JPH0392778A - Semiconductor inspector - Google Patents
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- JPH0392778A JPH0392778A JP1229636A JP22963689A JPH0392778A JP H0392778 A JPH0392778 A JP H0392778A JP 1229636 A JP1229636 A JP 1229636A JP 22963689 A JP22963689 A JP 22963689A JP H0392778 A JPH0392778 A JP H0392778A
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Abstract
Description
この発明は、半導体検査装置に関する。 The present invention relates to a semiconductor inspection device.
例えばパッケージされた半導体チ・ソプのそれぞれの電
気的検査を行う半導体検査装置においては、被検査半導
体チップは次のように移送される。
すなわち、複数個のパッケージ済み半導体チ・ソブが収
納されたl・レイから1個づつ半導体チ・ソブを取り出
し、それをロードテーブルに載置する。
次に、半導体チップをロー1・テーブルから測定用ステ
ージに移す。このとき、同時に測定用ステージ上にあっ
た検査済み半導体チップはアンロードテーブルに移す。
測定用ステージに移された未検査半導体チップに対して
は測定用ステージで微調位置合わせ(ファインアライメ
ン1・)が行われる。
この位置合わせが完了した測定用ステージは、テスl・
ヘッドの下方まで移動される。そして、テスl・ヘッド
と半導体チップの各端子との電気接続が行われて、テス
トヘッドからテスト信号を半導体チップに供給し、また
、半導体チップからの出力信号をテストヘッドが受け、
検査を行う。検査が終了すると、測定用ステージは次の
チップの受け渡し位置まで戻り、検査済み半導体チップ
をアンロードテーブルに移すと同時に次の半導体チップ
を測定用ステージに移す。測定用ステージは以下同様に
動く。
アンロードテーブルに移された半導体チップは不良品は
除去し、良品のみをトレイに収納する。For example, in a semiconductor testing device that electrically tests each packaged semiconductor chip, the semiconductor chips to be tested are transferred as follows. That is, the semiconductor chips are taken out one by one from an L-ray containing a plurality of packaged semiconductor chips and placed on a load table. Next, the semiconductor chip is transferred from the row 1 table to the measurement stage. At this time, the inspected semiconductor chip that was on the measurement stage is moved to the unload table. Fine alignment (fine alignment 1.) is performed on the uninspected semiconductor chip transferred to the measurement stage. After this alignment has been completed, the measurement stage is
It is moved to the bottom of the head. Then, electrical connections are made between the test head and each terminal of the semiconductor chip, the test head supplies a test signal to the semiconductor chip, and the test head receives an output signal from the semiconductor chip.
Perform inspection. When the inspection is completed, the measurement stage returns to the next chip delivery position, transfers the inspected semiconductor chip to the unload table, and at the same time transfers the next semiconductor chip to the measurement stage. The measurement stage moves in the same manner below. Defective semiconductor chips are removed from the semiconductor chips transferred to the unload table, and only good chips are stored in the tray.
ところで、この種の半導体検査装置において、例えば1
00〜150℃の高温時における半導体チップのテスト
を行う必要がある場合がある。このような温度試験を行
うことが可能な半導体検査装置では、測定用ステージに
加熱手段か設けられており、目的温度に半導体チップを
加熱するようにしている。
しかし、従来のこの秤の温度試験用の半導体検査装置は
、測定用ステージ及びこれに載置された半導体チップは
処理室内に入れられてはいないので、検査装置の外部の
空気に直接触れる状態となっており、熱効率か悪いと共
に、外気温(室温)に影響されて、テスト中、正しく目
的温度に保持できない欠点がある。特に、測定用ステー
ジに半導体チップを載置した後、ファインアライメン1
・を行い、その後、AIlJ定用ステージをテス1・ヘ
ッド位置まで移動する間に、室温に影響されて[1的温
度よりも半導体チップの温度か下がってしまい、正確な
温度での試験ができないという問題がある。
この発明は、以上の点に@ろ、正確な温度条件で被検査
体の検査を行えるようにした半導体検査装置を提供しよ
うとするものである。By the way, in this type of semiconductor inspection equipment, for example, 1
There are cases where it is necessary to test semiconductor chips at high temperatures of 00 to 150°C. In a semiconductor inspection apparatus capable of performing such a temperature test, a heating means is provided on the measurement stage to heat the semiconductor chip to a target temperature. However, in the conventional semiconductor inspection equipment for temperature testing of this scale, the measurement stage and the semiconductor chips mounted on it are not placed inside the processing chamber, so they are in direct contact with the air outside the testing equipment. This has the disadvantage that it has poor thermal efficiency and is affected by the outside temperature (room temperature), making it impossible to maintain the target temperature correctly during testing. In particular, after placing the semiconductor chip on the measurement stage, fine alignment 1
・After that, while moving the AIlJ standard stage to the test 1 head position, the temperature of the semiconductor chip drops below the 1 temperature due to the influence of room temperature, making it impossible to test at an accurate temperature. There is a problem. In view of the above points, the present invention aims to provide a semiconductor inspection apparatus that is capable of inspecting an object to be inspected under accurate temperature conditions.
