JPH0388144A - Optical recording medium - Google Patents

Optical recording medium

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JPH0388144A
JPH0388144A JP1222819A JP22281989A JPH0388144A JP H0388144 A JPH0388144 A JP H0388144A JP 1222819 A JP1222819 A JP 1222819A JP 22281989 A JP22281989 A JP 22281989A JP H0388144 A JPH0388144 A JP H0388144A
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Abstract

PURPOSE:To improve the optical characteristics and sensitivity of a reflecting layer by constituting the reflecting layer of an amorphous material and preventing the increase in the noise arising from the nonuniformity of the structure. CONSTITUTION:The optical recording medium is formed by successively laminating a recording layer 2, a dielectric layer 4, and the reflecting layer 3 on a substrate 1. The dielectric layer 4 is used as a protective layer, interference layer and heat insulating layer. The optical constant is uniformized and the increase of noise is prevented if the dielectric layer 3 is constituted of the amorphous material. The optical unequalness by the nonuniformity of the structure possessed by the crystalline dielectric layer is eliminated and the optical characteristics and sensitivity are improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は新規な光記録媒体に関するものである。[Detailed description of the invention] <Industrial application field> The present invention relates to a novel optical recording medium.

より詳しく言えば、本発明は光の反射を不均一にするよ
うな構造上の不連続性を排した、低ノイズの光記録媒体
に関するものである。
More specifically, the present invention relates to a low-noise optical recording medium that eliminates structural discontinuities that cause non-uniform light reflection.

〈従来の技術〉 近年、光ディスクに代表される光記録媒体は、高度情報
社会における記録媒体の中心的役割の担い手として注目
され、積極的に研究が進められている。
<Background Art> In recent years, optical recording media represented by optical discs have attracted attention as a recording medium that plays a central role in an advanced information society, and research is actively underway.

この光ディスクには、コンパクトディスクに代表される
再生専用型、情報の記録、再生が可能な追記型、及び情
報の記録、消去、再生が可能な書き換え型の3種類があ
り、その多くは、媒体面からの反射光を利用して情報の
再生が行なわれる。
There are three types of optical discs: a read-only type represented by a compact disc, a write-once type that allows information to be recorded and played back, and a rewritable type that allows information to be recorded, erased, and played back. Information is reproduced using reflected light from the surface.

このため、上記いずれの光ディスクにおいても、何らか
の形で反射層を設けているのが普通である。
For this reason, any of the above-mentioned optical discs is usually provided with some form of reflective layer.

最も単純なものは再生専用型であって、この場合の反射
層は反射率の高いものであればよく、通常は生産性が高
く、安価なアルごニウムが用いられている。
The simplest type is a read-only type, and the reflective layer in this case only needs to have a high reflectance, and argonium, which is highly productive and inexpensive, is usually used.

一方追記型、書き換え型の場合は、光学的なコントラス
トを高めたり、反射率を調整したりするのが反射層の役
割である。
On the other hand, in the case of write-once type and rewritable type, the role of the reflective layer is to increase optical contrast and adjust reflectance.

この場合も、光学特性に関しては、反射層をアル逅ニウ
ムで構成しても差し支えないが、熱伝導率の高い材料は
記録や消去の感度を低下させるため、一般にはより熱伝
導率の低い金属で構成したほうが有利である。
In this case as well, in terms of optical properties, the reflective layer may be made of aluminum, but since materials with high thermal conductivity reduce the sensitivity of recording and erasing, generally metals with lower thermal conductivity are used. It is more advantageous to configure

そのような材料としては、例えばインジウム、スズ、ア
ンチモン、テルル、ビスマス、鉛なトカある。
Such materials include, for example, indium, tin, antimony, tellurium, bismuth, and lead.

