JPH04109859U - tumbling blasting equipment - Google Patents

tumbling blasting equipment

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JPH04109859U
JPH04109859U JP2077691U JP2077691U JPH04109859U JP H04109859 U JPH04109859 U JP H04109859U JP 2077691 U JP2077691 U JP 2077691U JP 2077691 U JP2077691 U JP 2077691U JP H04109859 U JPH04109859 U JP H04109859U
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JP
Japan
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tumbling
workpiece
shot
endless apron
rotating drum
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Pending
Application number
JP2077691U
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
仁 竹田
等 六反田
Original Assignee
新東工業株式会社
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 タンブリングされる被処理品の撹拌流動速度
を所定範囲内にコントロールすると共にショットの投射
ゾーンを広くして被処理品に直射ショットの当る確率を
高くしたタンブリングブラスト装置を得る。 【構成】 無端エプロンベルトの移動速度あるいは回転
ドラムの回転速度を変速制御可能に設けると共にショッ
ト投射の幅分布を拡散分布又は広角均一分布にする遠心
投射機を配設したタンブリングブラスト装置。
(57) [Summary] [Purpose] A tumbling blasting device that controls the agitation flow rate of the workpiece to be tumbled within a predetermined range and widens the shot projection zone to increase the probability of direct shot hitting the workpiece. get. [Structure] A tumbling blasting device equipped with a centrifugal projector capable of controlling the moving speed of an endless apron belt or the rotational speed of a rotating drum, and making the width distribution of shot projection a diffuse distribution or a wide-angle uniform distribution.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

【0001】0001

【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本考案は無端エプロンベルトの移動又は回転ドラムの回転により被処理品をタ ンブリング(撹拌流動)させながらショットを投射してブラストするタンブリン グブラスト装置に関する。 This invention targets the workpiece by moving an endless apron belt or rotating a rotating drum. A tambourine that projects and blasts shots while mixing (stirring and flowing). Regarding the blasting device.

【0002】0002

【従来の技術】[Conventional technology]

従来タンブリングブラスト装置としては図4に示すような装置が一般に知られ ている。すなわち、キャビネット本体1内部に2枚の円板2、2と3個のプーリ ー3、3、3を配設し、該プーリー3、3、3に無端エプロンベルト4を掛け廻 してある。一方キャビネット本体1の天井部には遠心投射機5が設置されていて 、無端エプロンベルト4により撹拌流動される被処理品Wに向けて投射材である ショット6を投射するようになっている。 As a conventional tumbling blasting device, the device shown in Fig. 4 is generally known. ing. In other words, inside the cabinet body 1 are two discs 2, 2 and three pulleys. -3, 3, 3 are arranged, and the endless apron belt 4 is wrapped around the pulleys 3, 3, 3. It has been done. On the other hand, a centrifugal projector 5 is installed on the ceiling of the cabinet body 1. , which is a projecting material toward the workpiece W that is stirred and flowed by the endless apron belt 4. Shot 6 is projected.

【0003】 しかしこのようなタンブリングブラスト装置では被処理品の形状、大きさ等に より被処理品の撹拌流動速度が大きく異なり、特に転がりやすい形状と転がりに くい形状では大きく異なることになる。しかしショットの投射ゾーンを通過する 被処理品の流動速度は速くても遅くても不都合であり、撹拌流動速度が速すぎる と、ショット投射ゾーンでの被処理品の処理全表面が均一に直射ショットを受け る確率が低くなる問題があり、逆に撹拌流動速度が遅い場合は、ショット投射ゾ ーンでの被処理品の転動のチャンスが少なく直射ショットの当らない面が生じる 問題がある。これらの問題を解決するために従来は処理時間を長くしているが時 間の無駄が多くなると共に処理時間を長くすることにより被処理品の中には撹拌 の不確実性も伴って必要以上に同一面が研掃されて研掃面が垂れる等の問題も生 じていた。0003 However, with this type of tumbling blasting equipment, there are The agitation flow speed of the processed product differs greatly, and the shape and shape of the product are particularly easy to roll. The shape of the pile will be very different. But passing through the projection zone of the shot It is inconvenient whether the flow rate of the processed product is fast or slow, and the stirring flow rate is too fast. The entire surface of the workpiece in the shot projection zone receives the direct shot evenly. On the other hand, if the stirring flow speed is slow, the shot projection There is less chance of the workpiece rolling in the turn, and there are surfaces that are not hit by direct shots. There's a problem. Conventionally, processing time has been increased to solve these problems, but This increases the amount of waste during processing and increases the processing time, causing some of the processed products to be agitated. This also causes problems such as the same surface being polished more than necessary, causing the polished surface to sag. I was there.

