JPH03982A - 真空チャンバ圧力制御方式 - Google Patents
真空チャンバ圧力制御方式Info
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- JPH03982A JPH03982A JP13505789A JP13505789A JPH03982A JP H03982 A JPH03982 A JP H03982A JP 13505789 A JP13505789 A JP 13505789A JP 13505789 A JP13505789 A JP 13505789A JP H03982 A JPH03982 A JP H03982A
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- pressure
- vacuum chamber
- exhaust valve
- valve
- chamber
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- Pending
Links
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- 238000010574 gas phase reaction Methods 0.000 claims abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000010276 construction Methods 0.000 abstract 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
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Landscapes
- Compressors, Vaccum Pumps And Other Relevant Systems (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は気相反応装置の真空チャンバの圧力制御方式に
関する。更に詳細には、本発明は真空チャンバの圧力を
最適に制御することのできる圧力制御方式に関する。
関する。更に詳細には、本発明は真空チャンバの圧力を
最適に制御することのできる圧力制御方式に関する。
[従来の技術]
半導体素子あるいはデバイス類の製造のために様々な気
相反応装置が使用されている。このような気相反応装置
は密閉可能なチャンバ(反応室)を有する。
相反応装置が使用されている。このような気相反応装置
は密閉可能なチャンバ(反応室)を有する。
装置によってはチャンバ(反応室)を減圧または真空状
態にして製造処理するものがある。例えば、減圧CVD
装置、プラズマCVD装置、真空蒸着装置、スパッタリ
ング装置、ドライエ、チング装置などである。
態にして製造処理するものがある。例えば、減圧CVD
装置、プラズマCVD装置、真空蒸着装置、スパッタリ
ング装置、ドライエ、チング装置などである。
従来の気相反応装置における、真空チャンバの圧力調整
機構のブロック図を第2図に示す。
機構のブロック図を第2図に示す。
チャンバ1に反応ガスが供給される一方、排気ダクト3
を経て真空ポンプ5によりチャンバ内は所定の真空度に
維持される。チャンバ1には適当な圧力検出器7が配設
され、チャンバ内圧力を常に監視している。検出された
圧力信号はAPCユニット10に伝達される。APCユ
ニットには多め設定されたチャンバ圧力が記憶されてお
り、この数値と検出値を比較することにより、排気ダク
トの途中に設けられたバタフライ弁12をモータ14な
どの手段により開閉し、チャンバ圧力を調整する。
を経て真空ポンプ5によりチャンバ内は所定の真空度に
維持される。チャンバ1には適当な圧力検出器7が配設
され、チャンバ内圧力を常に監視している。検出された
圧力信号はAPCユニット10に伝達される。APCユ
ニットには多め設定されたチャンバ圧力が記憶されてお
り、この数値と検出値を比較することにより、排気ダク
トの途中に設けられたバタフライ弁12をモータ14な
どの手段により開閉し、チャンバ圧力を調整する。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、バルブ開閉度とチャンバの圧力変化は直線的な
関係がない。圧力はバルブの開閉度及び供給するガス等
の総論Mによって変化し、一意的にバルブの位置では決
定できない。
関係がない。圧力はバルブの開閉度及び供給するガス等
の総論Mによって変化し、一意的にバルブの位置では決
定できない。
チャンバの圧力とバルブ開閉度との関係は第3図のよう
になる。要するに、同じ差圧であっても、目的の圧力値
によってバルブ開閉度の影響の度合いが変化する。
になる。要するに、同じ差圧であっても、目的の圧力値
