JPH0413506A - ダイヤモンド被覆Si↓3N↓4焼結体製マイクロドリル - Google Patents
ダイヤモンド被覆Si↓3N↓4焼結体製マイクロドリルInfo
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- JPH0413506A JPH0413506A JP11474790A JP11474790A JPH0413506A JP H0413506 A JPH0413506 A JP H0413506A JP 11474790 A JP11474790 A JP 11474790A JP 11474790 A JP11474790 A JP 11474790A JP H0413506 A JPH0413506 A JP H0413506A
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- 239000010432 diamond Substances 0.000 title claims abstract description 23
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 23
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 7
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 claims abstract description 3
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 11
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 7
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 6
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 abstract description 3
- -1 Al N Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 abstract 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract 2
- 230000008520 organization Effects 0.000 abstract 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910034327 TiC Inorganic materials 0.000 abstract 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 abstract 1
- CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N hafnium(IV) oxide Inorganic materials O=[Hf]=O CJNBYAVZURUTKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 10
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001342 Bakelite® Polymers 0.000 description 1
- 241000287530 Psittaciformes Species 0.000 description 1
- 239000004637 bakelite Substances 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
- 230000002747 voluntary effect Effects 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、プリント基板の穴明は加工に適したダイヤモ
ンド被1[siN 焼結体製マイクロドリルに関する。
ンド被1[siN 焼結体製マイクロドリルに関する。
従来から、プリント基板の穴明は加工用のドリルとして
、we基超超硬合金らなるマイクロドリルや、このWC
C超超硬合金製マイクロドリル表面に通常のCVD法等
の化学蒸着法又はイオンブレーティング法やスパッタリ
ング法等の物理蒸着法により、T1やZr等の炭化物、
窒化物及び炭窒化物からなる単層又は複層の硬質被覆層
を0.2〜20μmの層厚に形成した表面液11[wc
基超超硬合金製マイクロドリル用いられている。
、we基超超硬合金らなるマイクロドリルや、このWC
C超超硬合金製マイクロドリル表面に通常のCVD法等
の化学蒸着法又はイオンブレーティング法やスパッタリ
ング法等の物理蒸着法により、T1やZr等の炭化物、
窒化物及び炭窒化物からなる単層又は複層の硬質被覆層
を0.2〜20μmの層厚に形成した表面液11[wc
基超超硬合金製マイクロドリル用いられている。
しかし、近年ではプリント基板の穴明は加工においても
省力化及び高速化が要求され、それに伴ない穴明は条件
が一層厳しくなっている。又、プリント基板の材質も多
様化し、セラミック樹脂等を主材料とした非常に硬いも
の(ビッカース硬度で100以上)も現われるようにな
った。
省力化及び高速化が要求され、それに伴ない穴明は条件
が一層厳しくなっている。又、プリント基板の材質も多
