JPH0387833A - Device for processing photosensitive material - Google Patents

Device for processing photosensitive material

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Publication number
JPH0387833A
JPH0387833A JP22532489A JP22532489A JPH0387833A JP H0387833 A JPH0387833 A JP H0387833A JP 22532489 A JP22532489 A JP 22532489A JP 22532489 A JP22532489 A JP 22532489A JP H0387833 A JPH0387833 A JP H0387833A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
developer
tank
brush
plate
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP22532489A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hisao Oba
大場 久男
Kenji Kunichika
国近 健二
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Priority to US07/573,760 priority patent/US5136322A/en
Priority to DK90116580.3T priority patent/DK0415392T3/en
Priority to EP90116580A priority patent/EP0415392B1/en
Priority to DE69029346T priority patent/DE69029346T2/en
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

PURPOSE:To lessen the deterioration of a processing liquid by the air and the moisture evaporation thereof by providing a cap for the processing liquid surface of a photosensitive material and shielding parts for both shaft ends of rubbing brush. CONSTITUTION:The rubbing brush 62 with a part of its outer periphery being projected from the processing liquid surface of the photosensitive material is immersed into the processing liquid and the photosensitive material transported and immersed in the processing liquid is rubbed by the brush 62. The cap 102 is placed on the liquid surface to cover the exposed outer periphery of the brush 62 and to shut off the liquid surface from the air. The processing liquid is shut off from the air by this constitution and the outer periphery of the exposed brush is shut off from the outside as well. The deterioration of the processing liquid by the air is thus lessened and the evaporation of the moisture in the processing liquid is lessened as well. The high-quality processing of the photosensitive material is thus executed.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野コ 本発明は画像が焼付けられた感光材料を処理液中に自動
的に搬送浸漬してブラシで擦りながら処理する感光材料
処理装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a photosensitive material processing apparatus in which a photosensitive material on which an image has been printed is automatically conveyed and immersed in a processing liquid and processed while being rubbed with a brush.

[従来の技術] アルミニウムのような支持体上に感光層を設けて形成さ
れた感光性平版印刷版CF2版〉等の感光材料を画像露
光後に現像液中に搬送浸漬して現像する感光材料処理装
置が提案されている。
[Prior Art] Photosensitive material processing in which a photosensitive material such as a photosensitive lithographic printing plate CF2 plate, which is formed by providing a photosensitive layer on a support such as aluminum, is conveyed and immersed in a developer to be developed after image exposure. A device has been proposed.

この感光材料処理装置は処理液中に複数のガイドローラ
を配置して、これらのガイドローラによって感光材料の
搬送路を形成している。またこれらのガイドローラ間に
擦り部材であるブラシを配置して、処理液中で感光材料
の表面を擦りがながら現像する感光材料処理装置が提案
されている。
In this photosensitive material processing apparatus, a plurality of guide rollers are arranged in the processing liquid, and these guide rollers form a conveyance path for the photosensitive material. Further, a photosensitive material processing apparatus has been proposed in which a brush serving as a rubbing member is disposed between these guide rollers, and the surface of the photosensitive material is developed while being rubbed in a processing liquid.

感光材料を処理する処理液、特にアルカリ性現像液の場
合には空気中の炭酸ガスとの接触でpHが低下、すなわ
ち現像液が劣化するという問題が生じる。
When a processing solution for processing a photosensitive material, particularly an alkaline developer, comes into contact with carbon dioxide gas in the air, a problem arises in that the pH decreases, that is, the developer deteriorates.

ところで非画像部に残色の少ない良好な現像処理を行い
、かつ、現像に要する時間を短くするために、現像液温
度を高くすることが知られているが、この方法では現像
液の炭酸ガスによる劣化が著しくなる。
By the way, it is known to increase the temperature of the developer in order to perform a good development process with less residual color in non-image areas and to shorten the time required for development. The deterioration caused by

また現像液の蒸発が加速される結果、現像液が濃縮化し
、現像性能が低下する。
In addition, as a result of accelerated evaporation of the developer, the developer becomes concentrated and development performance deteriorates.

さらに、浸漬型の感光材料処理装置では、蒸発が進むと
現像液面が低下し、感光感光材料を通過する時間すなわ
ち処理時間が短くなるため、現像性能が低下する。
Furthermore, in an immersion-type photosensitive material processing apparatus, as evaporation progresses, the level of the developer decreases, and the time it takes for the developer to pass through the photosensitive material, that is, the processing time, becomes shorter, resulting in a decrease in development performance.

このため従来の現像装置では処理液の温度を高くするこ
とには限界があり、迅速に、高品質の版を得ることが出
来なかった。
For this reason, in the conventional developing device, there is a limit to increasing the temperature of the processing liquid, and a high-quality plate cannot be obtained quickly.

そこで、特願昭63−134708号で、現像液表面の
空気との接触面積を40%以上遮断する遮断手段を有す
る感光材料処理装置が提案されている。
Therefore, Japanese Patent Application No. 63-134708 proposes a photosensitive material processing apparatus having a blocking means for blocking 40% or more of the contact area of the surface of the developer with air.

[発明が解決しようとする課題] しかしながら、ブラシが処理液中に配置された感光材料
処理装置では、ブラシの外周の一部が液面上から突出し
ているので、上記光の出願に記載された遮断手段である
蓋で液面上を覆おうとするとブラシが邪魔になり、処理
液面を覆うことができない。
[Problems to be Solved by the Invention] However, in a photosensitive material processing apparatus in which a brush is disposed in a processing liquid, a part of the outer periphery of the brush protrudes from above the liquid surface. If you try to cover the liquid surface with the lid, which is a blocking means, the brush will get in the way and you will not be able to cover the liquid surface.

本発明は上記事実を考慮し、外周の一部が液面上から突
出して処理液中に配置され、処理液中を搬送浸漬される
感光材料を擦るブラシが設けられた感光材料処理装置に
おいて、処理液の空気劣化を低減することが出来、処理
液の水分の蒸発を低減することが出来る感光材料処理装
置を提供することが目的である。
In consideration of the above facts, the present invention provides a photosensitive material processing apparatus that is provided with a brush that is disposed in the processing liquid with a part of its outer periphery protruding above the liquid surface and that rubs the photosensitive material that is transported and immersed in the processing liquid. It is an object of the present invention to provide a photosensitive material processing apparatus that can reduce air deterioration of a processing liquid and reduce evaporation of water in the processing liquid.

[課題を解決するための手段] 上記目的を達成するため本発明では、処理液面上に載置
されて露出されたブラシの外周を覆うと共に前記処理液
の表面を空気から遮断する液面蓋と、前記液面蓋に設け
られて前記露出しているブラシの軸方向両端部を遮蔽す
る遮蔽部と、を有することを特徴としている。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a liquid level lid that is placed on the processing liquid surface to cover the exposed outer periphery of the brush and to shield the surface of the processing liquid from air. and a shielding part that is provided on the liquid level lid and shields both ends of the exposed brush in the axial direction.

[作用コ 本発明によれば、液面蓋によって処理液が空気から遮断
される共に露出しているブラシの外周が外部から遮断さ
れる。
[Operations] According to the present invention, the liquid level lid blocks the processing liquid from the air and also blocks the exposed outer periphery of the brush from the outside.

