JPH04134418A - レーザ回折装置 - Google Patents
レーザ回折装置Info
- Publication number
- JPH04134418A JPH04134418A JP25855990A JP25855990A JPH04134418A JP H04134418 A JPH04134418 A JP H04134418A JP 25855990 A JP25855990 A JP 25855990A JP 25855990 A JP25855990 A JP 25855990A JP H04134418 A JPH04134418 A JP H04134418A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid crystal
- diffraction grating
- phase
- voltage
- laser beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 claims abstract description 35
- 238000005457 optimization Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 4
- 230000006870 function Effects 0.000 description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- 239000004988 Nematic liquid crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、光コンピユーテイングシステムやファイバー
分波器等に応用可能な、位相制御型のレーザ回折装置に
関する。
分波器等に応用可能な、位相制御型のレーザ回折装置に
関する。
(従来の技術)
従来、高い効率で一次元または二次元の等強度スポット
アレイを形成する回折格子(アレイイルミネータ)とし
ては、特開昭61−204601号公報で示されるよう
なダンマン(D a mm ann) ・グレーティ
ングが知られている。第5図は、上述した高い効率で一
次元または二次元の等強度スポットアレイを形成する場
合を示しており、レーザ光源11から放射されたレーザ
光をレンズ12により平行光にし、これを回折格子13
にて回折し、さらにレンズ14によりフーリエ変換する
。15は出力面で、上述のようにレーザ光源11から放
射されたレーザ光が、レンズ12、回折格子13、レン
ズ14を通過して等強度のスポットを形成する。
アレイを形成する回折格子(アレイイルミネータ)とし
ては、特開昭61−204601号公報で示されるよう
なダンマン(D a mm ann) ・グレーティ
ングが知られている。第5図は、上述した高い効率で一
次元または二次元の等強度スポットアレイを形成する場
合を示しており、レーザ光源11から放射されたレーザ
光をレンズ12により平行光にし、これを回折格子13
にて回折し、さらにレンズ14によりフーリエ変換する
。15は出力面で、上述のようにレーザ光源11から放
射されたレーザ光が、レンズ12、回折格子13、レン
ズ14を通過して等強度のスポットを形成する。
第6図は、上記回折格子13の変化点と複素振幅透過率
を示している。ここでは、説明を簡略化するため、X方
向のみの一次元で考えている。図から明らかなように、
この回折格子13は次のような特徴を有する。
を示している。ここでは、説明を簡略化するため、X方
向のみの一次元で考えている。図から明らかなように、
この回折格子13は次のような特徴を有する。
(1)周期的構造である。ここでは、回折格子の基本周
期を1として解析しており、この基本周期が無限に繰り
返しているものとする。
期を1として解析しており、この基本周期が無限に繰り
返しているものとする。
(2)原点(X=0)において対称である。
(3)位相量は0もしくはπの2値である。複素振幅透
過率はそれぞれ+1(位相量・0)、1(位相量、π)
となる。
過率はそれぞれ+1(位相量・0)、1(位相量、π)
となる。
この回折格子の複素振幅透過率を関数g (x)で表す
と次式のようになる。
と次式のようになる。
0 ≦ X ≦ 0.5 ・・・ (1)こ
こで、lxl≦1/2の場合、 +ect(x) =1 x l > 1 / 2の場合、 reclfx) =0 と定義する。
こで、lxl≦1/2の場合、 +ect(x) =1 x l > 1 / 2の場合、 reclfx) =0 と定義する。
前記レンズ14は、回折格子13を通過したレーザ光を
フーリエ変換するものであり、X軸において、回折格子
は無限に続いていると仮定しているので、g (x)は
次式で示すように、フーリエ級数で表すことができる。
フーリエ変換するものであり、X軸において、回折格子
