JP3108237B2 - Automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plate - Google Patents
Automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plateInfo
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- JP3108237B2 JP3108237B2 JP2028793A JP2028793A JP3108237B2 JP 3108237 B2 JP3108237 B2 JP 3108237B2 JP 2028793 A JP2028793 A JP 2028793A JP 2028793 A JP2028793 A JP 2028793A JP 3108237 B2 JP3108237 B2 JP 3108237B2
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Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、感光性平版印刷版を搬
送しながら現像部、リンス部を通過させて処理する感光
性平版印刷版の自動現像機に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an automatic photosensitive lithographic printing plate developing machine for processing a photosensitive lithographic printing plate by passing it through a developing section and a rinsing section while transporting the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】感光性平版印刷版を処理する感光性平版
印刷版自動現像機(以下「PS版プロセッサー」とい
う)では、一般に装置内でPS版を現像液に浸漬して現
像処理を行うか又は略水平搬送しながら現像処理した
後、リンス部においてリンス処理等の処理を行ってい
る。リンス処理は、現像処理後に行われる水洗水による
水洗処理とこの水洗処理後に行われるガム液による不感
脂化処理が一般的である。2. Description of the Related Art In a photosensitive lithographic printing plate automatic developing machine (hereinafter referred to as a "PS plate processor") for processing a photosensitive lithographic printing plate, generally, a PS plate is immersed in a developing solution in a device to carry out development processing. Alternatively, after performing the development processing while transporting substantially horizontally, processing such as rinsing processing is performed in the rinsing section. The rinsing treatment is generally a washing treatment with washing water performed after the development treatment and a desensitization treatment with a gum solution performed after the washing treatment.
【0003】焼付装置等で画像が記録されたPS版は、
このPS版プロセッサーへ送られ現像槽内を搬送されな
がら現像液に浸漬され、或いは現像液が画像記録面(表
面)に吹きつけられる等の種々の方法によって画像記録
面に現像液が供給され現像処理される。A PS plate on which an image has been recorded by a printing apparatus or the like,
The developing solution is supplied to the image recording surface by various methods such as being immersed in the developing solution while being sent to the PS plate processor while being transported in the developing tank, or spraying the developing solution onto the image recording surface (surface). It is processed.
【0004】現像処理されたPS版は、水洗部で水洗水
によって水洗された後(水洗処理)、不感脂化処理部で
ガム液が塗布されて版面保護され(不感脂化処理)、次
いで乾燥処理される。[0004] The developed PS plate is washed with washing water in a washing section (washing treatment), a gum solution is applied in a desensitizing section to protect the plate surface (desensitizing treatment), and then dried. It is processed.
【0005】一般に、現像液等の処理液は、外気に晒さ
れることにより疲労度が増加し(CO2 疲労)、現像能
力が低下する。現像液疲労度検出センサを用いて現像能
力を確認したり、正式にPS版を処理する前にテスト的
にPS版を通すことによって現像液の現像能力を確認し
たりする方法があるが、これらの方法によって現像液の
現像能力を知り、この結果、現像能力の低下が早い場合
は、補充液の補充時期を早めることになり、補充液の消
費量が増大する。このため、例えば、特開平3−878
33号公報に開示されているように、現像液を貯留して
いる現像槽の液面に浮き蓋等を配設して、外気との接触
を軽減することが考えられているが、浮き蓋と現像槽壁
との間等を必ずしも完全に密閉することができず、上記
浮き蓋のみでは、隙間が多く存在し、不十分である。ま
た、自動現像機には、現像液を加温する発熱部があり、
現像液中の水分の蒸発がかなり多い。その結果、搬送ロ
ーラへの現像液成分の析出、搬送ローラによりPS版を
搬送するときの版上への析出物の転写、スプレーパイプ
の孔のつまり、現像液の濃度変化等が発生し、保守が大
変であった。また、ガム液等の処理液の水分の蒸発によ
る処理液の濃度変化が大きく、自動制御による補充では
対応しきれずに、オペレータによる煩雑なマニュアル補
充を強いられることがある。In general, a processing solution such as a developing solution is exposed to the outside air, so that the degree of fatigue is increased (CO 2 fatigue) and the developing ability is reduced. There are methods to check the developing ability using a developer fatigue detection sensor, and to check the developing ability of the developer by passing the PS plate through a test before formally processing the PS plate. If the developing ability of the developing solution is known as a result, the replenishment time of the replenishing solution will be advanced, and the consumption of the replenishing solution will increase. For this reason, for example, Japanese Unexamined Patent Publication No.