さらに露出しているブラシの軸方向両側部は遮蔽部によ
って覆われる。
Furthermore, both exposed axial sides of the brush are covered by shielding parts.

これらの液面蓋及び遮蔽部が処理液面を覆うので、処理
液の空気による劣化が低減される。さらに処理液中の水
分の蒸発が低減される。
Since these liquid level lids and shielding parts cover the processing liquid surface, deterioration of the processing liquid due to air is reduced. Furthermore, evaporation of water in the processing liquid is reduced.

[発明の効果] 上記構成の本発明では、外周の一部が液面上から突出し
て処理液中に配置され、処理液中を搬送浸漬される感光
材料を擦るブラシが設けられた感光材料処理装置におい
て、処理液の空気劣化を低減することが出来、処理液の
水分の蒸発を低減することが出来、長期に安定した処理
が可能となる。
[Effects of the Invention] In the present invention having the above configuration, a part of the outer periphery protrudes above the liquid surface and is placed in the processing liquid, and is provided with a brush that rubs the photosensitive material being transported and immersed in the processing liquid. In the apparatus, air deterioration of the processing liquid can be reduced, evaporation of water in the processing liquid can be reduced, and stable processing can be performed over a long period of time.

[実施例コ 第1図には本発明に係る感光材料処理装置の一例である
感光性平版印刷版処理機10の実施例が示されている。
[Embodiment] FIG. 1 shows an embodiment of a photosensitive lithographic printing plate processor 10, which is an example of a photosensitive material processing apparatus according to the present invention.

感光性平版印刷版処理機10には、図示しない焼付装置
で画像が焼付けられた感光性平版印刷版(以下「28版
」という)12を現像する補第1現像槽14と、28版
12を補助的に現像処理する第2現像槽16と、第1現
像槽14と第2現像槽16との間に配置されたオーバー
フロー槽18と、PS版12ヘフイニシャー液を塗布す
るフィニッシャ−槽20とが備えられている。
The photosensitive lithographic printing plate processing machine 10 includes a supplementary first developing tank 14 for developing a photosensitive lithographic printing plate (hereinafter referred to as "28th plate") 12 on which an image has been printed by a printing device (not shown), and a 28th plate 12. A second developer tank 16 that performs auxiliary development processing, an overflow tank 18 disposed between the first developer tank 14 and the second developer tank 16, and a finisher tank 20 that applies finisher liquid to the PS plate 12. It is equipped.

〈第1現像槽〉 第■図に示されるように第1現像槽14への28版12
の挿入側には、一対の搬送ローラ22が配置されている
。この一対の搬送ローラ22間へ図示しない焼付装置に
よって画像が焼付けられた28版12が挿入され、挿入
された28版12を感光性平版印刷版処理機10内へ送
り出す。
<First developer tank> As shown in Fig.
A pair of conveyance rollers 22 is arranged on the insertion side of the paper. The 28th plate 12 with an image printed thereon by a printing device (not shown) is inserted between the pair of transport rollers 22, and the inserted 28th plate 12 is sent into the photosensitive lithographic printing plate processor 10.

第1現像槽14は上方が開放され底部中央部が下方に向
けて突出された略逆山形状となっている。
The first developer tank 14 has an approximately inverted mountain shape with an open top and a bottom central portion protruding downward.

この第1現像槽14内には現像液24が収容されている
。第1現像槽14内には底壁部に沿って同じ直径のガイ
ドローラ26.28.30.32.34.366.38
が配設されている。これらのガイドローラ26〜38は
その軸の外周に弾性回転部材が複数個軸支された串型の
ローラを形成しており、その軸は図示しない一対の側板
間に掛渡され支持されている。
A developer 24 is contained within the first developer tank 14 . Inside the first developing tank 14, guide rollers 26, 28, 30, 32, 34, 366, 38 of the same diameter are installed along the bottom wall.
is installed. These guide rollers 26 to 38 form skewer-shaped rollers in which a plurality of elastic rotating members are pivotally supported on the outer periphery of the shaft, and the shaft is supported by being stretched between a pair of side plates (not shown). .

またガイドローラ26の上方にはガイドローラ26より
大径のガイドローラ40が、ガイドローラ36の上方に
はガイドローラ42が配置されており、ガイドローラ3
8の上方にはガイドローラ44が配置されている。これ
らのガイドローラ40.42.44はガイドローラ26
〜38と同様に図示しない一対の側板に支持されている
Further, a guide roller 40 having a larger diameter than the guide roller 26 is arranged above the guide roller 26, a guide roller 42 is arranged above the guide roller 36, and a guide roller 40 is arranged above the guide roller 36.
A guide roller 44 is arranged above the roller 8 . These guide rollers 40, 42, 44 are the guide rollers 26
- 38, it is supported by a pair of side plates (not shown).

第1現像槽■4内の中央部にはガイドローラ30とガイ
ドローラ32の間に搬送ローラ対46が配置されている
。この搬送ローラ対46は図示しない一対の側板に支持
されており、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて
回転する。
A pair of transport rollers 46 is arranged between the guide rollers 30 and 32 in the center of the first developer tank (4). This conveyance roller pair 46 is supported by a pair of side plates (not shown), and is rotated by the driving force of a driving means (not shown) transmitted thereto.

搬送ローラ46とガイドローラ30の間にはガイドロー
ラ30より大径のガイドローラ48が配置されている。
A guide roller 48 having a larger diameter than the guide roller 30 is arranged between the conveyance roller 46 and the guide roller 30.

このガイドローラ48は串型のローラでガイドローラ2
4〜38と同様に一対の側板に支持されている。このガ
イドローラ48の軸にはブラケット50を介してガイド
52が取付けられている。このガイド52は一端がブラ
ケット50へ固定され、他端が搬送ローラ対46へ向か
って配置されている。これによって23版12を搬送ロ
ーラ46間へ案内する。
This guide roller 48 is a skewer-shaped roller and the guide roller 2
Similar to 4-38, it is supported by a pair of side plates. A guide 52 is attached to the shaft of the guide roller 48 via a bracket 50. One end of this guide 52 is fixed to the bracket 50, and the other end is arranged toward the pair of conveying rollers 46. As a result, the 23rd plate 12 is guided between the conveyance rollers 46.

従って、搬送ローラ対22によって第1現像槽14内へ
送り出された23版12はガイドローラ24とガイドロ
ーラ40間へ挿入され、ガイドローラ28.30.48
に案内されて斜めに下降し、ガイド52によって搬送ロ
ーラ対46間へ挿入される。搬送ローラ対46を通過後
はガイドローラ32.34.36.42.38に案内さ
れて斜めに上昇し、ガイドローラ44に案内されてオー
バーフロー槽18上へ送り出される。これにより23版
12は第1現像槽16の現像液中へ浸漬されて現像され
る。
Therefore, the 23rd printing plate 12 sent into the first developer tank 14 by the conveying roller pair 22 is inserted between the guide roller 24 and the guide roller 40, and the guide roller 28, 30, 48
The paper is guided by the guide 52 and is inserted between the pair of transport rollers 46 by the guide 52 . After passing through the pair of transport rollers 46, it is guided by guide rollers 32, 34, 36, 42, 38 and rises obliquely, and is guided by guide rollers 44 and sent onto the overflow tank 18. As a result, the 23rd plate 12 is immersed in the developer in the first developer tank 16 and developed.

