JPH04137777A - Discharge excitation excimer laser apparatus - Google Patents

Discharge excitation excimer laser apparatus

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JPH04137777A
JPH04137777A JP26097890A JP26097890A JPH04137777A JP H04137777 A JPH04137777 A JP H04137777A JP 26097890 A JP26097890 A JP 26097890A JP 26097890 A JP26097890 A JP 26097890A JP H04137777 A JPH04137777 A JP H04137777A
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JP
Japan
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gas
pressure vessel
laser
fan
discharge
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Application number
JP26097890A
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Japanese (ja)
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Hideto Kawahara
河原 英仁
Yasuhiro Shimada
恭博 嶋田
Tadaaki Miki
三木 忠明
Naotaka Kosugi
直貴 小杉
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To eliminate ununiformity of gas mixing ratio after a laser medium gas is supplied to a pressure vessel by providing a cross blow fan and an axial flow fan with the rotating axes matched. CONSTITUTION:During operation of a laser, the laser medium gas is circulated by a cross blow fan 12 within a pressure vessel 1 and drop of laser pulse energy between the exciation and discharge electrodes 2, 2 is suppressed. However, the energy is gradually lowered due to reduction of halogen gas as the number of times of oscillation increases. For a while, drop of energy can be prevented by gradually raising a charging voltage. But, a high voltage power supply has a limit of capacity and therefore gas is deteriorated to a certain degree, drop of output cannot be compensated. In this timing, a gas supplying apparatus 9 supplies the halogen gas into the pressure vessel 1 from a gas supply port 10 and the deteriorated gas is exhausted from an exhaust port 11 in order to keep the gas pressure to a constant. The supplied gas is guided into a fan 12 by an axial flow fan 13. With the effects of both fans, the supplied gas quickly diffuses within the pressure vessel 1, eliminating fluctuation of mixing ratio.

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、放電励起エキシマレーザ装置に関する。[Detailed description of the invention] Industrial applications The present invention relates to a discharge excited excimer laser device.

従来の技術 希ガスハロゲンエキシマレーザは紫外域で発振する高出
力のガスレーザであり、超微細加工用光源として半導体
リングラフィや化学プロセス等の広範な用途に利用され
ている。希ガスハロゲンエキシマレーザの励起方式には
電子ビーム励起と放電励起とがあるが、後者は比較的簡
便な構成で高繰り返し発振が可能であるため、広く一般
に用いられている。
BACKGROUND OF THE INVENTION A rare gas halogen excimer laser is a high-output gas laser that oscillates in the ultraviolet region, and is used as a light source for ultrafine processing in a wide range of applications such as semiconductor phosphorography and chemical processes. There are two types of excitation methods for rare gas halogen excimer lasers: electron beam excitation and discharge excitation, and the latter is widely used because it has a relatively simple configuration and is capable of high repetition oscillation.

以下に従来の放電励起エキシマレーザ装置について説明
する。
A conventional discharge-excited excimer laser device will be described below.

第4図fatは放電励起エキシマレーザのなかでも最も
一般的な三軸直交型の紫外線予備電離放電励起エキシマ
レーザ装置の圧力容器の断面図、同図(blは同放電励
起エキシマレーザ装置の全体構成図である。圧力容器1
中には希ガスとハロゲンガスからなるレーザ媒質ガスが
大気圧以上の高圧で封入されている。圧力容器1の内部
に設けられた一対の細長い励起放電電極2,2間で−様
なパルス放電を起こすことによって、励起放電領域内の
レーザ媒質ガスを励起する。
Figure 4 (fat) is a cross-sectional view of the pressure vessel of a three-axis orthogonal ultraviolet preionization discharge-excited excimer laser device, which is the most common type among discharge-excited excimer lasers; It is a figure. Pressure vessel 1
A laser medium gas consisting of rare gas and halogen gas is sealed inside at a high pressure higher than atmospheric pressure. The laser medium gas in the excitation discharge region is excited by generating a --like pulse discharge between a pair of elongated excitation discharge electrodes 2, 2 provided inside the pressure vessel 1.