は無限に続いていると仮定しているので、g (x)は
次式で示すように、フーリエ級数で表すことができる。
↓■
g (1) = ΣAm exp(2π1nrl・・
・ (2) 上式において、Amは、フーリエ変換面(出力面)15
においてm次回折光の振幅を与えるものである。
・ (2) 上式において、Amは、フーリエ変換面(出力面)15
においてm次回折光の振幅を与えるものである。
このAmは、対称性g (x) =g (−x)を利用
°することにより次のようになる。
°することにより次のようになる。
(1) (3)式からm次回折光の振幅は次のように求
められる。
められる。
5in(2πmxn) 、 m≠0
・・・ (5)
回折格子の対称性から、Am=A−mであり、また、回
折光強度1mは、1m =A211fiである。
折光強度1mは、1m =A211fiである。
ダンマン・グレーティングの設計の際には、次式の最適
化計算により、等強度の条件になるように回折格子の変
化点(位相が変化する点)X=<xl、・・・、XN>
を求める。このようにして求められた解により制作され
る回折格子が前述したダンマン・グレーティングである
。
化計算により、等強度の条件になるように回折格子の変
化点(位相が変化する点)X=<xl、・・・、XN>
を求める。このようにして求められた解により制作され
る回折格子が前述したダンマン・グレーティングである
。
T O(X ) = I±1(X )=−= I±
N(X )−・・(6)このようにして作られた回折
格子を第5図の回折格子として配置する。この構成によ
ると、第5図で示すように、レーザ光源11から放射さ
れたレーザ光はレンズ(コリメータ)12で平行光にさ
れ、上記回折格子13に入射される。そして、回折格子
13により回折されたレーザ光はレンズ14によりフー
リエ変換され、出力面(フーリエ変換面)15に、等強
度のスポットを生成する。なお、第7図はダンマン・グ
レーティングを通る光の位相量変化を表している。
N(X )−・・(6)このようにして作られた回折
格子を第5図の回折格子として配置する。この構成によ
ると、第5図で示すように、レーザ光源11から放射さ
れたレーザ光はレンズ(コリメータ)12で平行光にさ
れ、上記回折格子13に入射される。そして、回折格子
13により回折されたレーザ光はレンズ14によりフー
リエ変換され、出力面(フーリエ変換面)15に、等強
度のスポットを生成する。なお、第7図はダンマン・グ
レーティングを通る光の位相量変化を表している。
(発明が解決しようとする課題)
このような従来のダンマン・グレーティングの場合、出
力の等強度化を行うために、格子の変化点の座標を変化
させている。しかし、このダンマン・グレーティングの
原理を電気アドレス方式の空間位相変調器に応用しよう
としても、電気アドレス方式の空間位相変調器は、ダン
マン・ブレティングの制作に必要な空間分解能を備えて
いない(ピクセル数が有限である)ので、応用すること
は困難である。
力の等強度化を行うために、格子の変化点の座標を変化
させている。しかし、このダンマン・グレーティングの
原理を電気アドレス方式の空間位相変調器に応用しよう
としても、電気アドレス方式の空間位相変調器は、ダン
マン・ブレティングの制作に必要な空間分解能を備えて
いない(ピクセル数が有限である)ので、応用すること
は困難である。
本発明の目的は、電気アドレス方式の空間位相変調器に
応用可能な、新しい原理の、等強度スポットを実現する
レーザ回折装置を提供することにある。
応用可能な、新しい原理の、等強度スポットを実現する
レーザ回折装置を提供することにある。
(課題を解決するための手段)
本発明によるレーザ回折装置は、レーザ光を回折する回
折格子として、互いに間隔を保って対峙している一対の
透明電極間に液晶を封止した液晶装置を用い、上記透明
電極間に電圧を印加して、上記液晶を通過したレーザ光
の位相量を変化させるものである。
折格子として、互いに間隔を保って対峙している一対の
透明電極間に液晶を封止した液晶装置を用い、上記透明
電極間に電圧を印加して、上記液晶を通過したレーザ光
の位相量を変化させるものである。
(作用)
本発明では、回折格子として、液晶装置を用い、その透
明電極間に印加される電圧により、この液晶装置を通る
レーザ光の位相量を調整し、回折するものである。
明電極間に印加される電圧により、この液晶装置を通る
レーザ光の位相量を調整し、回折するものである。
(実施例)
以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図において、第5図で示した従来例と同様に、レー
ザ光源11から放射されたレーザ光をレンズ12により
平行光にし、これを回折格子13にて回折し、さらにレ
ンズ14によりフーリエ変換する。
ザ光源11から放射されたレーザ光をレンズ12により
平行光にし、これを回折格子13にて回折し、さらにレ
