JPH04109587A - マイクロ波加熱装置 - Google Patents
マイクロ波加熱装置Info
- Publication number
- JPH04109587A JPH04109587A JP22515490A JP22515490A JPH04109587A JP H04109587 A JPH04109587 A JP H04109587A JP 22515490 A JP22515490 A JP 22515490A JP 22515490 A JP22515490 A JP 22515490A JP H04109587 A JPH04109587 A JP H04109587A
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- JP
- Japan
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- heated
- faces
- wave guides
- microwave
- rectangular wave
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- Pending
Links
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims description 8
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims description 8
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 6
Landscapes
- Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[発明の目的]
(産業上の利用分野)
この発明は、一対の加熱用矩形導波管を有するマイクロ
波加熱装置に関する。
波加熱装置に関する。
(従来の技術)
一般にマイクロ波加熱装置例えば電子レンジは、従来、
第3図に示すように構成され、マイクロ波発振機1が導
波管2を介してマイクロ波オーブン4に接続されている
。このマイクロ波オーブン4には、被加熱物7を出し入
れするための扉5が設けられると共に、均一加熱向上を
図るためのスターラフアン3が天井に設けられ、このス
ターラフアン3はモータ8により回転駆動される。尚、
被加熱物7は支持体6により支持されている。
第3図に示すように構成され、マイクロ波発振機1が導
波管2を介してマイクロ波オーブン4に接続されている
。このマイクロ波オーブン4には、被加熱物7を出し入
れするための扉5が設けられると共に、均一加熱向上を
図るためのスターラフアン3が天井に設けられ、このス
ターラフアン3はモータ8により回転駆動される。尚、
被加熱物7は支持体6により支持されている。
ところで、被加熱物が棒状の場合は、第4図に示すよう
な定在波形導波管加熱炉を使用する。この加熱炉は、矩
形導波管9のE面(幅広面)を貫通するような開口が設
けられ、更に電波漏洩を防止するシールドキャップ]0
がE面の両外側に設けられ、このシールドキャップ10
内に棒状の被加熱物11が挿入されて加熱される。更に
、矩形導波管9の終端には摺動短絡板12か設けられ、
二〇摺動短絡板12とシールドキャップ10の中心との
距離Aがλ/4(λ:は波長)に設定されでいる。
な定在波形導波管加熱炉を使用する。この加熱炉は、矩
形導波管9のE面(幅広面)を貫通するような開口が設
けられ、更に電波漏洩を防止するシールドキャップ]0
がE面の両外側に設けられ、このシールドキャップ10
内に棒状の被加熱物11が挿入されて加熱される。更に
、矩形導波管9の終端には摺動短絡板12か設けられ、
二〇摺動短絡板12とシールドキャップ10の中心との
距離Aがλ/4(λ:は波長)に設定されでいる。
(発明か解決しようとする課題)
ところが、上記のような従来のマイクロ波加熱装置にお
いては、被加熱物の損失係数(tanδ・ε、)が小さ
い場合、十分にマイクロ波加熱されない。これはマイク
ロ波オーブン4内の電界か低いためである。
いては、被加熱物の損失係数(tanδ・ε、)が小さ
い場合、十分にマイクロ波加熱されない。これはマイク
ロ波オーブン4内の電界か低いためである。
又、電界を上げる手段として上記のような定在波形導波
管加熱炉があるが、この場合は十分に高い電界を得るこ
とが出来るため、被加熱物11の損失係数が小さいもの
でも十分にマイクロ波加熱される。しかし、直径が大き
い被加熱物は電波漏れが発生したり、均一加熱が出来な
いという欠点がある。これは第5図に示すように、矩形
導波管9内の電界分布は中央か最大でH面壁は零であり
、その間は正弦波状に変化しているためである。
管加熱炉があるが、この場合は十分に高い電界を得るこ
