JPH04114424A - Heat treatment device - Google Patents

Heat treatment device

Info

Publication number
JPH04114424A
JPH04114424A JP23418390A JP23418390A JPH04114424A JP H04114424 A JPH04114424 A JP H04114424A JP 23418390 A JP23418390 A JP 23418390A JP 23418390 A JP23418390 A JP 23418390A JP H04114424 A JPH04114424 A JP H04114424A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
fork
boat
heat treatment
reaction tube
end side
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP23418390A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2931924B2 (en
Inventor
Kazuhisa Miyagawa
和久 宮川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Sagami Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Sagami Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Sagami Ltd filed Critical Tokyo Electron Sagami Ltd
Priority to JP23418390A priority Critical patent/JP2931924B2/en
Publication of JPH04114424A publication Critical patent/JPH04114424A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2931924B2 publication Critical patent/JP2931924B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Furnace Charging Or Discharging (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the fixing efficiency of a boat carrier by a method wherein the fine adjustment mechanism of the retainer part of a boat holding bar type member in the right and left directions as well as the other fine adjustment mechanism making alignment of the central line direction of a fork with that of a heat treatment chamber by swiveling the other end side of said bar type member using one side of said member as a fulcrum are provided. CONSTITUTION:The position of a reaction tube 4 as a heat treatment chamber is roughly set up and then a boat 3 carrier is arranged. Next, after this arrangement, a seesaw base 51 is aligned by shifting in the right and left directions on a sliding plate 58 using a bolt 61 and a nut 62 so that the point-held position by a screw 40 in a retainer part 2 may be located on the prolonged line of the central line of the reaction tube 4 to fix the position in the right and left directions to a fixing base 6. Next, the retainer part 2 is rotated on the seesaw base 51 centered on the point-held position by the screw 40 turning a knob thereby swivelling the other end 1B of a fork l in the right and left directions. Finally, the central line direction of the fork l is aligned with the central line direction of the reaction tube 4.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野] この発明は、熱処理装置に関する。 【従来の技術】[Industrial application field] The present invention relates to a heat treatment apparatus. [Conventional technology]

オ導体製造]−程において、例えば拡散処理は熱処理室
である筒状の反応管内に、複数枚の例λば1、00枚の
半導体ウェーハを、hいの土面が対向する状態で並列に
並べて搭載するボートと呼ばれる治具を挿入して行う。 反応管内にボートを挿入搬送する方法と1.では、ソフ
トランディングと呼ばれる方法が、熱処理室内に塵埃を
生じさせない等の理由により用いられている。すなわち
、例えば石英又はSiCで構成されるフォークと呼ばれ
るボート支持用棒状部材の一端側を例えばアルミニウム
等の金属で構成される保持部に取り付けて、この一端側
におい”Cフォークを支持する。そして、このフォーク
を昇降機構によって昇降移動13J能とし、そのフォー
クの他端側に前記つJ−ハを複数枚搭載したボートを載
置し、この状態でフォークをその長手方向に前進させて
、他端側に載置されたボートを反応管内に搬入する。そ
の後、フォークを下げてボートの脚部を反応管内のボー
ト載置部に接触させることにより、フォークとボートと
が離間する状態になるので、フォークのみを反応管から
取り出し、反応管内へのボートの搬入設置を行うもので
ある(例えば特公昭62−35261号公報、特公昭6
2−3571号公報参照)。 このソフトランディング法によれば、ボートやフォーク
が反応管の壁を擦ることがないので、塵埃を発生するこ
と無く、ボートの搬入、取り出しができる。 ところで、熱処理装置において、このボート搬送装置を
熱処理室である反応管に対して設置する際、フォークの
長手方向の中心線方向を反応管の中心線方向に合わせる
と共に、フォークの昇降時にフォークの中心線が反応管
の中心線位置を丁度通るように位置合わせする必要があ
る。従来は、設置者がボート搬送装置を取り付けながら
上記のような位置関係となるように調整していた。
In the process, for example, diffusion treatment is performed in which a plurality of semiconductor wafers, for example, 1,000 semiconductor wafers, are placed in parallel with their soil surfaces facing each other in a cylindrical reaction tube that is a heat treatment chamber. This is done by inserting a jig called a boat that is mounted side by side. 1. Method of inserting and transporting a boat into a reaction tube; In this case, a method called soft landing is used for reasons such as not generating dust inside the heat treatment chamber. That is, one end side of a rod-shaped boat support member called a fork made of quartz or SiC is attached to a holding part made of metal such as aluminum, and the "C fork" is supported on this one end side. This fork can be moved up and down by a lifting mechanism for 13J, and a boat on which a plurality of the above J-Has are mounted is placed on the other end of the fork, and in this state, the fork is advanced in its longitudinal direction, and the other end The boat placed on the side is carried into the reaction tube.Then, by lowering the fork and bringing the leg of the boat into contact with the boat placement part inside the reaction tube, the fork and boat will be separated. Only the fork is removed from the reaction tube, and the boat is carried into the reaction tube and installed (for example, Japanese Patent Publication No. 62-35261, Japanese Patent Publication No. 62-35261, Japanese Patent Publication No. 62-35261,
(See Publication No. 2-3571). According to this soft landing method, the boat or fork does not rub against the walls of the reaction tube, so the boat can be loaded and unloaded without generating dust. By the way, in a heat treatment equipment, when installing this boat transport device to the reaction tube which is the heat treatment chamber, the longitudinal centerline direction of the fork should be aligned with the centerline direction of the reaction tube, and the center of the fork should be aligned when the fork is raised and lowered. It is necessary to align the wire so that it passes exactly through the center line of the reaction tube. Conventionally, the installer adjusted the positional relationship as described above while installing the boat transport device.

