ブチル、アミル、
テキシル、ヒドロキシル、クロロメチル、ヒドロキシメ
チル、ベンジル、シクロヘキシルであり、特に好ましい
置換基は、塩素原子、メチル、七−ブチル、テキシルで
ある。
Among the above, preferred substituents for R2 and R2' are chlorine atom, bromine atom, methyl, ethyl, i-propyl, t
-butyl, 5ec-amyl, thexyl, ethoxymethyl, ethoxyethyl, chloromethyl, hydroxymethyl,
Aminomethyl, dimethyl-aminomethyl, benzyl, and particularly preferred substituents are chlorine atom, 7-butyl, thexyl. Preferred substituents as rl are chlorine atom,
Methyl, ethyl, i-propyl, L-butyl, amyl,
These are thexyl, hydroxyl, chloromethyl, hydroxymethyl, benzyl, and cyclohexyl, and particularly preferred substituents are chlorine atom, methyl, 7-butyl, and thexyl.

1価の連結基の置換もしくは未置換のアラルキル基とし
ては、例え(fl  ベンジル、p−メトキシベンジル
、p−N、N−ジメチルアミノベンジル、p−ピロリジ
ノベンジル、p−メチルベンジル、p−ヒドロキシベン
ジル、p−クロロベンジル、3.5−シクロロー4−ヒ
ドロキシベンジル、3−メチル−5−t−ブチル−4−
ヒドロキシベンジル、01p−ジメチルベンジル、3.
5−ジメチル−4−ヒドロキシベンジル、2−ヒドロキ
シ−3−t−ブチル−5−メチルベンジル、ナフチルメ
チルなどを挙げることができる。
Examples of the substituted or unsubstituted aralkyl group of the monovalent linking group include (fl benzyl, p-methoxybenzyl, p-N,N-dimethylaminobenzyl, p-pyrrolidinobenzyl, p-methylbenzyl, p-hydroxy Benzyl, p-chlorobenzyl, 3,5-cyclo-4-hydroxybenzyl, 3-methyl-5-t-butyl-4-
Hydroxybenzyl, 01p-dimethylbenzyl, 3.
Examples include 5-dimethyl-4-hydroxybenzyl, 2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylbenzyl, and naphthylmethyl.

1価の連結基の置換アミノ基として哄 メチルアミノ、
ジメチルアミ人 ジエチルアミノ、アセチルアミノ、フ
ェニルアミノ、ジエチルアミノ、トリアジルアミノなど
を挙げることができる。
As a substituted amino group of a monovalent linking group, methylamino,
Dimethylamines Diethylamino, acetylamino, phenylamino, diethylamino, triadylamino and the like can be mentioned.

2価の連結基のアルキリデン基としては、例え眠 メチ
レス エチリデン、プロピリデン、ブチリデンなどを挙
げることができる。
Examples of the alkylidene group of the divalent linking group include methylethylidene, propylidene, butylidene, and the like.

2価の連結基のアラルキリデン基としては、例え6戴 
 ベンジリデン、p−メチルベンジリデン、p−ジメチ
ルアミノベンジリデンなどを挙げることができる。
As the aralkylidene group of the divalent linking group, for example,
Examples include benzylidene, p-methylbenzylidene, and p-dimethylaminobenzylidene.

一般式(v+)の中で好ましい還元剤としては、2.6
−ジーt−ブチル−4−(2−ヒドロキシ−3−t−ブ
チル−5−メチルベンジル ル−4−(3.5−ジクロロ−4−ヒドロキシベンジル
)フェノール、2−t−ブチル−4−(2−ヒドロキシ
−3.5−ジメチルベンジル)−5−メチルフェノール
、4.4’−メチレンビス(2−メチル−6−t−ブチ
ルフェノール)、4、4′−メチレンビス(2.6−ジ
ーt−ブチルフェノール)、4.4°−メチレンビス(
2−t−ブチル−5−メチルフェノール)、4,4°−
メチレンビス(2−七−ブチル−6−メチルフェノール
)、4,4°−エチリデンビス(2.6−ジーt−ブチ
ルフェノール)、4.4′=エチリデンビス(2−t−
ブチル−6−メチルフェノール)、4、4°−プロピリ
デンビス(2.6−ジーt−ブチルフェノール)、4,
4°−ブチリデンビス(2,6−ジー七−ブチルフェノ
ール) 、4.4’−ブチリデンビス(2−シクロヘキ
シル−6−メチルフェノール)、ビス(3.5−ジーL
ーブチルー4ーヒドロキシフェニル)フェニルメタン、
ビス(3.5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)  (4−メトキシフェニル)メタン、ビス(3.
5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)(4−
ジメチルアミノフェニル)メタン、トリス(3.5−ジ
−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)メタンである
A preferable reducing agent in general formula (v+) is 2.6
-di-t-butyl-4-(2-hydroxy-3-t-butyl-5-methylbenzyl-4-(3.5-dichloro-4-hydroxybenzyl)phenol, 2-t-butyl-4-( 2-hydroxy-3,5-dimethylbenzyl)-5-methylphenol, 4,4'-methylenebis(2-methyl-6-t-butylphenol), 4,4'-methylenebis(2,6-di-t-butylphenol) ), 4.4°-methylenebis(
2-t-butyl-5-methylphenol), 4,4°-
Methylenebis(2-7-butyl-6-methylphenol), 4,4°-ethylidenebis(2,6-di-t-butylphenol), 4.4'=ethylidenebis(2-t-
butyl-6-methylphenol), 4,4°-propylidenebis(2,6-di-t-butylphenol), 4,
4°-butylidene bis(2,6-di-7-butylphenol), 4.4'-butylidene bis(2-cyclohexyl-6-methylphenol), bis(3.5-di-L
-butyl-4-hydroxyphenyl)phenylmethane,
Bis(3.5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) (4-methoxyphenyl)methane, bis(3.5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) (4-methoxyphenyl)methane.
5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl) (4-
dimethylaminophenyl)methane and tris(3.5-di-t-butyl-4-hydroxyphenyl)methane.