As disclosed in Japanese Patent Publication No. 33-33, it has been considered to arrange a floating lid or the like on the liquid surface of a developing tank storing a developing solution to reduce the contact with the outside air. It is not always possible to completely seal the space between the container and the developing tank wall, and the above-mentioned floating lid alone has many gaps and is insufficient. Also, the automatic developing machine has a heating section for heating the developer,
The evaporation of water in the developer is considerable. As a result, precipitation of the developer component on the transport roller, transfer of the deposit on the plate when the PS plate is transported by the transport roller, changes in the concentration of the developer in the holes of the spray pipe, etc. occur, and maintenance is performed. Was difficult. Further, the concentration of the processing solution is largely changed due to evaporation of the water content of the processing solution such as a gum solution, and the replenishment by the automatic control cannot cope with the problem.
【0006】また、現像処理以外の水洗処理及び不感脂
化処理といったリンス処理においても、PS版を処理し
た後PS版表面が落下する処理液を貯留する大型の処理
液タンクを備え、大容量の送液ポンプで汲み上げて、ス
プレーパイプからPS版表面へ各処理液を噴射すること
により、処理する構造となっているため、処理液タンク
からの水分の蒸発によって、前記現像部と同様にスプレ
ーパイプの孔のつまり等が発生しており、保守が煩雑と
なっている。また、このような構造は装置を大型化する
要因の1つとなっている。Also, in a rinsing process such as a water washing process and a desensitizing process other than the developing process, a large processing solution tank for storing a processing solution in which the PS plate surface falls after the PS plate is processed is provided. Since the processing liquid is pumped up and the processing liquid is sprayed from the spray pipe to the PS plate surface, the processing is performed. Therefore, the evaporation of the water from the processing liquid tank causes the spray pipe to flow in the same manner as the developing section. The holes are clogged, and maintenance is complicated. Further, such a structure is one of the factors for increasing the size of the device.
【0007】これを解消するために、処理部回りをケー
シングで覆い、PS版の挿入口及び排出口に、通常は弾
性力で当接し合ってこの挿入口及び排出口を閉塞する一
対のブレードをそれぞれ取付け、挿入口及び排出口から
の外気の侵入を防止するようにした構成が既に考えられ
ている(一例として特開平3−231245号公報参
照)。[0007] In order to solve this problem, a casing around the processing section is covered with a casing, and a pair of blades for closing the insertion port and the discharge port by normally abutting against the insertion port and the discharge port of the PS plate by elastic force. A configuration has already been considered in which external air is prevented from entering through the mounting and insertion ports and the discharge port (for example, see JP-A-3-231245).
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記ブ
レードによって挿入口及び排出口からの外気の侵入は阻
止できるが、各処理部(現像部、水洗部、不感脂化処理
部)間は、依然として開放されたままの状態であり、蒸
発防止効果が十分とはいえず、搬送ローラにせきしゅつ
した現像液成分のPS版上への転写、スプレーパイプの
孔のつまり、現像液の濃度変化等によりPS版を安定に
仕上げることができないということがあった。また、水
洗舞踏のリンス部においてもPS版を処理したリンス液
を貯留する大型の処理液タンクを備え、大容量の送液ポ
ンプで汲み上げて処理液をPS版に向けて噴射するスプ
レーパイプ等が必要となりそうちが大型化してしまうと
いうことがあった。However, the blade can prevent the intrusion of outside air from the insertion port and the discharge port, but the processing sections (developing section, washing section, desensitizing section) are still open. In this state, the effect of preventing evaporation cannot be said to be sufficient, and the developer component transferred to the conveying roller is transferred onto the PS plate. In some cases, the plate could not be finished stably. In addition, the rinse part of the water-washing stage also has a large processing liquid tank that stores the rinsing liquid that has been processed for the PS plate, and a spray pipe that pumps up the processing liquid toward the PS plate after pumping it up with a large-capacity liquid feed pump. In some cases, it became necessary to increase the size.