ところで、上にあげたような材料は、いずれも結晶化温
度が室温付近にあるため、少なくとも形成直後は一部に
アモルファス状態の部分を残した不均一な結晶になりや
すい、アモルファス状態と結晶状態では、光学定数が大
幅に異なるため、このような不均一な構造は反射率のム
ラとなり、再生時のノイズが増加する。
By the way, since the crystallization temperature of the materials listed above is around room temperature, at least immediately after formation, they tend to form non-uniform crystals with some amorphous parts remaining, and the amorphous state and crystalline state are different. Since the optical constants are significantly different, such a non-uniform structure results in uneven reflectance, which increases noise during reproduction.

特に光記録媒体に使用される反射層の膜厚は、反射率と
熱伝導率の両立を図る関係上、20nw+ないし100
n+sに選ばれることが多いが、この膜厚領域では生成
する結晶のサイズが記録ビットと同程度になって直接ノ
イズの増加につながるため、特に不都合である。
In particular, the film thickness of the reflective layer used in optical recording media is between 20nW+ and 100nW+ in order to achieve both reflectance and thermal conductivity.
n+s is often selected, but this is particularly inconvenient because the size of the crystals produced in this film thickness range is comparable to the recording bit, which directly leads to an increase in noise.

〈発明が解決しようとする課題〉 本発明は上記のような構造の不均一に伴うノイズの増加
を防ぎ、光学特性、感度も良好な反射層を提供すること
を目的とする。
<Problems to be Solved by the Invention> An object of the present invention is to provide a reflective layer that prevents an increase in noise due to the non-uniform structure as described above and has good optical properties and sensitivity.

く問題点を解決するための手段〉 本発明者らは上記の問題点を解決すべく鋭意検討を重ね
た結果、構造の不均一を解消するための手段として、反
射層をアモルファス状態の物質で構成することにより、
ノイズの上昇を防ぎ得ることを見出した。
Means for Solving the Problems> The present inventors have made extensive studies to solve the above problems, and as a means to eliminate the non-uniformity of the structure, the reflective layer is made of an amorphous material. By configuring
It has been found that the increase in noise can be prevented.

以下、本発明の詳細な説明する。The present invention will be explained in detail below.

結晶性の物質を反射層に採用するかぎり、結晶化度や結
晶粒サイズの不均一による光学定数のムラを厳密に避け
ることはできない。
As long as a crystalline substance is used for the reflective layer, it is impossible to strictly avoid unevenness in optical constants due to non-uniformity in crystallinity and crystal grain size.

これに対し本発明の作用は、反射層をアモルファスにす
ることにより、光学定数を均一化し、ノイズの上昇を防
ぐことにある。
In contrast, the effect of the present invention is to make the reflective layer amorphous, thereby making the optical constants uniform and preventing an increase in noise.

この方法によれば、反射層作成時の薄膜形成条件や、適
用される光記録媒体の構成などによらず、良好な再生特
性を実現することができる。
According to this method, good reproduction characteristics can be achieved regardless of the thin film formation conditions during the formation of the reflective layer or the configuration of the optical recording medium to which it is applied.

アモルファス状態の反射層を構成するには、2戒分以上
の共晶合金、もしくはその近傍組成を用いる方法がある
In order to form the reflective layer in an amorphous state, there is a method of using a eutectic alloy having two or more components, or a composition close to the eutectic alloy.

具体的には、ケイ素、ガリウム、ゲルマニウム、セレン
、インジウム、スズ、アンチモン、テルル、タリウム、
ビスマス、鉛の中から選ばれる2種以上の元素の共晶組
成、もしくはその近傍組成の合金を使用するとよい。
Specifically, silicon, gallium, germanium, selenium, indium, tin, antimony, tellurium, thallium,
It is preferable to use an alloy having a eutectic composition of two or more elements selected from bismuth and lead, or a composition close to the eutectic composition.