一般式(■)の中で好ましい還元剤としては、例えif
,  4,4°−メチレンビス(2−メチル−1−ナフ
トール)、4.4’−メチレンビス(2−エチル−1−
ナフトール) 、4.4’−メチレンビス(2−t−ブ
チル−1−ナフトール)、4.4゛−メチレンビス(2
−t−ブチル−6−メチル−1−ナフトール)、4,4
°−エチリデンビス(2−メチル−1−ナフトール)、
4.4°−エチリデンビス(2−七−ブチル−1−ナフ
トール)、ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルナフチル
)フェニルメタン等である。
As a preferable reducing agent in the general formula (■), for example, if
, 4,4°-methylenebis(2-methyl-1-naphthol), 4,4'-methylenebis(2-ethyl-1-
naphthol), 4.4'-methylenebis(2-t-butyl-1-naphthol), 4.4'-methylenebis(2
-t-butyl-6-methyl-1-naphthol), 4,4
°-ethylidenebis(2-methyl-1-naphthol),
4.4°-ethylidene bis(2-7-butyl-1-naphthol), bis(4-hydroxy-3-methylnaphthyl) phenylmethane, and the like.

これら−紋穴(VT)及び(■)で表される還元剤は、
光重合開始剤を選択することによって、コントラストの
よい重合画像を形成することができる。
These reducing agents represented by Monna (VT) and (■) are:
By selecting a photopolymerization initiator, a polymerized image with good contrast can be formed.

例えば、還元剤として、4.4’−メチレンビス(2−
メチル−6−t−ブチルフェノール)、4.4°−メチ
レンビス(2.6−ジーL−ブチルフェノール)などを
使用した場合、380nm〜390nmに感度を有する
光重合開始剤、例え眠 2−クロロチオキサントン、2
−メチルチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサン
トン、2.4−ジエチルチオキサントン、2, 4. 
6− )リメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキ
サイド、ベンジルなどが好ましい。
For example, as a reducing agent, 4,4'-methylenebis(2-
When using methyl-6-t-butylphenol), 4.4°-methylenebis(2.6-di-L-butylphenol), etc., a photopolymerization initiator sensitive to 380 nm to 390 nm, such as 2-chlorothioxanthone, 2
-Methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2, 4.
6-) Limethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, benzyl and the like are preferred.

また還元剤として、4,4°−メチレンビス(2−メチ
ル−1−ナフトール)、4,4°−メチレンビス(2−
エチル−1−ナフトール)、4,4°−メチレンビス(
2−七一ブチルー1ーナフトール)などを使用した場合
は、400nm〜500nmに感度を有する光重合開始
剤、例えは2.4−シクロロチオキサントン、カンファ
ーキノン、3.3°−カルボニルビス(7−ジメチルア
ミノスチリル)などのクマリン類とトリス(トリクロロ
メチル)トリアジンとの組合せ、2−(p−ジメチルア
ミノスチリル)−4.5−ジフェニルチアゾールと3−
フェニル−5−イソオキサシロンとの組合せや、メロシ
アニン色素と3−フェニル−5−イソオキサシロンとの
組合せなどが好ましい。
In addition, as a reducing agent, 4,4°-methylenebis(2-methyl-1-naphthol), 4,4°-methylenebis(2-
ethyl-1-naphthol), 4,4°-methylenebis(
When using a photopolymerization initiator sensitive at 400 nm to 500 nm, such as 2,4-cyclothioxanthone, camphorquinone, 3.3°-carbonylbis(7- Combinations of coumarins such as dimethylaminostyryl) and tris(trichloromethyl)triazine, 2-(p-dimethylaminostyryl)-4.5-diphenylthiazole and 3-
A combination with phenyl-5-isoxacilone, a combination of a merocyanine dye and 3-phenyl-5-isoxacilone, etc. are preferred.

本発明において好適に用いられる平版印刷版用原版にお
ける上記成分の好ましい配合比は次の通りである。
The preferred blending ratio of the above components in the lithographic printing plate precursor suitably used in the present invention is as follows.

有機銀塩1モルに対して、感光性ハロゲン化銀を好まし
くは0.001モル〜2モル、より好ましくは0.05
モル〜0.4モル含有させるのが望ましい。また、有機
銀塩1モルに対して還元剤を好ましくは0.2モル〜3
モル、より好ましくは0.7モル〜1.3モル含有させ
るのが望ましい。重合性化合物は、有機銀塩100重量
部に対して10〜1000重量服 より好ましくは20
〜500重量部含有させるのが望ましい。光重合開始剤
は、重合性化合物100重量部に対して0.1〜30重
量服 より好ましくは0.5〜10重量部用いるのが望
ましい。
Preferably 0.001 to 2 mol of photosensitive silver halide, more preferably 0.05 mol to 1 mol of organic silver salt.
It is desirable to contain mol to 0.4 mol. In addition, the reducing agent is preferably 0.2 to 3 moles per mole of the organic silver salt.
It is desirable to contain it by mole, more preferably from 0.7 mole to 1.3 mole. The amount of the polymerizable compound is 10 to 1000 parts by weight, more preferably 20 parts by weight, per 100 parts by weight of the organic silver salt.
It is desirable to contain up to 500 parts by weight. It is desirable to use the photopolymerization initiator in an amount of 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight, per 100 parts by weight of the polymerizable compound.