ガイドローラ32は軸方向に沿って複数個の吐出口が形
成されたスプレーパイプ54の外周に弾性回転部材が複
数個軸支されて形成されている。
The guide roller 32 is formed by a plurality of elastic rotating members pivotally supported on the outer periphery of a spray pipe 54 in which a plurality of discharge ports are formed along the axial direction.

このスプレーパイプ54は管路56の一端と連通されて
いる。管路56の他端は第2現像16の底部を貫通して
第2現像槽16内へ開口している。
This spray pipe 54 is communicated with one end of a conduit 56. The other end of the conduit 56 passes through the bottom of the second developer 16 and opens into the second developer tank 16 .

管路56の途中には供給ポンプ58(P、)が配置され
ており、これによって第2現像槽16内の現像液24が
スプレーパイプ54へ供給される。
A supply pump 58 (P,) is disposed in the middle of the pipe line 56, and this supplies the developer 24 in the second developer tank 16 to the spray pipe 54.

またガイドローラ32の上方にはスプレーノ(イブ60
が配置されている。このスプレーパイプ60は軸方向に
沿って、搬送ローラ対46に向かって開口された複数個
の吐出口が設けられている。
Moreover, above the guide roller 32, there is a spray nozzle (eve 60).
is located. The spray pipe 60 is provided with a plurality of discharge ports opening toward the conveying roller pair 46 along the axial direction.

このスプレーパイプ60も管路56と連通されており、
第2現像槽16内の現像液24が供給ポンプ58によっ
て供給される。
This spray pipe 60 is also in communication with the conduit 56,
The developer 24 in the second developer tank 16 is supplied by a supply pump 58 .

スプレーパイプ60とガイドローラ42の間にはブラシ
62が配置されている。このブラシ62は回転軸64が
図示しない側板に回転可能に支持されており、図示しな
い駆動手段の駆動力が伝達されて回転する。
A brush 62 is arranged between the spray pipe 60 and the guide roller 42. This brush 62 has a rotating shaft 64 rotatably supported by a side plate (not shown), and is rotated by the driving force of a driving means (not shown) transmitted thereto.

ブラシ62は回転軸64に長尺状の絨穂ブラシナイロン
シートを介して螺旋状の巻付けられ接着されている。こ
の繊状ブラシはナイロン、ETEF、PP5SPP等で
成形されている。また外径は40mmΦ以下で25〜4
0mmΦが好ましく、繊状ブラシの線径は20〜70μ
に設定されている。
The brush 62 is helically wound and bonded to the rotating shaft 64 via a long rag brush nylon sheet. This fibrous brush is made of nylon, ETEF, PP5SPP, or the like. Also, the outer diameter is 40mmΦ or less and 25~4
0mmΦ is preferable, and the wire diameter of the fibrous brush is 20 to 70μ.
is set to .

またこの繊状ブラシの回転数は300rpmが以下に設
定されており、60〜20 Or pmが好ましい。
Further, the rotation speed of this fibrous brush is set to 300 rpm or less, and preferably 60 to 20 Or pm.

またブラシ62は回転軸64へ螺旋状の溝を設け、この
溝内へネジリブラシを挿入して巻付けて形成しても良い
。この場合ネジリブラシは2本の線材に毛が固定された
ブラシで、このネジリブラシの線材を溝内へ挿入すると
、毛が溝の外側へ均一に散らばって突出し、放射状に立
設した毛が回転軸回りに均一に配置される。このネジリ
ブラシは上記繊状ブラシと同じ材質で成形されている。
Alternatively, the brush 62 may be formed by providing a spiral groove on the rotating shaft 64, inserting a torsion brush into the groove, and winding the brush. In this case, the Nejiri Brush is a brush with bristles fixed to two wires, and when the wires of this Nejiri Brush are inserted into the groove, the bristles are evenly scattered to the outside of the groove and protrude, and the radially erected bristles rotate around the rotation axis. evenly distributed. This torsion brush is molded from the same material as the fibrous brush described above.

第1図に示されるように、ガイドローラ36とガイドロ
ーラ38との間の23版12の搬送路の下部にはブラシ
62と同構成のブラシ78が配置されている。
As shown in FIG. 1, a brush 78 having the same structure as the brush 62 is arranged at the bottom of the conveyance path for the 23rd printing plate 12 between the guide roller 36 and the guide roller 38.

ブラシ62のガイドローラ42側にはけられ防止板80
が配置されている。このけられ防止板80はブラシ62
とガイドローラ36間を通過した23版12の後端部の
けられを防止している。さらにブラシ78とがイドロー
ラ38この間にはけられ防止板82が配置されている。
A scraping prevention plate 80 is provided on the guide roller 42 side of the brush 62.
is located. This vignetting prevention plate 80 has a brush 62
This prevents the rear end of the 23rd plate 12 passing between the guide roller 36 and the guide roller 36 from being vignetted. Furthermore, a scratch prevention plate 82 is arranged between the brush 78 and the idle roller 38.

このけられ防止板82はけられ防止板80と同様にPS
版12の後端部のけられを防止している。
This vignetting prevention plate 82 is similar to the vignetting prevention plate 80.
This prevents the rear end of the plate 12 from being vignetted.

!1現像槽14の上にはオーバーフロー槽18の底部と
連通された管路84が開口している。この管路84の途
中にはポンプ86(P6)が配置されている。また第1
現像槽14の上には給水タンク88と連通された管路9
0が開口されていて、この管路90の途中には給水ポン
プ92(P2)が配置されている。この給水ポンプ92
は後述する電導度補充コントローラー176に接続され
ている。これにより給水の時期が制御される。
! A pipe line 84 that communicates with the bottom of the overflow tank 18 is open above the first developer tank 14 . A pump 86 (P6) is arranged in the middle of this pipe line 84. Also the first
Above the developer tank 14 is a pipe line 9 communicating with a water supply tank 88.
0 is open, and a water supply pump 92 (P2) is disposed in the middle of this pipe line 90. This water supply pump 92
is connected to a conductivity replenishment controller 176, which will be described later. This controls the timing of water supply.

また第1現像槽14の下部には管路94の一端が達され
ている。この管路94の途中には電導度検出器96(S
)、循環ポンプ98、フィルタ100(F)が配置され
ており、他端は再び第1現像槽14の下部へ連通されて
いる。したがって、循環ポンプ98の作動によって第1
現像槽14の下部に貯留されている現像液24が管路9
4内を通過して電導度検出器96、フィルタ100を通
過した後に再び第1現像槽14内へ送られる。これによ
り現像液24の電導度を検出し、現像液24中の塵等が
取り除かれ、第1現像槽14内の現像液24が攪拌され
る。
Further, one end of a conduit 94 reaches the lower part of the first developer tank 14 . A conductivity detector 96 (S
), a circulation pump 98, and a filter 100(F) are arranged, and the other end is communicated again to the lower part of the first developer tank 14. Therefore, the operation of the circulation pump 98 causes the first
The developer 24 stored in the lower part of the developer tank 14 is connected to the conduit 9.
After passing through the conductivity detector 96 and the filter 100, it is sent into the first developer tank 14 again. As a result, the conductivity of the developer 24 is detected, dust, etc. in the developer 24 is removed, and the developer 24 in the first developer tank 14 is stirred.