第4図(blに示す放電回路について説明する。スイッ
チ3が開いている間に充電用コイル4を経由して充電用
コンデンサ5か充電される。スイッチ3を閉じると、充
電用コンデンサ5の電荷がピーキングコンデンサ6に移
行し、予備電離放電ギャップ7が放電して紫外線を発生
し、引き続きピーキングコンデンサ6の端子間電圧が励
起放電電極2の放電開始電圧に達すると励起放電が起こ
る。
The discharging circuit shown in FIG. 4 (bl) will be explained. While the switch 3 is open, the charging capacitor 5 is charged via the charging coil 4. When the switch 3 is closed, the charging capacitor 5 is charged. transfers to the peaking capacitor 6, the pre-ionization discharge gap 7 discharges to generate ultraviolet light, and subsequently, when the voltage between the terminals of the peaking capacitor 6 reaches the discharge starting voltage of the excited discharge electrode 2, an excited discharge occurs.

これで1回のレーザ動作は終了するが、一般にスイッチ
3にはサイラトロン等が使用され、繰り返しレーザ動作
を行うようになっている。
This completes one laser operation, but generally a thyratron or the like is used for the switch 3, and the laser operation is repeated.

励起放電の終了後しばらくの間、励起放電領域内のレー
ザ媒質ガスには放電で生成した不純物が残留しているほ
か、圧力の不均一や電気的な不均一があるため、発振繰
り返し数を上げていくと引き続く励起放電が不安定にな
り出力が低下していく。さらに発振繰り返し数を上げる
と、もはや均一な励起放電は得られず、レーザ発振不能
となる。数十Hz以上の高繰り返し発振を実現するため
には、励起放電終了直後の励起放電領域のレーザ媒質ガ
スを均質かつ清浄な状態に戻してやることが必要になっ
てくる。そのために、圧力容器1の内部にはレーザ媒質
ガスの循環用ファンが収められており、励起放電後の励
起放電領域内のレーザ媒質ガスを強制的に除去し、常に
清浄かつ均質な状態に保つようにしている。循環用ファ
ンとしてはクロスフローファン8が一般に用いられてい
る。
For a while after the excitation discharge ends, impurities generated by the discharge remain in the laser medium gas in the excitation discharge region, as well as pressure unevenness and electrical nonuniformity, so the number of oscillation repetitions is increased. As time goes by, the subsequent excited discharge becomes unstable and the output decreases. If the oscillation repetition rate is further increased, a uniform excited discharge can no longer be obtained and laser oscillation becomes impossible. In order to achieve high repetition rate oscillation of several tens of Hz or more, it is necessary to return the laser medium gas in the excited discharge region to a homogeneous and clean state immediately after the end of the excited discharge. To this end, a fan for circulating the laser medium gas is housed inside the pressure vessel 1, which forcibly removes the laser medium gas within the excited discharge area after the excited discharge, and keeps it in a clean and homogeneous state at all times. That's what I do. A cross flow fan 8 is generally used as the circulation fan.

このようにレーザ媒質ガスの循環によって繰り返し動作
時のレーザ出力の低下は抑制することができる。しかし
長期的に見るとレーザ媒質ガスの劣化によるレーザ出力
の低下は避けられない。エキシマレーザで使用するフッ
素等のハロゲンガスは反応性が極めて高いために、圧力
容器1の内壁への吸着や放電生成物との反応によって減
少していくからである。レーザ出力を維持するためには
、充電用コンデンサ5の充電電圧を徐々に上げて励起放
電への投入エネルギーを大きくする。さらにレーザ媒質
ガスの劣化が進み、レーザ出力の低下を充電電圧を上げ
ることだけで補えなくなりた時には、レーザ媒質ガス供
給装置9からガス供給口10を通じてハロゲンガスの補
充やレーザ媒質ガスの部分交換あるいはレーザ動作中の
連続交換を行う。なお、11はガス排気口である。
In this way, by circulating the laser medium gas, a decrease in laser output during repeated operations can be suppressed. However, in the long term, a decrease in laser output due to deterioration of the laser medium gas is unavoidable. This is because halogen gas such as fluorine used in the excimer laser has extremely high reactivity and is therefore reduced by adsorption to the inner wall of the pressure vessel 1 and reaction with discharge products. In order to maintain the laser output, the charging voltage of the charging capacitor 5 is gradually increased to increase the energy input to the excitation discharge. Furthermore, when the deterioration of the laser medium gas progresses and the decrease in laser output cannot be compensated for simply by increasing the charging voltage, halogen gas may be replenished from the laser medium gas supply device 9 through the gas supply port 10, or the laser medium gas may be partially replaced or Perform continuous replacement while the laser is operating. Note that 11 is a gas exhaust port.