様化し、セラミック樹脂等を主材料とした非常に硬いも
の(ビッカース硬度で100以上)も現われるようにな
った。
従って、上記したwe基超超硬合金製マイクロドリルビ
ッカース硬度1500程度)や表面被覆we基超超硬合
金製マイクロドリルビッカース硬度2000〜2500
程度)では硬度が不足であり、良好な耐摩耗性が得られ
ない。又、これらのマイクロドリルは直径が5闘以下、
よく使用されるものは3鵡以下と細く且つ長尺であるた
め、過酷な条件下で使用すると短時間でチッピング又は
欠損が生じたり、硬質被覆層に剥離や大きな摩耗が発生
する。しかも、プリント基板の材質として用いられるセ
ラミックス樹脂等は刃先に溶着しやすい。これらの理由
により、従来のマイクロドリルでは要求される切削性能
を満足しないのが現状である。
ッカース硬度1500程度)や表面被覆we基超超硬合
金製マイクロドリルビッカース硬度2000〜2500
程度)では硬度が不足であり、良好な耐摩耗性が得られ
ない。又、これらのマイクロドリルは直径が5闘以下、
よく使用されるものは3鵡以下と細く且つ長尺であるた
め、過酷な条件下で使用すると短時間でチッピング又は
欠損が生じたり、硬質被覆層に剥離や大きな摩耗が発生
する。しかも、プリント基板の材質として用いられるセ
ラミックス樹脂等は刃先に溶着しやすい。これらの理由
により、従来のマイクロドリルでは要求される切削性能
を満足しないのが現状である。
本発明はかかる従来の事情に鑑み、プリント基板の穴明
は加工において、優れた耐摩耗性、耐溶着性及び靭性を
示し、従来よりも長い工具寿命を達成しうるダイヤモン
ド被N51N焼結体製マイクロドリルを提供することを
目的とする。
は加工において、優れた耐摩耗性、耐溶着性及び靭性を
示し、従来よりも長い工具寿命を達成しうるダイヤモン
ド被N51N焼結体製マイクロドリルを提供することを
目的とする。
上記目的を達成するため、本発明のダイヤモンド被覆S
i N 焼結体製マイクロドリルは、短径が1μ口以下
の柱状晶組織からなるSi N を主成分とし、Mg
o、 Y、O,、A/20.、 A苧、 ZrO,、H
fO2,TiC。
i N 焼結体製マイクロドリルは、短径が1μ口以下
の柱状晶組織からなるSi N を主成分とし、Mg
o、 Y、O,、A/20.、 A苧、 ZrO,、H
fO2,TiC。
TiN、 B O,EN及びTiE のうちの少なく
とも一種を夫々0.01〜30重量%、合計で50重量
%以下含有したSi N 焼結体からなる基体と、この
基体表面に設けた層厚0.1μm以上のダイヤモンド被
覆層とからなることを特徴とする。
とも一種を夫々0.01〜30重量%、合計で50重量
%以下含有したSi N 焼結体からなる基体と、この
基体表面に設けた層厚0.1μm以上のダイヤモンド被
覆層とからなることを特徴とする。
本発明においては、マイクロドリルへの被覆層として、
耐摩耗性及び耐溶着性に優れたダイヤモンド被覆層を採
用した。しかし、ダイヤモンドと従来のマイクロドリル
の基体である超硬合金では線膨張係数が大きく異なるの
で、ダイヤモンド被覆層が層厚20μm以上になると自
発的に剥離する。
耐摩耗性及び耐溶着性に優れたダイヤモンド被覆層を採
用した。しかし、ダイヤモンドと従来のマイクロドリル
の基体である超硬合金では線膨張係数が大きく異なるの
で、ダイヤモンド被覆層が層厚20μm以上になると自
発的に剥離する。
そこで、本発明ではダイヤモンドとほぼ同じ線膨張係数
をもつSi N 焼結体を基体とすることにより、層厚
20μm以上でも剥離しない密着性に優れたダイヤモン
ド被覆層を得ることが出来た。
をもつSi N 焼結体を基体とすることにより、層厚
20μm以上でも剥離しない密着性に優れたダイヤモン
ド被覆層を得ることが出来た。
但し、ダイヤモンド被覆層の層厚が0.1μm未満では
ダイヤモンド被覆による耐摩耗性や耐溶着性の効果が現
われない。しがし、層厚が200μmを超えるダイヤモ
ンド被覆層を設けることは不必要且つ不経済であり、特
にプリント基板の穴明は用ドリルとしては層厚100μ
m以下が好ましい。
ダイヤモンド被覆による耐摩耗性や耐溶着性の効果が現
われない。しがし、層厚が200μmを超えるダイヤモ
ンド被覆層を設けることは不必要且つ不経済であり、特
にプリント基板の穴明は用ドリルとしては層厚100μ
m以下が好ましい。
又、基体を構成するslN は共有結合性物質であるた
め焼結性が悪いことが知られているが、焼結助剤として
MgO,Y O、AIO、AjN、 ZrO、HfO,
、TiC,TiN、 B O,BN及びTiB のう
ちの少なくとも一種を添加すれば良好な焼結性が得られ
、マイクロドリルの基体として充分に緻密で硬く且つ高
温強度が高いSi N 焼結体が得られることが判った
。しかも、ZrOとHfOはSi N 焼結体の高温強
度を向上させ、Tie、 TiN、 B C,BN及び
TiB はSi N 焼結体の耐摩耗性を向上させる作
用があることが判った。
め焼結性が悪いことが知られているが、焼結助剤として
MgO,Y O、AIO、AjN、 ZrO、HfO,
、TiC,TiN、 B O,BN及びTiB のう
ちの少なくとも一種を添加すれば良好な焼結性が得られ
、マイクロドリルの基体として充分に緻密で硬く且つ高
温強度が高いSi N 焼結体が得られることが判った
。しかも、ZrOとHfOはSi N 焼結体の高温強
度を向上させ、Tie、 TiN、 B C,BN及び
TiB はSi N 焼結体の耐摩耗性を向上させる作
用があることが判った。
上記焼結助剤の添加量は夫々が0.01〜30重量%の