また電導度検出器96は電導度補充コントローラー17
6と接続によって、管路94内を通過する現像液24の
電導度を検出して第1現像槽14内の現像液24の電導
度を検出し、この検出結果を電導度補充コントローラー
176伝達する。
Further, the conductivity detector 96 is connected to the conductivity replenishment controller 17.
6, detects the conductivity of the developer 24 passing through the pipe 94, detects the conductivity of the developer 24 in the first developer tank 14, and transmits the detection result to the conductivity replenishment controller 176. .

また第1現像槽14の上部には液面蓋102が配置され
ている。第2図に示されるように液面蓋102のブラシ
62及びガイドローラー42に対応する部分は略円弧状
に突出しており、屈曲部■02Aが形成されている。こ
の屈曲部の液面側内部にブシ62の液面状から突出した
外周とガイドローラー42が収容されている。屈曲部1
02Aの幅方向両端部すなわちブラシ62及びガイドロ
ーラー42の軸方向に沿って両側部には開口102Bが
形成されている。この開口102Aは半円形状の遮蔽板
180によって閉止されている。
Further, a liquid level lid 102 is arranged above the first developing tank 14 . As shown in FIG. 2, a portion of the liquid level lid 102 corresponding to the brush 62 and the guide roller 42 protrudes in a substantially arc shape, and a bent portion 02A is formed. The outer periphery of the bushing 62 protruding from the liquid surface and the guide roller 42 are housed inside this bent portion on the liquid surface side. Bent part 1
Openings 102B are formed at both widthwise ends of 02A, that is, at both sides along the axial direction of the brush 62 and guide roller 42. This opening 102A is closed by a semicircular shielding plate 180.

また液面蓋102はPS版12の搬送方向の移動は第1
現像槽14の内壁に設けられた図示しないストッパで規
制されているが、液面高さ方向の移動は規制されていな
い。したがって第1現像槽14内の現像液24の液量が
少な(なって、液面が低下するとこの低下に追従して液
面蓋102は下降する。これによりの液面蓋102は現
像液24と空気との接触面積を少なくしているので、現
像液が空気中の炭酸ガスを吸収して現像液中のアルカリ
成分を中和することにより起きる現像液の劣化を防止し
ている。また、現像液の蒸発を防止している。
In addition, the liquid level lid 102 is configured so that the movement of the PS plate 12 in the conveying direction is first controlled.
Although it is regulated by a stopper (not shown) provided on the inner wall of the developer tank 14, movement in the liquid level height direction is not regulated. Therefore, when the amount of the developer 24 in the first developer tank 14 is small (as a result, the liquid level decreases, the liquid level lid 102 lowers to follow this decrease. Since the contact area between the developer and the air is reduced, it prevents deterioration of the developer caused by the developer absorbing carbon dioxide gas in the air and neutralizing the alkaline components in the developer.Also, Prevents evaporation of developer.

この現像液24の空気との遮蔽率は40%以上好ましく
は60%以上になるように液面蓋102の形状が設計さ
れている。この形状は第1現像槽14の開口形状や、現
像液面から突出している部品等によって決められる。
The shape of the liquid level lid 102 is designed so that the shielding rate of the developer 24 from air is 40% or more, preferably 60% or more. This shape is determined by the opening shape of the first developer tank 14, parts protruding from the developer surface, and the like.

液面蓋102は上記したように第1現像槽14内の現像
液の液面上に浮かせるため軽量な材質で成形されている
。この材質としてポリ塩化ビニノペポリエチレン、ポリ
アミド、ポリエステル等の合成樹脂、軽量の金属、発泡
プラスチック等が好ましい。
As described above, the liquid level lid 102 is made of a lightweight material so that it floats on the surface of the developer in the first developing tank 14. Preferred materials include synthetic resins such as polyvinyl chloride, polyethylene, polyamide, and polyester, lightweight metals, and foamed plastics.

なお、第3図に示されるように液面蓋182の屈曲部1
82Aが矩形状に突出した形状でも良い。
Note that as shown in FIG. 3, the bent portion 1 of the liquid level lid 182
82A may have a protruding rectangular shape.

この屈曲部182の両側部を閉止する遮蔽板186は矩
形状に形成されている。
A shielding plate 186 that closes both sides of this bent portion 182 is formed in a rectangular shape.

また第1現像槽14の上部にはりエントリー用の案内カ
バー104が配置されている。この案内カバー104は
現像処理後に再度第2現像及びフィニッシャ−処理をす
るための第1現像槽14を飛び越えて第2現像槽16内
へ直接PS版12を挿入案内する。
Further, a guide cover 104 for beam entry is arranged above the first developing tank 14. This guide cover 104 directly inserts and guides the PS plate 12 into the second developer tank 16 over the first developer tank 14 for second development and finisher processing after the development process.

くオーバーフロー槽〉 第1現像槽14のオーバーフロー槽18側の側壁上部は
オーバーフロー槽18側へ折り曲げられており、第1現
像槽14内の現像液24がこの側壁上部ヲオーバーフロ
ーして、オーバーフロー槽18内へ回収される。
Overflow tank> The upper part of the side wall of the first developer tank 14 on the side of the overflow tank 18 is bent toward the overflow tank 18 side, and the developer 24 in the first developer tank 14 overflows the upper part of this side wall and flows into the overflow tank 18. It is collected inside.

オーバーフロー槽18と第2現像槽16との間を仕切る
側壁上部には搬送ローラ対106が配置されている。こ
れらの搬送ローラ対106は図示しない側板に回転可能
に支持されており、図示しない駆動手段の駆動力が伝達
されて回転する。これらの搬送ローラ対106間にはガ
イドローラ38.44間から送り出された23版12が
挿入される。
A pair of conveying rollers 106 is arranged at the upper part of the side wall that partitions the overflow tank 18 and the second developer tank 16. These transport roller pairs 106 are rotatably supported by a side plate (not shown), and are rotated by the driving force of a driving means (not shown) transmitted thereto. The 23rd printing plate 12 sent out from between the guide rollers 38 and 44 is inserted between the pair of transport rollers 106.

上側に位置する搬送ローラ106には小径のローラ10
8が当接配置されている。このローラ108は搬送ロー
ラ106に付着している第2現像槽16内の現像液24
がオーバーフロー槽18内へ混入するのを防止している
The conveyance roller 106 located on the upper side has a small diameter roller 10.
8 are placed in contact with each other. This roller 108 is connected to the developer 24 in the second developer tank 16 adhering to the conveyance roller 106.
is prevented from entering the overflow tank 18.