この発明による半導体検査装置は、
温度制御手段を備え、被検査体を載置ずる載置台と、
この載置台をテスI・ヘッド位置まで移動させる移動機
構と、
少なくとも上記賊置台及び被検査体を含んで、上記移動
空間部分を覆うように設けられた保温用チャンバーとを
備えることを特徴とする。A semiconductor inspection apparatus according to the present invention includes a mounting table having a temperature control means and on which an object to be inspected is placed, a moving mechanism for moving this mounting table to a test I/head position, and a moving mechanism for moving at least the above-mentioned pilfering table and the object to be inspected. and a heat-retaining chamber provided so as to cover the moving space.
被検査体の載置台、すなわち測定用ステージは、これに
載置される被検査体を含んで保温用チャンバー内にあり
、このチャンバー内においてfllll定用ステージは
テストヘッド位置まで移動する。
保温用チャンバー内に測定用ステージ及び被検査半導体
があるので、被検査体が搬送されても温度低下を引き起
こすことなく、被検査体の温度は保持され、正確な温度
での検査を行うことができる。The test object mounting table, that is, the measurement stage, including the test object placed thereon, is located in a heat-retaining chamber, and within this chamber, the full measurement stage moves to the test head position. Since the measurement stage and the semiconductor to be tested are located inside the heat-retaining chamber, the temperature of the test object is maintained without causing a drop in temperature even when the test object is transported, making it possible to perform tests at accurate temperatures. can.
以ド、この発明の一実施例を図を参照しなから説明する
。
第1図はこの発明による半導体検査装置の一実施例を上
から見た図、第2図はその要部の側面図である。
この例の装置は、ローダ系1と、δp[定ステージ系2
とから構或されており、これらは防振機構を有する複数
の接続部伺3によって接続されている。
ローダ系1は、複数個の半導体チップCを収納可能なト
レイTから未検査半導体チップを1個づつ取り出し、ま
た、検査終了した半導体チップを空き1・レイTに順次
収納するものである。このローダ系1には、センダ機構
4、レシーバ機構5、1・レイバッファ機構6、チップ
搬出機構7、チップ搬入機描8、トレイ移送機構9、ロ
ードテーブル10、アンロードテーブル11、チップダ
ブル移送機構12とが設けられている。また、ロードテ
ーブル10を含んで予備加熱機構13か設けられている
。
このローダ系1において、センダー機構4は、複数個の
未検査半導体チップを例えばマ}・リクス状に収納する
トレイTを複数枚、積層するようにして収容する。この
センダー機構4は、上下方向に昇降自在とされている。
レンーバ機構5は、複数個の検査済半導体チップをマト
リクス状に収納したトレイTを複数枚、積層するように
して収容する。このレシーバ機構5も昇降自在に構戊さ
れている。
チップ搬出機構7は、センダ機構4の一番上のトレイT
から1個づつ半導体チップCをロードテーブル10に移
送するものである。このため、チップ搬出機構7は、セ
ンダ機構4の上方においてY方向に伸びた搬送腕7]が
Xステージ72にX方向に移動可能に取り付けられると
ともに、搬送腕7]に半導体チップCのZ方向移動機構
をaずる保持部73が、この搬送腕71に沿ってY方向
に移動可能となるように取り{=jけられて構成されて
いる。
Xステージ72は、例えばLMガイドとホールねじ、又
はタイミングベル1・等て構成される。
吸着保持部73は、先端が例えばゴム性の吸着体になっ
ていて、真空吸着することにより゛1′導体チップCを
トレイTから取り出し、これを保12fシてロードデー
ブル10まて移送ずるようにずるものてある。
チップ搬入機構8は、アンロードテーブル]1」二の検
査済み半導体チップをレシーバ機構5の1・レイTに移
送するもので、チップ搬送機構7と全く同様の構成であ
る。すなわち、レシーバ機代5の」二方においてY方向
に仲びた搬送腕81か、Xステージ82にX方向に移動
可能に取り{=fけられる。そして、搬送腕81に対し
てY方向に移動可能に取り付けられたZ方向移動機構を
有する吸着保持部83によりアンロ一Fテーブル11上
に載置される検査済み丁導体チソブCを只空吸1コ1シ
て保持し、レシーハ機構5の一番上の1・レイTの空い
ている場所に移送して収める。
7
トレイ移送機構9は、センダ機構4、レシーバ機構5、
トレイバッファ機構6の」二方において、Y方向に跨が
るように伸びる基台14に対して、丁度、トレイ上方に
おいてX方向に伸びる搬送腕91がY方向及びZ方向に