ンズ14によりフーリエ変換する。
そして、上述のようにレーザ光源11から放射されたレ
ーザ光が、レンズ12、回折格子13、レンズ14を通
過して等強度のスポットを出力面I5に形成する。
ーザ光が、レンズ12、回折格子13、レンズ14を通
過して等強度のスポットを出力面I5に形成する。
上記回折格子13としては、互いに間隔を保つて対峙し
ている一対の透明電極間に液晶を封止した液晶装置を用
いている。この液晶装置13には、液晶テレビに用いら
れるような液晶表示器を用いる。上記透明電極間には、
コンピュータ16によって求められた電圧が、フレーム
メモリ17を介して印加される。
ている一対の透明電極間に液晶を封止した液晶装置を用
いている。この液晶装置13には、液晶テレビに用いら
れるような液晶表示器を用いる。上記透明電極間には、
コンピュータ16によって求められた電圧が、フレーム
メモリ17を介して印加される。
ここで、液晶は一般に複屈折性物質であり、光の偏向方
向が分子軸に平行な場合と垂直な場合とでは、光の屈折
率が異なる特性を有する。一般に液晶テレビ等では90
°ツイストネマテイツク液晶が用いられており、これが
前述のように透明電極間にサンドイッチ状に保持されて
いるので、この2つの透明電極間では液晶分子の分子軸
が900捩じれた構造となっている。
向が分子軸に平行な場合と垂直な場合とでは、光の屈折
率が異なる特性を有する。一般に液晶テレビ等では90
°ツイストネマテイツク液晶が用いられており、これが
前述のように透明電極間にサンドイッチ状に保持されて
いるので、この2つの透明電極間では液晶分子の分子軸
が900捩じれた構造となっている。
また、第3図(b)で示すように、上記透明電極19.
20間に電圧を印加すると、液晶の分子軸は印加された
電界と平行になろうとして傾き角θを持つようになる。
20間に電圧を印加すると、液晶の分子軸は印加された
電界と平行になろうとして傾き角θを持つようになる。
この傾き角θと印加電圧の大きさとの関係は第3図(a
)で示す通りである。
)で示す通りである。
ここで、まったく電圧が印加されていない場合と、分子
軸が僅かに傾くだけの電圧を印加した場合とを考え、こ
れらの場合における光の屈折率をそれぞれneおよびn
(θ)とする。この場合、これらの位相差ψは次式で表
される。
軸が僅かに傾くだけの電圧を印加した場合とを考え、こ
れらの場合における光の屈折率をそれぞれneおよびn
(θ)とする。この場合、これらの位相差ψは次式で表
される。
ψ=(2yr/λ)d 1ne−n (θ))+IQ≦
n(θ)≦ne ・・・ (7)λは
波長、dは液晶の厚さ この場合、分子軸が僅かに傾くだけの電圧を印加する理
由は、90″ツイストネマテイツク液晶をあまり傾ける
と、位相変調だけでなく強度変調もかかってしまうため
である。
n(θ)≦ne ・・・ (7)λは
波長、dは液晶の厚さ この場合、分子軸が僅かに傾くだけの電圧を印加する理
由は、90″ツイストネマテイツク液晶をあまり傾ける
と、位相変調だけでなく強度変調もかかってしまうため
である。
このように前記透明電極19.2[1を介して液晶に電
圧を印加すると、この液晶に印加された電圧により、液
晶を通過したレーザ光の位相が変化することになる。
圧を印加すると、この液晶に印加された電圧により、液
晶を通過したレーザ光の位相が変化することになる。
本発明はこのような現象に着目してなされたものであり
、第2図は、このような位相制御型の回折格子13を通
った光の位相量変化を表している。
、第2図は、このような位相制御型の回折格子13を通
った光の位相量変化を表している。
この回折格子では、格子の変化点を固定しており、ここ
では、図示のように、位相の変調を行う場所の幅をb、
位相の変調を行わない場所の幅をaとしている。この回
折格子の特徴は、ダンマン・グレーティングの特徴とほ
ぼ同じで、以下に示す通りである。
では、図示のように、位相の変調を行う場所の幅をb、
位相の変調を行わない場所の幅をaとしている。この回
折格子の特徴は、ダンマン・グレーティングの特徴とほ
ぼ同じで、以下に示す通りである。
(1)周期的構造である。すなわち、基本周期を1とし
て解析し、この基本周期が無限に繰り返しているものと
する。
て解析し、この基本周期が無限に繰り返しているものと
する。
(2)原点(x = 0)について対称である。
ここで、位相量をφn、n=l、・・・、Nのように与
えると、この回折格子は、次式のように表される。
えると、この回折格子は、次式のように表される。
g (り = 「eel (t/a)本(2N−1)c
omb I(2N−1) x、(δ(X2n−12n−
I TTTT”T) )+δ(!+TTTfT))+exp
(iφNl rec f (!/b) eδ(x−1
/2B 1cornb (x)・・・(8) ここで、comb (x)= Σδ(n−x)n=−