さらに下側に位置する搬送ローラ106にはオーバーフ
ロー槽18内と、第2現像槽16内にローラ110.1
12が当接配置されている。ローラ110は第1現像槽
14内の23版12によって持ち出されて、搬送ローラ
106へ付着した現像液24が第2現像槽16内へ混入
するのを防止している。またローラ112は第2現像槽
の現像液がオーバーフロー槽18内へ混入するのを防止
でいる。
Further, the transport roller 106 located further below has an overflow tank 18 and a roller 110.1 inside the second developer tank 16.
12 are arranged in contact with each other. The roller 110 is carried out by the 23rd printing plate 12 in the first developer tank 14 to prevent the developer 24 adhering to the transport roller 106 from entering the second developer tank 16 . Further, the roller 112 prevents the developer in the second developer tank from entering the overflow tank 18.

オーバーフロー槽18内には底部を貫通した管路114
の一端が底部から所定の高さ位置まで延出されおり、こ
の管路114の底部からの高さによってオーバーフロー
槽18内の現像液の液面高さが設定されている。この管
路114の他端は排液槽116内へ開口している。
Inside the overflow tank 18 is a conduit 114 that penetrates the bottom.
One end of the pipe 114 extends from the bottom to a predetermined height, and the height of the developer in the overflow tank 18 is determined by the height of the pipe 114 from the bottom. The other end of this conduit 114 opens into a drain tank 116 .

く第2現像槽〉 第2現像槽16の上部にはフィニッシャ−槽20側に搬
送ローラ対118が配置されている、これらの搬送ロー
ラ対118は図示しない側板に回転可能に支持されてお
り、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転する
。これらの搬送ローラ対118間には搬送ローラ対10
6間から送り出された23版12が挿入される。これに
より23版12が第2現像槽16の上部を略水平に搬送
される。
Second developer tank> At the top of the second developer tank 16, a pair of transport rollers 118 are arranged on the side of the finisher tank 20. These transport roller pairs 118 are rotatably supported by a side plate (not shown). The driving force of a driving means (not shown) is transmitted and rotates. A pair of conveyor rollers 10 is disposed between these pairs of conveyor rollers 118.
The 23rd edition 12 sent out from between 6 and 6 is inserted. As a result, the 23rd plate 12 is conveyed substantially horizontally above the second developing tank 16.

搬送ローラ106と搬送ローラ118の間の23版12
の搬送路の上方には前述したスプレーパイプ54と同構
戊のスプレーパイプ120が配置されている。このスプ
レーパイプ120の現像液24の吐出口は搬送ローラ1
06側へ向けて開口されており、供給された現像液を搬
送ローラ106と23版12の上面側との間へ吐出する
。このスプレーパイプ120は管路122の一端と連通
されている。管路122の他端は第2現像槽16の底部
と連通されており、途中には供給ポンプ124が配置さ
れている。第2現像槽16の下部には現像液24が貯留
されており、循環ポンプ124の作動によってこの現像
液24がスプレーパイプ120へ供給される。これによ
り現像液24を23版12の表面へ塗布する。
23 plate 12 between conveyance roller 106 and conveyance roller 118
A spray pipe 120 having the same structure as the spray pipe 54 described above is arranged above the conveyance path. The outlet of the developer 24 of this spray pipe 120 is connected to the conveyor roller 1.
It is opened toward the 06 side, and discharges the supplied developer between the conveyance roller 106 and the upper surface side of the 23rd plate 12. This spray pipe 120 is connected to one end of a conduit 122. The other end of the conduit 122 communicates with the bottom of the second developer tank 16, and a supply pump 124 is disposed in the middle. A developer 24 is stored in the lower part of the second developer tank 16 , and the developer 24 is supplied to the spray pipe 120 by the operation of the circulation pump 124 . As a result, the developer 24 is applied to the surface of the 23rd plate 12.

スプレーパイプ120に対応して23版12の搬送路の
下部にはカイトローラ126が配置されている。このガ
イドローラ126はガイドローラ32と同様に軸方向に
沿って複数個の吐出口が形成されたスプレーパイプ54
の外周に複数個の弾性回転部材が軸支されて形成されて
いる。このスプレーパイプ128は管路122と連通さ
れており現像液供給ポンプ124の作動で現像液24が
供給される。
A kite roller 126 is disposed at the bottom of the conveyance path for the 23rd plate 12 in correspondence with the spray pipe 120. Similar to the guide roller 32, this guide roller 126 is connected to a spray pipe 54 in which a plurality of discharge ports are formed along the axial direction.
A plurality of elastic rotating members are pivotally supported on the outer periphery of the rotary member. This spray pipe 128 is in communication with the conduit 122, and the developer 24 is supplied by the operation of the developer supply pump 124.

スプレーパイプ128には軸方向に沿って、複数の吐出
口が搬送ローラ118と23版12の裏面側との間に向
けて開口している。これにより供給された現像液24が
23版12の裏面側へ吐出され塗布される。
A plurality of discharge ports are opened in the spray pipe 128 along the axial direction between the conveyance roller 118 and the back side of the 23rd printing plate 12. The developer 24 thus supplied is discharged and applied to the back side of the 23rd plate 12.

第2現像槽16の底部には管路130の一端が連通され
ている。管路130の他端は現像原液タンク132へ連
通されている。管路130の途中には原液供給ポンプ1
32(P、)が配置されている。この原液供給ポンプ1
32は処理補充コントローラー164と接続されて、そ
の作動が制御される。
One end of a conduit 130 is communicated with the bottom of the second developer tank 16 . The other end of the pipe line 130 is connected to a developing solution tank 132. A stock solution supply pump 1 is located in the middle of the pipe line 130.
32 (P,) are arranged. This stock solution supply pump 1
32 is connected to a processing replenishment controller 164 to control its operation.

また第2現像槽16の底部には管路134の一端が連通
されている。管路134の他端は給水タンク88へ連通
されている。管路134の途中には給水ポンプ136が
配置されている。この給水ポンプ136(P3)は電導
度補充コントローラー176及び処理補充コントローラ
ー164と接続されており、その作動が制御される。
Further, one end of a conduit 134 is communicated with the bottom of the second developing tank 16 . The other end of the pipe line 134 is connected to a water supply tank 88. A water supply pump 136 is arranged in the middle of the pipe line 134. This water supply pump 136 (P3) is connected to the conductivity replenishment controller 176 and the processing replenishment controller 164, and their operations are controlled.

また第2現像槽16の底部には管路138の一端が貫通
して第2現像槽内へ突出している。この第2現像槽16
内への突出高さが第2現像槽16内の現像液24の液面
高さを設定している。管路138の他端は排液槽140
へ開口しており、管路138をオーバーフローした現像
液が排出される。
Further, one end of a conduit 138 passes through the bottom of the second developer tank 16 and projects into the second developer tank. This second developing tank 16
The height of the inward protrusion sets the liquid level height of the developer 24 in the second developer tank 16 . The other end of the pipe line 138 is a drain tank 140
The developing solution overflowing the pipe line 138 is discharged.