発明が解決しようとする課題 レーザ媒質供給装置9は、圧力容器1のガス供給口10
およびガス排気口11に接続されている。ガスの排気口
11と供給口10はガスの交換効率を高めるためにもで
きるだけ離して設けることが望ましいが第4図fa)の
ように圧力容器1の両端部に設けると、排気口11側の
ガス混合比と供給口10側のガス混合比との間に差が生
じてしまう。ガス循環用のクロスフローファン8は、そ
の回転軸方向にはガスをすみやかに移動させないために
圧力容器1内のガスの混合は円滑に行われず、ガス混合
比の不均一がなかなか解消されない。このことが、励起
放電領域においてもガス混合比のばらつきを生じ、励起
放電の不安定さ、レーザ出力の低下をもたらす原因とな
っていた。
Problems to be Solved by the Invention The laser medium supply device 9 has a gas supply port 10 of the pressure vessel 1.
and is connected to the gas exhaust port 11. It is desirable to provide the gas exhaust port 11 and the gas supply port 10 as far apart as possible in order to increase the gas exchange efficiency. However, if they are provided at both ends of the pressure vessel 1 as shown in Fig. 4 fa), A difference arises between the gas mixture ratio and the gas mixture ratio on the supply port 10 side. Since the cross-flow fan 8 for gas circulation does not move the gas quickly in the direction of its rotation axis, the gases in the pressure vessel 1 are not mixed smoothly, and the non-uniformity of the gas mixture ratio is difficult to eliminate. This causes variations in the gas mixture ratio even in the excited discharge region, causing instability of the excited discharge and a decrease in laser output.

本発明は上記従来の課題を解決するもので、圧力容器内
にレーザ媒質ガスを供給した後のガス混合比の不均一を
解消する手段を有する放電励起エキシマレーザ装置を提
供するものである。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a discharge-excited excimer laser device having means for eliminating non-uniformity in gas mixture ratio after supplying a laser medium gas into a pressure vessel.

課題を解決するための手段 この目的を達成するために本発明は、レーザ媒質ガスを
封入する圧力容器と、レーザ媒質ガスを圧力容器内に供
給する手段と、レーザ媒質ガスを励起する励起放電電極
と、レーザ動作中に圧力容器内でレーザ媒質ガスを循環
させるクロスフローファンとを備えた三軸直交型放電励
起エキシマレーザ装置において、圧力容器の内部にはク
ロスフローファンの回転軸方向にレーザ媒質ガスを移動
させる軸流ファンを備えており、かつその細流ファンの
回転軸はクロスフローファンの回転軸と同一であるよう
にしたものである。
Means for Solving the Problems To achieve this object, the present invention provides a pressure vessel for sealing a laser medium gas, a means for supplying the laser medium gas into the pressure vessel, and an excitation discharge electrode for exciting the laser medium gas. In a three-axis orthogonal discharge-pumped excimer laser device equipped with a cross-flow fan that circulates laser medium gas within a pressure vessel during laser operation, the laser medium is disposed inside the pressure vessel in the direction of the rotational axis of the cross-flow fan. It is equipped with an axial fan for moving gas, and the rotational axis of the trickle fan is the same as the rotational axis of the crossflow fan.

