JPH04102214A - Production of thin-film magnetic head - Google Patents
Production of thin-film magnetic headInfo
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 27
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 13
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 6
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は1枚の基板に複数のチップを成膜した後、各
チップに切断して薄膜磁気ヘッドを製造する製造法に関
し、各チップの識別ができるようにしたものである。[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention relates to a manufacturing method in which a plurality of chips are formed on one substrate and then cut into individual chips to manufacture a thin film magnetic head. This allows for identification.
磁気ヘッドのひとつである薄膜磁気ヘッドは、フォトリ
ソグラフィ技術を用いて磁性層や導体コイルを成膜して
作られたものであり、製法上、バルク形ヘッドを機械加
工で製作するのに比べ、多量生産や寸法の微小化に適す
るほか、高周波損失やマルチトラックとした場合のトラ
ック間漏話が少ないなどの特徴を具えている。A thin-film magnetic head, which is one type of magnetic head, is made by depositing a magnetic layer and a conductive coil using photolithography technology.Due to its manufacturing method, it is faster to manufacture than a bulk head, which is manufactured by machining. In addition to being suitable for mass production and miniaturization, it has features such as low high-frequency loss and low inter-track crosstalk when used with multi-tracks.
このような薄膜磁気ヘッドの製造法は、1枚の基板上に
複数のチップを同時に作るようにしており、各チップ位
置に対応してパターンが形成されたマスクを用い、フォ
トリソグラフィ技術で各チップを同時に成膜した後、各
チップに切断して使用するようにしている。The manufacturing method for such thin-film magnetic heads involves simultaneously manufacturing multiple chips on a single substrate, and using a mask with a pattern corresponding to each chip position, each chip is manufactured using photolithography technology. After forming a film at the same time, the chips are cut into individual chips for use.
例えば1枚の基板1上に同時に複数のチップを成膜した
後、これを切断して一つづつの薄膜磁気ヘッド(チップ
)とすると、各チップが基板のどの位置から採取された
チップであるかわからず、チップの識別が出来ず、チッ
プの素性か判らなくなってしまう。For example, if multiple chips are simultaneously formed on one substrate 1 and then cut into individual thin film magnetic heads (chips), it is difficult to determine from which position on the substrate each chip was taken. Therefore, the chip cannot be identified and the identity of the chip cannot be determined.
そこで、従来のチップの識別法の一例としては、10ツ
トで作られた複数枚の基板から切断したチップごとに一
括して1つの収納容器に入れて管理識別するようにして
いる。Therefore, as an example of a conventional chip identification method, each chip cut from a plurality of substrates made of 10 pieces is collectively placed in one storage container for management and identification.
また、別の識別法の例としてフォトリソグラフィ技術で
各チップを成膜する場合にチップのバタンと同時にマス
クに識別番号をいれておき、このマスクを用いることて
各チップに識別番号を露光記入し、各チップを識別する
方法が採られている。In addition, as an example of another identification method, when each chip is formed into a film using photolithography technology, an identification number is written on a mask at the same time as the chip is slammed, and this mask is used to write the identification number on each chip by exposure. , a method is adopted to identify each chip.
このような収納容器を用いる識別法では、収納容器単位
のロットでしか識別管理できず、最大限1枚の基板でし
か各チップを識別できず、基板のどの位置から採取した
チップであるかどうかが判らなくなるという問題がある
。In this type of identification method using a storage container, it is possible to identify and manage only the lot of each storage container, and each chip can only be identified from one board at most, and it is difficult to identify from which position on the board the chip was taken. The problem is that it is not clear.
また、−旦収納容器から出されて使用された各チップで
は、その素性がまったく判らなくなってしまうという問
題もある。Another problem is that once each chip is taken out of the storage container and used, its identity becomes completely unknown.
一方、フォトリソグラフィによってチップのパターンと
同時に識別記号を記入する識別法の場合には、記入され
た記号を読み取ることで各チップの識別が可能となるか
、このためには、基板ごとに異なる記号が入れられたマ
スクを用意しなければならず、実際には、1つのマスク
しか用意てきないため1枚の基板からの採取位置を識別
できても、どの基板であるか識別することができないと
いう問題がある。On the other hand, in the case of an identification method that uses photolithography to write identification symbols at the same time as the chip pattern, it is necessary to determine whether each chip can be identified by reading the written symbols. In reality, only one mask is prepared, so even if it is possible to identify the sampling position from one substrate, it is not possible to identify which substrate it is. There's a problem.