くフィニッシャ−槽〉 第2現像槽16とフィニッシャ−槽20とを仕切る側壁
上には仕切板142が配設されているこの仕切板142
は搬送ローラ対118に付着した現像液24がフィニッ
シャ−槽20内のフィニッシャ−液内へ混入しないよう
にしている。
Finisher tank> A partition plate 142 is provided on the side wall that partitions the second developer tank 16 and the finisher tank 20.
This prevents the developer 24 adhering to the pair of transport rollers 118 from mixing into the finisher solution in the finisher tank 20.

フィニッシャ−槽20の上部には出口側に搬送ローラ対
144が配置されている、これらの搬送ローラ対144
は図示しない側板に回転可能に支持されており、図示し
ない駆動手段の駆動力が伝達されて回転する。搬送ロー
ラ対144は搬送ロラ118より若干低い位置に配置さ
れている。搬送ローラ対144間には搬送ローラ対11
8間から送り出された23版12が挿入される。これに
より23版12が第2現像槽16の上部を傾斜した状態
で搬送される。
A pair of conveyor rollers 144 is arranged on the exit side in the upper part of the finisher tank 20.
is rotatably supported by a side plate (not shown), and is rotated by the driving force of a driving means (not shown) transmitted thereto. The conveyance roller pair 144 is arranged at a slightly lower position than the conveyance roller 118. A pair of conveying rollers 11 is provided between the pair of conveying rollers 144.
The 23rd edition 12 sent out from between 8 and 8 is inserted. As a result, the 23rd plate 12 is transported with the upper part of the second developing tank 16 tilted.

搬送ローラ対118と搬送ローラ144の間の23版1
2の搬送路の上方には前述したスプレーパイプ54と同
構戊のスプレーパイプ146が配置されている。このス
プレーパイプ146の現像液24の吐出口は搬送ローラ
144側へ向けて開口されており、供給された現像液を
搬送ローラ144と23版12の上面側との間へ吐出す
る。このスプレーパイプ146は管路148の一端と連
通されている。管路148の他端はフィニッシャ−槽2
0の底部と連通されており、途中には供給ポンプ150
が配置されている。フィニッシャ−槽20の下部にはフ
ィニッシャ−液152が貯留されており、供給ポンプ1
50の作動によってこのフィニッシャ−液152がスプ
レーパイプ146へ供給される。これによりフィニッシ
ャ−液152が23版12の表面へ吐出され塗布される
23 plate 1 between the conveying roller pair 118 and the conveying roller 144
A spray pipe 146 having the same structure as the spray pipe 54 described above is arranged above the second conveyance path. A discharge port for the developer 24 of the spray pipe 146 is opened toward the conveyance roller 144 side, and the supplied developer is discharged between the conveyance roller 144 and the upper surface side of the 23rd plate 12. This spray pipe 146 is connected to one end of a conduit 148. The other end of the pipe line 148 is the finisher tank 2
0, and there is a supply pump 150 on the way.
is located. A finisher liquid 152 is stored in the lower part of the finisher tank 20, and the finisher liquid 152 is stored at the bottom of the finisher tank 20.
50 causes this finisher liquid 152 to be supplied to the spray pipe 146. As a result, the finisher liquid 152 is discharged and applied onto the surface of the 23rd plate 12.

スプレーパイプ146に対応して23版12の搬送路の
下部にはフィニッシャ−液塗布ボックス154が配置さ
れている。このフィニッシャ−液塗布ボックス154は
断面形状が略コ字状に形成されており、上部に向けて開
口部154Aが形成されている。このフィニッシャ−液
塗布ボックス154内にはスプレーパイプ156が配置
されている。このスプレーパイプ156はスプレーパイ
プ146と同様に軸方向に沿って複数個の吐出口が形成
されている。このスプレーパイプ154は管路148と
連通されており供給ポンプ148の作動でフィニッシャ
−液152がフィニッシャ−液塗布ボックス154内へ
供給される。フィニッシャ−液塗布ボックス154内へ
供給されたフィニッシャ−液152は開口部154Aか
ら溢れて上部を通過する23版12の裏面側へ塗布され
る。
A finisher liquid coating box 154 is arranged at the bottom of the conveyance path for the 23rd plate 12 in correspondence with the spray pipe 146 . The finisher liquid application box 154 has a substantially U-shaped cross section, and an opening 154A is formed toward the top. A spray pipe 156 is arranged within the finisher liquid application box 154. Similar to the spray pipe 146, this spray pipe 156 has a plurality of discharge ports formed along the axial direction. This spray pipe 154 is in communication with a conduit 148, and the finisher liquid 152 is supplied into the finisher liquid application box 154 by the operation of the supply pump 148. The finisher liquid 152 supplied into the finisher liquid application box 154 overflows from the opening 154A and is applied to the back side of the 23rd plate 12 passing above.

フィニッシャ−槽20の底部には管路158の一端が連
通されている。管路158の他端はブイニラシャー液タ
ンク160へ連通されている。管路158の途中には原
液供給ポンプ162(P、)が配置されている。この原
液供給ポンプ162は処理補充コントローラー164と
接続されて、その作動が制御される。
One end of a conduit 158 is connected to the bottom of the finisher tank 20 . The other end of the conduit 158 is connected to a liquid tank 160. A stock solution supply pump 162 (P,) is arranged in the middle of the pipe line 158. This stock solution supply pump 162 is connected to a processing replenishment controller 164 to control its operation.

またフィニッシャ−槽20の底部には管路166の一端
が連通されている。管路166の他端は給水タンク88
へ連通されている。管路166の途中には給水ポンプ1
68(P3)が配置されている。この給水ポンプ136
は処理補充コントローラー164接続されており、その
作動が制御される。
Further, one end of a conduit 166 is communicated with the bottom of the finisher tank 20. The other end of the pipe 166 is a water tank 88
is connected to. A water supply pump 1 is installed in the middle of the pipe 166.
68 (P3) is arranged. This water supply pump 136
is connected to the processing replenishment controller 164, and its operation is controlled.

またフィニッシャ−槽20の底部には管路117〇一端
が貫通してプイニッシャー槽20内へ突出している。こ
のフィニッシャ−槽20内への突出高さがフィニッシャ
−槽20のフィニッシャ−液の液面高さを設定している
。管路170の他端は排液槽172へ開口しており、管
路170をオーバーフローした現像液が排出される。
Further, one end of a conduit 1170 passes through the bottom of the finisher tank 20 and projects into the finisher tank 20. The height of this protrusion into the finisher tank 20 sets the liquid level height of the finisher liquid in the finisher tank 20. The other end of the pipe line 170 opens to a drain tank 172, and the developer that has overflowed the pipe line 170 is discharged.

搬送ローラ対22の挿入側には処理補充コントローラー
164へ接続される検出器174が配置されている。検
出器174で感光性平版印刷版処理機10の挿入口にお
ける23版12の通過時間を検出し、予め設定したPS
版の処理速度及びPS版の幅寸法を併せて処理補充コン
トローラー164で感光性平版印刷版処理機10へ挿入
される23版12の面積を演算する。
A detector 174 connected to the processing replenishment controller 164 is arranged on the insertion side of the transport roller pair 22. The detector 174 detects the passage time of the 23rd plate 12 at the insertion port of the photosensitive planographic printing plate processing machine 10, and detects the preset PS.
Using the processing speed of the plate and the width dimension of the PS plate, the processing replenishment controller 164 calculates the area of the 23 plate 12 to be inserted into the photosensitive planographic printing plate processor 10.