作用 この構成によって、クロスフローファンの回転軸方向に
もレーザ媒質ガスを移動させることができるため、圧力
容器内のガスの混合が円滑に素早く行われる。したがっ
て励起放電領域内のガス混合比の差も即座に解消され、
励起放電の不安定さによるレーザ出力の低下を回避する
ことかできる。
Function: With this configuration, the laser medium gas can also be moved in the direction of the rotation axis of the cross-flow fan, so that the gases in the pressure vessel can be mixed smoothly and quickly. Therefore, the difference in gas mixture ratio within the excited discharge region is immediately eliminated,
A decrease in laser output due to instability of excited discharge can be avoided.

実施例 以下本発明の一実施例について、図面を参照しながら説
明する。
EXAMPLE An example of the present invention will be described below with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例における放電励起エキシマレ
ーザ装置の圧力容器の断面図である。圧力容器1内には
励起放電電極2、ガス循環用のクロスフローファン12
、軸流ファン13が収められている。軸流ファン13の
回転軸はクロスフローファン12と同一であるため、ク
ロスフローファン12の回転駆動力をそのまま利用でき
る構造である。圧力容器1には、レーザ媒質ガス供給装
置9から清浄なレーザ媒質ガスの供給を受けるためのガ
ス供給口10と、繰り返し放電により劣化したレーザ媒
質ガスを排気して圧力容器1内のガス圧を一定に保つた
めのガス排気口11が設けられている。ガス供給口10
とガス排気口11は圧力容器1のレーザビーム方向両端
部に設けられているから、圧力容器1内に供給された清
浄なガスがただちに排気されることはない。
FIG. 1 is a sectional view of a pressure vessel of a discharge excited excimer laser device in one embodiment of the present invention. Inside the pressure vessel 1 are an excitation discharge electrode 2 and a cross flow fan 12 for gas circulation.
, an axial fan 13 is housed therein. Since the rotational axis of the axial fan 13 is the same as that of the crossflow fan 12, the structure is such that the rotational driving force of the crossflow fan 12 can be used as is. The pressure vessel 1 has a gas supply port 10 for receiving supply of clean laser medium gas from a laser medium gas supply device 9, and a gas supply port 10 for exhausting the laser medium gas degraded by repeated discharges to reduce the gas pressure in the pressure vessel 1. A gas exhaust port 11 is provided to keep the gas constant. Gas supply port 10
Since the gas exhaust ports 11 are provided at both ends of the pressure vessel 1 in the laser beam direction, the clean gas supplied into the pressure vessel 1 is not immediately exhausted.

第2図(al、 fblは本実施例におけるクロスフロ
ーファンと軸流ファンの正面図と側面図である。
FIG. 2 (al and fbl are a front view and a side view of a cross flow fan and an axial fan in this embodiment.

般に、クロスフローファンの翼は数枚の円盤により固定
されているので、クロスフローファンの軸に軸流ファン
を取り付けると翼固定用の円盤が軸方向のガス流の障害
となってしまう。本実施例では、翼固定用の円盤を軸流
ファンに置き換えてクロスフローファンと軸流ファンの
二つのファンを一体化することにより円滑なガス流と同
時に軽量化も達成した。また、二つのファンを一体構造
とすることによりクロスフローファン12の回転駆動力
を軸流ファン13の駆動にそのまま使うことができる。
Generally, the blades of a crossflow fan are fixed by several disks, so if an axial fan is attached to the shaft of the crossflow fan, the disks for fixing the blades will become an obstacle to the gas flow in the axial direction. In this embodiment, by replacing the blade fixing disk with an axial fan and integrating two fans, a cross flow fan and an axial fan, a smooth gas flow and weight reduction were achieved. Furthermore, by integrating the two fans, the rotational driving force of the crossflow fan 12 can be directly used to drive the axial fan 13.