【0009】なお、不感脂化処理が終了し面が濡れた状
態で装置から排出される感光性平版印刷版が、前記ブレ
ード等に接触することは感光性平版印刷版の面質上好ま
しくないが、上記先行技術には、この点は考慮されてい
ない。[0009] It is not preferable in terms of the surface quality of the photosensitive lithographic printing plate that the photosensitive lithographic printing plate discharged from the apparatus after the desensitization treatment is completed and the surface is wet is brought into contact with the blade or the like. The above prior art does not take this point into account.
【0010】本発明は上記事実を考慮し、ケーシング
と、前記ブレード及び仕切板か又は仕切板によって各処
理部を取り囲んで外気の侵入を阻止して処理の安定性を
向上させると共に処理液の廃棄量を軽減して装置の小型
化を図り、かつメンテナンス作業を向上させることがで
きる感光性平版印刷版の自動現像機を得ることが目的で
ある。In view of the above facts, the present invention improves the stability of processing by enclosing each processing section with the casing, the blade and the partition plate or the partition plate to prevent the invasion of outside air, and disposes of the processing liquid. It is an object of the present invention to provide an automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate capable of reducing the amount of the apparatus, reducing the size of the apparatus, and improving the maintenance work.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、感光性平版印刷版を搬送しながら現像液によって処
理する処理部の一つである現像部と、前記感光性平版印
刷版を搬送しながらリンス液を前記感光性平版印刷版の
一方の面に供給して処理すると共に前記一方の面から落
下するリンス液を貯留しこれによって前記感光性平版印
刷版の他方の面を処理した後、該リンス液を排出するリ
ンス部と、前記感光性平版印刷版の通過に支障のないよ
うに仕切る仕切板を設けた挿入口及び排出口を備え少な
くとも前記現像部又はリンス部を含む前記感光性平版印
刷版の処理領域を囲んで少なくとも前記現像液又はリン
ス液が外気に晒されることを抑止するケーシングと、を
有している。According to a first aspect of the present invention, there is provided a photosensitive lithographic printing plate comprising: a developing unit which is one of processing units for processing the photosensitive lithographic printing plate with a developer while transporting the photosensitive lithographic printing plate; A rinsing liquid was supplied to one surface of the photosensitive lithographic printing plate while being transported and processed, and a rinsing liquid falling from the one surface was stored, thereby processing the other surface of the photosensitive lithographic printing plate. Thereafter, a rinsing section for discharging the rinsing liquid, and an insertion port and a discharge port provided with a partition plate for partitioning the photosensitive lithographic printing plate so as not to hinder the photosensitive lithographic printing plate. A casing surrounding the processing area of the lithographic printing plate to prevent at least the developing solution or the rinsing solution from being exposed to the outside air.
【0012】請求項2に記載の発明は、前記リンス部か
ら前記現像部へ供給する前記リンス液が水であり、該水
を前記現像部へ補充する補充原液の希釈水として用いる
ことを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, the rinsing liquid supplied from the rinsing section to the developing section is water, and the rinsing liquid is used as dilution water for a replenisher stock solution for replenishing the developing section with the water. I have.
【0013】請求項3に記載の発明は、前記処理領域を
前記処理部毎のブロック又は複数の前記処理部を組み合
わせたブロックに分割し、前記感光性平版印刷版の通過
に支障のないように前記ブロック間を仕切る仕切板を設
けたことを特徴としている。According to a third aspect of the present invention, the processing area is divided into blocks for each of the processing units or blocks obtained by combining a plurality of the processing units so that passage of the photosensitive lithographic printing plate is not hindered. A partition plate for partitioning between the blocks is provided.