次に本実施例の作用について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

図示しない焼付装置で画像が焼付けられた23版12は
搬送ローラ対22へ挿入された後に第1現像槽14のガ
イドローラ40とガイドローラ26との間に挿入され、
第1現像槽14内へ送り込まれる。この23版12はガ
イドローラ28.30.48に案内され下降して、第1
現像の中央部へ送られる。
The 23rd plate 12 on which an image has been printed by a printing device (not shown) is inserted into the transport roller pair 22, and then inserted between the guide roller 40 and the guide roller 26 of the first developer tank 14.
It is sent into the first developer tank 14. This 23rd plate 12 is guided by guide rollers 28, 30, 48 and descends to the first
Sent to the center of development.

大径のガイドローラ52は23版12の先端を所定の搬
送路からはずれることなく案内し、またガイド52は2
3版12の先端を搬送ローラ対46間へ挿入する働きを
する。
The large-diameter guide roller 52 guides the tip of the 23rd plate 12 without deviating from the predetermined conveyance path.
It functions to insert the leading end of the third plate 12 between the pair of conveying rollers 46.

搬送ローラ対46へ挿入され、この搬送ローラ対46か
ら送り出された23版12はガイドローラ32.34.
36.42.38.44に案内されて上昇し第1現像槽
14から送り出される。
The 23rd plate 12 inserted into the pair of conveying rollers 46 and sent out from the pair of conveying rollers 46 is moved by the guide rollers 32, 34, .
36, 42, 38, and 44, rises, and is sent out from the first developer tank 14.

この搬送の途中PS版12の両面がブラシ62.78に
よって擦られて、膨潤または溶解した不要な感光層が擦
り取られる。これにより23版12が確実に現像される
During this conveyance, both sides of the PS plate 12 are rubbed by brushes 62, 78, and unnecessary swollen or dissolved photosensitive layers are rubbed off. This ensures that the 23rd plate 12 is developed.

このブラシ62.78は小径に懲戒されているので、回
転軸64.70が現像液中に配置され、液面蓋102に
より現像液24の空気との接触が少なくなるので現像液
24の劣化を低減することが出来と共に第1現像槽14
を小型にすることが出来コストを低減するこが出来る。
Since this brush 62.78 has a small diameter, the rotating shaft 64.70 is placed in the developer, and the liquid level lid 102 reduces the contact of the developer 24 with air, thereby preventing deterioration of the developer 24. The first developing tank 14 can be reduced.
can be made smaller and costs can be reduced.

また第1現像槽14内からオーバーフローしてオーバー
フロー槽18内へ排出された現像液は管路114から排
出槽116へ挿入される。
Further, the developer overflowing from the first developer tank 14 and discharged into the overflow tank 18 is inserted into the discharge tank 116 from the pipe line 114.

この第1現像槽14内の搬送によって処理される23版
12はほぼ完全に現像処理され、さらに、第2現像槽1
6を通過して補助的に現像される。
The 23rd plate 12 processed by conveyance in the first developing tank 14 is almost completely developed, and furthermore, the second developing tank 1
6 and is additionally developed.

また、23版12は第1現像槽16内の現像液24中で
搬送ローラ対46によって挟持搬送されるとき絞られ、
かつその直後にスプレーパイプ60.54によって現像
液24が吹付けられ、第1現像槽14内の現像液が循環
される。
Further, the 23rd plate 12 is squeezed when being conveyed by the pair of conveying rollers 46 in the developer 24 in the first developing tank 16.
Immediately thereafter, the developer 24 is sprayed by the spray pipe 60.54, and the developer in the first developer tank 14 is circulated.

また第1現像槽14内からオーバーフローしてオーバー
フロー槽18へ排出された現像液24はポンプ86によ
って管路84を通過して再び第1現像槽14内へ供給さ
れるので、現像液24を有効に利用することができる。
Further, the developer 24 that overflows from the first developer tank 14 and is discharged into the overflow tank 18 is passed through the pipe line 84 by the pump 86 and is again supplied into the first developer tank 14, so that the developer 24 can be effectively used. It can be used for.

第1現像槽14から送り出された23版12は搬送ロー
ラ対106によって挟持搬送されながら現像液が絞り取
られ、搬送ローラ対118間へ向けて送り出される。搬
送ローラ対118へ向けて送り出されて第2現像槽16
の上部をガイドローラ126に案内されなから略水平方
向に搬送される。
The 23rd plate 12 sent out from the first developer tank 14 is held and transported by a pair of transport rollers 106 , the developer is squeezed out, and the plate 12 is sent out between a pair of transport rollers 118 . The second developing tank 16 is sent out toward the conveying roller pair 118.
The upper part of the paper is not guided by guide rollers 126 and is transported in a substantially horizontal direction.

この搬送の途中で23版12の両面へはスプレーパイプ
120、スプレーパイプ128によって現像液24が吐
出され塗布される。これにより23版12が完全に現像
処理される。
During this conveyance, the developer 24 is discharged and coated onto both sides of the 23rd plate 12 by the spray pipes 120 and 128. As a result, the 23rd plate 12 is completely developed.

第1現像槽14現像液24は23版12の現像処理によ
って疲労するが、この疲労した現像液24はオーバーフ
ロー槽18から管路134を通って排出槽116内へ排
出される。
The developer 24 of the first developer tank 14 is exhausted by the development process of the 23rd plate 12, and this exhausted developer 24 is discharged from the overflow tank 18 through the pipe 134 into the discharge tank 116.

また現像原液及び水は処理補充コントローラー164に
よって第2現像槽16内へ補充され、この第2現像槽1
6から第1現像槽14内へ現像液が補充される。これに
より、第2現像槽16で現像液が塗布される23版12
は第1現像槽14で予め現像されているので第2現像槽
16の現像液の処理による劣化はすくない。したがって
、第1現像槽14内へは第2現像槽内の現像液が供給さ
れので、現像液を長期間使用することができ、長期ラン
ニングが可能となる。
Further, the developing stock solution and water are replenished into the second developing tank 16 by the processing replenishment controller 164.
6, the developer is replenished into the first developer tank 14. As a result, the 23rd plate 12 to which the developer is applied in the second developer tank 16
has been developed in advance in the first developer tank 14, so there is little deterioration due to processing of the developer in the second developer tank 16. Therefore, since the developer in the second developer tank is supplied into the first developer tank 14, the developer can be used for a long period of time, and long-term running is possible.

また現像液の上面は液面蓋102によって覆われている
ので現像液が空気による劣化を低減することが出来、ま
た現像液の蒸発を少なく出来る。
Further, since the upper surface of the developer is covered by the liquid level lid 102, deterioration of the developer due to air can be reduced, and evaporation of the developer can be reduced.

次に補充について説明する。Next, replenishment will be explained.