とが出来るため、被加熱物11の損失係数が小さいもの
でも十分にマイクロ波加熱される。しかし、直径が大き
い被加熱物は電波漏れが発生したり、均一加熱が出来な
いという欠点がある。これは第5図に示すように、矩形
導波管9内の電界分布は中央か最大でH面壁は零であり
、その間は正弦波状に変化しているためである。
更に、被加熱物7.11への供給電力をより大きくした
い場合、従来例の構造では対処出来ない。
い場合、従来例の構造では対処出来ない。
その理由は、マイクロ波発振機1に使用されているマグ
ネトロンの1個当りの出力が限定されてしまうためであ
る。
ネトロンの1個当りの出力が限定されてしまうためであ
る。
この発明は、上記事情に鑑みなされたもので、大口径の
被加熱物を大電力で加熱出来るマイクロ波加熱装置を提
供することを目的とする。
被加熱物を大電力で加熱出来るマイクロ波加熱装置を提
供することを目的とする。
[発明の構成]
(課題を解決するための手段)
この発明は、一対のマイクロ波発振機にそれぞれアイソ
レータ、パワーモニタ、整合器を介して加熱用の矩形導
波管が連設されてなるマイクロ波加熱装置において、上
記測知形導波管のそれぞれのH面が終端付近で背中合わ
せに接合、又は僅かの間隙を有して配設され、且つこの
接合面又は対向面を中心にした被加熱物挿入孔がE面に
設けられてなるマイクロ波加熱装置である。
レータ、パワーモニタ、整合器を介して加熱用の矩形導
波管が連設されてなるマイクロ波加熱装置において、上
記測知形導波管のそれぞれのH面が終端付近で背中合わ
せに接合、又は僅かの間隙を有して配設され、且つこの
接合面又は対向面を中心にした被加熱物挿入孔がE面に
設けられてなるマイクロ波加熱装置である。
(作用)
この発明によれば、大口径の被加熱物を大電力のもとて
加熱することか出来る。
加熱することか出来る。
(実施例)
以下、図面を参照して、この発明の一実施例を詳細に説
明する。
明する。
この発明によるマイクロ波加熱装置は第1図及び第2図
に示すように構成され、第1図は全体を示す概略平面図
、第2図は矩形導波管の被加熱物挿入孔付近を拡大して
示す断面図である。
に示すように構成され、第1図は全体を示す概略平面図
、第2図は矩形導波管の被加熱物挿入孔付近を拡大して
示す断面図である。
即ち、符号21.22は一対のマイクロ波発振機であり
、この一対のマイクロ波発振機21.22には、それぞ
れアイソレータ23.24、パワーモニタ25.26、
整合器27.28を介して加熱用の矩形導波管29.3
0が連設されている。
、この一対のマイクロ波発振機21.22には、それぞ
れアイソレータ23.24、パワーモニタ25.26、
整合器27.28を介して加熱用の矩形導波管29.3
0が連設されている。
この矩形導波管29.30は図示のように折れ曲がって
いて、それぞれのH面が終端付近で背中合わせに接合さ
れ、Y字形になっている。そして、第2図からも明らか
なように、この接合面を中心にした被加熱物挿入孔31
.32が両計画に設けられている。そして、被加熱物挿
入孔31.32には矩形導波管29.30の両計画にそ
れぞれ電波漏洩を防止するシールドパイプ33.34が
突設され、動作時にはこのシールドパイプ33.34及
び被加熱物挿入孔31.32を貫通して大口径の棒状の
被加熱物35が挿入される。
いて、それぞれのH面が終端付近で背中合わせに接合さ
れ、Y字形になっている。そして、第2図からも明らか
なように、この接合面を中心にした被加熱物挿入孔31
.32が両計画に設けられている。そして、被加熱物挿
入孔31.32には矩形導波管29.30の両計画にそ
れぞれ電波漏洩を防止するシールドパイプ33.34が
突設され、動作時にはこのシールドパイプ33.34及
び被加熱物挿入孔31.32を貫通して大口径の棒状の
被加熱物35が挿入される。
更に矩形導波管29.30のそれぞれの終端には、摺動
短絡板36.37が設けられ、定在波の位置が調整出来
るようになっている。
短絡板36.37が設けられ、定在波の位置が調整出来
るようになっている。
尚、被加熱物35は図示しない移送装置により処理目的
の速度にて送るようになっており、更に均一加熱を向上
させるため回転させることもある。
の速度にて送るようになっており、更に均一加熱を向上
させるため回転させることもある。
さて次に、この発明のマイクロ波加熱装置を使用して、
加熱処理を行なう場合について述べる。
加熱処理を行なう場合について述べる。
先ず、大口径の棒状の被加熱物35を図示しない移送装
置により処理目的の速度にてシールドパイプ33.34
及び被加熱物挿入孔31.32に送り込み、マイクロ波
発振機21.22を動作させる。そして、マイクロ波電
力をアイソレータ23.24、パワーモニタ25.26
、整合器27.28を介して加熱用の矩形導波管29.