例えば、ゲルマニウム−アンチモン系、ガリウム−アン
チモン系、インジウム−アンチモン系、鉛−アンチモン
系、アンチモン−テルル系、ゲルマニウム−テルル系、
スズ−テルル系などの合金系は、蒸着、スバ・レタなど
による形成が容易である、熱伝導率、光学定数が適当で
ある、比較的安価であるなどの長所を有している点で、
光記録媒体の反射層材料として好適である。
For example, germanium-antimony system, gallium-antimony system, indium-antimony system, lead-antimony system, antimony-tellurium system, germanium-tellurium system,
Alloy systems such as the tin-tellurium system have advantages such as being easy to form by vapor deposition, submersion, etc., having appropriate thermal conductivity and optical constants, and being relatively inexpensive.
It is suitable as a reflective layer material for optical recording media.

またこれらの合金系は、後述のように結晶化温度を調節
する必要が生じた場合、組成により容易に結晶化温度を
変化させることができるというメリットも有している。
Furthermore, these alloy systems also have the advantage that when it becomes necessary to adjust the crystallization temperature as described below, the crystallization temperature can be easily changed by changing the composition.

以下、ゲルマニウム−アンチモン系を例にとって本発明
をより詳細に説明する。
Hereinafter, the present invention will be explained in more detail by taking the germanium-antimony system as an example.

この合金系の共晶組成は、原子数基準でGetsSbs
tであり、この組成近傍でアモルファス合金が得られる
The eutectic composition of this alloy system is GetsSbs on the basis of the number of atoms.
t, and an amorphous alloy can be obtained near this composition.

ゲルマニウムの比率が5%未満ではアンチモン単体の結
晶が晶出するためアモルファスにならず、また35%を
越えると反射率が低下するため、ゲルマニウムの比率は
5%以上35%以下にするのがよい。
If the germanium ratio is less than 5%, antimony crystals will crystallize and it will not become amorphous, and if it exceeds 35%, the reflectance will decrease, so the germanium ratio should be between 5% and 35%. .

この範囲でどの組成が最適であるかは、適用される光記
録媒体の方式と構成によって若干異なる。
Which composition is optimal within this range differs slightly depending on the system and structure of the optical recording medium to which it is applied.

第1図は本発明の光記録媒体の構成例を記すものである
が、(a)のように反射層単独で用いる再生専用型の場
合、あるいは(b)のように反射層と記録層の間に十分
厚い干渉層、あるいは断熱層が挿入されている場合は、
光記録媒体の使用に当たって反射層の温度が上昇するこ
とがないので、その組成は光学定数を重視して、ゲルマ
ニウムの比率を5%以上20%以下に選ぶのがよい。
FIG. 1 shows an example of the structure of the optical recording medium of the present invention. In the case of a read-only type in which a reflective layer is used alone as in (a), or in the case of a read-only type in which a reflective layer and a recording layer are used as in (b), If a sufficiently thick interference layer or insulation layer is inserted in between,
Since the temperature of the reflective layer does not rise when the optical recording medium is used, it is preferable to select the composition with emphasis on optical constants, and the proportion of germanium to be 5% or more and 20% or less.

一方、干渉層や断熱層の膜厚が薄い場合、あるいは(C
)のように反射層と記録層が直接接している構成の場合
は、記録時に(書き換え可能の場合は消去時も)反射層
の温度が熱伝導によって記録層と同程度まで上昇する。
On the other hand, if the interference layer or heat insulation layer is thin, or (C
), in which the reflective layer and the recording layer are in direct contact, the temperature of the reflective layer increases to the same level as the recording layer during recording (and during erasing if rewritable) due to thermal conduction.

従って記録・消去の動作を行なっても反射層のアモルフ
ァス状態を保持するには、その結晶化温度を記録層の動
作温度より高くする必要がある。
Therefore, in order to maintain the amorphous state of the reflective layer even after recording and erasing operations, it is necessary to make its crystallization temperature higher than the operating temperature of the recording layer.

例えば光磁気記録媒体の場合は、記録層温度がそのキュ
リー温度近傍、多くは100°Cないし200°C程度
になるので、ゲルマニウムの比率を7%以上30%以下
に選ぶのがよい。
For example, in the case of magneto-optical recording media, the recording layer temperature is close to its Curie temperature, often around 100°C to 200°C, so the proportion of germanium is preferably selected to be 7% or more and 30% or less.