■ と定義し、*印はコンボリューション(たたみこみ積分
)を表す。
omb I(2N−1) x、(δ(X2n−12n−
I TTTT”T) )+δ(!+TTTfT))+exp
(iφNl rec f (!/b) eδ(x−1
/2B 1cornb (x)・・・(8) ここで、comb (x)= Σδ(n−x)n=−
■ と定義し、*印はコンボリューション(たたみこみ積分
)を表す。
出力面15での光強度分布は、g (x)をフーリエ変
換することにより得られる。ここで上記(8)式のフー
リエ変換を行うと次式となる。
換することにより得られる。ここで上記(8)式のフー
リエ変換を行うと次式となる。
G(f)= ze+1nc(tf) @comb(1
/(2N−1)1.2 c o s (」r■yr f
)N−1 +expliφN lb−5ine(bf )・
etpl iπfil ・ comb(+)
−(9)sin π f ここで、5inc(f)−一。ニーと定義する。
/(2N−1)1.2 c o s (」r■yr f
)N−1 +expliφN lb−5ine(bf )・
etpl iπfil ・ comb(+)
−(9)sin π f ここで、5inc(f)−一。ニーと定義する。
上記(9)式から、m次回折光の振幅は次のように求め
られる。
られる。
+b
exp (
φN)
・・・ (10)
n−1
2cO5(2N−1
πm)
+ elp (
φNlb
sinc(bm) ・
exp JirI!ll
m=1
N−1
・・・ (11)
ここで、回折格子の対称性からAm=A−mである。回
折光の強度は、lm=lAm12で求められる。この回
折格子の設計に際し、最適化計算により次式の等強度条
件を満足するように、それぞれの格子の位相量P=<φ
1.・・・、φ9〉を求める。
折光の強度は、lm=lAm12で求められる。この回
折格子の設計に際し、最適化計算により次式の等強度条
件を満足するように、それぞれの格子の位相量P=<φ
1.・・・、φ9〉を求める。
第1図に示された回折格子13は上述のようにして設計
されたものであり、レーザ光源11から放射されたレー
ザ光はレンズ12を通って平行光となり、上記回折格子
、すなわち、液晶装置13を通って回折され、さらにレ
ンズ14を通ってフーリエ変換されて、出力面15上に
等強度スポットを形成する。
されたものであり、レーザ光源11から放射されたレー
ザ光はレンズ12を通って平行光となり、上記回折格子
、すなわち、液晶装置13を通って回折され、さらにレ
ンズ14を通ってフーリエ変換されて、出力面15上に
等強度スポットを形成する。
上記回折格子の一例として、N=2.3,4゜8の場合
の回折格子の位相量データを計算したものが次の表に示
す値である。これらの値は前記(12)式を満足する解
φである。ただし、第2図におけるa / b = 1
/ 9とする。
の回折格子の位相量データを計算したものが次の表に示
す値である。これらの値は前記(12)式を満足する解
φである。ただし、第2図におけるa / b = 1
/ 9とする。
(以下次頁)
すなわち、上記表に示された値は、前述した等強度化に
必要な回折格子の位相量(ラジアン)である。
必要な回折格子の位相量(ラジアン)である。
第1図に示したコンピュータ16は、前述したようにス
ポットアレイの等強度化のための位相量を計算し、回折
格子である液晶装置13のピクセル(画素)に、フレー
ムメモリ17を介して、位相量に相当する電圧を印加す
る。
ポットアレイの等強度化のための位相量を計算し、回折
格子である液晶装置13のピクセル(画素)に、フレー
ムメモリ17を介して、位相量に相当する電圧を印加す
る。
上記構成において、コンピュータ16により計算された
回折格子のパターンは、フレ・−ムメモリ17を介して
液晶装置13に出力される。すなわち、上記コンピュー
タ16は前述のように最適化計算によってスポットアレ
イの等強度化のための位相量を計算し、その計算結果に
相当する電圧を、フレームメモリ17を介して液晶装置
13のピクセルに印加する。この結果、光源からのレー
ザ光は平行光にされてから、位相制御型回折格子として
機能する液晶装置13により回折され、レンズ14によ
りフーリエ変換されて出力面(フーリエ変換面)15に
等強度のスポットアレイを形成する。
回折格子のパターンは、フレ・−ムメモリ17を介して
液晶装置13に出力される。すなわち、上記コンピュー
タ16は前述のように最適化計算によってスポットアレ
イの等強度化のための位相量を計算し、その計算結果に
相当する電圧を、フレームメモリ17を介して液晶装置
13のピクセルに印加する。この結果、光源からのレー
ザ光は平行光にされてから、位相制御型回折格子として
機能する液晶装置13により回折され、レンズ14によ
りフーリエ変換されて出力面(フーリエ変換面)15に
等強度のスポットアレイを形成する。
第4図は、上述した液晶装置を用いた位相制御型の回折