移動可能に取り付けられる。そして、このトレイ移送機
構9の搬送腕91には、トレイTを真空吸着して保持し
て移送するため4個の吸着保持部92が設けられている
。
このI・レイ移送機構9は、センダ機構4の一番」二の
トレイTの半導体チップCが全て搬送されて空きトレイ
となった時、これを真空吸着保持してレシーバ機構5に
移送する。レシーバ機構5の一番上のトレイTに未た半
導体チップの収納余地があるときは、トレイ移送機構9
はトレイを保持した状態で待つ。しかし、その間にセン
ダ機構4の次の1・レイが空きになったときは、I・レ
イ移送機構9に保持したトレイを、バツファ1・レイ機
構6に一旦収納しておき、センダ機構4の空きi・レイ
を吸着して移送する。
さらに、チップダブル移送機構12は、基台18
4に対してY方向及びZ方向に移送可能に取りイζIけ
られている。そして、このチップダブル移送機{品12
には、ロードテーブル10とアンロードテーブル11と
の間の距離の1/2の阻離d隔てて、真空吸着により半
導体チップを吸着して保持する吸着保持部15,1.6
が取り付けられる。
ロードテーブル10とアンロードテーブル1]との間の
、丁度、中心位置をチップ受け渡し位置とする後述する
flll定用ステージ21が設けられるので、ロードテ
ーブル10に載置された未検査半導体チップと、測定用
ステージ10上の検査済み下導体チップをチップダブル
移送機+M 1. 2は、同時に吸着保持して、上記距
離dだけY方向に移送することにより、未検査半導体チ
ップは測定用ステージ2]に、検査済み半導体チップは
アンロドテーブル11に、それそれ移すことができる。
なお、ロードテーブル10の上方には、プリアライメン
ト(粗位置合わせ)用画像認識装置17が設けられてい
る。また、チップ搬送機構8のチップ搬送経路の途中の
下方には、検査の結果、不良品とされたチップを収容す
るための不良チ・ソプ収納箱18が設けられている。
予備加熱機構13は種々構成できるが、次のように構或
できる。すなわち、ロードテーブル]0を半導体素子保
持ブロックで構或し、これを図中矢印で示すように環状
に移送し、この環状経路の間において、この環状経路を
挾むように上下に配置されたラバーヒータ等の加熱手段
により、所定温度例えば150℃に加熱するように構或
する。
なお、図示のロードテーブル10の位置の」二方にはヒ
ータは無く、搬出機構7の吸着保持部73及びチップダ
ブル移送機構12の吸着保持部]5によって、このロー
ドテーブル10に対する半導体チップの搬入、搬出が可
能とされている。
次に、測定ステージ系2は測定用ステージ21を有し、
この測定用ステージ21−でローダ系]からの未検査半
導体チップを受け、その位置合わせ(ファインアライメ
ン1・)を行った後、テス1・ヘッド位置まで測定用ス
テージ21を移動させ、検査を行い、検査終了した半導
体チ・ソプをローダ系1に測定用ステージ21から受け
渡すようにするものである。
この測定ステージ系2においては、測定用ステジ2]は
、第2図に示すように、載置台22と、その下方におい
てx,y,z及びθ(x,ys+;面上における回転)
方向に載置台22を位置調整する移動機横23を備えて
いる。また、載置台22には、図示しないが加熱手段が
設けられており、これに載置される!1′7導体チップ
を所定の温度の加熱状態に保つようにしている。加熱手
段としては、載置台22にニクロム線ヒータを埋め込む
、あるいは載置台22の表面に薄膜ヒータを設けるなど
の手段を採用することができる。
そして、この測定用ステージ21の、図中X方向の移動
空間において、第1図で、一点鎖線で示す位置P1は、
半導体チップのロード・アンロド位置であり、点線で示
す位置P2は、ファインアライメン1・位置であり、丈
線て示す位置P3は、その」二方にテス1・ヘッドが載
せられるテス1・位置である。そして、d111定用ス
テージ21のX方尚の移動空間、すなわちこれら各位値
PI,P2,P3をすべて含むような状態で、測定用ス
テージ21の載置台22を覆うように構成された保温川
チャンハ−24が設けられる。
この場合に、測定用ステージ21は移動するものである
ため、′Alll定用ステージ21の移動空間を含むよ
うにチャンバー化するためには、移動機構23をも含む
測定用ステージ21全体を覆うようにしてチャンバー化
する構戊が比較的容易である。
しかし、測定用ステージ全体を覆うようにチャンバー化
した場合には、移動機構23及び駆動用モータがチャン
ハー内に収納されてしまい、これらが加熱されてしまう
不都合があるとともに、チャンバーが大型になってしま
い、検査装置もそれに伴い大型になってしまう不都合が
ある。
そこで、この例では、第2図から明らかなように、測定
用ステージ21の載置台22を含み、これよりも上方の
みを覆うようにして保温用チャンバー22を構成してい
る。しかし、この場合、載置台22は、X方向に移動す
るので、移動可能の11
状態で保温用チャンバー24を構成しなければならない
。そのため、この例では、蛇腹部月を用いてこれを実現
している。
すなわち、第3図及び第4図に示すように、載置台22
には、X方向の蛇腹部利取付枠25が取り付けられ、こ
の取り付け枠25のX方向の両端に、蛇腹部材26.2
7のそれぞれ伸縮方向の一端部が固定される。そして、
この蛇腹部材26,27のそれぞれの伸縮方向の他端部
は、保温用チャンバー24のX方向の一端及び他端にそ
れぞれ固定される。蛇腹部+J’26.27の伸縮方向
と直交する方向の両端部は、保温用チャンバー24内に
設けられる案内溝28.29内に収納され、蛇腹部材2
6.27はこの案内溝28.29に沿ってX方向に伸縮
をする。
また、X方向の蛇腹部祠取付枠25内には、載置台22
をY方向に移動させるためのY方尚の蛇腹部利取付枠4
0が取り付けられ、この取り付け枠40のY方向の両端
に、蛇腹部材41.42のそれぞれ伸縮方向の一端部か
固定される。そして、12