エキシマレーザ装置では腐食性の高いハロゲンガスを使
用するため、一般に圧力容器1の内部にモータを設置す
ることができない。外部モータの回転駆動力を圧力容器
1の内部に導入するためには、磁性流体シール等の複雑
、高価、かつ信頼性の低い駆動力導入機構を使用せざる
をえない。本実施例によれば、軸流ファン12専用のモ
ータおよび駆動力導入機構が不要であり、安全性、信頼
性、経済性の面において大変有利である。
Since the excimer laser device uses highly corrosive halogen gas, it is generally not possible to install a motor inside the pressure vessel 1. In order to introduce the rotational driving force of the external motor into the inside of the pressure vessel 1, it is necessary to use a complicated, expensive, and unreliable driving force introduction mechanism such as a magnetic fluid seal. According to this embodiment, there is no need for a dedicated motor and driving force introduction mechanism for the axial fan 12, which is very advantageous in terms of safety, reliability, and economy.

第3図は本発明のレーザ装置の動作およびレーザパルス
エネルギーの状態を示す図である。第3図を参照しなが
ら第1図のレーザ装置の動作について説明する。
FIG. 3 is a diagram showing the operation of the laser device of the present invention and the state of laser pulse energy. The operation of the laser device shown in FIG. 1 will be explained with reference to FIG.

レーザ動作中、圧力容器1内ではクロスフローファン1
2の回転によってレーザ媒質ガスが循環し、励起放電電
極2.2間でガス流が生しているため、発振の高繰り返
し化によるレーザパルスエネルギーの低下は抑制されて
いる。しかし発振回数の累積とともに、ハロゲンの減少
や不純物の増加ニよってレーザパルスエネルギーは徐々
に低下していく。しばらくの間は、充電用コンデンサ5
の充電電圧を徐々に上げて励起放電への投入エネルギー
を大きくしていくことで、レーザパルスエネルギーの低
下を防ぐことができる。しかし高圧電源には容量の限界
があるから、ある程度レーザ媒質ガスが劣化すると出力
の低下を補えなくなる。この時点でレーザ媒質ガス供給
装置9が、少量のハロゲンガスをガス供給口10から圧
力容器1内に供給する。このとき同時にガス排気口11
から劣化したガスを圧力容器1の外に排気して、圧力容
器1内のガス圧を一定に保つ。圧力容器1内に供給され
たハロゲンガスは軸流ファン13の回転によってクロス
フローファン12の内部に導かれる。クロスフローファ
ン12による効果と細流ファン13による効果があいま
って、供給されたハロゲンガスは圧力容器1内ですばや
く拡散するので圧力容器1内におけるガス混合比のばら
つきが即座に解消される。従来、ハロゲンガス供給直後
に問題となっていた励起放電の不安定によるレーザパル
スエネルギーの低下やばらつきを防ぐことができる。
During laser operation, cross flow fan 1 is operated inside pressure vessel 1.
Since the laser medium gas is circulated by the rotation of 2 and a gas flow is generated between the excitation discharge electrodes 2 and 2, a decrease in laser pulse energy due to high repetition rate of oscillation is suppressed. However, as the number of oscillations accumulates, the laser pulse energy gradually decreases due to a decrease in halogen and an increase in impurities. For a while, charging capacitor 5
By gradually increasing the charging voltage and increasing the energy input to the excitation discharge, it is possible to prevent the laser pulse energy from decreasing. However, the high-voltage power supply has a limited capacity, so if the laser medium gas deteriorates to a certain extent, it will not be able to compensate for the decrease in output. At this point, the laser medium gas supply device 9 supplies a small amount of halogen gas into the pressure vessel 1 through the gas supply port 10 . At this time, the gas exhaust port 11
The deteriorated gas is exhausted to the outside of the pressure vessel 1 to keep the gas pressure inside the pressure vessel 1 constant. The halogen gas supplied into the pressure vessel 1 is guided into the cross-flow fan 12 by the rotation of the axial fan 13 . The effect of the cross flow fan 12 and the effect of the trickle fan 13 combine to quickly diffuse the supplied halogen gas within the pressure vessel 1, so that variations in the gas mixture ratio within the pressure vessel 1 are immediately eliminated. It is possible to prevent a decrease or variation in laser pulse energy due to instability of excited discharge, which has conventionally been a problem immediately after halogen gas is supplied.