この他にも必要に応じて光変色防止剤、固体潜弧 界面
活性剤、帯電防止剤などを上記平版印刷版用原版に添加
することもできる。更に、平版印刷版用原版の形孤 感
光層、あるいは感光層/重合層の2層分の厚みも前述と
同様である。
In addition, photochromic inhibitors, solid latent arc surfactants, antistatic agents, and the like may be added to the lithographic printing plate precursor, if necessary. Further, the shape of the lithographic printing plate precursor and the thickness of the photosensitive layer or the two layers of photosensitive layer/polymer layer are the same as described above.

次に本発明の平版印刷版について説明する。Next, the lithographic printing plate of the present invention will be explained.

本発明の平版印刷版は、少なくとも重合性化合物と重合
開始剤を含む層の表面が、画像状の平滑部うシ 分と粗面部分とからなり、少なくとも該平滑部分が前記
重合性化合物の重合及び/または架橋した硬化物である
ことを特徴とするものである。
In the lithographic printing plate of the present invention, the surface of the layer containing at least a polymerizable compound and a polymerization initiator is composed of an image-like smooth part and a rough part, and at least the smooth part is formed by polymerization of the polymerizable compound. and/or a crosslinked cured product.

この平版印刷版の粗面部分の凹凸はその形状により、い
わゆる毛管状態にすることが可能で、この場合、その凹
凸部に水を付与すると毛管現象により水が吸収さ汰 検
氷状態となる。また、平版印刷版の平滑部分は、重合性
化合物の適当な処方によっては、表面エネルギーを高く
することが可能で、その場合は撥水状態となる。具体的
には、例えば、平滑部分が水に対して70〜90°の接
触角になるように重合性化合物を処方した場合、粗面部
分はその粗面状態により異なる力τ、40〜20°にま
で接触角を下げるような粗面を形成することが可能であ
る。
Depending on the shape of the unevenness on the rough surface of the lithographic printing plate, it is possible to create a so-called capillary state. In this case, when water is applied to the unevenness, the water is absorbed by capillary action, resulting in an ice detection state. Further, the smooth portion of the lithographic printing plate can have a high surface energy depending on the appropriate formulation of the polymerizable compound, and in this case becomes water repellent. Specifically, for example, if a polymerizable compound is formulated so that the smooth part has a contact angle of 70 to 90 degrees with water, the rough part will have a force τ of 40 to 20 degrees, which varies depending on the rough surface condition. It is possible to form a rough surface that lowers the contact angle to .

このように、平滑部分と粗面部分とに水に対する濡れ性
の差を与えることにより平版印刷が可能になる。更に本
発明の平版印刷版は重合性化合物の重合及び/または架
橋した硬化物であることがら耐刷性に優れるものである
In this way, lithographic printing becomes possible by providing a difference in water wettability between the smooth portion and the rough surface portion. Furthermore, since the lithographic printing plate of the present invention is a cured product obtained by polymerizing and/or crosslinking a polymerizable compound, it has excellent printing durability.

うF 本発明の平版印刷版を用いて平版印刷を行う場合、ごく
一般の平版印刷機を用いれば良い力τ、軽印刷で用いる
オフセット印刷機や、卓上型のオフセット印刷機等が適
している。ここで用いるインクとしては、親油性インク
を用いることができる。
F When performing lithographic printing using the lithographic printing plate of the present invention, it is sufficient to use an ordinary lithographic printing machine, while an offset printing machine used for light printing, a desk-top offset printing machine, etc. are suitable. . As the ink used here, a lipophilic ink can be used.

親油性インクとは、染顔料、池 樹脂、潜弧可塑剤など
から構成されるインクである。油としては、植物法 加
工池 鉱油などを挙げることができる。樹脂としては、
ロジン、七ラック等の天然樹脂やフェノール系、ケトン
系などの合成樹脂などを挙げることができる。
Lipophilic ink is an ink composed of dyes and pigments, resin, latent arc plasticizer, etc. Examples of the oil include vegetable oil, mineral oil, and the like. As a resin,
Examples include natural resins such as rosin and Shichilac, and synthetic resins such as phenolic and ketone resins.

溶媒としては、インクが含有する樹脂に対する適正な溶
解力、希釈力を有し、また所望の蒸発速度を有し、イン
ク全体に必要な粘度と流動性を与えることができる溶媒
が好ましい。そのような溶媒としては、例え眠n−ヘキ
サン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素、トルエン等
の芳香族炭化水素、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステ
ル類、メチルアルコール、エチルアルコール等のアルコ
ール類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、
エチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピ
レングリコール等のグリコール類、グリコールエーテル
、グリコールエーテルエステル等の各種溶媒を使用する
ことができる。また、所望の特性に合わせて、これらを
混合して使用することもできる。
The solvent is preferably a solvent that has appropriate dissolving power and diluting power for the resin contained in the ink, has a desired evaporation rate, and can provide the necessary viscosity and fluidity to the entire ink. Examples of such solvents include aliphatic hydrocarbons such as n-hexane and cyclohexane, aromatic hydrocarbons such as toluene, esters such as methyl acetate and ethyl acetate, alcohols such as methyl alcohol and ethyl alcohol, and acetone. , ketones such as methyl ethyl ketone,
Various solvents such as glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and dipropylene glycol, glycol ethers, and glycol ether esters can be used. Moreover, these can also be mixed and used according to desired characteristics.