相変化型記録媒体の場合には、使用する記録層の相変化
温度により反射層の上昇温度も異なるが、例えば相変化
温度が150°Cから200℃であるなら、ゲルマニウ
ムの比率を10%以上35%以下に選ぶことにより、所
望の効果を得ることができる。
In the case of a phase change recording medium, the temperature rise of the reflective layer varies depending on the phase change temperature of the recording layer used. For example, if the phase change temperature is between 150°C and 200°C, the proportion of germanium should be 10% or more. By selecting 35% or less, the desired effect can be obtained.

本発明の反射層には安定性を高める目的でチタン、バナ
ジウム、クロム、コバルト、ニッケル、ジルコニウム、
ニオブ、タンタル、モリブデンなどの遷移金属を添加し
てもよい。
The reflective layer of the present invention contains titanium, vanadium, chromium, cobalt, nickel, zirconium, etc. for the purpose of increasing stability.
Transition metals such as niobium, tantalum, and molybdenum may also be added.

添加量は反射層の光学定数や結晶化温度に影響しない程
度、好ましくは原子数基準で5%以下とするのがよい。
The amount added should be such that it does not affect the optical constants or crystallization temperature of the reflective layer, preferably 5% or less based on the number of atoms.

記録層には先に例としてあげた光磁気方式や相変化温度
方式のほか、開孔方式や有機色素なども用いることがで
きる。
For the recording layer, in addition to the magneto-optical method and phase change temperature method mentioned above, an aperture method, an organic dye, etc. can also be used.

基板材料にはアクリル、ポリカーボネート、ポリオレフ
ィン、エポキシなどのプラスチックのほか、ガラスなど
も使用することができる。
In addition to plastics such as acrylic, polycarbonate, polyolefin, and epoxy, glass can also be used as the substrate material.

さらに基板と記録層の間、あるいは反射層の上に誘電体
で構成した保護層を設けることにより、光記録媒体の安
定性を飛躍的に高めることができる。
Furthermore, by providing a protective layer made of a dielectric material between the substrate and the recording layer or on the reflective layer, the stability of the optical recording medium can be dramatically improved.

誘電体材料としてはマグネシウム、アルミニウム、ケイ
素、亜鉛、ゲルマニウム、チタン、タンタルなどの酸化
物、窒化物、酸窒化物、硫化物、フッ化物など、あるい
はこれらの複合物や積層物などを用いるのがよい。
As dielectric materials, oxides, nitrides, oxynitrides, sulfides, fluorides, etc. of magnesium, aluminum, silicon, zinc, germanium, titanium, tantalum, etc., or composites or laminates of these materials are used. good.

〈実施例〉 以下、実施例により本発明をさらに詳しく説明するが、
本発明はこれらの例により、何ら限定されるものではな
い。
<Example> Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples.
The present invention is not limited in any way by these examples.

実施例1 顕微鏡用カバーグラス上に、いろいろな組成の5eSb
合金薄膜80nmを共スパッタにより成膜し、その結晶
化温度を測定した。
Example 1 5eSb of various compositions on a microscope cover glass
An alloy thin film of 80 nm was formed by co-sputtering, and its crystallization temperature was measured.

5eSb合金の光学定数はアモルファス状態と結晶状態
で不連続的に変化するので、サンプルを加熱したとき、
その反射率が急激に変化する温度をもって結晶化温度と
定義した。
The optical constants of the 5eSb alloy change discontinuously between the amorphous and crystalline states, so when the sample is heated,
The temperature at which the reflectance rapidly changes was defined as the crystallization temperature.

測定波長は830帥とした。The measurement wavelength was 830 wavelengths.

第2図にこの合金薄膜の結晶化温度と組成の関係を示す
FIG. 2 shows the relationship between crystallization temperature and composition of this alloy thin film.