【発明が解決しようとする課題】[Problem to be solved by the invention]

しかしながら、ボート搬送装置を取り付けながら反応管
に対する前記のような位置調整を行うのは、調整が非常
に難しく、厄介であり、取り付けに長時間を要する欠点
があった。 この発明は、以上の点にかんがみ、取付設置後に、熱処
理室に対する位置の微調整を行えるようにして、ボート
搬送装置の取付を簡単化し、かつ、熱処理室に対して正
確な位置調整を容易に行えるようにした熱処理装置を提
供することを目的とする。
However, it is very difficult and troublesome to perform the above-mentioned positional adjustment with respect to the reaction tube while installing the boat transport device, and the installation requires a long time. In view of the above points, this invention simplifies the installation of the boat transport device by allowing fine adjustment of its position relative to the heat treatment chamber after installation, and also facilitates accurate position adjustment relative to the heat treatment chamber. It is an object of the present invention to provide a heat treatment apparatus that can perform heat treatment.

【課題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

この発明は、一端側が保持部に取り付けられ、他端側が
遊端とされ、この他端側に複数の被処理体が搭載される
ボートが載置されるボート支持用棒状部材を備え、この
ボート支持用棒状部材を位置調整して前記ボートを熱処
理室内に搬送するようにする熱処理装置において、 前記保持部は、取付板上に、前記ボート支持用棒状部材
の一端側において点支持され、この支持点を中心として
前記取付板上で回動可能な状態で取り付けられ、 前記取付板は、前記ボート支持用棒状部材を昇降機構に
取り付けるための取付台に対して、前記ボート支持用棒
状部材の長手方向に直交する左右方向に移動可能に取り
付けられ、かつ、前記取付板上の保持部の前記取付台上
での前記左右方向の位置が調整手段により調整されるよ
うにしたことを特徴とする。
The present invention includes a rod-shaped member for supporting a boat, on which one end is attached to a holding part, the other end is a free end, and a boat on which a plurality of objects to be processed is mounted is placed. In a heat treatment apparatus that transports the boat into a heat treatment chamber by adjusting the position of a supporting rod-like member, the holding portion is point-supported on one end side of the boat-supporting rod-like member on a mounting plate; The mounting plate is rotatably mounted on the mounting plate about a point, and the mounting plate is attached to the longitudinal direction of the boat supporting rod member with respect to a mounting base for attaching the boat supporting rod member to a lifting mechanism. It is characterized in that it is mounted so as to be movable in the horizontal direction orthogonal to the direction, and the position of the holding portion on the mounting plate in the horizontal direction on the mounting base is adjusted by an adjusting means.

【作用】[Effect]

この発明による熱処理装置では、熱処理室に対する大ま
かな設置位置が定められてボート搬送装置が設置される
。 そして、この設置後、保持部の点支持位置が熱処理室で
ある反応管の中心線の延長上に来るように、保持部の取
付板を取付台に対して左右方向に移動させて位置調整し
て、取付台に対して、取付板をその位置に固定する。 次に、保持部を点支持位置を中心として取付板上で回動
させる。すると、ボート支持用棒状部材の他端側か、水
平面上を首振り運動をする。そして、ボート支持用棒状
部材の中心線方向が正しく反応管の中心線方向を向くよ
うに回動位置を調整する。
In the heat treatment apparatus according to the present invention, the boat transport device is installed with a rough installation position relative to the heat treatment chamber determined. After this installation, adjust the position by moving the mounting plate of the holder in the left-right direction relative to the mounting base so that the point support position of the holder is on the extension of the center line of the reaction tube, which is the heat treatment chamber. and fix the mounting plate in that position relative to the mounting base. Next, the holding portion is rotated on the mounting plate around the point support position. Then, the other end of the boat supporting rod member swings on the horizontal plane. Then, the rotational position is adjusted so that the centerline direction of the boat supporting rod-like member correctly faces the centerline direction of the reaction tube.