可塑剤は、インクの乾燥皮膜に可撓性、柔軟性、耐寒性
を付与するものであり、フタル酸ジブチル、フタル酸ジ
オクチルなどのフタル酸エステル類、アジピン酸、クエ
ン酸などのエステル類、塩化パラフィン、ヒマシ池 エ
ポキシ系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などが用いられ
る。
Plasticizers impart flexibility, pliability, and cold resistance to the dried ink film, and include phthalate esters such as dibutyl phthalate and dioctyl phthalate, esters such as adipic acid and citric acid, and chloride. Paraffin, castor pond, epoxy plasticizer, polyester plasticizer, etc. are used.

染顔料としては、例えば、酸化チタン、カーボンブラッ
ク、ブロンズ粉、ジアゾイエロー フタロシアニンブル
ーなどの無機または有機顔料などを挙げることができる
。また、染顔料以外の粉体状着色現像剤としては、例え
ばポリスチレン等の高分子化合物中に染顔料や金属粉を
分散させた粉体などを使用できる。上記染顔料及びその
他の粉体状着色現像剤の平均粒径は、望ましくは0.1
μm−20,unであり、好ましくは1μm〜5μmで
ある。
Examples of dyes and pigments include inorganic or organic pigments such as titanium oxide, carbon black, bronze powder, diazo yellow, and phthalocyanine blue. Further, as a powder colored developer other than dyes and pigments, for example, a powder in which dyes and pigments or metal powders are dispersed in a polymer compound such as polystyrene can be used. The average particle size of the dyes and pigments and other powdered color developers is preferably 0.1
μm-20, un, preferably 1 μm to 5 μm.

更に湿し水/親油性インクを用いずに、親水性インクを
用いて印刷することも可能であり、そのような親水性イ
ンクは、上述のような所望の染顔料等を含み、例え憾 
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリルアミド等の水溶性ポリマーと、例えば界面活性剤
等の助剤と、溶媒としての水を含む水溶性インクである
Furthermore, it is also possible to print using hydrophilic inks without using fountain solutions/oleophilic inks;
It is a water-soluble ink containing a water-soluble polymer such as polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, or polyacrylamide, an auxiliary agent such as a surfactant, and water as a solvent.

湿し水と親油性インク、または親水性インクを平版印刷
版の所定の湿し水溜とインクつぼに供給し、版胴に本発
明の平版印刷版を取り付け、印刷機を作動させると、湿
し水と親油性インクを用いた場合、平版印刷版の粗面部
分と平滑部分の濡れ性(接触角)の差から、粗面部分は
湿し水によって濡へ その湿し水と親油性インクとの反
発から粗面部分には親油性インクは付着せず、平滑部分
のみに親油性インクが付着し、これをブランケットに転
写し、更に、糺 プラスチックフィルム等に転写するこ
とで印刷される。親水性インクを用うト いた場合は、接触角の低い粗面部分のみに親水性インク
が付着し、これを上記同様に、ブランケット、次いで、
糺 プラスチックフィルム等に転写することで印刷され
る。
When dampening water and lipophilic ink or hydrophilic ink are supplied to the predetermined dampening water reservoir and ink fountain of a lithographic printing plate, the lithographic printing plate of the present invention is mounted on the plate cylinder, and the printing press is operated, the dampening water is supplied. When water and lipophilic ink are used, due to the difference in wettability (contact angle) between the rough and smooth parts of the lithographic printing plate, the rough part becomes wet with dampening water, and the dampening water and lipophilic ink Due to the repulsion, the lipophilic ink does not adhere to the rough areas, but only to the smooth areas. This is transferred to a blanket, and then transferred to a sticky plastic film, etc. for printing. When a hydrophilic ink is used, the hydrophilic ink adheres only to the rough surface where the contact angle is low, and this is applied to the blanket as described above.
Adhesive Printed by transferring to plastic film, etc.

更に、本発明の用途は、平版印刷版だけではなく、粗面
の光を反射及び散乱させる性質を利用して、投影用画像
として用いることができる。この場合、前述の像露光の
際のマスクには、写真ネガフィルム等の半透過部を有す
る階調マスクを用いてもよく、そのようなマスクを用い
ると、階調的重合が行わ汰 それに応じた階調的重合潜
像が形成される。階調的重合潜像とは、階調的に硬度に
差のある重合潜像であり、この潜像に対して粗面化処理
を行うと、階調的な凹凸を有する粗面が形成されること
になる。即ち、マスクの階調に対応した、凹凸の程度の
異なる粗面が形成される。そして、その粗面形状により
光の散乱 回折の程度が異なり、このまま一般の照明を
用いても階調性のある画像が得られるが、オーバーヘッ
ドプロジェクタ−(OHP)やスライド装置を用いた−
(ト 般投影を行うだけでもスクリーン上で更に階調性の強調
された画像を得ることができる。
Furthermore, the present invention can be used not only as a lithographic printing plate but also as a projection image by taking advantage of the light reflecting and scattering properties of the rough surface. In this case, a gradation mask having a semi-transparent part such as a photographic negative film may be used as the mask for the above-mentioned image exposure, and if such a mask is used, gradation polymerization will be carried out accordingly. A tonally polymerized latent image is formed. A gradationally polymerized latent image is a gradationally polymerized latent image with a difference in hardness, and when this latent image is subjected to surface roughening treatment, a rough surface with gradationally unevenness is formed. That will happen. That is, a rough surface with different degrees of unevenness is formed corresponding to the gradation of the mask. The degree of light scattering and diffraction varies depending on the shape of the rough surface, and although it is possible to obtain images with gradation even when using ordinary lighting, images with gradation can be obtained using an overhead projector (OHP) or slide device.
(By simply performing general projection, it is possible to obtain an image with even more emphasized gradation on the screen.