Ge量が0%、すなわちsbのみの薄膜では、上記のよ
うな反射率の急激な変化は現われない。
In a thin film in which the amount of Ge is 0%, that is, only sb, the above-mentioned rapid change in reflectance does not occur.

これはsbの結晶化温度が室温以外であるため、成膜直
後ですでに結晶が成長しているためと考えられる。
This is considered to be because the crystallization temperature of sb is other than room temperature, so crystals have already grown immediately after film formation.

このサンプルを加熱していくと、結晶の成長に伴って反
射率は徐々に高くなっていく。
As the sample is heated, the reflectance gradually increases as the crystals grow.

このことは、成膜直後の結晶がまだ不均一であることを
示すものである。
This indicates that the crystals immediately after film formation are still non-uniform.

従ってこの薄膜を光記録媒体の反射層として採用すると
、光学的なムラによるノイズの発生が予想される。
Therefore, if this thin film is employed as a reflective layer of an optical recording medium, it is expected that noise will occur due to optical unevenness.

これにGeを添加していくと結晶化温度は室温から徐々
に上昇し、Geが35%では200°C以上になる。
As Ge is added to this, the crystallization temperature gradually rises from room temperature, and reaches 200° C. or higher when Ge is 35%.

X線回折の結果、Geの添加量が5%以上のサンプルは
、成膜直後の状態がアモルファスであることが確認され
た。
As a result of X-ray diffraction, it was confirmed that samples containing 5% or more of Ge were in an amorphous state immediately after film formation.

この結果より、sb反射層にGeを5%以上添加するこ
とによって光学的に均一な反射層が形威され、ノイズの
少ない光記録媒体が得られることが示唆された。
These results suggest that by adding 5% or more of Ge to the sb reflective layer, an optically uniform reflective layer can be formed and an optical recording medium with less noise can be obtained.

実施例2 第3図に示すように、直径130nmの光デイスク用ポ
リカーボネート基板1上に、記録N2として5b1aT
eszGe3o合金薄膜30nII+、反射1’i3と
してGeSb合金薄膜50no+、保護N4としてSi
O薄膜20nmをスパッタ法により形威した。
Example 2 As shown in FIG.
eszGe3o alloy thin film 30nII+, GeSb alloy thin film 50no+ as reflection 1'i3, Si as protection N4
A 20 nm thick O thin film was formed by sputtering.

記録層は上記組成の化合物ターゲットにより、反射層は
Ge、 Sbターゲットを用いた共スパッタにより、保
護層はSiターゲットによる反応性スパッタにより形威
し、特に反射層は各ターゲットに対する投入パワーの比
を調節して、Geの比率を原子数基準で0%から37.
5%まで変化させた。
The recording layer is formed by a compound target with the above composition, the reflective layer is formed by co-sputtering using Ge and Sb targets, and the protective layer is formed by reactive sputtering using a Si target. Adjust the Ge ratio from 0% to 37% based on the number of atoms.
It was varied up to 5%.

このディスクの記録特性を調べるため、回転数1800
rpI11、半径位置R=30mm、周波数1.0MH
z、デユーテイ比50の信号を記録しく記録ビット長2
.8μ11)、キャリアレベル、ノイズレベルを測定し
た。
In order to investigate the recording characteristics of this disc, the number of rotations was 1800.
rpI11, radial position R=30mm, frequency 1.0MH
z, I want to record a signal with a duty ratio of 50, and the recording bit length is 2.
.. 8μ11), carrier level, and noise level were measured.

第4図にその結果を示す。Figure 4 shows the results.

この図において、横軸は反射層の組成をGeの原子数%
で表したもの、縦軸はキャリア対ノイズ比(CNR)お
よびノイズレベルである。
In this figure, the horizontal axis represents the composition of the reflective layer in % of Ge atoms.
The vertical axis is the carrier-to-noise ratio (CNR) and the noise level.