この蛇腹部材41.,42のそれそれの伸縮方向の他端
部は、X方向の蛇腹部材取付枠25のY方向の一端及び
他端にそれぞれ固定される。蛇腹部材41.,42の伸
縮方向と直交する方向の両端部は、X方向の蛇腹部材取
付枠25内に設けられる案内溝43.44内に収納され
、蛇腹部材41.,42はこの案内満43.44に沿っ
てY方向に伸縮をする。
また、保温用チャンバー24は、この例では透明の石英
ガラスで構威されている。この保温用チャンバー24の
、測定用ステージ21の半導体チップのロード・アンロ
ード位置P]の上部には、チップダブル移動機構12の
吸着保持部15 16によりチップの搬入、搬出を行う
ための窓部30が穿かれている。この窓部30の大きさ
は、半導体チップCの大きさよりも若干大きくされる。
また、保温用チャンバー24の測定用ステージ21のテ
スト位WP3の上方は、試験装置本体のヘッドプレ−1
・31に連結されている。図示しないが、ヘッドプレー
ト31の上にはテス1・ヘッド32のパフォーマンスポ
ードと例えばポゴピン等により弾性的に接続されるコン
タクトボードか設けられ、また、コンタク1・ボードの
下方には、インザー1・リングやブローブカーF等か配
される。
そして、ブローブカードのテス1・用プローブ針か半導
体チップに接触して、テストヘッF’ 3 2との電気
的な接続が行なわれる。ヘッドプレ−1− 3王には、
テス1・ヘッド32との接続のために、若十の空隙が坐
している。
以」二のような窓部30と空隙のため、保温用チャンバ
ー24は、完全に密閉されてはいないか、その窓部及び
空隙は、チャンバー24全体から見ると小さいから温度
保持に対する影響は少い。
なお、δI[定用ステージ21のファインアライメン1
・位置P2の」二方には、ファインアライメン1・用の
画像認識装置33が設けられる。この例の場合、保温用
チャンバー24は透明であるため、このチャンバー24
を介して半導体チップ位置の画像を得ることかでき、こ
の部分に窓部を穿つ必要はない。
15
次に、以」二のように構威した半導体検査装置を用いて
、例えば150℃の高温状態で半導体チ・ンブCの温度
試験を行う場合の動作について説明する。
先ず、センダ機構4には、複数個の半導体チ・ソプがマ
l・リクス状に並べられた複数枚のl・レイが積層され
て置かれる。一方、レシーバ機構5には、i 初は空の
トレイが1枚置かれる。
この状態で、チップ搬出機構7において、その吸着保持
部73をセンダ機横4の一番」二のトレイTの1個の半
導体チップ位置に移動させ、そして、その半導体チップ
を吸着保持し、Xステージ72によってその半導体チッ
プをロードテーブル10に移送する。ロードテーブル1
口に載置された半導体チップは、予備加熱機構13にお
いて前述したようにして150゜Cに加熱された後、再
び図のロードテーブル位置に戻ってくる。そして、この
ロードテーブル]0の位置において、画像認識装置17
によりその位置が認識される。そして、i1ll]定用
ステージ21がロード・アンロード位置P 11 6
に来るのを待って、その画像認識情報に基づいて測定用
ステージ21を移動機構23を用いてブリアライメント
する。測定用ステージ21の載置台22は、前述した加
熱手段により150℃に加熱されている。
ここで、ロードテーブル10に載置されている半導体チ
ップが一番最初の半導体チップでないときは、測定用ス
テージ2]の載置台22上には1個前の検査の終了した
半導体チップが載置されている。
ブリアライメントが完了すると、チップダブル移送機構
↓2の吸着保持部15をロードテーブル10の位置に、
吸着保持部〕6を測定用ステージ21の位置に移動し、
それぞれ両ステージ10,21に載置されている半導体
チップを吸着保持して搬出し、しかる後、移送機構12
をY方向に移送し、検査済み半導体チップはアンロード
テーブル11上に、予備加熱された未検査半導体チップ
は保温用チャンバー24内の測定用ステージ2]の載置
台22上に載置する。
その後、測定用ステージ21の載置台22は、ファイン
アライメント位置P2に移動し、画像認識装置33によ
る半導体チップの位置情報に基づいて移動機構23によ
りテスl・位置P3において、正しくブローブ針が半導
体チップの端子に接触するようにファインアライメンi
・する。このファインアライメンI・が終了すると、測
定用ステージ2],をテスト位置P3に移送し、移動機
構23により載置台22を上昇させ、ブローブカードの
プローブ針を半導体チップの端子に接触させる。そして
、ヘッドプレート31上に位置ずるテストヘッド32に
より半導体チップのテス1・を行う。テスi・が終了す
ると、載置台22を下降させ、ili定用ステージ21
は、ロード・アンロード位置P1に戻る。
このとき、測定用ステージ21における半導体チップの
ファインアライメント及びテストは保温用チャンバー2
4内において全て行なわれるので半導体チップの温度は
安定に保たれる。したがって、極めて小さい誤差の下で
、温度試験を行うことができる。
このδIII定用ステージ21の移動及びテス1・の間
に、ロードテーブル10には、搬出機構7によって、セ
ンダ機構4の一番」二のトレイTから次の半導体チップ
が搬送される。また、アンロードテブル11に載置され
ていた検査済ろ゛l′導体チップは、搬入機構8によっ
てレシーバ機構5のトレイの空き位置に収められる。も
っとも、l導体チップが検査の結果、不良品とされたと
きは、その半導体チップは、搬入機構8によってレシー
バ機構5に搬送される途中の不良品箱18に入れられる
。
以f同様にして、センダ機構4から1個づつ゛V導体チ
ップは、ロードテーブル10に送られ、測定用ステージ
21でテスl・が行なわれ、アンロドテーブル11を介
してレシーバ機構5、あるいは不良品箱]8に収められ
る。
そして、センダ機構4の一番」二のトレイTが空になる
と、トレイ移送機構9はこの空の1・レイをセンダ機構
4から搬出する。したがって、今度はセンダ機構4の2