30に伝送し、被加熱物35に照射する。この状態て、
被加熱物35を回転させながら、所定速度で移送すれば
加熱処理をすることが出来る。
置により処理目的の速度にてシールドパイプ33.34
及び被加熱物挿入孔31.32に送り込み、マイクロ波
発振機21.22を動作させる。そして、マイクロ波電
力をアイソレータ23.24、パワーモニタ25.26
、整合器27.28を介して加熱用の矩形導波管29.
30に伝送し、被加熱物35に照射する。この状態て、
被加熱物35を回転させながら、所定速度で移送すれば
加熱処理をすることが出来る。
尚、この実施例は導波管のH面を接合した例を説明した
が、この発明の作用効果をもたらす範囲内において各導
波管のH面間に僅かの隙間を配設してもよい。
が、この発明の作用効果をもたらす範囲内において各導
波管のH面間に僅かの隙間を配設してもよい。
[発明の効果]
この発明によれば、損失係数の小さい大口径の被加熱物
でも、高電界中で投入電力も大きい状態で加熱処理をす
ることか可能となる。
でも、高電界中で投入電力も大きい状態で加熱処理をす
ることか可能となる。
第1図はこの発明の一実施例に係るマイクロ波加熱装置
を示す概略平面図、第2図はこの発明の要部を拡大して
示す断面図、第3図は従来のマイクロ波加熱装置(電子
レンジ)を示す断面図、第4図は従来のマイクロ波加熱
装置(定在波形導波管加熱炉)を示す断面図、第5図は
第4図のマイクロ波加熱装置における矩形導波管の電界
強度分布を示す断面図である。 21.22・−・マイクロ波発振機、23.24・・・
アイソレータ、25.26・・・パワーモニタ、27.
28・・・整合器、29.30・・矩形導波管、31.
32・・・被加熱物挿入孔、33.34・・・シールド
パイプ、35・・被加熱物、36.37・・・摺動短絡
板。 第 図 H面
を示す概略平面図、第2図はこの発明の要部を拡大して
示す断面図、第3図は従来のマイクロ波加熱装置(電子
レンジ)を示す断面図、第4図は従来のマイクロ波加熱
装置(定在波形導波管加熱炉)を示す断面図、第5図は
第4図のマイクロ波加熱装置における矩形導波管の電界
強度分布を示す断面図である。 21.22・−・マイクロ波発振機、23.24・・・
アイソレータ、25.26・・・パワーモニタ、27.
28・・・整合器、29.30・・矩形導波管、31.
32・・・被加熱物挿入孔、33.34・・・シールド
パイプ、35・・被加熱物、36.37・・・摺動短絡
板。 第 図 H面
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 一対のマイクロ波発振機にそれぞれアイソレータ、パワ
ーモニタ、整合器を介して加熱用の矩形導波管が連設さ
れてなるマイクロ波加熱装置において、 上記両矩形導波管のそれぞれのH面が終端付近で背中合
わせに接合、又は僅かの間隙を有して配設され、且つこ
の接合面又は対向面を中心にした被加熱物挿入孔がE面
に設けられてなることを特徴とするマイクロ波加熱装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22515490A JPH04109587A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | マイクロ波加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22515490A JPH04109587A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | マイクロ波加熱装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04109587A true JPH04109587A (ja) | 1992-04-10 |
Family
ID=16824794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22515490A Pending JPH04109587A (ja) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | マイクロ波加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04109587A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003523612A (ja) * | 2000-02-25 | 2003-08-05 | パーソナル・ケミストリー・イー・ウプサラ・アクチボラゲット | マイクロ波加熱装置 |
JP2008226510A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hitachi Ltd | マイクロ波加熱装置 |
-
1990
- 1990-08-29 JP JP22515490A patent/JPH04109587A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003523612A (ja) * | 2000-02-25 | 2003-08-05 | パーソナル・ケミストリー・イー・ウプサラ・アクチボラゲット | マイクロ波加熱装置 |
JP2008226510A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Hitachi Ltd | マイクロ波加熱装置 |
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