またこの画像にシュリーレン光学系を適用した場合、よ
り高コントラストが得ら汰 更に画像としては好ましい
ものになる。
Furthermore, when a Schlieren optical system is applied to this image, a higher contrast can be obtained, making the image even more desirable.

〔実施例〕〔Example〕

以下に本発明を実施例によりさらに具体的に説明する力
\ 本発明はこれらにより何等限定されるものではない
。また、以下の記載において「部」は重量部を表す。
The present invention will be explained below in more detail with reference to examples. The present invention is not limited in any way by these examples. Moreover, in the following description, "parts" represent parts by weight.

実施例ト ポリブチラール樹脂          1部(商品名
:エスレツクBM−5、種水化学工業−製)・ジペンタ
エリスリトール ヘキサアクリレート      1部 (商品名: カヤラッドDPHA、  日本化薬(財)
製)・2.4−ジエチルチオキサントン     0.
2部(商品名: カヤキュアーDETX、  日本化薬
−製)・4−ジメチルアミノ安息香酸エチル   0.
2部(商品名: カヤキュアーEPA、  日本化薬鱒
製)・メチルエチルケトン          16部
上記組成からなる液を調製し、その液を50μm厚のポ
リエステルフィルム上に乾燥膜厚4μmになるように、
アプリケーターを用いて塗工して平版印刷版用原版を得
た 次に上記平版印刷版用原版上にネガ画像をマスクとして
合わせて、ネガ画像側から露光し、重合潜像を形成した
 尚、この際の露光は光源として380 nmに蛍光ピ
ークを有する蛍光灯を用い、平版印刷版用原版から光源
を3cm離して0.5秒間行い、同時に重合促進のため
に105℃の熱バイアスをかけた 次に原版からネガ画
像を剥離し、その後、陽極酸化によって粗面化(平均深
さ1μ亀 中心線平均粗さ0.5μ亀 平均開口径4μ
m)された0、 24mm厚のアルミニウム板を〜1 
kg/cm2の圧力で重合潜像の形成された原版に押圧
することにより、本発明の平版印刷版を得へ 実施例2 ・リン酸ジメタクリレート       0.2部(商
品名二 カヤマーPH−2、日本化薬−製)・ポリブチ
ラール樹脂          1部(商品名、エスレ
ックBL−2、種水化学工業■製)・トリメチロールプ
ロパン トリアクリレート      0.7部(商品名: N
Kニスf ルA−TMPr。
Examples Topolybutyral resin 1 part (trade name: Esletku BM-5, manufactured by Tanemizu Chemical Industry Co., Ltd.) Dipentaerythritol hexaacrylate 1 part (trade name: Kayarad DPHA, Nippon Kayaku Corporation)
)・2.4-diethylthioxanthone 0.
2 parts (product name: Kayacure DETX, manufactured by Nippon Kayaku)・Ethyl 4-dimethylaminobenzoate 0.
2 parts (trade name: Kayacure EPA, manufactured by Nippon Kayaku Masu) / 16 parts of methyl ethyl ketone Prepare a solution having the above composition, and apply the solution on a 50 μm thick polyester film to a dry film thickness of 4 μm.
A lithographic printing plate precursor was obtained by coating with an applicator, and then a negative image was placed on the lithographic printing plate precursor as a mask and exposed from the negative image side to form a polymerized latent image. The actual exposure was carried out for 0.5 seconds using a fluorescent lamp with a fluorescence peak at 380 nm as a light source with the light source 3 cm away from the lithographic printing plate precursor, and at the same time a thermal bias of 105°C was applied to promote polymerization. The negative image is peeled off from the original plate, and then the surface is roughened by anodic oxidation (average depth 1 μm, center line average roughness 0.5 μm, average aperture diameter 4 μm).
m) 0, 24mm thick aluminum plate ~1
Example 2 - Phosphoric acid dimethacrylate 0.2 part (trade name Kayamer PH-2, (manufactured by Nippon Kayaku), polybutyral resin 1 part (product name, S-LEC BL-2, manufactured by Tanemizu Chemical Industry ■), trimethylolpropane triacrylate 0.7 part (product name: N
K varnish f Le A-TMPr.