第1現像槽14で多数枚の23版12を現像処理した場
合、現像液が疲労する。この現像液の疲労度は処理され
る23版12の面積を検出器174で検出し、処理補充
コントローラー164で演算し、現像液を補充するとに
より現像液の劣化を回復させることができる。
When a large number of 23 plates 12 are developed in the first developer tank 14, the developer becomes exhausted. The degree of fatigue of the developing solution is determined by detecting the area of the 23 plate 12 being processed by the detector 174 and calculating by the processing replenishment controller 164, and by replenishing the developing solution, the deterioration of the developing solution can be recovered.

すなわち検出器174によって、挿入されるP5版12
の面積を検出し、この検出結果に基づいて処理補充コン
トローラー164で現像原液供給ポンプ132と給水ポ
ンプ136の作動時間が演算されPS版12の面積に応
じた補充量だけ現像補充液を供給すべく原液供給ポンプ
132、給水ポンプ136が作動されるようになってい
る。
That is, the P5 plate 12 inserted by the detector 174
Based on this detection result, the processing replenishment controller 164 calculates the operating time of the developer stock pump 132 and the water supply pump 136 to supply the developer replenisher in an amount corresponding to the area of the PS plate 12. The stock solution supply pump 132 and the water supply pump 136 are operated.

さらに現像液24は電気電導度検出器96によって電気
型導度が検出されており、現像液24が濃縮されて電気
型導度が上昇し、所定値以上になると電導度補充コント
ローラー176により水給水ポンプ92を作動させて第
1現像槽14へ供給する。また、第2現像槽18、プイ
ニツシャー槽24へもあらかじめ水蒸発量を測定してお
き、水給水ポンプ92の作動に比例して第2現像水給水
ポンプ136、フィニッシャ−水給水ポンプ■68を作
動させる。この水補充量は1Qcc〜1000cc/回
に設定されている。
Further, the electrical conductivity of the developing solution 24 is detected by the electrical conductivity detector 96, and when the developing solution 24 is concentrated and the electrical conductivity increases and reaches a predetermined value or more, the electrical conductivity replenishment controller 176 is activated to supply water. The pump 92 is operated to supply the first developer tank 14 . In addition, the amount of water evaporated into the second developer tank 18 and the finisher tank 24 is measured in advance, and the second developer water supply pump 136 and finisher water supply pump 68 are operated in proportion to the operation of the water supply pump 92. let This water replenishment amount is set to 1Qcc to 1000cc/time.

またフィニッシャ−槽20には処理補充コントローラー
164によりフィニッシャ−液原液供給ポンプ162給
水ポンプ168によりフィニッシャ−原液と水が一定の
割合で補充されるようになっている。
Further, the finisher tank 20 is refilled with the finisher stock solution and water at a constant rate by a processing replenishment controller 164, a finisher solution stock solution supply pump 162, and a water supply pump 168.

これにより、現像液24、フィニッシャ−液152の濃
縮化が防止され、前記面積補充と共に現像液24、フィ
ニッシャ−液152の活性度が一定に保たれ、長期に安
定した現像処理が可能となる。
This prevents the developer 24 and finisher solution 152 from concentrating, and in addition to the area replenishment, the activity of the developer solution 24 and finisher solution 152 is kept constant, making it possible to perform stable development over a long period of time.

なお本実施例では感光材料として感光性平版印刷版の例
を示したがこれに限らず、他の感光材料として水なし平
版印刷版の現像装置等感光性記録材料の現像装置に本発
明を適用することが出来る。
In this example, a photosensitive lithographic printing plate is shown as an example of the photosensitive material, but the present invention is not limited to this, and the present invention can be applied to a developing device for photosensitive recording materials such as a developing device for waterless planographic printing plates as other photosensitive materials. You can.

また、本実施例ではブラシ及びガイドローラ42の軸方
向両側部を遮蔽する遮蔽部として、別体の遮蔽板180
.184の例を示したがこれに限らず、液面蓋102と
一体に成形しても良い。
Further, in this embodiment, a separate shielding plate 180 is used as a shielding portion that shields both sides of the brush and guide roller 42 in the axial direction.
.. 184 is shown as an example, but the present invention is not limited to this, and it may be formed integrally with the liquid level lid 102.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る感光性平版印刷版処理機の実施例
を示す概略構成図、第2図は液面蓋を示す斜視図、第3
図は他の液面蓋を示す斜視図である。 10・・・感光性平版印刷版処理機、 12・・・感光性平版印刷版CF2版〉14・・・第1
現像槽、 16・・・第2現像槽、 24・・・現像液、 62.78・・ ・ブラシ、 64.70・・・回転軸、 66・ ・・繊状ブラシ、 74・ ・・ネジリブラシ。 102・・・液面蓋、 180.187・・・遮蔽板。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of a photosensitive lithographic printing plate processing machine according to the present invention, FIG. 2 is a perspective view showing a liquid level lid, and FIG.
The figure is a perspective view showing another liquid level lid. 10... Photosensitive planographic printing plate processing machine, 12... Photosensitive planographic printing plate CF2 plate> 14... First
Developer tank, 16... Second developer tank, 24... Developer, 62.78... Brush, 64.70... Rotating shaft, 66... Fibrous brush, 74... Twisted brush. 102...Liquid level lid, 180.187...Shielding plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)画像露光された感光材料を処理液中に自動的に搬
送浸漬して、外周の一部が液面上へ露出して処理内へ配
置されたブラシで擦りながら処理する感光材料処理装置
であって、前記処理液の液面上に載置されて前記ブラシ
の外周を覆うと共に前記処理液の表面を空気から遮断す
る液面蓋と、前記液面蓋に設けられて前記処理液の液面
上から上方へ露出しているブラシの軸方向両端部を遮蔽
する遮蔽部と、を有することを特徴とする感光材料処理
装置。
(1) A photosensitive material processing device that automatically conveys and immerses an image-exposed photosensitive material in a processing solution, exposing a part of its outer periphery above the liquid surface and processing it while rubbing it with a brush placed inside the processing solution. A liquid level lid placed on the surface of the processing liquid to cover the outer periphery of the brush and shield the surface of the processing liquid from air; A photosensitive material processing apparatus comprising: a shielding part that shields both axial ends of the brush exposed upward from above the liquid surface.
JP22532489A 1989-08-31 1989-08-31 Device for processing photosensitive material Pending JPH0387833A (en)

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US07/573,760 US5136322A (en) 1989-08-31 1990-08-28 Light-sensitive material processing apparatus
DK90116580.3T DK0415392T3 (en) 1989-08-31 1990-08-29 Apparatus for producing photosensitive material
EP90116580A EP0415392B1 (en) 1989-08-31 1990-08-29 Light-sensitive material processing apparatus
DE69029346T DE69029346T2 (en) 1989-08-31 1990-08-29 Processor for photosensitive material

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05265225A (en) * 1992-03-18 1993-10-15 Fuji Photo Film Co Ltd Automatic developing machine for photosensitive planographic printing form

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JPS6378151A (en) * 1986-09-18 1988-04-08 ヘキスト・アクチエンゲゼルシヤフト Apparatus for working photosensitive material
JPS6420551A (en) * 1987-07-16 1989-01-24 Konishiroku Photo Ind Developing processor for photosensitive lithographic printing plate

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