格子をレーザ光のコヒーレント集光に用いた例を示して
いる。図において、22は複数の半導体レーザ素子であ
り、これらから放射されたレーザ光は上述した位相制御
型の回折格子13に入射され、回折される。また、23
はアパーチャー24は出力ミラーである。上記回折格子
13は各レーザーの共振器ミラーと出力ミラー24によ
り構成される共振器内に置かれており、このため、それ
ぞれのレーザ光は出力ミラーを共有する構造になってい
る。
格子をレーザ光のコヒーレント集光に用いた例を示して
いる。図において、22は複数の半導体レーザ素子であ
り、これらから放射されたレーザ光は上述した位相制御
型の回折格子13に入射され、回折される。また、23
はアパーチャー24は出力ミラーである。上記回折格子
13は各レーザーの共振器ミラーと出力ミラー24によ
り構成される共振器内に置かれており、このため、それ
ぞれのレーザ光は出力ミラーを共有する構造になってい
る。
上記構成において、各半導体レーザ素子22から放射さ
れたレーザ光は、回折格子13を通り、アパーチャー2
3を通って出力ミラー24に到達する。
れたレーザ光は、回折格子13を通り、アパーチャー2
3を通って出力ミラー24に到達する。
この場合、回折格子13による集光効率が最大になるよ
うに、それぞれのレーザの位相が整合された状態で光が
出力ミラー24と半導体内とを往復することによりレー
ザが発振する。したがって、この共振器では、上述のよ
うに位相が整合されるように、半導体レーザ素子22゛
の位置等を調整する必要がある。
うに、それぞれのレーザの位相が整合された状態で光が
出力ミラー24と半導体内とを往復することによりレー
ザが発振する。したがって、この共振器では、上述のよ
うに位相が整合されるように、半導体レーザ素子22゛
の位置等を調整する必要がある。
ここで、回折格子(アレイイルミネータ)1′!、最近
の光コンピュータの研究において、光結線素子として注
目されており、光コンピユータシステムへの応用として
は、(1)高密度化した大量の素子へのクロック信号の
分配(クロックスキューを無くす手段として有用)、(
2)光演算システムの入力へのに使用、等が考えられて
いる。この他、その適用範囲は今後の研究によりより拡
大すると考えられる。
の光コンピュータの研究において、光結線素子として注
目されており、光コンピユータシステムへの応用として
は、(1)高密度化した大量の素子へのクロック信号の
分配(クロックスキューを無くす手段として有用)、(
2)光演算システムの入力へのに使用、等が考えられて
いる。この他、その適用範囲は今後の研究によりより拡
大すると考えられる。
また、液晶装置13を2台直列に配置することにより、
2次元回折格子とすることも可能である。
2次元回折格子とすることも可能である。
以上のように本発明によるレーザ回折格子は、ダンマン
・グレーティングに対して原理的に新しいものであり、
電気アドレス方式の空間位相変調器に適用することがで
きる。このため、ダンマン・グレーティングを、その位
相変化点の座標位置を正確に出すために電子ビーム露光
装置を用いたリソグラフィー法によって制作する必要は
なく、ダンマン・グレーティングと同等の性能を有する
回折装置を容易に制作することができる。また、電気ア
ドレス方式の空間位相変調器として用いるので、光源の
レーザの波長が変化しても、位相量を変化させることに
より、この変化に適応した回折装置を実時間で形成でき
る。さらにスポット数を任意に変化させることも可能で
ある。
・グレーティングに対して原理的に新しいものであり、
電気アドレス方式の空間位相変調器に適用することがで
きる。このため、ダンマン・グレーティングを、その位
相変化点の座標位置を正確に出すために電子ビーム露光
装置を用いたリソグラフィー法によって制作する必要は
なく、ダンマン・グレーティングと同等の性能を有する
回折装置を容易に制作することができる。また、電気ア
ドレス方式の空間位相変調器として用いるので、光源の
レーザの波長が変化しても、位相量を変化させることに
より、この変化に適応した回折装置を実時間で形成でき
る。さらにスポット数を任意に変化させることも可能で
ある。
第1図は本発明によるレーザ回折装置の一実施例を示す
構成図、第2図は第1図で示した位相制御型回折格子を
通った光の位相量変化を表す図、第3図(りは液晶の分
子軸の傾きと印加電圧との関係を示す特性図、第3図(
b)は上記液晶に電圧を加えている状態を説明するため
の斜視図、第4図は本発明の他の実施例を示す図、第5
図は従来装置を示す図、第6図は第5図で示した回折格
子の変化点と複素振幅透過率を示す図、第7図は従来装
置を通った光の位相量変化を表す図である。 11・・レーザ光源、13・・回折格子、19.20・
・透明電極。
構成図、第2図は第1図で示した位相制御型回折格子を
通った光の位相量変化を表す図、第3図(りは液晶の分