【0004】 本考案は上記の問題に鑑みて成されたものでタンブリングされる被処理品の撹 拌流動速度を所定範囲にコントロールすると共にショットの投射ゾーンを広くし て被処理品に直射ショットの当る確率を高め得るタンブリングブラスト装置を提 供することを目的とするものである。0004 The present invention was developed in view of the above problems, and it Controls the stirring flow speed within a predetermined range and widens the shot projection zone. We propose a tumbling blasting device that can increase the probability of direct shot hitting the processed item. The purpose is to provide

【0005】[0005]

【問題解決のための手段】[Means for solving problems]

上記の目的を達成するために本考案におけるタンブリングブラスと装置は、無 端エプロンベルトの移動速度又は回転ドラムの回転速度を変速制御可能に設ける と共に該無端エプロンベルトの上方又は回転ドラムの一端部に、前記無端エプロ ンベルトの移動方向又は、回転ドラムの回転方向に対し、投射の幅分布を拡散分 布又は広角均一分布にする遠心投射機を配設したことを特徴とするものである。 In order to achieve the above purpose, the tumbling brass and device in the present invention are The moving speed of the end apron belt or the rotating speed of the rotating drum can be controlled at variable speeds. and above the endless apron belt or at one end of the rotating drum. The width distribution of the projection is divided by the diffusion component in the moving direction of the belt or the rotating direction of the rotating drum. The device is characterized by being equipped with a cloth or a centrifugal projector that produces wide-angle uniform distribution.

【0006】[0006]

【作用】[Effect]

本考案は、上記のような解決手段を採用することにより、被処理品の形状、大 きさ、等に応じて無端エプロンベルトの移動速度あるいは回転ドラムの回転速度 を制御して被処理品の撹拌流動速度を所定範囲内に納めると共にショットの投射 ゾーンを拡大させて投射するようになり、被処理品の全表面に対し短時間のうち に均一に直射ショットを当てることができる。 By adopting the above-mentioned solution, the present invention can reduce the shape and size of the workpiece. The moving speed of the endless apron belt or the rotating speed of the rotating drum depending on the size, etc. is controlled to keep the agitation flow rate of the processed product within a predetermined range and to project the shot. Now the zone is enlarged, and the entire surface of the workpiece is exposed in a short period of time. You can evenly hit the target with a direct shot.

【0007】[0007]

【実施例】【Example】

以下本考案の実施例を図1ないし図3に基づいて詳細に説明する。図において 、キャビネット本体11の内部には2枚の円板12、12が適当な間隔をおいて 回転可能にして配設されていると共に該円板12、12を取り囲む背面部から下 方部に亘る3点位置にプーリー13、13、13が設けられていて、1個のプー リー13は図示されない変速機付正逆回転モータに伝導連結されている。また前 記プーリー13、13、13及び円板12、12の背面にわたって無端エプロン ベルト14が掛け廻されていて全体として断面L字状のタンブリング槽を構成し ている。前記キャビネット本体11における天井部のタンブリング槽に対応する 位置には図1においては投射ショットを被処理品Wに向けて拡散分布投射16A させる遠心投射機15Aがまた図3においては、投射ショットを被処理品Wに向 けて広角均一分布投射16Bさせる遠心投射機15Bが設けられている。尚図中 17はバケットエレベーター、18はショットセパレーター、19はキャビネッ ト本体11の開閉蓋である。 Embodiments of the present invention will be described in detail below with reference to FIGS. 1 to 3. In the figure , Inside the cabinet body 11, two discs 12, 12 are placed at an appropriate interval. It is rotatably disposed and extends downward from the back surface surrounding the disks 12, 12. Pulleys 13, 13, 13 are provided at three points across the sides, and one pulley The relay 13 is electrically connected to a forward/reverse rotating motor with a transmission (not shown). Also before An endless apron is provided over the back surfaces of the pulleys 13, 13, 13 and the discs 12, 12. A belt 14 is wound around the tank to form a tumbling tank with an L-shaped cross section as a whole. ing. Corresponds to the tumbling tank on the ceiling of the cabinet body 11 In FIG. 1, the position is a diffuse distribution projection 16A with a projection shot directed toward the workpiece W. A centrifugal projector 15A is also shown in FIG. A centrifugal projector 15B is provided for projecting wide-angle uniform distribution 16B. Also in the diagram 17 is a bucket elevator, 18 is a shot separator, and 19 is a cabinet. This is an opening/closing lid for the main body 11.