新中村化学工業■製) ・ベンジルメチルケタール       0.1部(商
品名、イルガキュアー651、チバガイギー製)・n−
ブタノール             16部上記組成
からなる液を調製し、その液を実施例1と同aにアルミ
ニウム板上に塗工し、平版印刷版用原版を得へ 次に実施例1と同じ状態で、340 nmに蛍光ピーク
を有する蛍光灯を用い、0.2秒露光し、同時に105
℃の熱バイアスをかけ重合潜像を形成した次にネガ画像
を剥離した原版を、ポリエステルのマットフィルム(平
均深さ3μm1  中心線平均粗さ 1.3μm)を巻
き付けたロールとニップロールの間に粗面の転写性を向
上するため、約50℃の加熱を行いながら通しにツブ圧
〜1 kg/Cm2)、→追− 更に、上記と同様に0.2秒間の露光を行い、全体を重
合物とした本発明の平版印刷版を得た。
(manufactured by Shin Nakamura Chemical Industry ■) ・Benzyl methyl ketal 0.1 part (trade name, Irgacure 651, manufactured by Ciba Geigy) ・n-
Butanol 16 parts A solution having the above composition was prepared, and the solution was coated on an aluminum plate in the same manner as in Example 1 to obtain a lithographic printing plate precursor. Using a fluorescent lamp with a fluorescence peak at
After forming a polymerized latent image by applying a thermal bias of In order to improve the transferability of the surface, heat the surface to approximately 50°C while applying a blob pressure of ~1 kg/Cm2) →Additionally, expose the entire surface to the polymer for 0.2 seconds in the same manner as above. A lithographic printing plate of the present invention was obtained.

この平版印刷版の水に対する接触角を接触角測定装置(
協和界面科学■製)を用いて測定したところ、平滑部分
では90°、粗面部分では32°であった この平版印刷版を卓上型オフセット印刷機(商品名:サ
ンオフセット、三印刷機械■製)の版胴に取り付けて印
刷を試みたところ(インク: 商品名 オフセットイン
キ ニューラバー臥 文祥堂製;湿し水: ゲスラット
ナーリミテッド製のエッチ液を水で6倍に希釈したもの
を使用)、良好な印刷物が得られた 実施例3 ・臭化銀                0.7部・
ベヘン酸銀             4.5部・ベヘ
ン酸              2.5部・フタラジ
ノン             1.0部・4.4°−
メチレンビス          3.2部(2−メチ
ル−1−ナフトール) ・ポリビニルブチラール樹脂       5部(商品
名: エスレックBM−5、種水化学工業−製)・アク
リル樹脂             5部(商品名: 
ダイヤナールBR−105、三菱レイヨン■製) ・ポリビニルブチラール−アクリル酸付加物10部(ア
クリロイル基付加率 26.7molχ)・ジペンタエ
リスリトール ヘキサアクリレート      15部(商品名° カ
ヤラッドDPIA、  日本化薬■製)・3,3′−カ
ルボニルビス (7−ジニチルアミノクマリン)0.3部・4−ジメチ
ルアミノ安息香酸エチル   o、2部(商品名° カ
ヤキュアーEPA、日本化薬■製)・トルエン/イソプ
ロパツール(7:3)   150部暗室にて上記配合
を秤取し、ペイントシェーカーを用いて十分溶解混合し
、その液で50μm厚のポリエステルフィルム上に乾燥
膜厚5μmになるように、アプリケーターを用いて塗工
して平版印刷版用原版を得た 次に上記原版にリスフィルムを合わせてタングステンラ
ンプを用いて5cmの距離から2秒間照射し、像露光を
行った リスフィルムを外し、熱現像機を用いて120℃、20
秒で平版印刷版用原版を通過させた。更にそれを55℃
に加熱したホットプレート上に乗せ、420nmに蛍光
ピークを有する蛍光灯を3cmの距離から3秒照射し、
重合潜像を形成した その後、陽極酸化によって粗面化(平均深さ1μm1中
心線平均粗さ0.5μm1平均開口径4μm)された0
、24mm厚のアルミニウム板を〜1kg/c+n2の
圧力で重合潜像の形成された原版に押圧することにより
、本発明の平版印刷版を得た。
The contact angle of this lithographic printing plate with water was measured using a contact angle measuring device (
This lithographic printing plate was measured using a tabletop offset printing machine (product name: Sun Offset, manufactured by San Printing Machinery), and the angle was 90° for the smooth portion and 32° for the rough surface. ) Attempt to print by attaching it to a plate cylinder , Example 3 in which good printed matter was obtained・Silver bromide 0.7 part・
Silver behenate 4.5 parts, behenic acid 2.5 parts, phthalazinone 1.0 parts, 4.4°-
Methylenebis 3.2 parts (2-methyl-1-naphthol) - Polyvinyl butyral resin 5 parts (product name: S-LEC BM-5, manufactured by Tanemizu Chemical Industry Co., Ltd.) - Acrylic resin 5 parts (product name:
Dianal BR-105, manufactured by Mitsubishi Rayon■) ・10 parts of polyvinyl butyral-acrylic acid adduct (acryloyl group addition rate 26.7 molχ) ・15 parts of dipentaerythritol hexaacrylate (trade name: Kayarad DPIA, manufactured by Nippon Kayaku ■) )・3,3′-carbonylbis(7-dinithylaminocoumarin) 0.3 parts・Ethyl 4-dimethylaminobenzoate o, 2 parts (trade name: Kayacure EPA, manufactured by Nippon Kayaku ■)・Toluene/isopropylene Weigh out 150 parts of Patur (7:3) in a dark room, thoroughly dissolve and mix using a paint shaker, and apply the solution to a 50 μm thick polyester film with an applicator so that the dry film thickness is 5 μm. Next, a lithographic film was placed on the original plate and irradiated with a tungsten lamp from a distance of 5 cm for 2 seconds, the image-exposed lithic film was removed, and heat developed. Using a machine at 120℃, 20
It passed through the lithographic printing plate master in seconds. Then heat it to 55℃
Place it on a hot plate heated to
After forming a polymerized latent image, the surface was roughened by anodic oxidation (average depth 1 μm, center line average roughness 0.5 μm, average aperture diameter 4 μm).
A lithographic printing plate of the present invention was obtained by pressing a 24 mm thick aluminum plate against an original plate on which a polymerized latent image was formed at a pressure of ~1 kg/c+n2.