【0014】請求項4に記載の発明は、感光性平版印刷
版を搬送しながら処理部である少なくとも現像部又はリ
ンス部を通過させて処理する感光性平版印刷版の自動現
像機であって、前記感光性平版印刷版の挿入口及び排出
口を備え少なくとも前記現像部又はリンス部を含む前記
感光性平版印刷版の処理領域を囲んで少なくとも現像液
又はリンス液が外気に晒されることを抑止するケーシン
グと、前記処理領域を前記処理部毎のブロック又は複数
の前記処理部を組み合わせたブロックに分割し、これら
のブロック間及び前記感光性平版印刷版の前記挿入口と
排出口に設けて前記感光性平版印刷版の通過に支障のな
いように前記挿入口と排出口及び各ブロック間を仕切る
仕切板と、前記仕切板を閉止位置及び開放位置へ移動可
能とする移動手段と、を有している。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided an automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate, wherein the photosensitive lithographic printing plate is processed by passing the photosensitive lithographic printing plate through at least a developing unit or a rinsing unit. The photosensitive lithographic printing plate is provided with an insertion port and a discharge port for the photosensitive lithographic printing plate, and at least includes a developing section or a rinsing section. The casing and the processing area are divided into blocks for each of the processing units or blocks obtained by combining a plurality of the processing units, and provided between these blocks and at the insertion port and the discharge port of the photosensitive lithographic printing plate. A partition plate for partitioning the insertion port, the discharge port, and each block so as not to hinder the passage of the lithographic printing plate; and a moving means for moving the partition plate to a closed position and an open position. , The has.
【0015】請求項5に記載の発明は、感光性平版印刷
版を搬送しながら少なくとも現像液によって処理する感
光性平版印刷版の自動現像機であって、前記感光性平版
印刷版の挿入口及び排出口を備え少なくとも前記感光性
平版印刷版を前記現像液によって処理する現像部を囲ん
で少なくとも前記現像液が外気に晒されることを抑止す
るケーシングと、前記感光性平版印刷版の挿入口及び排
出口を設けて前記感光性平版印刷版の通過に支障のない
ように前記挿入口及び排出口を仕切る仕切板と、前記感
光性平版印刷版を前記現像液によって処理した後リンス
液によって処理するリンス部から前記現像部へ供給する
前記リンス液が水であり、該水を前記現像部へ補充する
補充原液の希釈水として前記現像部へ供給するリンス液
供給手段と、を有している。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an automatic photosensitive lithographic printing plate developing machine for processing a photosensitive lithographic printing plate with at least a developer while transporting the photosensitive lithographic printing plate. A casing provided with a discharge port and surrounding at least a developing section for processing the photosensitive lithographic printing plate with the developer, to prevent at least the developer from being exposed to the outside air; and an insertion port and a discharge port for the photosensitive lithographic printing plate. A partition plate provided with an outlet to partition the insertion opening and the discharge opening so as not to hinder the passage of the photosensitive lithographic printing plate; and a rinse for treating the photosensitive lithographic printing plate with the developing solution and then a rinsing solution. And a rinsing liquid supply means for supplying to the developing section as dilution water of a replenisher stock solution for replenishing the water to the developing section. To have.
【0016】請求項6に記載の発明は、前記排出口に設
けられた仕切板を、前記感光性平版印刷版の通過時に
は、前記感光性平版印刷版と非接触の位置に退避するこ
とを特徴としている。According to a sixth aspect of the present invention, the partition plate provided at the discharge port is retracted to a position not in contact with the photosensitive lithographic printing plate when passing through the photosensitive lithographic printing plate. And
【0017】[0017]
【作用】請求項1に記載の発明によれば、リンス液を感
光性平版印刷版の一方の面(上面)に供給して処理し、
その後、この感光性平版印刷版の一方の面(上面)から
落下するリンス液を貯留してこの貯留したリンス液によ
って感光性平版印刷版の他方の面(下面)を処理する。According to the first aspect of the present invention, a rinsing liquid is supplied to one surface (upper surface) of the photosensitive lithographic printing plate and processed.