【0008】 このように構成されたものは、円板12、12及び無端エプロンベルト14で 構成するタンブリング槽に被処理品Wを投入し、該被処理品Wに適した撹拌流動 速度になるように図示されない変速機付モーターを駆動してプーリー13を介し て無端エプロンベルト14を適宜の速度にして図1矢印方向へ移動させる。これ により槽内の被処理品Wは適当な速さで反時計方向にすくい上げられて適宜の高 さ位置に達して反転落下がくりかえされる。この間に遠心投射機15A、15B からショットが拡散分布投射16Aあるいは広角均一分布投射16Bされ被処理 品Wは数回の反転落下移動の間に数回の直射ショットによるブラスト作用を受け るようになる。投射されたショットはエプロンベルト4のショット抜き穴から落 下してキャビネット11底部に集められ、バケットエレベーター17により上方 へ運ばれ、ショットセパレーター18に導入されて粉塵等の混入物を除去され、 遠心投射機15A、15Bに送られて再び投射され、ブラスト作業をくりかえし 行う。以下、ブラスト処理を終えた被処理品Wの搬出及び未処理の被処理品Wの 投入等は従来と同様にして行なわれる。[0008] The device configured in this way includes disks 12, 12 and an endless apron belt 14. The product to be processed W is put into the tumbling tank, and the agitation flow suitable for the product to be processed W is applied. A motor with a gearbox (not shown) is driven to achieve this speed through the pulley 13. Then, the endless apron belt 14 is moved at an appropriate speed in the direction of the arrow in FIG. this The workpiece W in the tank is scooped up counterclockwise at an appropriate speed and raised to an appropriate height. It reaches this position and the inversion and fall are repeated. During this time, centrifugal projectors 15A and 15B The shot is processed by diffuse distribution projection 16A or wide-angle uniform distribution projection 16B. Product W was subjected to the blasting effect of several direct shots during several inversions and falls. Become so. The projected shot falls through the shot hole in the apron belt 4. are collected at the bottom of the cabinet 11, and lifted upward by the bucket elevator 17. The shot separator 18 removes contaminants such as dust. It is sent to centrifugal projectors 15A and 15B, where it is projected again and the blasting process is repeated. conduct. Below, we will explain how to carry out the workpieces W that have been blasted and how to transport the workpieces W that have not yet been processed. Injection, etc. are performed in the same manner as before.

【0009】 上記実施例では無端エプロンベルト14により被処理品Wをタンブリングする タイプのタンブリングブラスト装置について説明したが回転ドラムの回転により 被処理品Wをタンブリングするタイプのタンブリングブラスト装置であっても回 転ドラムの回転速度を制御できるようにし、かつ拡散分布投射あるいは広角均一 投射が可能な遠心投射機を設けることにより同様の作用が得られるものである。[0009] In the above embodiment, the workpiece W is tumbled by the endless apron belt 14. I explained about a type of tumbling blasting device, but due to the rotation of a rotating drum, Even if it is a tumbling blasting device that tumbles the workpiece W, The rotation speed of the rotating drum can be controlled, and diffuse distribution projection or wide-angle uniform projection can be achieved. A similar effect can be obtained by providing a centrifugal projector capable of projecting images.

【0010】0010

【考案の効果】[Effect of the idea]

本考案は上記の説明から明らかなように無端エプロンベルトの移動速度あるい は回転ドラムの回転速度を変速制御可能にすると共にショットの投射幅分布を拡 散分布又は広角均一分布にする遠心投射機を配設した構成にしたから被処理品の 撹拌流動速度を所定範囲内に納めると共にショットの投射ゾーンを広くして被処 理品に直射ショットの当る確率を高くすることができ、短時間のうちに被処理品 の全体にわたって均一にブラストを行なうことができるようになる。 As is clear from the above explanation, the present invention improves the moving speed of the endless apron belt. This enables variable speed control of the rotation speed of the rotating drum and expands the shot width distribution. The structure is equipped with a centrifugal projector that provides dispersed distribution or wide-angle uniform distribution, so it is possible to The agitation flow rate is kept within the specified range, and the shot projection zone is widened. The probability of direct shot hitting the processed product can be increased, and the workpiece can be directly hit in a short time. This allows for uniform blasting over the entire area.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本考案の実施例を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】図1の要部側面図である。FIG. 2 is a side view of the main part of FIG. 1;

【図3】本考案の別の実施例を示す模式図である。FIG. 3 is a schematic diagram showing another embodiment of the present invention.

【図4】従来のタンブリングブラスト装置を示す模式図
である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a conventional tumbling blasting device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

12 円板 13 変速制御可能なプーリー 14 無端エプロンベルト 15A 遠心投射機 15B 遠心投射機 16A 拡散分布投射 16B 広角均一分布投射 W 被処理品 12 disk 13 Pulley with variable speed control 14 Endless Apron Belt 15A centrifugal projector 15B Centrifugal projector 16A Diffuse distribution projection 16B wide-angle uniform distribution projection W Item to be processed

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 無端エプロンベルトの移動又は回転ドラ
ムの回転により被処理品をタンブリングしながらブラス
ト処理するタンブリングブラスト装置において、無端エ
プロンベルトの移動速度又は回転ドラムの回転速度を変
速制御可能に設けると共に該無端エプロンベルトの上方
又は回転ドラムの一端部に前記無端エプロンベルトの移
動方向又は回転ドラムの回転方向に対し、ショット投射
の幅分布を拡散分布又は広角均一分布にする遠心投射機
を配設したことを特徴とするタンブリングブラスト装
置。
1. A tumbling blasting device that performs blasting while tumbling a workpiece by moving an endless apron belt or rotating a rotating drum, the apparatus comprising: a tumbling blasting device that performs a blasting process while tumbling a workpiece by moving an endless apron belt or rotating a rotating drum; A centrifugal projector is disposed above the endless apron belt or at one end of the rotating drum to make the width distribution of shot projection a diffuse distribution or a wide-angle uniform distribution with respect to the moving direction of the endless apron belt or the rotating direction of the rotating drum. A tumbling blasting device characterized by:
JP2077691U 1991-03-08 1991-03-08 tumbling blasting equipment Pending JPH04109859U (en)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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