範囲であり、いずれもO0旧重量%未満では添加の効果
がなく、30重量%を超えるとMgO。
範囲であり、いずれもO0旧重量%未満では添加の効果
がなく、30重量%を超えるとMgO。
Y、O,、A/、O,、AIHに関しては耐jl!耗性
が低下し、ZrO,、HfO,、TiC,TiN、B
C,EN、 TfB、に関しては靭性が低下する。又、
焼結助剤の添加量が合計で50重量%を超えるとSi
N 焼結体の強度が低下する。
が低下し、ZrO,、HfO,、TiC,TiN、B
C,EN、 TfB、に関しては靭性が低下する。又、
焼結助剤の添加量が合計で50重量%を超えるとSi
N 焼結体の強度が低下する。
しかも、Sj、N 粉末と上記焼結助剤の混合粉末を
、3気圧以上の窒素ガス中において1850C°以下の
焼結温度及び3時間以下の焼結時間で焼結すると、得ら
れるSi N 焼結体の組織が短径1μm以下の柱状
晶組織となって靭性が大幅に向上し、特にプリント基板
の穴明けに用いる直径5闘以下の細いマイクロドリルで
あっても充分な靭性が得られ、極めて長寿命となること
が判った。又、原料のSi N 粉末としてイミド分
解法により得られたSi N 粉末を使用することに
よって、結晶粒が更に微細となり、靭性が一層向上する
。
、3気圧以上の窒素ガス中において1850C°以下の
焼結温度及び3時間以下の焼結時間で焼結すると、得ら
れるSi N 焼結体の組織が短径1μm以下の柱状
晶組織となって靭性が大幅に向上し、特にプリント基板
の穴明けに用いる直径5闘以下の細いマイクロドリルで
あっても充分な靭性が得られ、極めて長寿命となること
が判った。又、原料のSi N 粉末としてイミド分
解法により得られたSi N 粉末を使用することに
よって、結晶粒が更に微細となり、靭性が一層向上する
。
第1表に列記するSi N 粉末と焼結助剤を充分混
合し、混合粉末を1 ton/f:m”の圧力で成形し
た後、5気圧のN ガス中において1800C”で1時
間焼結することにより、刃先外径0.8鰭で刃長30.
0鱈の寸法を持ったJIS B 4301のドリル形状
の81N 焼結体を夫々製造した。尚、得られたSi
N焼結体の柱状晶の短径を第1表に示した。
合し、混合粉末を1 ton/f:m”の圧力で成形し
た後、5気圧のN ガス中において1800C”で1時
間焼結することにより、刃先外径0.8鰭で刃長30.
0鱈の寸法を持ったJIS B 4301のドリル形状
の81N 焼結体を夫々製造した。尚、得られたSi
N焼結体の柱状晶の短径を第1表に示した。
第
表
得られた各Si N 焼結体のうち試料A3〜9の表面
に、公知の低圧気相合成法(熱フイラメント法)を用い
て下記条件により第2表の層厚を有するダイヤモンド被
覆層を夫々形成した。
に、公知の低圧気相合成法(熱フイラメント法)を用い
て下記条件により第2表の層厚を有するダイヤモンド被
覆層を夫々形成した。
反応容器 :直径200鶴の石英管フィラメント
材質 :金属タングステンフィラメント温度 :
2400 C’フィラメントとドリル 先端間距離 10.0 闘 全 圧 : 100 torr雰囲気ガ
ス :H−1%CHガス 時 間 :0.5〜10 時間得られた本発
明例の各ダイヤモンド被1ijsiN焼結体製マイクロ
ドリル(試料屋3〜9)について、下記条件でプリント
基板の穴明は加工試験を行なった。
材質 :金属タングステンフィラメント温度 :
2400 C’フィラメントとドリル 先端間距離 10.0 闘 全 圧 : 100 torr雰囲気ガ
ス :H−1%CHガス 時 間 :0.5〜10 時間得られた本発
明例の各ダイヤモンド被1ijsiN焼結体製マイクロ
ドリル(試料屋3〜9)について、下記条件でプリント
基板の穴明は加工試験を行なった。
被 削 材 : 3枚の4層シートを厚さ0.1
2酩のAl板と厚さ1.6簡のベー クライト板に挟んだ全厚6.55 鴎のプリント基板 回転速度 : 60.00Or、 p、 m。
2酩のAl板と厚さ1.6簡のベー クライト板に挟んだ全厚6.55 鴎のプリント基板 回転速度 : 60.00Or、 p、 m。
切削速度 :4,000簡/ m i n送
リ = 50 μm/
rev。
リ = 50 μm/
rev。
この穴明は加工試験で、穴内径面粗さが工具寿命と判断
される30μmに至るまでの穴加工数を測定し、穴明は
加工終了後にマイクロドリルの刃先を観察し、又被削材
の溶着状態を調べた。
される30μmに至るまでの穴加工数を測定し、穴明は
加工終了後にマイクロドリルの刃先を観察し、又被削材
の溶着状態を調べた。
比較例として上記試料&1〜2、従来例とじて上記各マ
イクロドリルと同じ寸法及び形状を有し、J工S K
10に相当する組成のwe基超超硬合金製マイクロドリ
ル試料Al0)、及びその表面に公知の真空アーク蒸着
法に上り層厚2.0μmのTiN被覆層を形成した表面
被覆WCC超超硬合金製マイクロドリル試料A11)を
準備し、上記と同様のプリント基板の穴明は加工試験を
行なった。
イクロドリルと同じ寸法及び形状を有し、J工S K
10に相当する組成のwe基超超硬合金製マイクロドリ
ル試料Al0)、及びその表面に公知の真空アーク蒸着
法に上り層厚2.0μmのTiN被覆層を形成した表面
被覆WCC超超硬合金製マイクロドリル試料A11)を
準備し、上記と同様のプリント基板の穴明は加工試験を
行なった。
得られた結果を第2表に示す。
第 2 表
(註)表中の×印は比較例又は従来例である。
上記の結果から、比較例のダイヤモンド被覆を有しない
Si N 焼結体製マイクロドリル(試料人1〜2)も
靭性が向上していること、及びこれにダイヤモンド被覆