によってバルブ開閉度の影響の度合いが変化する。
このため、圧力検出器の信号をフィードバックして弁の
開閉を行う場合、ハンチング等を防出するため、フィー
ドバックt−a (バルブの開閉動作)は安全を見込ん
だ量とする7安があった。
開閉を行う場合、ハンチング等を防出するため、フィー
ドバックt−a (バルブの開閉動作)は安全を見込ん
だ量とする7安があった。
従って、本発明の目的は、チャンバの圧力を最適に制御
することのできる自動圧力制御機構を打する気相反応装
置を提供することである。
することのできる自動圧力制御機構を打する気相反応装
置を提供することである。
[課題を解決するための手段]
前記目的を達成するための手段として、本発明は、気相
反応装置の真空チャンバに配設された圧力検出手段によ
り検出された信号に基づき該チャンバの排気弁を開閉す
ることにより前記真空チャンバの圧力を制御する方式に
おいて、前記排気弁の開閉度の検出手段を設け、該排気
弁の開閉度とチャンバ圧力との検出信号に基づき気相反
応装置の真空チャンバの圧力を制御することを特徴とす
る気相反応装置の真空チャンバ圧力制御方式を提供する
。
反応装置の真空チャンバに配設された圧力検出手段によ
り検出された信号に基づき該チャンバの排気弁を開閉す
ることにより前記真空チャンバの圧力を制御する方式に
おいて、前記排気弁の開閉度の検出手段を設け、該排気
弁の開閉度とチャンバ圧力との検出信号に基づき気相反
応装置の真空チャンバの圧力を制御することを特徴とす
る気相反応装置の真空チャンバ圧力制御方式を提供する
。
[作用コ
前記のように、本発明によれば、従来の圧力検出手段に
加えて、排気弁のバルブ開閉度検出手段が設けられてい
るので、バルブの開閉動作をダイナミックに変化させる
ことにより、常に最適な圧力制御を実現できる。
加えて、排気弁のバルブ開閉度検出手段が設けられてい
るので、バルブの開閉動作をダイナミックに変化させる
ことにより、常に最適な圧力制御を実現できる。
また、最適なバルブ開閉度を記憶することで、系全体の
再現性を良くすることが可能となる。
再現性を良くすることが可能となる。
[実施例]
以下、図面を参照しながら本発明の圧力制御方式につい
て更に詳細に説明する。
て更に詳細に説明する。
第1図は本発明による気相反応装置の真空チャンバの圧
力制御方式のブロック図である。
力制御方式のブロック図である。
第2図に示した従来の圧力制御方式のブロック図と同一
のものは同じ符号で説明する。
のものは同じ符号で説明する。
チャンバ1は排気ダクト3と、このダクトの終端に接続
された排気系(例えば、真空ポンプ)5を有する。チャ
ンバlには更にバラトロンのような常用の圧力検出手段
7が設けられており、この圧力検出手段7はAPCユニ
ット10に接続されている。APCユニット10は一般
的に、増幅器、メモリー、インターフェースおよびマイ
クロプロセッサなどからなる。圧力検出手段7により測
定されたチャンバ圧力信号はAPCユニット10に伝達
され、ここで処理される。次いで、制御信号が排気弁1
2の開閉駆動手段14に送出され、弁の開閉を行う。こ
の弁開閉駆動手段は例えば、ロータリーアクチュエータ
やステッピングモータなどの精密制御用の駆動手段を用
いることが好ましい。
された排気系(例えば、真空ポンプ)5を有する。チャ
ンバlには更にバラトロンのような常用の圧力検出手段
7が設けられており、この圧力検出手段7はAPCユニ
ット10に接続されている。APCユニット10は一般
的に、増幅器、メモリー、インターフェースおよびマイ
クロプロセッサなどからなる。圧力検出手段7により測
定されたチャンバ圧力信号はAPCユニット10に伝達
され、ここで処理される。次いで、制御信号が排気弁1
2の開閉駆動手段14に送出され、弁の開閉を行う。こ
の弁開閉駆動手段は例えば、ロータリーアクチュエータ
やステッピングモータなどの精密制御用の駆動手段を用
いることが好ましい。
本発明によれば、排気弁12にバルブ位置検出手段16
を配設する。該手段により検出されたバルブ位置信号は
APCユニット10に伝達され、処理される。ここで、
フィードバック社(バルブの開閉動作)をダイナミック
に変化させることにより、常に最適な圧力制御を実現で
きる。また、予め最適なバルブ位置をAPCユニットに
記憶させておくことにより、系全体の再現性を向トさせ
ることが可能となる。
を配設する。該手段により検出されたバルブ位置信号は
APCユニット10に伝達され、処理される。ここで、
フィードバック社(バルブの開閉動作)をダイナミック
に変化させることにより、常に最適な圧力制御を実現で
きる。また、予め最適なバルブ位置をAPCユニットに
記憶させておくことにより、系全体の再現性を向トさせ
ることが可能となる。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明の真空チャンバ圧力制御方
式によれば、チャンバに設けられた圧力検出手段の他に