【実施例】【Example】

以下、この発明による熱処理装置の一実施例を図を参照
しながら説明する。 図の例は、この発明による熱処理装置のボート搬送装置
部の構成の一例で、ボート支持用棒状部材としてのフォ
ーク1.は、この例ではSLCで構成され、第1図及び
第2図に示すように、フォーク1の一端側IAは断面が
四角形の角柱状とされ、この部分がフォーク保持部2に
取り付けられており、この一端側において、フォーク1
は保持されている。 また、フォーク1の他端側IBは、第3図に示すように
湾曲した板状に構成され、この他端側IB上に、ウェー
ハWを搭載したボート3が載置される。この場合、フォ
ーク1の他端側IBは、ボトうの両側の脚部3A間に挿
入される状態、lなる。ボ〜 ト3の脚部3Aの長さは
、フ埼−8り1の他端側IBのN−’iよりも長い。し
、たかって、後;4)するよ・う1ζ、フォ・−り1に
ボート3を載置しご反応管4内に挿入し、その後、フォ
ーク1−を降下゛させて、ボー ト3の脚部3Aか反応
管4の載置部1、・到達する状態となると、フォーク]
とボー 1・3とは離間するので、フ4−り1のろを引
き抜いてボーt−うのみを反応管4内にロー ドするこ
とができる。また、逆に、ボート3を反応管4から取り
出すときは、フォーク1の他端側IBをボー トコ0両
側の脚部3A間に、フォーク]が反応管4壁及びボート
−3に接触しないようにし、て差し入れ、その後、フォ
ーク〕をト昇させると、フォ〜り1の他端側IB十にボ
ート3か載り、さらに1竹させると、ボート′うを反応
管4の載置部から離間させることができるので、フォー
ク1を後退させることによって、ボート3を反応管4か
ら引き出すことができる。 フォーク1は、十F方向回動機構5によ−〕7その全体
か1−下方向に回動Aるように構成されている。■、ト
h向回動機構5は第1図、第4図及び第5図に示すよう
に構成されている。 ずムわち5,7オ・〜り保持部2は、その取付板とし、
てのシ −ソー台51 、kに取り(=1けられている
。 このシーソー台5〕は、そのほぼ中央部においてフ埼−
り1の長手方向に直交する水束方向に設けられる軸52
に駆支され、この軸52を支点と
An embodiment of the heat treatment apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. The example shown in the figure is an example of the configuration of a boat transport device section of a heat treatment apparatus according to the present invention, and includes a fork 1. is composed of SLC in this example, and as shown in FIGS. 1 and 2, one end side IA of the fork 1 has a prismatic shape with a square cross section, and this part is attached to the fork holding part 2. , on this one end side, the fork 1
is retained. The other end IB of the fork 1 is formed into a curved plate shape as shown in FIG. 3, and the boat 3 carrying the wafers W is placed on the other end IB. In this case, the other end IB of the fork 1 is inserted between the legs 3A on both sides of the bottom. The length of the leg portion 3A of the boat 3 is longer than the length N-'i of the other end side IB of the boat 3. Then, as shown in step 4), place the boat 3 in the fork 1 and insert it into the reaction tube 4, then lower the fork 1 and remove the boat 3. The legs 3A of the reaction tube 4, the mounting part 1 of the reaction tube 4, and the fork]
Since the boats 1 and 3 are separated from each other, the boat 4 can be loaded into the reaction tube 4 by pulling out the bottom of the boat 4. Conversely, when taking out the boat 3 from the reaction tube 4, place the other end IB of the fork 1 between the legs 3A on both sides of the boat 0 so that the fork does not come into contact with the reaction tube 4 wall and the boat 3. Then, when the fork is raised, the boat 3 is placed on the other end of the fork 1, and when it is placed on the other end of the fork, the boat is separated from the place where the reaction tube 4 is placed. Therefore, by retracting the fork 1, the boat 3 can be pulled out from the reaction tube 4. The fork 1 is configured so that its entirety can be rotated downward (A) by a rotation mechanism 5 in the F direction. (2) The T-direction rotation mechanism 5 is constructed as shown in FIGS. 1, 4, and 5. The Zumuwachi 5, 7 O・~ri holding part 2 is its mounting plate,
The seesaw table 51, k (marked by 1, this seesaw table 5) has a horizontal axis at approximately the center thereof.
A shaft 52 provided in the water flux direction perpendicular to the longitudinal direction of the river 1
This shaft 52 is used as a fulcrum.