実施例4 ・臭化銀               0.7部・ベ
ヘン酸銀             4.5部・ベヘン
酸              2.5部・フタラジノ
ン             1.0部・4,4′−メ
チレンビス          3.2部(2,6−七
−ブチルフェノール ・ポリビニルブチラール樹脂       7.5部(
商品名:エスレックBL−λ 種水化学工業■製)・ア
クリル樹脂             7.5部(商品
名: ダイヤナールBR−93、三菱レイヨン−製) ・トリメチロールプロパン トリアクリレート       20部(商品名:NK
エステルA−TMPr、新中村化学−製)・リン酸ジメ
タクリレート        3部(商品名二 カヤマ
ーPM−λ 日本化薬■製)・2.4−ジエチルチオキ
サントン     0.2部(商品名: カヤキュアー
DETX、  日本化薬■製)・4−ジメチルアミノ安
息香酸エチル   0.2部(商品名: カヤキュアー
EPA、  日本化薬■製)・キシレン/n−ブタノー
ル(7:3)     150部暗室にて上記配合を秤
取し、ペイントシェーカーを用いて十分溶解混合し、更
に下記−紋穴で表される増感色素化合物0.0012部
をN、N−ジメチルホルムアミド1.0部に溶がした液
を、上記分散液に加えた。
Example 4 - Silver bromide 0.7 parts - Silver behenate 4.5 parts - Behenic acid 2.5 parts - Phthalazinone 1.0 parts - 4,4'-methylenebis 3.2 parts (2,6-7- Butylphenol/polyvinyl butyral resin 7.5 parts (
Product name: S-LEC BL-λ manufactured by Tanemizu Chemical Industry ■) Acrylic resin 7.5 parts (product name: Dianal BR-93, manufactured by Mitsubishi Rayon) ・Trimethylolpropane triacrylate 20 parts (product name: NK
Ester A-TMPr, manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), phosphoric acid dimethacrylate 3 parts (product name: Kayamer PM-λ, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 2,4-diethylthioxanthone 0.2 parts (product name: Kayacure DETX, Nippon Kayaku ■), 0.2 parts of ethyl 4-dimethylaminobenzoate (product name: Kayacure EPA, manufactured by Nippon Kayaku ■), 150 parts of xylene/n-butanol (7:3), and the above combination in a dark room. Weigh it out, thoroughly dissolve and mix using a paint shaker, and then add a solution of 0.0012 parts of the sensitizing dye compound represented by the pattern shown below in 1.0 parts of N,N-dimethylformamide to the above solution. added to the dispersion.

CM2C0O)i 次いで、この分散液をアルミニウム板に乾燥膜厚5μm
になるように塗布し九 更にその塗布膜に6μm厚のポ
リエステルフィルムをラミネートして本発明の平版印刷
版用原版を得た この平版印刷版用原版に対して、 ドラムスキャン犬 
レーザービームプリンタ(LBPP、  鍔部設計製)
により、He−Neレーザー(波長633nm/出カ5
mW)で直接画像書き込みを行った その後、熱現像機を用いて、 120’Cl2O秒で平
版印刷版用原版を通過させ九 更にそれを55℃に加熱
したホットプレート上に乗せ、380nmに蛍光ピーク
を有する蛍光灯を3cmの距離から3秒照射し、重合潜
像を形成した ラミネートしたポリエステルフィルムを剥離した原版を
、ポリエステルのマットフィルム(平均深さ3μ瓜 中
心線平均粗さ1.3μm)を巻き付合 けたロールとニップロールの間に粗面の転写性を向上す
るため、約50℃の加熱を行いながら通しにツブ圧〜1
kg−cm2)、更に、上記と同様に0.2秒間の露光
を行い、全体を重合物とした本発明の平版印刷版を得た この平版印刷版の水に対する接触角を接触角測定装置(
協和界面科学■製)を用いて測定したところ、平滑部分
では88″、粗面部分では32’であった この平版印刷版を卓上型オフセット印刷機(商品名:サ
ンオフセット、三印刷機械■製)の版胴に取り付けて印
刷を試みたところ(インク: 商品名 オフセットイン
キ ニューラバー瓢 文祥堂製;湿し水: ゲスラット
ナーリミテッド製のエッチ液を水で6倍に希釈したもの
を使用)、良好な印刷物が得られた 〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明の平版印刷版の製造方法に
よれ1戴  簡便、迅速にしかも再現性良く乾式処理で
安定した平版印刷版を製造することができる。また、平
版印刷版用原版の感光層中に感光性ハロゲン化銀を含む
場合、高感度な書き込みが可能であり、レーザーにより
直接描画書き込みを行い製版する(レーザー製版)こと
も可能である。更く 本発明の平版印刷版は重合性化合
物の重合及び/または架橋による硬化物からなる平版印
刷版であるので耐刷性も好ましいものである。
CM2C0O)i Next, this dispersion was coated on an aluminum plate with a dry film thickness of 5 μm.
Further, a 6 μm thick polyester film was laminated on the coated film to obtain the lithographic printing plate precursor of the present invention.
Laser beam printer (LBPP, manufactured by Tsuba Sekkei)
He-Ne laser (wavelength 633 nm/output 5
After that, the image was directly written on the plate using a heat developing machine for 120'Cl2O seconds, and then it was placed on a hot plate heated to 55°C to produce a fluorescence peak at 380nm. The original plate was peeled off from the laminated polyester film on which a polymerized latent image had been formed by irradiating it with a fluorescent lamp with a 3cm diameter for 3 seconds from a distance of 3cm, and a polyester matte film (average depth of 3μm, average centerline roughness of 1.3μm) was removed. In order to improve the transferability of the rough surface between the wrapped roll and the nip roll, we apply a lub pressure of 1 to 1 ℃ while heating it to about 50℃.
kg-cm2), and was further exposed to light for 0.2 seconds in the same manner as above to obtain the planographic printing plate of the present invention which was entirely polymerized.The contact angle of this planographic printing plate with water was measured using a contact angle measuring device (
This lithographic printing plate was measured using a tabletop offset printing machine (product name: Sun Offset, manufactured by San Printing Machinery) and was 88" for the smooth portion and 32" for the rough surface. ) Attempt to print by attaching it to a plate cylinder [Effects of the Invention] As explained above, by the method for producing a lithographic printing plate of the present invention, a lithographic printing plate that is simple, quick, reproducible, and stable by dry processing can be produced. In addition, if the photosensitive layer of the lithographic printing plate precursor contains photosensitive silver halide, highly sensitive writing is possible, and plate making can be performed by direct drawing writing with a laser (laser plate making). It is possible. Furthermore, since the lithographic printing plate of the present invention is a lithographic printing plate made of a cured product obtained by polymerizing and/or crosslinking a polymerizable compound, printing durability is also preferable.