枚目のトレイから半導体チップの搬出がなされることに
なる。1・レイ移送機構9は、この空のl・レイを保持
し、レシーバ機構5の一番上のトレイか半導体チップで
一杯になったらその上に、この空のトレイを乗せる。不
良チップが多く、レシーバ機構5の一番上のトレイが一
杯になる前に、センダ機構4の一番」二のトレイが空に
なったときは、1・レイ移送機構9は、保持していた空
の1・レイを1・レイバッファ機構6に一旦収納し、セ
ンダ機構4の一番上の空の1・レイを吸着保持して搬出
する。したがって、不良品が多い場合にも、レシーバ機
構5の一番上のトレイが一杯になるまでセンダ機構4か
らの半導体チップの搬出を止めておく必要はなく、テス
l・時間のスルーブットを上げられる。
なお、チップダブル移送機構12の吸着保持部15を、
第2図に示すように、その吸着保持部15の先端部を開
口とする覆い部月34によって覆うように構或すること
によって、ロードテーブル10から測定用ステージ21
に予備加熱した半導体チップの保温を図るようにすれば
、より効果的19
である。
また、保温用チャンバー24の窓部30は、半導体チッ
プのロード、アンロード時のみ開け、その他のときには
閉じるような開閉機構付の窓部とすることもできる。
また、7llll定用ステージ21の載置台22をチャ
ンバー24内で移動するための機構としては、上述のよ
うに蛇腹部伺を用いたものに眠らず、例えば2枚の板状
体のそれそれの一端部を、取り付け部材25のX方向の
両端部にそれぞれ固定し、これら2枚の板状体の他端部
をそれぞれ巻き取るような構成にしても良く、その他種
々の構成のものを使用することかできる。
また、保温用チャンバーの材質は、上記の例のようなセ
ラミックのほか、断熱作用を有するものであれば良く、
また、特に透明である必要もない。
不透明の利料を保温用チャンバーに用いる場合には、フ
ァインアライメン1・用画像認識装置の位置する部分の
み、透明とするようにしてもよい。
また、以上の例はパッゲージされた半導体チッ2 0
プの検査装置の場合について説明したが、半導体ウェー
ハの検査装置にもこの発明が適用できることはもちろん
である。
また、以上の例では予備加熱機構を特に設けたが、加熱
速度が速いものが被検査体の場合であれば、予備加熱機
構は設けなくても良い。
さらに、以上の例は高温状態での温度試験の場合につい
て説明したが、測定用ステージの載置台に冷却機構を設
け、低温状態で試験を行う場合にもこの発明は適用でき
る。Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a top view of an embodiment of a semiconductor inspection device according to the present invention, and FIG. 2 is a side view of the main parts thereof. The device in this example has a loader system 1, δp[fixed stage system 2]
These are connected by a plurality of connection parts 3 having a vibration isolation mechanism. The loader system 1 takes out untested semiconductor chips one by one from a tray T capable of storing a plurality of semiconductor chips C, and sequentially stores semiconductor chips that have been tested into the empty 1-ray T. This loader system 1 includes a sender mechanism 4, a receiver mechanism 5, a ray buffer mechanism 6, a chip unloading mechanism 7, a chip loading machine 8, a tray transport mechanism 9, a load table 10, an unload table 11, and a chip double transport mechanism. A mechanism 12 is provided. Further, a preheating mechanism 13 including the load table 10 is provided. In this loader system 1, the sender mechanism 4 accommodates a plurality of stacked trays T for accommodating a plurality of untested semiconductor chips in, for example, a matrix shape. This sender mechanism 4 is vertically movable. The lever mechanism 5 accommodates a plurality of stacked trays T each containing a plurality of inspected semiconductor chips in a matrix. This receiver mechanism 5 is also configured to be able to move up and down. The chip ejection mechanism 7 is connected to the top tray T of the sender mechanism 4.