【2てシーソー台51
がシーソー運動lil能に取すイ・」けられている。そ
して、シーソー台51の、フォグ1の他端側IBとは反
対側の端部には、2個のローラー 53.54が設けら
れる。また、シーソー台5〕の、この端部の上方には、
軸52に平j′jな方向に回転軸55が設けられると共
に、この回転軸55に2個の偏心カム56.57が、第
5図の拡大図にも示すように、ローラー53.54と圧
接jるような状態で取り付けられる。 そして、回転軸55が、図示し、ない例えばパルスモー
タにより回転駆動されると、偏心カム56゜57が同時
にローラー53.54を回転させながら、例えば第5図
゛C矢印C示ずように回転する。 シーソー台51は、フォーク1の他端側の重さにより、
系に上昇方向に移動しようとするが、偏心カム56.5
7によりその上絆位置か規制されでいる。ぞして、回転
軸55の位置は固定されているので、偏心カム56.5
7の回動ににより、この偏心カム56.57の形状に応
じて、ローラー53.54側は、上下動づることになる
。したかって、偏心カム56.57の回動に応じて、シ
ーソー台51は軸52を支軸としてシーソー運動を15
、この結果、フォーク1の他端側]Bが上下方向に回動
させられるものである。この場合、同転軸55を回転駆
動するパルスモータに供給するパルス数を調整すること
により、回転軸55の回動角を調節(7、フォーク1の
他端側1Bの上下方向の回動の移動量を調節できる。 また、第4図に示すように、シーソー台51は、取f=
j台6上に設置・うられた左右方向スライド板58」8
に取イ1られでいる。このスライド板58は、取44台
す土にフォーク1の長手方向に直交する方向(左右力向
)に設けられている1対のレール59に摺動移動iiJ
能に取り付けられている。そして、スライド板58は、
取付台6の側壁6Aに対して、雄ねじ(ボルト)61と
雌ねじ(ナツト)62によって取り付けられ、両ねじを
調節することにより、スライド板58の取(=j台6上
での左右方向の位置が、したがって保持部2の左右方向
の位置が調整可能である。すなわち、雄ねじ61は、そ
の先端によってスライド板58の側壁を押すように作用
し、一方、雌ねじ62は、スライド板58を取トj台6
の側壁6A側に引っ張るように作用する。 したがって、両ねじを緩めたり、締めたりすることによ
ってスライド板58の取付台6の側壁6Aに対する左右
方向の位置を調整して固定することができる。 取イ・1台6は、その側方に設けられた昇降機構7によ
って、昇降ガイド9.10に案内されながら昇降され、
これによりフォーク1が上下方向に昇降するように構成
されている。 また、取付台6の下方には、スライダ8が設けられる。 このスライダ8は、昇降機構7に連結されている。 このスライダ8は、フォーク1の長手方向に沿って設け
られているボールスクリュー11に取り付けられている
と共に、ガイドレール12.13に対して摺動移動可能
に取り付けられており、ボールスクリュー11は、ベル
ト14を介してモータ15により回転駆動される。そし
て、ボールスクリュー11が回転することにより、スラ
イダ8がガイドレール12.13に案内されて、フォー
ク1の長手方向に摺動移動し、このスライダ8の移動に
より取付台6、したがってフォーク1が反応管4内に向
けて、その長手方向すなわち前後移動方向に摺動移動す
る。 また、ボート3を載置する前のフォーク1の位置(ホー
ムポジション)において、フォーク1の他端側IBのボ
ート3.の載置部は、第2図に示されるように、フォー
ク置き台17の取付部材16に取り付けられた置き台1
7によって支えられている。また、この取付部材16は
、ボールスクリュー11より大なる径の貫通孔16Aを
中央に有しており、この貫通孔16A内をボールスクリ
ュー11が挿通される。また、この置き台17の取付部
材16は、ガイドレール12.13に対し摺動移動可能
に取り付けられている。したがって、フォーク1−の長
手方向の力を、この取付部材16に加えると、この取付
部材16がガイドレール12.13に案内されて摺動移
動するように構成されている。 なお、置き台17の取付部材16は、バネ21により図
の位置にあるように常時偏倚されている。 置き台17の取付部材16を摺動移動可能にしたのは、
スライダ8を前進させて、フォーク1上に載置したボー
ト3を反応管4内にローディングあるいはアンローディ
ングするのに必要な摺動移動距離の途中に取付部材16
か存在するためである。 フォーク保持部2は、この例では、第6図に示すように
、フォーク1の上方及び下方から金属例えばアルミニウ
ムからなる保持板31.32によってフォーク1を挟持
して保持するように構成される。図の例では、フォーク
1を弾性的に押さえるための介挿板33が下側の保持板
32とフォーク1との間に設けられる。そして、保持板
31とフォーク1との間、及び介挿板33とフォーク1
との間には、フォーク1の汚染を防止するためにシート
状部材、例えばこの例ではテフロンシート34及び35
がそれぞれ介挿される。 そして、保持板31.32間は、図示しないがボルト及
びナツトによって締め付は固定され、その際にフォーク
1はフォーク・ストッパ36,37によって圧着挟持さ
れて固定される。 こうして、フォーク1は、テフロンシート34及び35
により金属の保持板31.32とは直接には接触しない
ようにされるので、フォーク1が保持部2において、汚
染されることはない。 下側の保持板32の前記上下方向回動用の偏心カム56
.57側の端部には貫通孔38が穿かれ、この貫通孔3
8にはスペーサ39が挿入される。 このスペーサ39にも貫通孔39Aが穿がれており、ね
じ40がこのスペーサ39のI通孔39Aを介して挿入
されてシーソー台51のねし孔51Aに捩じ込まれる。 これにより、下側の保持板32がシーソー台51に対し
てねし40により1点支持される。したがって、下側の
保持板32は、ねじ40による点支持位置を中心として
シーソー台51上で回動可能である。 また、下側の保持板32のフォーク1の他端側の端部に
は、長孔41が設けられている。一方、シーソー台51
の前記長孔41と対応する位置には、シーソー台51の
下方から操作可能な摘み42を回動させることにより回
動する円板43が設けられている。そして、この円板4
3の回転中心からずれた偏心位置には、保持板32の方
向に突出する突起44が設けられており、この突起44
が前記下側の保持板32の長孔41内に嵌合されている
。 したがって、第7図に示すように、摘み42を回動する
と、長孔41内の突起44が円板43の中心を回転中心
として回動移動し、その回動移動に伴−」で保持板3′
、2か、ねj、40による点支持位置を中心・と(、て
シー ソー台511::、で左右方向にmV振り移動を
する。こL7’、) 、l−き、摘め420同動量を調
整することにより保持板3′、?の、ずなわち−7埼り
1の左右方向の首振り位置が調節される。 以−トのよ・)に構成j、た熱処理装置のボ、−ト搬送
装置の設置方法り以トに説明する。 、4:ず、熱処理室である反応管4に対する大まかな設
置位置が定められCボーl=搬送装置が設置される。 そI−1“C1この設置後、保持部2のねU 4 C)
による点支持位置が反応管4の中心線の延長りに来るよ
うに、ねじ61..62によりシーソー台51をスライ
ド板−ト、で左右方向に移動させて位置調整し2、シル
ソー台51の取付台6に対する左右方向の位置を固定す
′る。 次に、摘み42を回して保持部2を、ねじ40による点
支持位置を中心とj、Cシーソー台51−1で同動させ
、こ第1によりフォーク]の他端側IBを左右方向に4
振り移動させる。そして、゛クオク1.の中心線方向が
iE 1.、、、、 <反応b4の中心線方向を向くよ
うに、摘み42の回動量により位置調整する。 以上により、この発明による熱処理装置の設置が終r(
る。 次に、この装置のボー)・搬送動作に−)いて、第8図
を参照しながら説明憚る。 まず、当初、フォーク1は、第8図Aに示すように、そ
の他端側IBのボー ト載置部と置き台]7の接触部材
18とが削れた状態にある。そこで、オペレータは、土
千一方向回動機横5を調節L2て、第8図Bに示すよう
にフォーク1の他端側IBのボート載置部が置き台〕7
の例λば水晶からなる接触部材18に接触するように調
節する。なお、接触部材18の水晶は、不純物が全く無
いようにクリーニングされている。 次に、複数枚のウユーハWが搭載されたボート3が、図
、〕<シないエレベータ機構?コよりフォーク1−の他
端側1Bに、第8図Cに示すように載置される。このと
きく第2図及び第3図にも示すようにして、フォ・−り
]は、接触部材18と接触しζいるので、置き台17に
より支えられており、ホト3を載ぜ−Cもフォークlは
撓まない。 この状態から、上ト方向回動機構5を駆動させ、フォー
ク1の他端側1Bか置き台1.7の接触部材18から僅
かに離れる程度の状態にLr、ボー・ド3のfl量、d
に応じた撓み補正を行う。この状態は、第8図りのよう
になり、フォーク1は撓んでいるが、その他端側1Bと
一端側]Aとは、同じ高さ位置になっている。 次に、昇降機構7を駆動して、第8図Eに示1よ・)に
、フォー・り1を上昇させ、反応管4内にボート3を挿
入するときに反応管4の内壁を擦らない高さ位置にする
。すると、フォーク1の他端側]Bと置き台]7の接触
部材18とは、第8図Eに示すように離れた状態となる
。この場合、接触部材18は水晶で構成されているので
、フォー・り1の接触部材]8との接触部位にも金属等
の不純物は付着していない。 次に、モ・−タ15を駆動j5て、ポールスクリュ11
を回転させ、ボート3を前進させるようにスライダ8を
摺動移動さぜる。ボードうが反応管4内に挿入される前
に、スライダ8は置き台取付部材16にぶつかり、その
後は、置き台取付部材16はスライダ8と共に摺動移動
する。すると、フォーク1の方向は正しく反応管4に対
して位置合わぜされているので、反応管4内に、全く接
触すること無く、ボート3を載置し、たフォーク1が反
応管4内に挿入される。そして、ボート3が反応管4内
の所定位置まで挿入されると、昇降機構7によりフォー
ク1か降下されると共に、上F方向回動機構5による撓
み量の補H分が解除されて、フォーク〕が水平状態に戻
される。すると、ボート3の脚部3Aが反応管4内のボ
ート載置部に接触し、さらにフォーク1を降下するとフ
ォーク1とボート3とが離れる状態となる。この状態か
らスライダ8が後退させられ、元の位置までフォー・り
1は戻される。 このとき、置き台取付部材16は、バネ21の偏倚力に
より元の位置まで戻される。 ボート3の反応管4からの取り出しは、前記と逆の動作
となる。 この場合、フォーク1の保持部2ては、フォーク1はデ
フロンシート34.35により、保持板31.32によ
り金属不純物によって汚染されるのが防止されるので、
フォーク]、が反応管4内に挿入されて、温度が上昇し
たとしても、金属不純物の拡散の心配は無い。 なお、以上の例では、フォーク1はSiCで構成したが
、水晶からなるフォークを用いることも勿論できる。 また、以上の例はボートに搭載する被処理体が半導体ウ
ェーハの場合であるが、被処理体としては、ウェーハに
限らず、その他の被処理体例えばLCD基板を搭載する
ボートの搬送に、この発明が適用できることはいうまで
もない。 【発明の効果】 以上説明したように、この発明においては、ボート支持
用棒状部材の保持部を、取付台に対して水平方向にスラ
イド移動させて左右方向位置を微調させる機構と、ボー
ト支持用棒状部材の一端側を支点として、このボート支
持用棒状部材の他端側を首振り移動させて、フォークの
中心線方向と熱処理室の中心線方向とを合わせる微調機
構を設けたので、この発明のボート搬送装置の取付設置
は大まかにして、設置後に、前記微調機構により正確に
位置調整できる。また、使用により、または外的要因に
より取付位置が動いても、装置を設置し直すこと無く、
調整可能である。
[2nd seesaw stand 51
The see-saw motion of the lil Noh is taken away. Two rollers 53 and 54 are provided at the end of the seesaw table 51 opposite to the other end IB of the fog 1. Moreover, above this end of the seesaw table 5],
A rotating shaft 55 is provided in the horizontal direction of the shaft 52, and two eccentric cams 56, 57 are mounted on this rotating shaft 55, as shown in the enlarged view of FIG. It can be installed in a pressure-welded state. When the rotating shaft 55 is rotationally driven by, for example, a pulse motor (not shown), the eccentric cams 56 and 57 simultaneously rotate the rollers 53 and 54, for example, as shown by arrow C in FIG. do. Due to the weight of the other end of the fork 1, the seesaw stand 51
The system tries to move upward, but the eccentric cam 56.5
7, the bond position is also regulated. Since the position of the rotating shaft 55 is fixed, the eccentric cam 56.5
7 causes the rollers 53 and 54 to move up and down depending on the shape of the eccentric cams 56 and 57. Therefore, in response to the rotation of the eccentric cams 56 and 57, the seesaw table 51 makes a seesaw movement about the shaft 52.
As a result, the other end side]B of the fork 1 is rotated in the vertical direction. In this case, the rotation angle of the rotary shaft 55 is adjusted by adjusting the number of pulses supplied to the pulse motor that rotationally drives the rotary shaft 55 (7, the vertical rotation of the other end side 1B of the fork 1 The amount of movement can be adjusted. Also, as shown in FIG.