また、薄膜磁気ヘッド自体のパターンか複雑になったり
、チップ自体の大きさが小さくなると、識別記号の記入
スペースかなくなってしまうという問題がある。Furthermore, if the pattern of the thin film magnetic head itself becomes complex or the size of the chip itself becomes small, there is a problem that there is no space left for writing identification symbols.
この発明はかかる従来技術の問題点に鑑みてなされたも
ので、基板の識別、仕様の識別、基板内のチップごとの
識別なと数多くの情報を各チップ毎に記入できるととも
に、スペース上の制約を受けることもない薄膜磁気ヘッ
ドの製造法を提供しようとするものである。This invention was made in view of the problems of the prior art, and it is possible to write a large amount of information for each chip, such as board identification, specification identification, and identification of each chip on the board, and also because of space constraints. The purpose of this invention is to provide a method for manufacturing a thin film magnetic head that is free from damage.
上記問題点を解決するためこの発明は、1枚の基板上に
複数のチップを成膜して薄膜磁気ヘッドを製造するに際
し、少なくとも各チップ位置に応じて前記基板を切断す
る前に当該基板の裏面の各チップ位置にチップ識別情報
を記入するようにしたことを特徴とするものである。In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides that when manufacturing a thin film magnetic head by forming a plurality of chips on one substrate, at least before cutting the substrate according to the position of each chip, This feature is characterized in that chip identification information is written at each chip position on the back side.
この薄膜磁気ヘッドの製造法によれば、各チップに切断
する前であるチップパターンを成膜する「前」、「成膜
中」、「後」のいずれかに基板の裏面の各チップ位置を
利用して記号で仕様番号、ウェハー識別番号、ウェハー
内チップ識別番号などを、例えば数字によって記入する
ようにしており、チップのパターンの大きさなどの制限
を受けること無く、各チップの素性を完全に知ることが
できる。According to this method of manufacturing a thin film magnetic head, each chip position on the back surface of the substrate is determined before, during, or after forming a chip pattern before cutting into each chip. For example, the specification number, wafer identification number, chip identification number within the wafer, etc. can be written in numbers using symbols, making it possible to completely identify the identity of each chip without being limited by the size of the chip pattern. can be known.
以下、この発明の一実施例を図面を参照しながら具体的
に説明する。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be specifically described with reference to the drawings.
第1図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの製造法の一実施例
にかかる工程図であり、同時に18個の薄膜磁気ヘッド
(チップ)を製造する場合を示す。FIG. 1 is a process diagram of an embodiment of the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, and shows a case in which 18 thin film magnetic heads (chips) are manufactured at the same time.
この薄膜磁気ヘッドの製造法では、1枚の基板1の18
個の各チップ2にそれぞれ異なる識別情報3を付けて基
板1内での位置の識別はもとより、基板1自体の識別情
報および仕様を識別する情報も付けることによって切断
した状態でも各チップ2の素性が完全に識別できるよう
にする。In this method of manufacturing a thin film magnetic head, 18
By attaching different identification information 3 to each chip 2, it is possible to identify the position within the board 1, as well as information to identify the identification information and specifications of the board 1 itself, so that the identity of each chip 2 can be identified even when cut. be completely identifiable.
(1) このため薄膜磁気ヘッドの製造の第1工程とし
て、第1図(a)に示すように、基板1の裏面1aを利
用して、基板1の裏面1aの18個の各チップ位置に予
めチップ識別情報3を記入する。(1) Therefore, as the first step in manufacturing a thin film magnetic head, as shown in FIG. Fill in chip identification information 3 in advance.
このチップ2の識別情報3としては、例えば第2図に1
つのチップ2の裏面1aの識別情報3を示すように、9
桁の数字を用い、左から最初の4桁を基板1内の各チッ
プ2の位置の識別のだめの数字とし、前から2桁で「行
」を示す数字とし、後の2桁で「列」を示す数字として
、例えば第1図中のA部分の位置情報としてr0401
Jを用いる。As the identification information 3 of this chip 2, for example, 1 is shown in FIG.
As shown in the identification information 3 on the back side 1a of the chip 2, 9
Using digit numbers, the first four digits from the left are used to identify the position of each chip 2 on the board 1, the first two digits are used to indicate the "row", and the last two digits are used to indicate the "column". For example, r0401 is the position information of part A in Figure 1.