The semiconductor chips C are transferred to the load table 10 one by one. Therefore, in the chip unloading mechanism 7, the transport arm 7] extending in the Y direction above the sender mechanism 4 is attached to the X stage 72 so as to be movable in the X direction, and the transport arm 7] A holding portion 73, which serves as a moving mechanism, is arranged so as to be movable in the Y direction along this transport arm 71. The X stage 72 includes, for example, an LM guide, a hole screw, or a timing bell 1. The suction/holding section 73 has a tip made of, for example, a rubber suction body, and uses vacuum suction to take out the ``1'' conductor chip C from the tray T, hold it 12f, and transfer it to the load table 10. There are things that can be done. The chip carrying mechanism 8 transfers the inspected semiconductor chips from the unloading table 1''2 to the 1-ray T of the receiver mechanism 5, and has exactly the same structure as the chip carrying mechanism 7. That is, the transport arms 81 connected in the Y direction on both sides of the receiver unit 5 are mounted on the X stage 82 so as to be movable in the X direction. Then, the inspected conductor C placed on the unroofing table 11 is simply sucked up by the suction holding unit 83 having a Z direction moving mechanism attached to the transport arm 81 so as to be movable in the Y direction. 1 and hold it, and transfer it to the vacant place of 1-ray T at the top of the receiver mechanism 5 and store it there. 7 The tray transfer mechanism 9 includes a sender mechanism 4, a receiver mechanism 5,
On both sides of the tray buffer mechanism 6, a transport arm 91 extending in the X direction is attached to the base 14 extending in the Y direction so as to be movable in the Y and Z directions just above the tray. . The transport arm 91 of the tray transport mechanism 9 is provided with four suction holding sections 92 for vacuum suction, holding and transporting the tray T. When all of the semiconductor chips C in the second tray T of the sender mechanism 4 have been transferred and the tray becomes an empty tray, the I-ray transfer mechanism 9 holds it by vacuum suction and transfers it to the receiver mechanism 5. When there is room for storing unused semiconductor chips in the uppermost tray T of the receiver mechanism 5, the tray transfer mechanism 9
wait while holding the tray. However, if the next 1-ray in the sender mechanism 4 becomes empty during that time, the tray held in the I-ray transfer mechanism 9 is temporarily stored in the buffer 1-ray mechanism 6, and Adsorb and transport vacant i-rays. Furthermore, the tip double transfer mechanism 12 is mounted on the base 184 so that it can be transferred in the Y direction and the Z direction. And this chip double transfer machine {item 12
, there are suction holding parts 15, 1.6 which suction and hold the semiconductor chip by vacuum suction at a distance d which is 1/2 of the distance between the load table 10 and the unload table 11.
can be installed. A fully testing stage 21, which will be described later, is provided whose chip transfer position is located exactly at the center between the load table 10 and the unload table 1. Transfer the inspected lower conductor chip on the measurement stage 10 to the chip double transfer machine +M 1. 2 are simultaneously held by suction and transferred in the Y direction by the distance d, so that untested semiconductor chips can be transferred to the measurement stage 2 and tested semiconductor chips can be transferred to the unloading table 11. . Note that an image recognition device 17 for pre-alignment (rough positioning) is provided above the load table 10. Further, a defective chip storage box 18 is provided at a lower part of the chip transport path of the chip transport mechanism 8 for storing chips that are found to be defective as a result of inspection. Although the preheating mechanism 13 can be configured in various ways, it can be configured as follows. In other words, the load table] 0 is constructed of a semiconductor element holding block, which is transferred in a circular manner as shown by the arrow in the figure, and between the circular paths, rubber heaters are arranged above and below to sandwich the circular paths. The structure is such that it is heated to a predetermined temperature, for example, 150° C., by a heating means such as the like. Note that there is no heater on either side of the illustrated load table 10, and the loading of semiconductor chips to the load table 10 is carried out by the suction holding section 73 of the unloading mechanism 7 and the suction holding section 5 of the chip double transfer mechanism 12. , it is possible to carry it out. Next, the measurement stage system 2 has a measurement stage 21,
This measurement stage 21- receives uninspected semiconductor chips from the loader system, performs alignment (fine alignment 1), and then moves the measurement stage 21 to the test 1 head position and performs inspection. The semiconductor chips that have been inspected are delivered to the loader system 1 from the measurement stage 21. In this measurement stage system 2, as shown in FIG. 2, the measurement stage 2 includes a mounting table 22 and, below it,
The mobile device side 23 is provided to adjust the position of the mounting table 22 in the direction. Further, the mounting table 22 is provided with a heating means (not shown), and the product is placed on this! The 1'7 conductor chip is kept heated at a predetermined temperature. As the heating means, means such as embedding a nichrome wire heater in the mounting table 22 or providing a thin film heater on the surface of the mounting table 22 can be adopted. In the movement space of the measurement stage 21 in the X direction in the figure, the position P1 shown by the dashed line in FIG.
These are the loading/unloading positions of the semiconductor chip, and position P2 indicated by the dotted line is the fine alignment 1 position, and position P3 indicated by the length line is the test 1 position where the test 1 head is placed on both sides. be. Then, a heat-retaining river chamber is constructed to cover the mounting table 22 of the measurement stage 21 in the movement space of the d111 measurement stage 21 in the X direction, that is, in a state that includes all of these position values PI, P2, and P3. -24 is provided. In this case, since the measurement stage 21 is movable, in order to form a chamber that includes the movement space of the 'All measurement stage 21, it is necessary to cover the entire measurement stage 21 including the movement mechanism 23. It is relatively easy to construct a chamber. However, when the chamber is formed to cover the entire measurement stage, the moving mechanism 23 and the drive motor are housed in the chamber, which inconveniences that they are heated and the chamber becomes large. Therefore, there is a problem that the inspection device becomes large accordingly. Therefore, in this example, as is clear from FIG. 2, the heat-retaining chamber 22 is configured to include the mounting table 22 of the measurement stage 21 and cover only the area above it. However, in this case, since the mounting table 22 moves in the X direction, the heat retention chamber 24 must be configured in a movable state. Therefore, in this example, this is achieved using a bellows moon. That is, as shown in FIGS. 3 and 4, the mounting table 22
A bellows member mounting frame 25 in the X direction is attached to the bellows member 26.2 at both ends of the mounting frame 25 in the
7 is fixed at one end in the expansion/contraction direction. and,
The other ends of each of the bellows members 26 and 27 in the expansion/contraction direction are fixed to one end and the other end of the heat retention chamber 24 in the X direction, respectively. Both ends of the bellows part +J'26.27 in the direction orthogonal to the expansion/contraction direction are housed in guide grooves 28.29 provided in the heat retention chamber 24, and the bellows part material 2
6.27 expands and contracts in the X direction along this guide groove 28.29. In addition, a mounting table 22 is provided in the bellows shrine mounting frame 25 in the X direction.