Left and right sliding plate 58”8 installed and drawn on j-base 6
It's been a long time since I've been in the middle of a long time. This slide plate 58 is slidably moved on a pair of rails 59 provided in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the fork 1 (in the left-right force direction) on the ground on which the fork 44 is placed.
It is attached to Noh. And the slide plate 58 is
It is attached to the side wall 6A of the mounting base 6 by a male screw (bolt) 61 and a female screw (nut) 62, and by adjusting both screws, the position of the slide plate 58 (=j position in the left and right direction on the base 6) can be adjusted. However, the horizontal position of the holding part 2 can be adjusted.That is, the male screw 61 acts to push the side wall of the slide plate 58 with its tip, while the female screw 62 acts to push the side wall of the slide plate 58. J unit 6
It acts so as to pull it toward the side wall 6A of the. Therefore, by loosening or tightening both screws, the position of the slide plate 58 in the left-right direction relative to the side wall 6A of the mounting base 6 can be adjusted and fixed. The tray 1 unit 6 is raised and lowered by a lifting mechanism 7 provided on its side while being guided by a lifting guide 9.10.
Thereby, the fork 1 is configured to move up and down in the vertical direction. Furthermore, a slider 8 is provided below the mounting base 6. This slider 8 is connected to the lifting mechanism 7. This slider 8 is attached to a ball screw 11 provided along the longitudinal direction of the fork 1, and is also attached to be slidably movable with respect to a guide rail 12.13. It is rotationally driven by a motor 15 via a belt 14. As the ball screw 11 rotates, the slider 8 is guided by the guide rail 12.13 and slides in the longitudinal direction of the fork 1, and this movement of the slider 8 causes the mounting base 6 and therefore the fork 1 to react. It slides into the tube 4 in its longitudinal direction, that is, in the back-and-forth movement direction. In addition, at the position of the fork 1 before placing the boat 3 (home position), the boat 3. As shown in FIG.
Supported by 7. Further, the mounting member 16 has a through hole 16A in the center having a diameter larger than that of the ball screw 11, and the ball screw 11 is inserted through the through hole 16A. Further, the mounting member 16 of this stand 17 is slidably attached to the guide rail 12.13. Therefore, when a force in the longitudinal direction of the fork 1 is applied to this mounting member 16, this mounting member 16 is configured to slide guided by the guide rail 12.13. Note that the mounting member 16 of the stand 17 is always biased by a spring 21 so as to be in the position shown in the figure. The reason why the mounting member 16 of the stand 17 is made slidable is as follows.
The mounting member 16 is placed in the middle of the sliding movement distance necessary to advance the slider 8 and load or unload the boat 3 placed on the fork 1 into the reaction tube 4.
or exist. In this example, as shown in FIG. 6, the fork holding portion 2 is configured to sandwich and hold the fork 1 from above and below the fork 1 with holding plates 31 and 32 made of metal, for example, aluminum. In the illustrated example, an insertion plate 33 for elastically holding the fork 1 is provided between the lower holding plate 32 and the fork 1. and between the retaining plate 31 and the fork 1, and between the insertion plate 33 and the fork 1.
In order to prevent contamination of the fork 1, a sheet-like member, for example, Teflon sheets 34 and 35 in this example, is provided between the fork 1 and the fork 1.
are inserted respectively. The space between the retaining plates 31 and 32 is fixed by bolts and nuts (not shown), and at this time the fork 1 is clamped and fixed by the fork stoppers 36 and 37. In this way, the fork 1 has Teflon sheets 34 and 35.
Since the fork 1 is prevented from coming into direct contact with the metal holding plates 31 and 32, the fork 1 is not contaminated in the holding part 2. Eccentric cam 56 for vertically rotating the lower holding plate 32
.. A through hole 38 is bored at the end on the 57 side, and this through hole 3
8, a spacer 39 is inserted therein. This spacer 39 is also bored with a through hole 39A, and a screw 40 is inserted through the I through hole 39A of this spacer 39 and screwed into the threaded hole 51A of the seesaw table 51. Thereby, the lower holding plate 32 is supported at one point with respect to the seesaw table 51 by the screws 40. Therefore, the lower holding plate 32 is rotatable on the seesaw table 51 around the point supported by the screw 40. Further, an elongated hole 41 is provided at the end of the lower holding plate 32 on the other end side of the fork 1. On the other hand, seesaw table 51
A disk 43 is provided at a position corresponding to the elongated hole 41, which is rotated by rotating a knob 42 that can be operated from below the seesaw table 51. And this disk 4
A protrusion 44 that protrudes in the direction of the retaining plate 32 is provided at an eccentric position shifted from the center of rotation of No. 3.
is fitted into the elongated hole 41 of the lower holding plate 32. Therefore, as shown in FIG. 7, when the knob 42 is rotated, the protrusion 44 in the elongated hole 41 rotates about the center of the disc 43, and with this rotation, the retainer plate 3'
, 2, the point support position by the screw 40 is centered and (, the seesaw table 511::, moves mV in the left and right direction. This L7'), l-, the knob 420 the same movement amount. By adjusting the retaining plate 3', ? The horizontal swing position of Zuna, ie -7 Sakiri 1 is adjusted. The method of installing the boat conveying device of the heat treatment apparatus having the configuration described above will now be explained in detail. , 4: First, the rough installation position with respect to the reaction tube 4, which is the heat treatment chamber, is determined, and the C ball (transfer device) is installed. I-1 "C1 After this installation, the holding part 2 U 4 C)
screws 61. so that the point support position is an extension of the center line of the reaction tube 4. .. 62, the seesaw table 51 is moved in the left and right direction with a slide plate to adjust its position 2, and the position of the seesaw table 51 in the left and right direction with respect to the mounting base 6 is fixed. Next, turn the knob 42 to move the holding part 2 around the point supported by the screw 40 on the seesaw table 51-1, and move the other end IB of the fork in the left-right direction. 4