また更に、本発明の平版印刷版は投影用の画像とするこ
ともできるという効果も有している。
Furthermore, the lithographic printing plate of the present invention also has the effect that it can be used as an image for projection.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図〜第3図は本発明の平版印刷版の製造方法の各過
程の態様を示す模式的断面図である。 1・・支持体       7・・導電体2・・重合層
       8・・光導電体2−a・・重合部   
  9・・感光層2−b・・未重合部     9−a
・・露光部3・・平版印刷版用原版  9−b・・未露
光部4・酸素バリヤー層  10・・銀核 5・・ネガマスク     11・・銀原子6 ・粗面
形成媒体   12・・酸化体r1ゝ) 」 猷
1 to 3 are schematic cross-sectional views showing aspects of each process of the method for manufacturing a lithographic printing plate of the present invention. 1. Support 7. Conductor 2. Polymerization layer 8. Photoconductor 2-a. Polymerization part
9...Photosensitive layer 2-b...Unpolymerized part 9-a
...Exposed area 3... Planographic printing plate master 9-b... Unexposed area 4... Oxygen barrier layer 10... Silver nucleus 5... Negative mask 11... Silver atom 6 - Rough surface forming medium 12... Oxidant r1ゝ)”

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、少なくとも重合性化合物と重合開始剤を有する平版
印刷版用原版に対して、 (a)該重合性化合物を部位選択的に重合させ、重合部
と未重合部とからなる重合潜像を形成する過程、 (b)該未重合部を粗面化する過程、 (c)該粗面化された未重合部を重合させる過程、とを
含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。 2、少なくとも感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤
、重合性化合物及び光重合開始剤を有する平版印刷版用
原版に対して、 (a)像露光する過程、 (b)該原版を加熱する過程、 (c)該原版に全面露光を施し、前記重合性化合物を重
合させ、重合部と未重合部とからなる重合潜像を形成す
る過程、 (d)該未重合部を粗面化する過程、 (e)該粗面化された未重合部を重合させる過程、とを
含むことを特徴とする平版印刷版の製造方法。 3、少なくとも重合性化合物と重合開始剤を含む層の表
面が画像状の平滑部分と粗面部分とからなり、少なくと
も該平滑部分が前記重合性化合物の重合及び/または架
橋による硬化物であることを特徴とする平版印刷版。
[Claims] 1. For a lithographic printing plate precursor having at least a polymerizable compound and a polymerization initiator, (a) the polymerizable compound is site-selectively polymerized to separate the polymerized and unpolymerized areas. (b) roughening the unpolymerized area; and (c) polymerizing the roughened unpolymerized area. How to make the plate. 2. For a lithographic printing plate precursor containing at least a photosensitive silver halide, an organic silver salt, a reducing agent, a polymerizable compound, and a photopolymerization initiator, (a) a process of imagewise exposure; (b) heating the master plate; (c) a process of exposing the entire surface of the original plate to polymerize the polymerizable compound to form a polymerized latent image consisting of a polymerized part and an unpolymerized part; (d) roughening the unpolymerized part. (e) polymerizing the roughened unpolymerized areas. 3. The surface of the layer containing at least a polymerizable compound and a polymerization initiator consists of an image-like smooth portion and a rough surface portion, and at least the smooth portion is a cured product obtained by polymerization and/or crosslinking of the polymerizable compound. A lithographic printing plate featuring.
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