Thereafter, a rinsing liquid that falls from one surface (upper surface) of the photosensitive lithographic printing plate is stored, and the other surface (lower surface) of the photosensitive lithographic printing plate is treated with the stored rinsing liquid.
【0018】感光性平版印刷版の他方の面を処理したリ
ンス液は排出され、感光性平版印刷版に供給するリンス
液量が少量(必要最小限の量)に設定されているため、
リンス液の排出量は僅かとなる。The rinsing liquid obtained by treating the other side of the photosensitive lithographic printing plate is discharged, and the amount of the rinsing liquid supplied to the photosensitive lithographic printing plate is set to a small amount (required minimum amount).
The discharge amount of the rinsing liquid is small.
【0019】一方、処理部は少なくとも現像液又はリン
ス液が外気に晒されることを抑止するケーシングで覆わ
れ、このケーシングの挿入口及び排出口は仕切板によっ
て仕切られて密閉されているため、各処理液の蒸発量を
抑制することができ、搬送系(例えば、ローラ)や処理
液供給系(例えば、スプレーパイプ)等に析出物が固着
して、感光性平版印刷版の画像を悪化させることが防止
できる。On the other hand, the processing section is covered with a casing for preventing at least the developing solution or the rinsing solution from being exposed to the outside air, and the insertion port and the discharge port of the casing are separated by a partition plate and are sealed. The amount of evaporation of the processing liquid can be suppressed, and deposits adhere to a transport system (for example, a roller) or a processing liquid supply system (for example, a spray pipe), thereby deteriorating the image of the photosensitive lithographic printing plate. Can be prevented.
【0020】このように、リンス液を循環利用するため
のタンクを廃し、かつ仕切板を設けたケーシングによっ
て少なくとも現像液又はリンス液が外気に晒されること
を抑止したので、処理液の蒸発量を大幅に軽減すること
ができるため、処理の安定性を向上することができると
共にメンテナンス性を向上することができる。As described above, the tank for circulating and using the rinsing liquid is eliminated, and at least the developing solution or the rinsing liquid is prevented from being exposed to the outside air by the casing provided with the partition plate. Since it can be greatly reduced, the stability of the processing can be improved and the maintainability can be improved.
【0021】請求項2に記載の発明によれば、リンス部
で感光性平版印刷版の一方の面をリンス液によって処理
した後、落下した後貯留したリンス液によって他方の面
を処理し、現像部へ補充する補充原液の希釈水として、
リンス部から供給されるこのリンス液を水とした。これ
により、感光性平版印刷版の処理に用いるリンス液とし
ての水の廃棄量を軽減することができ、補充原液の希釈
水の使用量を軽減することができる。According to the second aspect of the present invention, after one surface of the photosensitive lithographic printing plate is treated with the rinsing liquid in the rinsing section, the other surface is treated with the rinsing liquid stored after dropping, and developed. As the dilution water for the replenisher stock solution
This rinse liquid supplied from the rinse section was used as water. This makes it possible to reduce the amount of water used as a rinsing liquid for the processing of the photosensitive lithographic printing plate, and to reduce the amount of dilution water used as a stock replenisher.