Move it around. And ゛Quoku 1. The center line direction of is iE 1. ,,,, <Adjust the position by the amount of rotation of the knob 42 so that it faces the center line direction of the reaction b4. With the above, the installation of the heat treatment apparatus according to the present invention is completed (
Ru. Next, we will explain the transfer operation of this device with reference to FIG. Initially, as shown in FIG. 8A, the fork 1 is in a state where the boat mounting portion on the other end IB and the contact member 18 of the mount 7 are shaved off. Therefore, the operator adjusts the horizontal rotating machine 5 in the direction L2 so that the boat mounting portion of the other end side IB of the fork 1 is placed on the stand]7 as shown in FIG. 8B.
For example, λ is adjusted so that it contacts the contact member 18 made of crystal. Note that the crystal of the contact member 18 has been cleaned to be completely free of impurities. Next, the boat 3 on which multiple Uyuha Ws are mounted is shown in the figure below. It is placed on the other end side 1B of the fork 1 as shown in FIG. 8C. At this time, as shown in FIG. 2 and FIG. Also, the fork l does not bend. From this state, the upper direction rotation mechanism 5 is driven to a state where the other end side 1B of the fork 1 is slightly separated from the contact member 18 of the stand 1.7. d
Perform deflection correction accordingly. This state is as shown in Figure 8, where the fork 1 is bent, but the other end 1B and one end A are at the same height. Next, drive the lifting mechanism 7 to raise the boat 1 to the position 1) shown in FIG. position at a certain height. Then, the other end of the fork 1 B and the contact member 18 of the stand 7 are separated from each other as shown in FIG. 8E. In this case, since the contact member 18 is made of crystal, impurities such as metals are not attached to the contact portion of the contact member 8 of the fourth lens 1 as well. Next, drive the motor 15 to drive the pole screw 11.
, and slide the slider 8 so as to move the boat 3 forward. Before the board holder is inserted into the reaction tube 4, the slider 8 collides with the stand attachment member 16, and thereafter the stand attachment member 16 slides together with the slider 8. Then, since the direction of the fork 1 is correctly aligned with the reaction tube 4, the boat 3 is placed inside the reaction tube 4 without any contact, and the fork 1 is placed inside the reaction tube 4. inserted. When the boat 3 is inserted to a predetermined position in the reaction tube 4, the fork 1 is lowered by the lifting mechanism 7, and the compensation H portion of the deflection amount by the upper F direction rotation mechanism 5 is released, and the fork 1 is lowered by the lifting mechanism 7. ] is returned to the horizontal state. Then, the leg portion 3A of the boat 3 comes into contact with the boat mounting portion in the reaction tube 4, and when the fork 1 is further lowered, the fork 1 and the boat 3 are separated. From this state, the slider 8 is moved back, and the fork 1 is returned to its original position. At this time, the stand mounting member 16 is returned to its original position by the biasing force of the spring 21. Removal of the boat 3 from the reaction tube 4 is a reverse operation to the above. In this case, in the holding part 2 of the fork 1, the fork 1 is prevented from being contaminated by metal impurities by the deflon sheet 34, 35 and the holding plate 31, 32.
Even if a fork] is inserted into the reaction tube 4 and the temperature rises, there is no need to worry about the diffusion of metal impurities. In the above example, the fork 1 is made of SiC, but it is of course possible to use a fork made of crystal. Furthermore, in the above example, the objects to be processed loaded on the boat are semiconductor wafers, but the objects to be processed are not limited to wafers, but other objects to be processed, such as LCD substrates, can be transported on the boat. It goes without saying that the invention can be applied. Effects of the Invention As described above, the present invention provides a mechanism for finely adjusting the horizontal position by sliding the holding portion of the boat supporting bar member horizontally with respect to the mounting base, and a mechanism for finely adjusting the horizontal position of the boat supporting bar member. A fine adjustment mechanism is provided for aligning the center line direction of the fork and the center line direction of the heat treatment chamber by swinging the other end side of the boat supporting rod member using one end side of the rod member as a fulcrum. The boat transport device can be roughly installed, and after installation, the position can be precisely adjusted using the fine adjustment mechanism. In addition, even if the mounting position moves due to use or external factors, there is no need to reinstall the device.
Adjustable.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は、この発明による熱処理装置の要部の一実施例
の斜視図、第2図はその一部側面図、第3図はその正面
図、第4図は上下方向位置調整機構を説明するための図
、第5図は上下方向位置調整機構の要部の拡大図、第6
図はフォーク保持部及びフォーク首振り移動機構の構成
の分解図、第7図はフォーク首振り移動の説明図、第8
図はボート搬送動作を説明するための図である。 1;ボート支持用棒状部材としてのフォーク2;フォー
ク保持部 3;ボート 4;反応管 5;上下方向回動機構 6;取付台 7;昇降機構 8;スライダ 17;置き台 31.32;保持板 40;点支持用ねじ 41;長孔 42;摘み 44;突起 51;シーソー台 58;左右方向スライド板 59;レール 61;雄ねじ 62;雌ねじ 第4図 代理人 弁理士 佐 藤 正 美 上下方1’ii″1回動碕不糞窃舒拡大図第 図 左右方向、171振りf説明図 第7図 第 凶 動作説明図 第8図
Fig. 1 is a perspective view of an embodiment of the main part of the heat treatment apparatus according to the present invention, Fig. 2 is a partial side view thereof, Fig. 3 is a front view thereof, and Fig. 4 explains the vertical position adjustment mechanism. Figure 5 is an enlarged view of the main parts of the vertical position adjustment mechanism, and Figure 6 is an enlarged view of the main parts of the vertical position adjustment mechanism.
The figure is an exploded view of the structure of the fork holding part and the fork swing movement mechanism, Figure 7 is an explanatory diagram of the fork swing movement, and Figure 8
The figure is a diagram for explaining the boat transport operation. 1; Fork 2 as a rod-shaped member for supporting a boat; Fork holding part 3; Boat 4; Reaction tube 5; Vertical rotation mechanism 6; Mounting base 7; Lifting mechanism 8; Slider 17; Stand 31, 32; Holding plate 40; Point support screw 41; Long hole 42; Knob 44; Protrusion 51; Seesaw base 58; Left-right sliding plate 59; Rail 61; ii'' 1st rotation Enlarged view of the 171 swing f Explanation of left and right direction Figure 7 Explanation of evil action Figure 8

