JPH03982A - 真空チャンバ圧力制御方式 - Google Patents

真空チャンバ圧力制御方式

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Publication number
JPH03982A
JPH03982A JP13505789A JP13505789A JPH03982A JP H03982 A JPH03982 A JP H03982A JP 13505789 A JP13505789 A JP 13505789A JP 13505789 A JP13505789 A JP 13505789A JP H03982 A JPH03982 A JP H03982A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pressure
vacuum chamber
exhaust valve
valve
chamber
Prior art date
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Pending
Application number
JP13505789A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaki Shimono
下野 正貴
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Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication of JPH03982A publication Critical patent/JPH03982A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は気相反応装置の真空チャンバの圧力制御方式に
関する。更に詳細には、本発明は真空チャンバの圧力を
最適に制御することのできる圧力制御方式に関する。
[従来の技術] 半導体素子あるいはデバイス類の製造のために様々な気
相反応装置が使用されている。このような気相反応装置
は密閉可能なチャンバ(反応室)を有する。
装置によってはチャンバ(反応室)を減圧または真空状
態にして製造処理するものがある。例えば、減圧CVD
装置、プラズマCVD装置、真空蒸着装置、スパッタリ
ング装置、ドライエ、チング装置などである。
従来の気相反応装置における、真空チャンバの圧力調整
機構のブロック図を第2図に示す。
チャンバ1に反応ガスが供給される一方、排気ダクト3
を経て真空ポンプ5によりチャンバ内は所定の真空度に
維持される。チャンバ1には適当な圧力検出器7が配設
され、チャンバ内圧力を常に監視している。検出された
圧力信号はAPCユニット10に伝達される。APCユ
ニットには多め設定されたチャンバ圧力が記憶されてお
り、この数値と検出値を比較することにより、排気ダク
トの途中に設けられたバタフライ弁12をモータ14な
どの手段により開閉し、チャンバ圧力を調整する。
[発明が解決しようとする課題] しかし、バルブ開閉度とチャンバの圧力変化は直線的な
関係がない。圧力はバルブの開閉度及び供給するガス等
の総論Mによって変化し、一意的にバルブの位置では決
定できない。
チャンバの圧力とバルブ開閉度との関係は第3図のよう
になる。要するに、同じ差圧であっても、目的の圧力値
によってバルブ開閉度の影響の度合いが変化する。
このため、圧力検出器の信号をフィードバックして弁の
開閉を行う場合、ハンチング等を防出するため、フィー
ドバックt−a (バルブの開閉動作)は安全を見込ん
だ量とする7安があった。
従って、本発明の目的は、チャンバの圧力を最適に制御
することのできる自動圧力制御機構を打する気相反応装
置を提供することである。
[課題を解決するための手段] 前記目的を達成するための手段として、本発明は、気相
反応装置の真空チャンバに配設された圧力検出手段によ
り検出された信号に基づき該チャンバの排気弁を開閉す
ることにより前記真空チャンバの圧力を制御する方式に
おいて、前記排気弁の開閉度の検出手段を設け、該排気
弁の開閉度とチャンバ圧力との検出信号に基づき気相反
応装置の真空チャンバの圧力を制御することを特徴とす
る気相反応装置の真空チャンバ圧力制御方式を提供する
[作用コ 前記のように、本発明によれば、従来の圧力検出手段に
加えて、排気弁のバルブ開閉度検出手段が設けられてい
るので、バルブの開閉動作をダイナミックに変化させる
ことにより、常に最適な圧力制御を実現できる。
また、最適なバルブ開閉度を記憶することで、系全体の
再現性を良くすることが可能となる。
[実施例] 以下、図面を参照しながら本発明の圧力制御方式につい
て更に詳細に説明する。
第1図は本発明による気相反応装置の真空チャンバの圧
力制御方式のブロック図である。
第2図に示した従来の圧力制御方式のブロック図と同一
のものは同じ符号で説明する。
チャンバ1は排気ダクト3と、このダクトの終端に接続
された排気系(例えば、真空ポンプ)5を有する。チャ
ンバlには更にバラトロンのような常用の圧力検出手段
7が設けられており、この圧力検出手段7はAPCユニ
ット10に接続されている。APCユニット10は一般
的に、増幅器、メモリー、インターフェースおよびマイ
クロプロセッサなどからなる。圧力検出手段7により測
定されたチャンバ圧力信号はAPCユニット10に伝達
され、ここで処理される。次いで、制御信号が排気弁1
2の開閉駆動手段14に送出され、弁の開閉を行う。こ
の弁開閉駆動手段は例えば、ロータリーアクチュエータ
やステッピングモータなどの精密制御用の駆動手段を用
いることが好ましい。
本発明によれば、排気弁12にバルブ位置検出手段16
を配設する。該手段により検出されたバルブ位置信号は
APCユニット10に伝達され、処理される。ここで、
フィードバック社(バルブの開閉動作)をダイナミック
に変化させることにより、常に最適な圧力制御を実現で
きる。また、予め最適なバルブ位置をAPCユニットに
記憶させておくことにより、系全体の再現性を向トさせ
ることが可能となる。
[発明の効果コ 以上説明したように、本発明の真空チャンバ圧力制御方
式によれば、チャンバに設けられた圧力検出手段の他に
、排気弁に設けられたバルブ位置検出手段からの信号に
基づいて排気弁の開閉動作を行うので、目的の圧力値を
迅速に形成することができるばかりか、常に最適な圧力
制御を実現できる。
気相反応装置の真空チャンバの圧力制御において、チャ
ンバに設けられた圧力検出手段の他に、排気弁のバルブ
位置検出手段を併用する試みは従来技術には皆無である
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の真空チャンバ圧力制御方式の・例を示
すブロック図であり、第2図は従来の真空チャンバ圧力
制御方式の一例を示すブロック図であり、第3図は従来
の真空チャンバ圧力制御方式によるバルブ開閉度とチャ
ンバ圧力との関係を示す特性図である。 1・・・チャンバ、3・・・υ[気ダクト、5・・・排
気系。 7・・・圧力検出手段、IO・・・APCユニット。 12・・・排気弁、14・・・排気弁駆動手段。 16・・・バルブ位置検出手段

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)気相反応装置の真空チャンバに配設された圧力検
    出手段により検出された信号に基づき該チャンバの排気
    弁を開閉することにより前記真空チャンバの圧力を制御
    する方式において、前記排気弁の開閉度の検出手段を設
    け、該排気弁の開閉度とチャンバ圧力との検出信号に基
    づき気相反応装置の真空チャンバの圧力を制御すること
    を特徴とする真空チャンバ圧力制御方式。
JP13505789A 1989-05-29 1989-05-29 真空チャンバ圧力制御方式 Pending JPH03982A (ja)

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JP13505789A JPH03982A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 真空チャンバ圧力制御方式

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JP13505789A JPH03982A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 真空チャンバ圧力制御方式

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JPH03982A true JPH03982A (ja) 1991-01-07

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JP13505789A Pending JPH03982A (ja) 1989-05-29 1989-05-29 真空チャンバ圧力制御方式

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0972561A2 (en) * 1998-07-13 2000-01-19 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Vacuum apparatus
JP2000064959A (ja) * 1998-08-18 2000-03-03 Nichiden Mach Ltd 排気装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0972561A2 (en) * 1998-07-13 2000-01-19 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Vacuum apparatus
EP0972561A3 (en) * 1998-07-13 2000-09-27 Seiko Seiki Kabushiki Kaisha Vacuum apparatus
JP2000064959A (ja) * 1998-08-18 2000-03-03 Nichiden Mach Ltd 排気装置

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