ノイズレベルはsbのみの場合、約−61dBであるが
、Geの比率が3%ないし5%から低下し始め、10%
以上では約−76dBで一定になる。
The noise level is about -61 dB when only sb is used, but it starts to decrease from 3% to 5% when the Ge ratio is 10%.
Above that, it becomes constant at about -76 dB.

sbのみの場合、ノイズが高いのは、数μm程度の結晶
が不規則に成長しているためである。
In the case of only sb, the noise is high because crystals of about several μm grow irregularly.

これを防ぐためにはGeを5%添加するだけで効果があ
るが、本実施例のような相変化方式の記録媒体の場合に
は、反射層の結晶化温度を記録層の結晶化温度より高く
しておくほうが記録時の反射層の結晶化によるノイズ上
昇を防ぐ意味で好ましい。
To prevent this, it is effective to add 5% Ge, but in the case of a phase change type recording medium like this example, the crystallization temperature of the reflective layer must be set higher than the crystallization temperature of the recording layer. It is preferable to do so in order to prevent an increase in noise due to crystallization of the reflective layer during recording.

本実施例の記録層の結晶化温度は約160 ”Cである
ので、実施例1の結果も考え併せると、Geの添加量は
原子数基準で10%以上であるのが好ましい。
Since the crystallization temperature of the recording layer of this example is about 160''C, considering the results of Example 1 as well, it is preferable that the amount of Ge added is 10% or more based on the number of atoms.

上記の効果により、CNRはノイズの低下に伴って上昇
しているが、Geの添加量が25%を越えると逆に低下
し始め、特に35%を越えると急激に低下している。
Due to the above effects, the CNR increases as the noise decreases, but when the amount of Ge added exceeds 25%, it begins to decrease, and particularly when it exceeds 35%, it decreases rapidly.

これはノイズの上昇によるものではなく、キャリアの低
下によるものである。
This is not due to an increase in noise but a decrease in carriers.

その原因はGeの添加に伴う反射層の光学定数の変化が
無視できなくなり、記録信号のコントラストが低下した
ことによるものと考えられる。
The reason for this is thought to be that the change in the optical constants of the reflective layer due to the addition of Ge became impossible to ignore, and the contrast of the recording signal decreased.

以上の結果から、反射層の結晶化によるノイズの上昇を
防ぐには反射層をGeSb合金で構成するのが有効であ
ることが明らかになった。
From the above results, it has become clear that it is effective to configure the reflective layer with a GeSb alloy in order to prevent an increase in noise due to crystallization of the reflective layer.

GeSb合金の組成はノイズ上昇を防ぐ意味でGe5%
以上、より好ましくは10%以上、コントラスト低下を
防ぐ意味でGe35%以下の範囲で選ぶのが最も適当で
ある。
The composition of the GeSb alloy is 5% Ge to prevent noise increase.
As mentioned above, it is most appropriate to select Ge in the range of preferably 10% or more, and 35% or less in order to prevent a decrease in contrast.

実施例3 実施例2の光ディスクにおいて、反射層3をGa、Sb
B、 InzoStlyo+ Pb+qSbst+ 5
bssTe+s各合金薄膜で構威し、実施例2と同じ信
号を記録したときのノイズレベルを測定した。
Example 3 In the optical disc of Example 2, the reflective layer 3 was made of Ga, Sb.
B, InzoStlyo+ Pb+qSbst+ 5
A thin film of each bssTe+s alloy was used, and the noise level was measured when the same signal as in Example 2 was recorded.

また、各合金薄膜の構造を調べるため、反射層のみを顕
微鏡用スライドグラス上に成膜し、そのX線回折パター
ンを測定した。
In addition, in order to investigate the structure of each alloy thin film, only the reflective layer was formed on a microscope slide glass, and its X-ray diffraction pattern was measured.

成膜はGa+zSbssのみ化合物ターゲットによるス
パッタ、他は各成分元素のターゲットによる共スパッタ
により行なった。
Film formation was performed by sputtering only Ga+zSbss using a compound target, and for the others by co-sputtering using targets of each component element.

なお、ここで用いた組成は各合金系の共晶組成、もしく
はその近傍組成である。
Note that the composition used here is the eutectic composition of each alloy system or a composition near it.