Claims (1)

【特許請求の範囲】 一端側が保持部に取り付けられ、他端側が遊端とされ、
この他端側に複数の被処理体が搭載されるボートが載置
されるボート支持用棒状部材を備え、このボート支持用
棒状部材を位置調整して前記ボートを熱処理室内に搬送
するようにする熱処理装置において、 前記保持部は、取付板上に、前記ボート支持用棒状部材
の一端側において点支持され、この支持点を中心として
前記取付板上で回動可能な状態で取り付けられ、 前記取付板は、前記ボート支持用棒状部材を昇降機構に
取り付けるための取付台に対して、前記ボート支持用棒
状部材の長手方向に直交する左右方向に移動可能に取り
付けられ、かつ、前記取付板上の保持部の前記取付台上
での前記左右方向の位置が調整手段により調整されるよ
うにしたことを特徴とする熱処理装置。
[Claims] One end side is attached to the holding part, the other end side is a free end,
A boat supporting rod member on which a boat carrying a plurality of objects to be processed is placed is provided on the other end side, and the boat is transported into the heat treatment chamber by adjusting the position of the boat supporting rod member. In the heat treatment apparatus, the holding portion is supported at a point on the mounting plate at one end side of the rod-shaped boat support member, and is attached to be rotatable on the mounting plate about this support point, The plate is attached to a mounting base for attaching the boat support rod member to the elevating mechanism so as to be movable in a left-right direction perpendicular to the longitudinal direction of the boat support rod member, and A heat treatment apparatus characterized in that the position of the holding part on the mounting base in the left and right direction is adjusted by an adjusting means.
JP23418390A 1990-09-04 1990-09-04 Heat treatment equipment Expired - Fee Related JP2931924B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23418390A JP2931924B2 (en) 1990-09-04 1990-09-04 Heat treatment equipment