子軸の傾きと印加電圧との関係を示す特性図、第3図(
b)は上記液晶に電圧を加えている状態を説明するため
の斜視図、第4図は本発明の他の実施例を示す図、第5
図は従来装置を示す図、第6図は第5図で示した回折格
子の変化点と複素振幅透過率を示す図、第7図は従来装
置を通った光の位相量変化を表す図である。 11・・レーザ光源、13・・回折格子、19.20・
・透明電極。
Claims (1)
- (1)レーザ光を回折する回折格子として、互いに間隔
を保って対峙している一対の透明電極間に液晶を封止し
た液晶装置を用い、上記透明電極間に電圧を印加して、
上記液晶を通過したレーザ光の位相量を変化させること
を特徴とするレーザ回折装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25855990A JPH04134418A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | レーザ回折装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25855990A JPH04134418A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | レーザ回折装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04134418A true JPH04134418A (ja) | 1992-05-08 |
Family
ID=17321913
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25855990A Pending JPH04134418A (ja) | 1990-09-27 | 1990-09-27 | レーザ回折装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04134418A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07181441A (ja) * | 1993-09-03 | 1995-07-21 | Hughes Aircraft Co | 変更可能な光ビームスプリッタおよび方法 |
JPH09212900A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Samsung Electron Co Ltd | 互換形光ピックアップ装置 |
-
1990
- 1990-09-27 JP JP25855990A patent/JPH04134418A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07181441A (ja) * | 1993-09-03 | 1995-07-21 | Hughes Aircraft Co | 変更可能な光ビームスプリッタおよび方法 |
US5650835A (en) * | 1993-09-03 | 1997-07-22 | Hughes Electronics | Reconfigurable optical beam splitter and method |
JPH09212900A (ja) * | 1996-01-30 | 1997-08-15 | Samsung Electron Co Ltd | 互換形光ピックアップ装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zhu et al. | Arbitrary manipulation of spatial amplitude and phase using phase-only spatial light modulators | |
Barnes et al. | Phase-only modulation using a twisted nematic liquid crystal television | |
Mogensen et al. | Dynamic array generation and pattern formation for optical tweezers | |
EP1346252B1 (en) | A method and an apparatus for generating a phase-modulated wave front of electromagnetic radiation | |
Liu et al. | Demonstration of polarization-insensitive spatial light modulation using a single polarization-sensitive spatial light modulator | |