層を形成した本発明例のダイヤモンド被N5iN 焼結
体製マイクロドリル(試料應3〜9)は、従来例のマイ
クロドリル(試料屋10〜11)に比べ遥かに優れた耐
摩耗性と耐溶着性を示すことが判る。
Si N 焼結体製マイクロドリル(試料人1〜2)も
靭性が向上していること、及びこれにダイヤモンド被覆
層を形成した本発明例のダイヤモンド被N5iN 焼結
体製マイクロドリル(試料應3〜9)は、従来例のマイ
クロドリル(試料屋10〜11)に比べ遥かに優れた耐
摩耗性と耐溶着性を示すことが判る。
本発明のダイヤモンド被覆Si N 焼結体製マイクロ
ドリルは、プリント基板の穴明は加工において優れた耐
摩耗性と耐溶着性を示し、過酷な条件下でも工具寿命が
長く、従来よりも遥かに長期にわたり良好な寸法精度の
穴明は加工を行なうことが出来る。
ドリルは、プリント基板の穴明は加工において優れた耐
摩耗性と耐溶着性を示し、過酷な条件下でも工具寿命が
長く、従来よりも遥かに長期にわたり良好な寸法精度の
穴明は加工を行なうことが出来る。
手続補正書(自発)
平成2年7月130司
敏 殿
Claims (2)
- (1)短径が1μm以下の柱状晶組織からなるSi_3
N_4を主成分とし、MgO、Y_2O_3、Al_2
O_3、AlN、ZrO_2、HfO_2、TiC、T
iN、B_4C、BN及びTiB_2のうちの少なくと
も一種を夫々0.01〜30重量%、合計で50重量%
以下含有したSi_3N_4焼結体からなる基体と、こ
の基体表面に設けた層厚0.1μm以上のダイヤモンド
被覆層とからなるダイヤモンド被覆Si_3N_4焼結
体製マイクロドリル。 - (2)Si_3N_4焼結体が、イミド分解法Si_3
N_4粉末を原料粉末とする、請求項(1)記載のダイ
ヤモンド被覆Si_3N_4焼結体製マイクロドリル。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11474790A JPH0413506A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド被覆Si↓3N↓4焼結体製マイクロドリル |
US07/691,446 US5137398A (en) | 1990-04-27 | 1991-04-25 | Drill bit having a diamond-coated sintered body |
EP91106680A EP0454114B1 (en) | 1990-04-27 | 1991-04-25 | Drill of diamond-coated sintered body |
DE69103073T DE69103073T2 (de) | 1990-04-27 | 1991-04-25 | Bohrer mit gesintertem diamantbeschichtetem Körper. |
KR1019910006742D KR940011212B1 (ko) | 1990-04-27 | 1991-04-26 | 다이아몬드 피복 소결체 드릴 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11474790A JPH0413506A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド被覆Si↓3N↓4焼結体製マイクロドリル |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0413506A true JPH0413506A (ja) | 1992-01-17 |
Family
ID=14645661
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11474790A Pending JPH0413506A (ja) | 1990-04-27 | 1990-04-27 | ダイヤモンド被覆Si↓3N↓4焼結体製マイクロドリル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0413506A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018092187A1 (ja) * | 2016-11-15 | 2019-10-10 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 切削工具 |
CN112301345A (zh) * | 2020-11-05 | 2021-02-02 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 铸钢轧辊用激光熔覆合金粉料及其激光熔覆方法 |
-
1990
- 1990-04-27 JP JP11474790A patent/JPH0413506A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2018092187A1 (ja) * | 2016-11-15 | 2019-10-10 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 切削工具 |
CN112301345A (zh) * | 2020-11-05 | 2021-02-02 | 邯郸钢铁集团有限责任公司 | 铸钢轧辊用激光熔覆合金粉料及其激光熔覆方法 |
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