Y-direction bellows attachment frame 4 for moving in the Y direction
0 is attached, and one end of each of the bellows members 41 and 42 in the expansion/contraction direction is fixed to both ends of the attachment frame 40 in the Y direction. And 12 this bellows part material 41. , 42 in the expansion/contraction direction are respectively fixed to one end and the other end in the Y direction of the bellows member mounting frame 25 in the X direction. Bellows material 41. , 42 in a direction orthogonal to the expansion/contraction direction are accommodated in guide grooves 43, 44 provided in the bellows member mounting frame 25 in the X direction, and the ends of the bellows member 41. , 42 expand and contract in the Y direction along these guide lines 43 and 44. Further, the heat-retaining chamber 24 is made of transparent quartz glass in this example. Above the semiconductor chip loading/unloading position P of the measurement stage 21 of the heat-retaining chamber 24, there is a window section for loading and unloading chips by the suction holding parts 15 and 16 of the chip double movement mechanism 12. 30 is worn. The size of this window portion 30 is made slightly larger than the size of the semiconductor chip C. Moreover, the upper part of the test position WP3 of the measurement stage 21 of the heat retention chamber 24 is the head plate 1 of the test apparatus main body.
・Connected to 31. Although not shown, a contact board is provided on the head plate 31 to be elastically connected to the performance port of the test 1 head 32 using, for example, pogo pins, and below the contact 1 board, the contact board is provided on the head plate 31. Rings, Brobcar F, etc. are arranged. Then, the test 1 probe needle of the probe card comes into contact with the semiconductor chip to establish an electrical connection with the test head F'32. Head play-1- For the 3rd king,
For connection with the test 1 head 32, a gap of 100 mm is seated. Due to the window 30 and the gap mentioned above, the heat retention chamber 24 may not be completely sealed, or the window and gap are small when viewed from the chamber 24 as a whole, so they have little effect on temperature maintenance. stomach. Note that δI [fine alignment 1 of regular stage 21
An image recognition device 33 for the fine alignment 1 is provided on both sides of the position P2. In this example, since the heat retention chamber 24 is transparent, this chamber 24
It is possible to obtain an image of the semiconductor chip position through this, and there is no need to drill a window in this area. 15 Next, the operation when performing a temperature test on the semiconductor chip C at a high temperature of, for example, 150° C. using the semiconductor inspection apparatus configured as described in (2) below will be described. First, in the sender mechanism 4, a plurality of L-rays each having a plurality of semiconductor chips arranged in a matrix are placed in a stacked manner. On the other hand, one empty tray is placed in the receiver mechanism 5 at the beginning of i. In this state, in the chip unloading mechanism 7, the suction holding section 73 is moved to the position of one semiconductor chip on the second tray T next to the sender machine 4, and the semiconductor chip is suctioned and held. The semiconductor chip is transferred to the load table 10 by the stage 72. Load table 1
The semiconductor chip placed in the mouth is heated to 150° C. in the preheating mechanism 13 as described above, and then returned to the load table position shown in the figure. Then, at the position of [load table] 0, the image recognition device 17
The location is recognized by Then, after waiting for the regular stage 21 to come to the loading/unloading position P 11 6 , the measuring stage 21 is aligned using the moving mechanism 23 based on the image recognition information. The mounting table 22 of the measurement stage 21 is heated to 150° C. by the heating means described above. Here, if the semiconductor chip placed on the load table 10 is not the first semiconductor chip, the semiconductor chip on which the previous inspection has been completed is placed on the mounting table 22 of the measurement stage 2. has been done. When the Briar alignment is completed, the suction holding part 15 of the chip double transfer mechanism ↓2 is moved to the position of the load table 10.
Move the suction holding unit] 6 to the position of the measurement stage 21,
The semiconductor chips placed on both stages 10 and 21 are sucked and held and carried out, and then the transfer mechanism 12
are transferred in the Y direction, and the tested semiconductor chips are placed on the unload table 11, and the preheated untested semiconductor chips are placed on the mounting table 22 of the measurement stage 2 in the heat-retaining chamber 24. Thereafter, the mounting table 22 of the measurement stage 21 is moved to the fine alignment position P2, and the probe needle is correctly aligned with the semiconductor chip at the position P3 by the moving mechanism 23 based on the position information of the semiconductor chip provided by the image recognition device 33. Fine alignment i so that it contacts the terminal of
·do. When this fine alignment I. is completed, the measurement stage 2] is moved to the test position P3, the mounting table 22 is raised by the moving mechanism 23, and the probe needles of the probe card are brought into contact with the terminals of the semiconductor chip. Then, a test 1 of the semiconductor chip is performed using the test head 32 positioned on the head plate 31. When the test i is completed, the mounting table 22 is lowered and the stage 21 for iri
returns to the load/unload position P1. At this time, the fine alignment and test of the semiconductor chip on the measurement stage 21 are performed in the heating chamber 2.