Use J.
次の2桁を薄膜磁気ヘッド(チップ)2の仕様を識別す
る数字とし、例えば「35」とする。The next two digits are numbers that identify the specifications of the thin film magnetic head (chip) 2, for example, "35".
そして、最後の3桁を基板1自体を識別する数字とし、
例えばr623Jとする。Then, the last three digits are numbers that identify the board 1 itself,
For example, let it be r623J.
このようなチップ2の識別のための9桁の数字、例えば
r040135623Jによる情報の基板1への記入は
、種々の方法があるが、例えばフォトリソグラフィ技術
を利用するようにすれば良く、基板1毎に各チップ位置
の情報3を入れたマスクを用意して露光することで記入
するようにする。There are various methods for writing information on the board 1 using a 9-digit number for identifying the chip 2, such as r040135623J, but for example, it is sufficient to use photolithography technology. The information is written by preparing a mask containing information 3 for each chip position and exposing it to light.
この場合、基板1の表面1bにチップ2のパターン4と
同時に記入するのと違い、高精度のチップパターン4が
入ったマスクを多数用意する必要はなく、数字だけの入
ったマスクで良く、基板1ごとに簡単に用意することが
できる。In this case, unlike writing the pattern 4 of the chip 2 on the surface 1b of the substrate 1 at the same time, there is no need to prepare many masks containing the highly accurate chip pattern 4, and a mask containing only numbers is sufficient. You can easily prepare one by one.
また、識別情報の他の記入方法としては、レーサー光に
よるマーキングやタイミングソー等による機械的な溝入
れ加工によっても良く、溝加工の場合には、数字に替え
て形成された溝の位置や本数などを識別情報として利用
するようにする。In addition, other methods for writing identification information include marking with a laser beam or mechanical grooving using a timing saw. In the case of grooving, the position and number of grooves formed instead of numbers may be used. etc. will be used as identification information.
(2) こうして各チップ2の識別情報3が記入された
基板1は、第2工程に送られる。(2) The substrate 1 on which the identification information 3 of each chip 2 has been written in this way is sent to the second step.
この第2工程では、基板1の裏面1aの識別情報3が記
入された位置に合わせて表面1bの各チップ位置にチッ
プパターン4が成膜される。In this second step, a chip pattern 4 is formed at each chip position on the front surface 1b in accordance with the position where the identification information 3 is written on the back surface 1a of the substrate 1.
この薄膜磁気ヘッド(チップ)2のチップパターン4の
作成は、従来と同様フォトリソグラフィ技術で行われ、
第1図(b)中のB部を拡大した第3図に1つのチップ
パターン4を示すように、各チップ位置にそれぞれ下部
磁性層、ギャップを形成する非磁性体のギャップ層や絶
縁層で挾まれた導体コイル、さらには、上部磁性層が順
次成膜されて18個の薄膜磁気ヘッド(チップ)2か同
時に作られる。The chip pattern 4 of this thin film magnetic head (chip) 2 is created using photolithography technology as in the past.
As shown in one chip pattern 4 in FIG. 3, which is an enlarged view of part B in FIG. The sandwiched conductor coils and further the upper magnetic layer are sequentially formed to form 18 thin film magnetic heads (chips) 2 at the same time.
このチップパターン4の成膜のための表N1a1bの位
置合わせは、例えば基板1のコーナ1cをアライメント
基準とするようにすれば、裏面1aのチップ位置情報3
に対応する表面1bにチップパターン4が形成できる。For example, if the corner 1c of the substrate 1 is used as the alignment reference, the alignment of the front surface N1a1b for film formation of the chip pattern 4 can be performed using the chip position information 3 on the back surface 1a.
Chip pattern 4 can be formed on surface 1b corresponding to .
(3) こうして裏面1aにチップ位置情報3が記入さ
れるとともに表面1bにチップパターン4が形成された
基板1は第3工程に送られる。(3) The substrate 1 with the chip position information 3 written on the back side 1a and the chip pattern 4 formed on the front side 1b is sent to the third step.
第3工程では、各チップ位置に応じて基板1が切断され
、第1図(e)に示すように、18個の薄膜磁気ヘッド
(チップ)2とされる。In the third step, the substrate 1 is cut according to the position of each chip, resulting in 18 thin film magnetic heads (chips) 2, as shown in FIG. 1(e).
こうして18個に切断された各薄膜磁気ヘッド(チップ
)2の表面には、それぞれチップパターン4が形成され
、裏面には、それぞれ異なる9桁の数字がチップ識別情
報3として記入されている。A chip pattern 4 is formed on the front surface of each thin film magnetic head (chip) 2 cut into 18 pieces in this way, and a different nine-digit number is written as chip identification information 3 on the back side.
したがって、この9桁の数字から、既に説明したように
、各チップ2についての基板内のチップ位置の情報、仕
様情報、基板自体の情報等の識別情報3が判り、完全に
チップ2の素性を知ることができる。Therefore, as explained above, from this 9-digit number, the identification information 3 such as information on the chip position in the board, specification information, and information on the board itself for each chip 2 can be determined, and the identity of the chip 2 can be completely determined. You can know.
なお、チップ識別情報としては9桁の数字や溝などを用
いる場合に限らず、アルファベットなどの文字と組合わ
せるようにしても良い。Note that the chip identification information is not limited to using nine-digit numbers, grooves, etc., and may be combined with letters such as the alphabet.
また、上記実施例では、識別情報の記入工程をチップパ
ターンを成膜する前の第1工程としたが、識別情報の記
入はチップパターンの成膜中や成膜後など少なくとも各
チップに切断する第3工程前であれば良い。In addition, in the above embodiment, the step of writing the identification information was the first step before forming the chip pattern, but the writing of the identification information is performed at least during or after the formation of the chip pattern by cutting into each chip. It is sufficient if it is before the third step.
以上、一実施例とともに具体的に説明したようにこの発
明によれば、基板の裏面の各チップ位置を利用して識別
情報を記入するようにしたので、チップのパターンの大
きさなとの制限を受けること無く、ウェハー内チップ位
置の識別情報、チ・ツブの仕様情報、ウェハーの識別情
報など各チ・ノブの識別に必要な数多くの情報を記入す
ることかできる。As specifically explained above with one embodiment, according to the present invention, identification information is written using each chip position on the back side of the substrate, so there is no restriction on the size of the chip pattern. You can enter a lot of information necessary to identify each chip/knob, such as the identification information of the chip position within the wafer, chip specification information, and wafer identification information, without having to receive information.
したがって、切断後においても、これらの識別情報から
、そのチップの素性が完全にトレースでき、チップの完
全識別が可能となる。Therefore, even after cutting, the identity of the chip can be completely traced from this identification information, making it possible to completely identify the chip.
第1図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの製造法の一実施例
にかかる工程図であり、同時に18個の薄膜磁気ヘッド
(チップ)を製造する場合を示す。
第2図は第1図中のA部の拡大図である。
第3図は第1図中のB部の拡大図である。
1・・・基板、1a・・・裏面、1b・・・表面、IC
・・・コーナ、2・・・薄膜磁気ヘッド(チップ)、3
・・・チップ識別情報、4・・・チップパターン。
出
願
人
ヤ
マ
株
式FIG. 1 is a process diagram of an embodiment of the method for manufacturing a thin film magnetic head of the present invention, and shows a case in which 18 thin film magnetic heads (chips) are manufactured at the same time. FIG. 2 is an enlarged view of section A in FIG. 1. FIG. 3 is an enlarged view of section B in FIG. 1. 1... Board, 1a... Back surface, 1b... Front surface, IC
...Corner, 2...Thin film magnetic head (chip), 3
...Chip identification information, 4...Chip pattern. Applicant Yama Stock
Claims (1)
を製造するに際し、少なくとも各チップ位置に応じて前
記基板を切断する前に当該基板の裏面の各チップ位置に
チップ識別情報を記入するようにしたことを特徴とする
薄膜磁気ヘッドの製造法。When manufacturing a thin film magnetic head by forming a plurality of chips on one substrate, at least write chip identification information on each chip position on the back surface of the substrate before cutting the substrate according to each chip position. A method for manufacturing a thin film magnetic head, characterized in that:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21657790A JPH04102214A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Production of thin-film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21657790A JPH04102214A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Production of thin-film magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04102214A true JPH04102214A (en) | 1992-04-03 |
Family
ID=16690598
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21657790A Pending JPH04102214A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Production of thin-film magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
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- 1990-08-17 JP JP21657790A patent/JPH04102214A/en active Pending
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