以上はハロゲンガスを供給した例である。希ガスやバッ
ファガスも含めて圧力容器1内のガスを部分交換する場
合またはレーザ動作中に少量ずつ連続的に交換する場合
も二つのファンの働きは同しである。
The above is an example in which halogen gas was supplied. The two fans function in the same way when partially replacing the gas in the pressure vessel 1, including the rare gas and buffer gas, or when continuously replacing the gas in small amounts during laser operation.

なお本発明によれば、レーザ動作中のガス供給時だけで
なく圧力容器1内を真空排気後再びガスを充填する際に
もすばやくガスを混合することができる。
According to the present invention, gases can be quickly mixed not only when gas is supplied during laser operation, but also when filling the pressure vessel 1 with gas again after evacuating the interior of the pressure vessel 1.

発明の効果 以上のように本発明は、クロスフローファンと軸流ファ
ンをその各回転軸を一致させて設けることにより、圧力
容器内に供給直後のレーザ媒質ガスの混合比の不均一を
すばやく解消することができ励起放電を安定化させるこ
とができる放電励起エキシマレーザ装置を実現するもの
である。
Effects of the Invention As described above, the present invention quickly eliminates non-uniformity in the mixing ratio of the laser medium gas immediately after being supplied into the pressure vessel by providing a cross-flow fan and an axial-flow fan with their rotational axes aligned. The present invention is intended to realize a discharge-excited excimer laser device that can stabilize excited discharge.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例における放電励起エキシマレ
ーザ装置の圧力容器の断面図、第2図fat、 (bl
は本発明の実施例におけるクロスフローファンと軸流フ
ァンの正面図と側面図、第3図は本発明の放電励起エキ
シマレーザ装置の動作ならびにレーザパルスエネルギー
の状態を示す図、第4図(alは従来の放電励起エキシ
マレーザ装置の圧力容器の断面図、第4図+blは同放
電励起エキシマレーザ装置の全体構成図である。 1・・・・・・圧力容器、2・・・・・・励起放電電極
、9・・・・・・レーザ媒質ガス供給装置(供給する手
段)、12・・・・・・クロスフローファン、13・・
・・・・軸流ファン。 代理人の氏名 弁理士小鍜治明 ほか28第 第 図 図 CCI) (b) 第 図
FIG. 1 is a sectional view of a pressure vessel of a discharge-excited excimer laser device according to an embodiment of the present invention, and FIG.
3 is a front view and a side view of a cross flow fan and an axial fan in an embodiment of the present invention, FIG. 3 is a diagram showing the operation of the discharge excited excimer laser device of the present invention and the state of laser pulse energy, 4 is a sectional view of a pressure vessel of a conventional discharge-excited excimer laser device, and FIG. 4+bl is an overall configuration diagram of the same discharge-excited excimer laser device. Excitation discharge electrode, 9...Laser medium gas supply device (supply means), 12...Cross flow fan, 13...
...Axial flow fan. Name of agent: Patent attorney Haruaki Koba et al.28 (Figure CCI) (b) Figure

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] レーザ媒質ガスを封入する圧力容器と、レーザ媒質ガス
を圧力容器内に供給する手段と、レーザ媒質ガスを励起
する励起放電電極と、レーザ動作中に圧力容器内でレー
ザ媒質ガスを循環させるクロスフローファンとを備えた
三軸直交型放電励起エキシマレーザ装置において、前記
圧力容器の内部には前記クロスフローファンの回転軸方
向にレーザ媒質ガスを移動させる軸流ファンを備えてお
り、かつその軸流ファンの回転軸は前記クロスフローフ
ァンの回転軸と同一であることを特徴とする放電励起エ
キシマレーザ装置。
A pressure vessel that seals the laser medium gas, a means for supplying the laser medium gas into the pressure vessel, an excitation discharge electrode that excites the laser medium gas, and a cross flow that circulates the laser medium gas within the pressure vessel during laser operation. In the three-axis orthogonal discharge-excited excimer laser device, the pressure vessel is provided with an axial fan that moves the laser medium gas in the direction of the rotational axis of the cross-flow fan, and the axial flow A discharge-excited excimer laser device characterized in that the rotation axis of the fan is the same as the rotation axis of the cross flow fan.
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