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP23418390A JP2931924B2 (en) 1990-09-04 1990-09-04 Heat treatment equipment

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH04114424A true JPH04114424A (en) 1992-04-15
JP2931924B2 JP2931924B2 (en) 1999-08-09

Family

ID=16966979

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP23418390A Expired - Fee Related JP2931924B2 (en) 1990-09-04 1990-09-04 Heat treatment equipment

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2931924B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014183281A (en) * 2013-03-21 2014-09-29 Tokyo Electron Ltd Magnetic annealing device
US9508914B2 (en) 2013-03-21 2016-11-29 Tokyo Electron Limited Magnetic annealing apparatus

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014183281A (en) * 2013-03-21 2014-09-29 Tokyo Electron Ltd Magnetic annealing device
US9508914B2 (en) 2013-03-21 2016-11-29 Tokyo Electron Limited Magnetic annealing apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP2931924B2 (en) 1999-08-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5779203A (en) Adjustable wafer cassette stand
KR100883683B1 (en) Fims interface without alignment pins
JP2003124155A (en) Cutting device
JP4128343B2 (en) Wafer notch polishing machine and wafer orientation notch polishing method
US20180255670A1 (en) Component mounting device and method of mounting component
EP1214734A2 (en) Holder for a substrate cassette and device provided with such a holder
TW399307B (en) Method and apparatus for processing disk-shaped workpieces having a cassette for holding a plurality of disk-shaped workpieces which includes a tilt mechanism
JPH06246658A (en) Substrate conveyer
JPH04114424A (en) Heat treatment device
JPH02178948A (en) Pre-alignment method of wafer loading frame
JPH01139441A (en) Wafer sorting device
JPH04113617A (en) Boat transfer apparatus
JP2931923B2 (en) Boat transport equipment
KR960009401Y1 (en) Board mounter
KR200149837Y1 (en) X-y stage of stepper used in manufacturing semiconductor
JPH0982774A (en) Apparatus for attaching/detaching material to be transported inserted to narrow part of frontage
CN219085953U (en) Wafer calibration device
JPH0783999A (en) Board holding device
JP3056242B2 (en) Conveyor for process tube of vertical heat treatment equipment
KR19990074062A (en) Microchip positioning device and method
JP2024025394A (en) Processing device
JPH072308A (en) Alignment pitch changing device for substrate
KR200184172Y1 (en) Tweezer for carrying wafer of semiconductor
JPH0547727A (en) Cleaning treatment apparatus
KR20220093286A (en) Specimen mount loading structure of electron microscope provided with cross-section polisher, transfer unit and specimen mount holder provided therein

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees