JPH04101399U - Slit for beam trajectory monitoring in ion beam analyzer - Google Patents

Slit for beam trajectory monitoring in ion beam analyzer

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JPH04101399U
JPH04101399U JP705591U JP705591U JPH04101399U JP H04101399 U JPH04101399 U JP H04101399U JP 705591 U JP705591 U JP 705591U JP 705591 U JP705591 U JP 705591U JP H04101399 U JPH04101399 U JP H04101399U
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slit
slits
ion beam
trajectory
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JP705591U
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誠 木村
包夫 山田
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株式会社神戸製鋼所
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 速器からのイオンビームを複数のビームライ
ンに振り分けて用いるイオンビーム分析装置において、
ビームライン内に配置した1対のスリットでイオンビー
ム軌道のずれを二次元方向にモニターする。 【構成】 左右で対のスリット(1) それぞれを、中央部
スリット(2) と、その上下両側の上・下部スリット(3),
(4) とに分割すると共に、これら各スリットを絶縁板
(5) により電気的に独立させて、それぞれに流れる電流
値を独立して測定し、左右のスリット(1) の電流値の差
から水平方向のビーム軌道のずれを、上・下部スリット
(3),(4) および中央部スリット(2) の電流値から垂直方
向のビーム軌道のずれをモニターする。 【効果】 イオンビーム軌道のずれを二次元的に確認で
き、そのビーム軌道の調整・確認操作を効率良く行うこ
とができる。
(57) [Summary] [Purpose] In an ion beam analyzer that distributes the ion beam from the analyzer to multiple beam lines,
A pair of slits placed in the beam line monitor the deviation of the ion beam trajectory in two dimensions. [Configuration] A pair of slits on the left and right (1), each with a central slit (2), and upper and lower slits on both sides (3),
(4) In addition to dividing these slits into
(5), the current value flowing through each slit is measured independently, and the deviation of the beam trajectory in the horizontal direction is determined from the difference in the current value between the left and right slits (1).
(3), (4) and the current value of the central slit (2) to monitor the deviation of the beam trajectory in the vertical direction. [Effect] The deviation of the ion beam trajectory can be confirmed two-dimensionally, and the beam trajectory can be adjusted and confirmed efficiently.

Description

【考案の詳細な説明】[Detailed explanation of the idea]

【0001】0001

【産業上の利用分野】[Industrial application field]

本考案は、イオンビーム分析装置におけるビーム軌道モニター用スリットに関 し、詳細には、加速器からのイオンビームを複数のビームラインに振り分けて用 いるイオンビーム分析装置において、各ビームラインのイオンビーム軌道のずれ を二次元方向にモニターできるビーム軌道モニター用スリットに関する。 This invention relates to a slit for beam trajectory monitoring in an ion beam analyzer. In detail, the ion beam from the accelerator is distributed to multiple beam lines for use. In the ion beam analyzer, the deviation of the ion beam trajectory of each beam line This invention relates to a beam trajectory monitoring slit that can monitor the beam trajectory in two dimensions.

【0002】0002

【従来の技術】[Conventional technology]

大型の静電加速器を利用したイオンビーム分析装置では、通常〔図3〕に示す ように、加速器aから発射された高エネルギーのイオンビームを、イオン偏向電 磁石bによってイオン種・エネルギーを選別すると共に、それぞれ特性の異なる イオンビームを、真空路に形成された複数のビームラインc1,c2,c3 に振り分 けて、真空試料チャンバd1,d2,d3 に導き、各種分析に用いる構成が採られて いる。また、これらイオンビーム分析装置では、イオンビームのイオン種・エネ ルギーを変える度に、そのビーム軌道を調整しないとイオンビームを真空試料チ ャンバ内の試料に正しく当てられないので、通常、各ビームラインc1,c2,c3 の入り側に、ビーム軌道モニター用のスリットe1,e2,e3 を設置している。In an ion beam analyzer that uses a large electrostatic accelerator, as shown in Figure 3, a high-energy ion beam emitted from an accelerator a is normally sorted by ion type and energy by an ion deflection electromagnet b. , a configuration in which ion beams with different characteristics are distributed to a plurality of beam lines c 1 , c 2 , c 3 formed in a vacuum path, guided to vacuum sample chambers d 1 , d 2 , d 3 and used for various analyses. is taken. In addition, in these ion beam analyzers, each time the ion type or energy of the ion beam is changed, the beam trajectory must be adjusted to ensure that the ion beam cannot correctly hit the sample in the vacuum sample chamber. Slits e 1 , e 2 , e 3 for beam trajectory monitoring are installed on the entrance sides of 1 , c 2 , and c 3 .

【0003】 これらイオンビーム分析装置に装着される従来技術のスリットの構成の代表例 を〔図4〕に示す。なお、〔図4〕の(a)図は横断面図、(b)図は(a)図 のA−A断面図である。この例では、ビームラインを形成する真空ダクト(43)内 に、水平方向で対向して平行に配された対のスリット(41)は、絶縁フランジ(42) によって真空ダクト(43)と絶縁される一方で、外部の電流計(44)に接続されてい る。この構成下で、対のスリット(41)に一点鎖線で示すイオンビームBが当たる と、その当たった面積に比例する電流値が流れる。そこで、対のスリット(41)そ れぞれに流れる電流を電流計(44)で検出し、その電流値の差から、イオンビーム Bの水平方向の軌道のずれをモニターできる。0003 Typical examples of conventional slit configurations installed in these ion beam analyzers is shown in [Figure 4]. In addition, (a) of [Figure 4] is a cross-sectional view, and (b) is a cross-sectional view of (a). It is an AA sectional view of. In this example, inside the vacuum duct (43) forming the beam line. A pair of parallel slits (41) facing each other in the horizontal direction are connected to the insulating flange (42). is isolated from the vacuum duct (43), while connected to an external ammeter (44). Ru. Under this configuration, the ion beam B shown by the dashed line hits the pair of slits (41). Then, a current flows that is proportional to the area of contact. Therefore, the pair of slits (41) The current flowing through each is detected by an ammeter (44), and from the difference in current value, the ion beam The horizontal trajectory deviation of B can be monitored.

【0004】0004

【考案が解決しようとする課題】[Problem that the idea aims to solve]

従来は、分析種別を変更するため、イオンビームを他のビームラインに振り分 ける場合、オペレータが、上述した対のスリットに流れる電流値の差をモニター しながら、イオンビーム軌道の水平方向のずれを調整していたのであるが、この 場合、垂直方向におけるビーム軌道のずれについては全くモニターできずイオン ビームが上にずれているのか、下にずれているのか分からなかった。 Conventionally, in order to change the type of analysis, the ion beam was distributed to other beam lines. When using the While adjusting the horizontal deviation of the ion beam trajectory, this In this case, the deviation of the beam trajectory in the vertical direction cannot be monitored at all, and the ion I couldn't tell if the beam was shifting upward or downward.

【0005】 そこで、垂直方向の調整は、真空試料チャンバ内の試料に流れる電流値や、試 料の直前に配置したファラデーカップで検出した電流値の確認、ないしは真空試 料チャンバに設けた石英窓からの目視によるビーム照射位置の確認などに依存し 、これらによる確認と対のスリットによるモニター結果とにより、水平→垂直→ 水平・・・と調整を繰り返しながら最適のビーム軌道を設定していた。このため 、オペレータの技量・経験にたよる部分が多く手間と時間がかかっていた。[0005] Therefore, vertical adjustment is necessary to adjust the current value flowing through the sample in the vacuum sample chamber and the Check the current value detected by the Faraday cup placed just before the sample, or perform a vacuum test. This method relies on visual confirmation of the beam irradiation position through a quartz window installed in the sample chamber. , By checking with these and monitoring results with paired slits, horizontal → vertical → I set the optimal beam trajectory while repeating horizontal and horizontal adjustments. For this reason However, much of the process depended on the skill and experience of the operator, which was time-consuming and labor-intensive.

【0006】 一方、ビームラインに垂直方向で対向させた対のスリットを増設することで、 上記の問題は解決できるのであるが、この場合、同一ビームラインに対のスリッ トを2連に装着することになり、装置コストが上昇すると共に初期スリット調整 が難しくなり、更に、真空路に形成されるビームラインに対し、アウトガスの増 加やコンダクタンスの減少などの悪影響を及ぼし易いので好ましくない。[0006] On the other hand, by adding a pair of slits facing each other perpendicularly to the beam line, The above problem can be solved, but in this case, a pair of slits on the same beam line This increases equipment cost and requires initial slit adjustment. Furthermore, the beam line formed in the vacuum path is subject to an increase in outgas. This is undesirable because it tends to have adverse effects such as a decrease in conductance and conductance.

【0007】 本考案の目的は、従来の水平方向で対向させた対のスリットに対して、分割を 行って電気的に独立させるという、ビームラインに対する悪影響が少ない簡単な 改良を加えるだけで、縦・横双方向の二次元的なビーム軌道のモニターを実現さ せ、イオンビーム軌道の調整・確認操作の効率化を達成させることにある。[0007] The purpose of this invention is to divide the conventional pair of slits facing each other in the horizontal direction. A simple method that has less negative impact on the beamline is to make it electrically independent. By simply making improvements, it is possible to monitor two-dimensional beam trajectories both vertically and horizontally. The goal is to improve the efficiency of ion beam trajectory adjustment and confirmation operations.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

本考案は上記目的を達成するために以下の構成とされている。すなわち、本考 案に係るイオンビーム分析装置におけるビーム軌道モニター用スリットは、加速 器から発射されたイオンビームを複数のビームラインに振り分けて用いるイオン ビーム分析装置の各ビームライン内に配置され、ビームライン内の基準ビーム軌 道を軸対称に挟んで対向させた対のスリットにて、衝突するイオンビームの電流 値を検出し、その電流値からイオンビームの軌道のずれを検知するイオンビーム 分析装置におけるビーム軌道モニター用スリットにおいて、対のスリットそれぞ れを、中央部スリットと、その両側に併設された端部スリットとに3分割すると 共に、これら各スリットを電気的に独立させたことを特徴とする。 The present invention has the following configuration to achieve the above object. In other words, the main idea The slit for beam trajectory monitoring in the proposed ion beam analyzer is An ion system that distributes the ion beam emitted from the device to multiple beam lines. It is located within each beamline of the beam analyzer and is used to control the reference beam trajectory within the beamline. The current of the ion beam colliding at a pair of slits that are axially symmetrical and opposite each other. An ion beam that detects the current value and detects the deviation of the ion beam's trajectory from the current value. In the beam trajectory monitoring slit in the analyzer, each pair of slits If this is divided into three parts, a central slit and end slits on both sides, Both are characterized in that each of these slits is electrically independent.

【0009】[0009]

【作用】[Effect]

本考案においては、基準ビーム軌道を軸対称に挟んで対向させた対のスリット それぞれを、中央部スリットと、その両側に併設された端部スリットとに3分割 すると共に、これら各スリットを電気的に独立させるので、各スリットそれぞれ に流れる電流値を独立して取り出し、ぞれぞれで検出した電流値の差から、イオ ンビームの縦・横双方向の軌道のずれを同時に検知することができる。 すなわち、基準ビーム軌道を挟んで対向する対のスリット間の電流値の差から 、対向方向のビーム軌道のずれを検知でき、3分割された中央部とその両側の端 部スリット間の電流値の差から、対のスリットの対向方向に直交する方向のビー ム軌道のずれを検知できる。 In the present invention, a pair of slits are arranged axially symmetrically across the reference beam trajectory. Each is divided into three parts: a central slit and end slits on both sides. At the same time, each slit is electrically independent, so each slit is The current value flowing through each is taken out independently, and the ion It is possible to simultaneously detect deviations in the beam's trajectory both vertically and horizontally. In other words, from the difference in current value between a pair of slits facing each other across the reference beam trajectory, , can detect the deviation of the beam trajectory in the opposing direction, and can detect the center part divided into three parts and the edges on both sides. From the difference in current value between the two slits, the beam in the direction perpendicular to the opposing direction of the pair of slits is determined. It is possible to detect deviations in the program trajectory.

【0010】0010

【実施例】【Example】

以下に、本考案の実施例を〔図1〕を参照して説明する。〔図1〕は本考案の 実施例のビーム軌道モニター用スリットの断面図であって、(a)図は横断面図 、(b)図は縦断面図である。 An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. 1. [Figure 1] shows the structure of this invention. FIG. 2 is a cross-sectional view of the beam trajectory monitoring slit of the embodiment, and (a) is a cross-sectional view. , (b) is a longitudinal sectional view.

【0011】 〔図1〕において、(1) はスリットであって、このスリット(1) は、外郭形状 を板状とされ、ビームラインを形成する真空ダクトD内に、図中の一点鎖線で示 す基準ビーム軌道Bを軸対称に挟んで、互いの側端を平行に対向させて左右で対 をなして配置されている。[0011] In [Figure 1], (1) is a slit, and this slit (1) has an outer shape. is in the form of a plate, and inside the vacuum duct D that forms the beam line, is shown by the dashed line in the figure. The left and right beams are placed opposite each other with their side edges parallel to each other, with the reference beam trajectory B axially symmetrically sandwiched between them. It is arranged in such a way that

【0012】 また、このスリット(1) は、中央部スリット(2) と、その上・下両側に併設さ れた上・下部スリット(3),(4) と、中央部スリット(2) と上・下部スリット(3), (4) の間に介装され、これらの間を絶縁すると共に連結する絶縁板(5) とで構成 されている。すなわち、基準ビーム軌道Bと直交する上下方向において、電気的 に独立した3つの構成部分に分割されている。 なお、中央部スリット(2) の上下方向の幅は、当該ビームラインに導かれるイ オンビームのビーム径と略同寸ないしは小さい幅に設定される。0012 In addition, this slit (1) is attached to the central slit (2) and both above and below it. upper and lower slits (3), (4), central slit (2) and upper and lower slits (3), (4) and an insulating plate (5) interposed between them to insulate and connect them. has been done. That is, in the vertical direction perpendicular to the reference beam trajectory B, the electrical It is divided into three independent components. The vertical width of the central slit (2) is the width of the beam guided to the beam line. The width is set to be approximately the same size or smaller than the on-beam beam diameter.

【0013】 左右で対のスリット(1) は、それぞれ支持桿(6) を介して真空ダクトDに接続 され、一方、支持桿(6) は、絶縁フランジ(7) によって真空ダクトDと絶縁され ている。また、対のスリット(1) それぞれの中央部スリット(2) および上・下部 スリット(3),(4) は、外部に配された6個の電流計(8) それぞれに個別に接続さ れ、それぞれに流れる電流値を独立して測定できるものとされている。[0013] The pair of slits (1) on the left and right are connected to the vacuum duct D via the support rods (6), respectively. On the other hand, the support rod (6) is insulated from the vacuum duct D by the insulating flange (7). ing. In addition, a pair of slits (1), each central slit (2), and upper and lower The slits (3) and (4) are individually connected to each of the six ammeters (8) placed outside. It is said that the current value flowing through each can be measured independently.

【0014】 以上の構成を具備する本実施例のビーム軌道モニター用スリットでは、当該ビ ームラインに導かれたイオンビームの軌道を、次のようにしてモニターする。[0014] In the beam trajectory monitoring slit of this embodiment having the above configuration, the beam The trajectory of the ion beam guided to the beam line is monitored as follows.

【0015】 イオンビームのビーム径が中央部スリット(2) 幅と略同寸法の場合; イオンビームが、基準ビーム軌道B上にあり、対のスリット(1) の中央を通過 しているときには、左右の中央部スリット(2) に流れる電流値は等しくなる。 そして今、イオンビームの軌道が上方にずれると上部スリット(3) に電流が流 れ、また下方にずれると下部スリット(4) に電流が流れ、それぞれ中央部スリッ ト(2) の電流値が減少する。この状態で更に水平方向にもイオンビームの軌道が ずれると、上部スリット(3) または下部スリット(4) および中央部スリット(2) それぞれの左右の電流値に差が生じる。従って、対のスリット(1) それぞれの中 央部スリット(2) および上・下部スリット(3),(4) の電流値から、当該ビームラ インに導かれたイオンビームの軌道のモニターを、水平・垂直方向で同時に行う ことができる。[0015] When the beam diameter of the ion beam is approximately the same as the width of the central slit (2); The ion beam is on the reference beam trajectory B and passes through the center of the pair of slits (1). When this happens, the current values flowing through the left and right central slits (2) are equal. Now, when the trajectory of the ion beam shifts upward, a current flows through the upper slit (3). When it shifts downward again, current flows through the lower slit (4), and the central slit The current value of (2) decreases. In this state, the trajectory of the ion beam also changes horizontally. If misaligned, the upper slit (3) or lower slit (4) and center slit (2) A difference occurs between the current values on the left and right sides. Therefore, a pair of slits (1) inside each From the current values of the central slit (2) and upper and lower slits (3) and (4), the beam beam Simultaneously monitor the trajectory of the ion beam guided in the horizontal and vertical directions. be able to.

【0016】 イオンビームのビーム径が中央部スリット(2) 幅より大きい場合; イオンビームが、基準ビーム軌道B上を通過しているときには、左右の中央部 スリット(2) に流れる電流値は等しく、また、上部スリット(3) と下部スリット (4) との電流値も等しくなる。そして今、イオンビームの軌道が上方にずれると 上部スリット(3) に電流値が増大し、下部スリット(4) の電流値が減少する。ま た、上方にずれると逆に上部スリット(3) に電流が減少し、下部スリット(4) の 電流値が増大する。更に、水平方向にもイオンビームの軌道がずれると、上・下 部スリット(3),(4) および中央部スリット(2) それぞれの左右の電流値に差が生 じるので、上記の場合と同様にイオンビームの軌道をモニターできる。[0016] When the beam diameter of the ion beam is larger than the width of the central slit (2); When the ion beam is passing on the reference beam trajectory B, the center of the left and right The current value flowing through the slit (2) is the same, and the current value flowing through the upper slit (3) and the lower slit (4) and the current value are also equal. And now, when the trajectory of the ion beam shifts upward, The current value increases in the upper slit (3), and the current value decreases in the lower slit (4). Ma On the other hand, when it shifts upward, the current decreases in the upper slit (3), and the current in the lower slit (4) decreases. The current value increases. Furthermore, if the trajectory of the ion beam shifts in the horizontal direction, the upward and downward There is a difference in the current values on the left and right sides of the central slits (3), (4) and the central slit (2). Therefore, the trajectory of the ion beam can be monitored in the same way as in the above case.

【0017】 このように、イオンビームの軌道を、水平・垂直方向で同時にモニターできる 本実施例のビーム軌道モニター用スリットでは、基準ビーム軌道Bからのビーム 軌道のずれを二次元的に確認できるので、その調整操作が格段に容易となる。[0017] In this way, the trajectory of the ion beam can be monitored simultaneously in the horizontal and vertical directions. In the beam trajectory monitoring slit of this embodiment, the beam from the reference beam trajectory B is Since the deviation of the trajectory can be confirmed two-dimensionally, the adjustment operation becomes much easier.

【0018】 なお、本実施例では、対のスリット(1) それぞれの中央部スリット(2) および 上・下部スリット(3),(4) を、6個の電流計(8) それぞれに個別に接続路して、 それぞれの電流値を独立して測定するものとしたが、例えば、その模式図である 〔図2〕に示すように、左右の中央部スリット(2) を個別の電流計(8) に接続す る一方、左右の上部スリット(3) を1個の電流計(9) に接続し、かつ左右の下部 スリット(4) を別の1個の電流計(10)に接続した計測系とされても、本実施例と 同様の機能を持たせることができる。 また、本実施例においては、対のスリットを水平方向で対向させたが、本考案 はこれに限定されるものでなく、例えば、これらを垂直方向で対向させても同様 の効果が得られる。また、各スリットを電気的に独立させる絶縁のやり方につい ても本実施例に限定されるものでないことは言うまでもない。[0018] In addition, in this example, the pair of slits (1) each center slit (2) and Connect the upper and lower slits (3) and (4) to each of the six ammeters (8) individually, Each current value was measured independently, for example, as shown in the schematic diagram. As shown in Figure 2, connect the left and right center slits (2) to individual ammeters (8). At the same time, connect the left and right upper slits (3) to one ammeter (9), and Even if the measurement system is one in which the slit (4) is connected to another ammeter (10), this example It can have similar functionality. In addition, in this example, the pair of slits were made to face each other in the horizontal direction, but the present invention are not limited to this, for example, the same effect can be achieved even if these are vertically opposed. The effect of this can be obtained. Also, we will discuss how to insulate each slit to make it electrically independent. However, it goes without saying that the invention is not limited to this embodiment.

【0019】[0019]

【考案の効果】[Effect of the idea]

以上に述べたように本考案によれば、対向させた対のスリットそれぞれを3分 割して電気的に独立させるという、真空路に形成されるビームラインに対して悪 影響を及ぼすことない簡易な構成にて、イオンビームの軌道ずれを二次元的にモ ニターでき、その軌道の調整・確認操作を高効率下で容易に行うことができる。 As described above, according to the present invention, each pair of slits facing each other is divided into 3 minutes. This creates a negative impact on the beam line formed in the vacuum path. Two-dimensionally monitors ion beam trajectory deviation with a simple configuration that does not affect The trajectory can be easily adjusted and confirmed with high efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本考案の実施例のビーム軌道モニター用スリッ
トの断面図であって、(a)図は横断面図、(b)図は
(a)図のA−A断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view of a beam trajectory monitoring slit according to an embodiment of the present invention, in which (a) is a cross-sectional view, and (b) is a cross-sectional view taken along line A-A in (a).

【図2】本考案の別の実施態様を説明する模式図であ
る。
FIG. 2 is a schematic diagram illustrating another embodiment of the present invention.

【図3】イオンビーム分析装置の概要説明図である。FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of an ion beam analyzer.

【図4】従来のビーム軌道モニター用スリットの断面図
であって、(a)図は横断面図、(b)図は(a)図の
A−A断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a conventional beam trajectory monitoring slit, in which (a) is a cross-sectional view, and (b) is a cross-sectional view taken along line A-A in (a).

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(1) --スリット (2) --中央部スリッ
ト (3) --上部スリット (4) --下部スリット (6) --支持桿 (7) --絶縁フランジ (8) --電流計 D--真空ダクト B--基準ビーム軌道
(1) --Slit (2) --Central slit (3) --Top slit (4) --Bottom slit (6) --Support rod (7) --Insulating flange (8) --Ammeter D --Vacuum duct B--Reference beam trajectory

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】 加速器から発射されたイオンビームを複
数のビームラインに振り分けて用いるイオンビーム分析
装置の各ビームライン内に配置され、ビームライン内の
基準ビーム軌道を軸対称に挟んで対向させた対のスリッ
トにて、衝突するイオンビームの電流値を検出し、その
電流値からイオンビームの軌道のずれを検知するイオン
ビーム分析装置におけるビーム軌道モニター用スリット
において、対のスリットそれぞれを、中央部スリット
と、その両側に併設された端部スリットとに3分割する
と共に、これら各スリットを電気的に独立させたことを
特徴とするイオンビーム分析装置におけるビーム軌道モ
ニター用スリット。
[Claim 1] Disposed within each beam line of an ion beam analyzer that distributes the ion beam emitted from the accelerator to a plurality of beam lines, and facing each other axially symmetrically with respect to the reference beam trajectory within the beam line. In the slit for beam trajectory monitoring in an ion beam analyzer, which detects the current value of the colliding ion beam with a pair of slits and detects the deviation of the trajectory of the ion beam from the current value, each pair of slits is A slit for beam trajectory monitoring in an ion beam analyzer, characterized in that the slit is divided into three parts: a slit and end slits provided on both sides of the slit, and each slit is electrically independent.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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