Since all the processes are carried out within 4, the temperature of the semiconductor chip can be kept stable. Therefore, temperature tests can be performed with extremely small errors. During the movement of the δIII standard stage 21 and the test 1, the next semiconductor chip is transferred from the second tray T of the sender mechanism 4 to the load table 10 by the carry-out mechanism 7. Further, the inspected L' conductor chip placed on the unloading table 11 is stored in an empty position in the tray of the receiver mechanism 5 by the carry-in mechanism 8. However, if the semiconductor chip is found to be a defective product as a result of the inspection, the semiconductor chip is placed in a defective product box 18 on the way to the receiver mechanism 5 by the carry-in mechanism 8. Thereafter, in the same manner, the V conductor chips are sent one by one from the sender mechanism 4 to the load table 10, tested on the measurement stage 21, and sent to the receiver mechanism 5 or unloaded via the unload table 11. Good product box] Can be stored in 8. When the second tray T of the sender mechanism 4 becomes empty, the tray transfer mechanism 9 carries out this empty tray T from the sender mechanism 4. Therefore, this time, 2 of the sender mechanism 4
Semiconductor chips will be unloaded from the first tray. The 1.ray transfer mechanism 9 holds this empty 1.ray and places this empty tray on top of the top tray of the receiver mechanism 5 when it is full of semiconductor chips. If there are many defective chips and the second tray of the sender mechanism 4 becomes empty before the uppermost tray of the receiver mechanism 5 becomes full, the ray transfer mechanism 9 The empty 1-ray is temporarily stored in the 1-ray buffer mechanism 6, and the empty 1-ray at the top of the sender mechanism 4 is held by suction and carried out. Therefore, even if there are many defective products, there is no need to stop the unloading of semiconductor chips from the sender mechanism 4 until the top tray of the receiver mechanism 5 is full, and the throughput in test time can be increased. . In addition, the suction holding part 15 of the chip double transfer mechanism 12 is
As shown in FIG. 2, by configuring the suction holding part 15 to be covered by a cover part 34 having an opening at its tip, the measuring stage 21 can be removed from the load table 10.
It would be more effective19 to try to keep the preheated semiconductor chip warm. Further, the window 30 of the heat-retaining chamber 24 may be a window with an opening/closing mechanism that opens only when loading or unloading a semiconductor chip and closes at other times. In addition, as a mechanism for moving the mounting table 22 of the 7llll fixed stage 21 within the chamber 24, instead of using the bellows part as described above, for example, each of two plate-shaped bodies is used. One end may be fixed to both ends of the attachment member 25 in the X direction, and the other ends of these two plate-shaped bodies may be wound up, or various other structures may be used. I can do it. In addition to ceramic as in the above example, the material of the heat-retaining chamber may be any material that has a heat-insulating effect.
Furthermore, it does not need to be particularly transparent. When using an opaque material for the heat-retaining chamber, only the portion where the image recognition device for fine alignment 1 is located may be made transparent. Moreover, although the above example has been explained about the case of an inspection apparatus for packaged semiconductor chips 2 0 , it goes without saying that the present invention can also be applied to an inspection apparatus for semiconductor wafers. Further, in the above example, a preheating mechanism was particularly provided, but if the object to be inspected is one that heats at a high rate, the preheating mechanism may not be provided. Furthermore, although the above example has been described for the case of a temperature test in a high temperature state, the present invention can also be applied to a case where a cooling mechanism is provided on the mounting table of the measurement stage and a test is performed in a low temperature state.
以上説明したように、この発明によれば、少くても測定
用ステージの載置台より上方の部分の、載置台の移動空
間部分を覆うようにチャンバー化したので、所定の温度
条件を保持した状態でテストを正確に行うことができる
。As explained above, according to the present invention, the chamber is formed so as to cover at least the moving space of the mounting table, which is the part above the mounting table of the measurement stage, so that a predetermined temperature condition is maintained. The test can be performed accurately.
第1図は、この発明による半導体検査装置の一実施例の
概要の平面図、第2図はその要部の側面図、第3図及び
第4図はその要部の一例の構或を示す図である。
21;測定用ステージ
22・i{111定用ステージ21の載置台23・測定
用ステージ21の移動機構
2 4
保彪川チャンバーFIG. 1 is a plan view of an outline of an embodiment of a semiconductor inspection device according to the present invention, FIG. 2 is a side view of its essential parts, and FIGS. 3 and 4 show the structure of an example of its essential parts. It is a diagram. 21; Measurement stage 22・i{111 Mounting table 23 of the measurement stage 21・Movement mechanism 2 of the measurement stage 21 4 Yasobigawa chamber
Claims (1)
と、 少なくとも上記載置台及び被検査体を含んで、上記移動
空間部分を覆うように設けられた保温用チャンバーとを
備えた半導体検査装置。[Scope of Claims] A mounting table provided with a temperature control means and on which an object to be inspected is placed; a moving mechanism for moving this mounting table to a test head position; A semiconductor inspection device equipped with a heat-retaining chamber provided to cover a moving space.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1229636A JPH0392778A (en) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | Semiconductor inspector |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1229636A JPH0392778A (en) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | Semiconductor inspector |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0392778A true JPH0392778A (en) | 1991-04-17 |
Family
ID=16895302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP1229636A Pending JPH0392778A (en) | 1989-09-05 | 1989-09-05 | Semiconductor inspector |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH0392778A (en) |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63164442A (en) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Tokyo Electron Ltd | Wafer prober |
-
1989
- 1989-09-05 JP JP1229636A patent/JPH0392778A/en active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS63164442A (en) * | 1986-12-26 | 1988-07-07 | Tokyo Electron Ltd | Wafer prober |
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