、排気弁に設けられたバルブ位置検出手段からの信号に
基づいて排気弁の開閉動作を行うので、目的の圧力値を
迅速に形成することができるばかりか、常に最適な圧力
制御を実現できる。
式によれば、チャンバに設けられた圧力検出手段の他に
、排気弁に設けられたバルブ位置検出手段からの信号に
基づいて排気弁の開閉動作を行うので、目的の圧力値を
迅速に形成することができるばかりか、常に最適な圧力
制御を実現できる。
気相反応装置の真空チャンバの圧力制御において、チャ
ンバに設けられた圧力検出手段の他に、排気弁のバルブ
位置検出手段を併用する試みは従来技術には皆無である
。
ンバに設けられた圧力検出手段の他に、排気弁のバルブ
位置検出手段を併用する試みは従来技術には皆無である
。
第1図は本発明の真空チャンバ圧力制御方式の・例を示
すブロック図であり、第2図は従来の真空チャンバ圧力
制御方式の一例を示すブロック図であり、第3図は従来
の真空チャンバ圧力制御方式によるバルブ開閉度とチャ
ンバ圧力との関係を示す特性図である。 1・・・チャンバ、3・・・υ[気ダクト、5・・・排
気系。 7・・・圧力検出手段、IO・・・APCユニット。 12・・・排気弁、14・・・排気弁駆動手段。 16・・・バルブ位置検出手段
すブロック図であり、第2図は従来の真空チャンバ圧力
制御方式の一例を示すブロック図であり、第3図は従来
の真空チャンバ圧力制御方式によるバルブ開閉度とチャ
ンバ圧力との関係を示す特性図である。 1・・・チャンバ、3・・・υ[気ダクト、5・・・排
気系。 7・・・圧力検出手段、IO・・・APCユニット。 12・・・排気弁、14・・・排気弁駆動手段。 16・・・バルブ位置検出手段
Claims (1)
- (1)気相反応装置の真空チャンバに配設された圧力検
出手段により検出された信号に基づき該チャンバの排気
弁を開閉することにより前記真空チャンバの圧力を制御
する方式において、前記排気弁の開閉度の検出手段を設
け、該排気弁の開閉度とチャンバ圧力との検出信号に基
づき気相反応装置の真空チャンバの圧力を制御すること
を特徴とする真空チャンバ圧力制御方式。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13505789A JPH03982A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 真空チャンバ圧力制御方式 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13505789A JPH03982A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 真空チャンバ圧力制御方式 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03982A true JPH03982A (ja) | 1991-01-07 |
Family
ID=15142894
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13505789A Pending JPH03982A (ja) | 1989-05-29 | 1989-05-29 | 真空チャンバ圧力制御方式 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03982A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0972561A2 (en) * | 1998-07-13 | 2000-01-19 | Seiko Seiki Kabushiki Kaisha | Vacuum apparatus |
JP2000064959A (ja) * | 1998-08-18 | 2000-03-03 | Nichiden Mach Ltd | 排気装置 |
-
1989
- 1989-05-29 JP JP13505789A patent/JPH03982A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0972561A2 (en) * | 1998-07-13 | 2000-01-19 | Seiko Seiki Kabushiki Kaisha | Vacuum apparatus |
EP0972561A3 (en) * | 1998-07-13 | 2000-09-27 | Seiko Seiki Kabushiki Kaisha | Vacuum apparatus |
JP2000064959A (ja) * | 1998-08-18 | 2000-03-03 | Nichiden Mach Ltd | 排気装置 |
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