Suarez et al. | Photorefractive and computational holography in the experimental generation of Airy beams | |
Moreno et al. | Transmission and phase measurements for polarization eigenvectors in twisted-nematic liquid crystal spatial light modulators | |
Wu et al. | Arbitrary multiple beam forming by two cascaded liquid crystal optical phased arrays | |
Engström et al. | Improved beam steering accuracy of a single beam with a 1D phase-only spatial light modulator | |
Arrizon et al. | Implementation of Fourier array illuminators using pixelated SLM: efficiency limitations | |
Kumar et al. | Generation of V-point polarization singularity using single phase encoding with a spatial light modulator | |
Broomfield et al. | Programmable multiple-level phase modulation that uses ferroelectric liquid-crystal spatial light modulators | |
Niu et al. | Phase modulation characteristics analysis of liquid crystal spatial light modulator under oblique incidence | |
Carbonell-Leal et al. | Effects of mitigation of pixel cross-talk in the encoding of complex fields using the double-phase method | |
JPH04134418A (ja) | レーザ回折装置 | |
CN103676398B (zh) | 基于衍射器件阵列的二维仿射变换全光实现方法 | |
Starobrat et al. | Pixel-level phase filters for off-axis shifting of sinc envelope in holographic projection | |
Jankowski et al. | Liquid crystal anisotropic axicon for the generation of non-diffracting Bessel beams with longitudinally varying polarization | |
Alsaka et al. | Dynamic flat-topped laser beam shaping method using mixed region amplitude freedom algorithm | |
Shan et al. | Fast and deterministic optical phased array calibration via pointwise optimisation | |
Martínez-León et al. | Phase calibration of spatial light modulators by means of Fresnel images | |
Trolard et al. | Speckle noise removal in interference fringes by optoelectronic preprocessing with Epson liquid crystal television | |
KR102697993B1 (ko) | 공간 광 변조 | |
Gupta et al. | Laser intensity mapping across a spatial light modulator to generate uniform and aberration-free focal spots | |
Shen et al. | A Novel Position-Shift Method of Double-Phase Fresnel Hologram for Synthesizing a Complex Fresnel Hologram |