第1表にその結果を示す。Table 1 shows the results.

以下余白 第1表 いずれの合金系においても、sbのみで反射層を形成し
た場合に比べ、ノイズレベルは13ないし15dB低下
している。
In each alloy system, the noise level is reduced by 13 to 15 dB compared to the case where the reflective layer is formed only with sb.

このことは、各合金の光学的なムラが、sb単独の場合
より大幅に低下していることを示す。
This shows that the optical unevenness of each alloy is significantly lower than that of sb alone.

また、いずれの合金薄膜もアモルファスであり、構造の
均一化がノイズの低減に有効であることが明らかになっ
た。
It was also revealed that all alloy thin films were amorphous, and that making the structure uniform was effective in reducing noise.

〈発明の効果〉 本発明によれば、結晶性の反射層が持つ構造上の不均一
性による光学的なムラがなく、低ノイズの光記録媒体を
提供することができる。
<Effects of the Invention> According to the present invention, it is possible to provide an optical recording medium that is free from optical unevenness due to structural non-uniformity of a crystalline reflective layer and has low noise.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図、第3図は本発明の光記録媒体の構成例を示す図
で、図中1は基板、2は記録層、3は反射層、4は保護
層、干渉層、断熱層などとして用いられる誘電体層であ
る。 第2図は本発明の光記録媒体の反射層の結晶化温度を示
す図である。 第4図は本発明の光記録媒体の再生特性を示す図で、図
中実線はキャリア対ノイズ比、−点破線はノイズレベル
である。
1 and 3 are diagrams showing examples of the structure of the optical recording medium of the present invention, in which 1 is a substrate, 2 is a recording layer, 3 is a reflective layer, 4 is a protective layer, an interference layer, a heat insulating layer, etc. This is the dielectric layer used. FIG. 2 is a diagram showing the crystallization temperature of the reflective layer of the optical recording medium of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing the reproduction characteristics of the optical recording medium of the present invention, in which the solid line indicates the carrier-to-noise ratio and the - dotted line indicates the noise level.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 反射層を有する光記録媒体において、該反射層をア
モルファス状態の物質で構成したことを特徴とする光記
録媒体。
1. An optical recording medium having a reflective layer, characterized in that the reflective layer is made of an amorphous substance.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07201078A (en) * 1993-12-15 1995-08-04 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Optical data storage medium
WO2004051632A1 (en) * 2002-12-13 2004-06-17 Koninklijke Philips Electronics N.V. Rewritable optical record carrier
WO2006092483A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Commissariat A L'energie Atomique Optical data storage medium comprising a semi-reflective tin- and tellurium-based alloy layer

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59193452A (en) * 1983-04-19 1984-11-02 Oki Electric Ind Co Ltd Optical recording medium
JPH02177029A (en) * 1988-12-27 1990-07-10 Daicel Chem Ind Ltd Optical information recording medium

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS59193452A (en) * 1983-04-19 1984-11-02 Oki Electric Ind Co Ltd Optical recording medium
JPH02177029A (en) * 1988-12-27 1990-07-10 Daicel Chem Ind Ltd Optical information recording medium

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07201078A (en) * 1993-12-15 1995-08-04 Internatl Business Mach Corp <Ibm> Optical data storage medium
WO2004051632A1 (en) * 2002-12-13 2004-06-17 Koninklijke Philips Electronics N.V. Rewritable optical record carrier
US8325586B2 (en) 2002-12-13 2012-12-04 Koninklijke Philips Electronics N.V. Rewritable optical record carrier
WO2006092483A1 (en) * 2005-03-03 2006-09-08 Commissariat A L'energie Atomique Optical data storage medium comprising a semi-reflective tin- and tellurium-based alloy layer
US7776419B2 (en) 2005-03-03 2010-08-17 Commissariat A L'energie Atomique Optical data storage medium comprising a semi-reflective tin and tellurium based alloy layer

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