【0022】請求項3に記載の発明によれば、上記仕切
板を設けた挿入口及び排出口を備えたケーシングによっ
て大幅な処理液の蒸発の軽減を図ることができるもの
の、感光性平版印刷版の搬送に伴って(例えば、感光性
平版印刷版の挿入や排出時に開口される)、処理液は多
少は蒸発する。また、感光性平版印刷版を処理しないと
きでも、上記ケーシングによって覆われる範囲が広いの
で、処理液の多少の蒸発が生ずることがある。そこで、
前記処理領域を前記処理部毎のブロック又は複数の処理
部を組み合わせたブロックに分割し、これらのブロック
間に仕切板を配することにより、処理部毎の小範囲の空
間にして処理液の蒸発を抑えることができ、処理液がそ
れぞれ蒸発して混ざり合い、結露となって処理槽へ戻さ
れることを防止することができる。According to the third aspect of the invention, the photosensitive lithographic printing plate can be largely reduced in evaporation of the processing liquid by the casing having the insertion port and the discharge port provided with the partition plate. (For example, when the photosensitive lithographic printing plate is inserted or ejected), the processing liquid evaporates to some extent. Further, even when the photosensitive lithographic printing plate is not processed, the processing liquid may slightly evaporate because the area covered by the casing is wide. Therefore,
The processing region is divided into blocks for each of the processing units or blocks obtained by combining a plurality of processing units, and a partition plate is arranged between these blocks to form a small-range space for each processing unit to evaporate the processing liquid. And it is possible to prevent the processing liquids from evaporating and mixing with each other to form dew and return to the processing tank.
【0023】請求項4に記載の発明によれば、仕切板を
閉止位置又は開放位置間で可動とすることにより、各ブ
ロック間及び感光性平版印刷版の挿入口と排出口に備え
た仕切板を開放位置にすることにより、外気の導入を行
うことができる。ここで、仕切板を適切な開放位置にす
ることにより、結露防止や意図的に補充量を増やしたい
場合に対処することができる。According to the fourth aspect of the present invention, the partition plate is movable between the closed position and the open position, so that the partition plate is provided between the blocks and at the insertion port and the discharge port of the photosensitive lithographic printing plate. , The outside air can be introduced. Here, by setting the partition plate at an appropriate open position, it is possible to cope with the case where it is desired to prevent dew condensation or intentionally increase the replenishing amount.
【0024】請求項5に記載の発明によれば、少なくと
も現像液が外気に晒されることを抑止するケーシング
と、感光性平版印刷版の挿入口と排出口に設けた仕切板
によって少なくとも現像部を密閉することにより、現像
液等の処理液の外気に晒されることによる疲労(O2 疲
労)を大幅に軽減することができ、また、現像液等の処
理液の蒸発量を大幅に軽減することができるため、処理
の安定性の向上とメンテナンス性の向上を図ることがで
きる。According to the fifth aspect of the present invention, at least the developing section is formed by the casing for suppressing at least the developing solution from being exposed to the outside air and the partition plates provided at the insertion opening and the discharge opening of the photosensitive lithographic printing plate. By sealing, fatigue (O 2 fatigue) due to exposure of a processing solution such as a developer to the outside air can be greatly reduced, and the amount of evaporation of the processing solution such as a developer can be significantly reduced. Therefore, it is possible to improve the stability of the processing and the maintainability.
【0025】また、リンス部で感光性平版印刷版を処理
したリンス液を水として、この水を現像部へ補充する補
充原液の希釈水として現像部へ供給するリンス液供給手
段を設けたので、補充原液の希釈水を供給する装置の小
型感光性平版印刷版を図ることができる。Further, since the rinsing liquid obtained by treating the photosensitive lithographic printing plate in the rinsing section is used as water, and the rinsing liquid supply means for supplying the developing section with dilution water for a replenishing stock solution for replenishing the water to the developing section is provided. A small photosensitive lithographic printing plate of a device for supplying dilution water of a replenishing stock solution can be obtained.
【0026】請求項6に記載の発明によれば、排出口に
配設された仕切板は、常時は閉状態であり、感光性平版
印刷版がケーシング内から排出されるときは開放状態と
されているため、感光性平版印刷版はこの蓋体とは非接
触で排出口から排出される。すなわち、感光性平版印刷
版の感光面に形成された画像を損傷する等の不具合がな
くなる。According to the sixth aspect of the present invention, the partition plate provided at the discharge port is normally closed, and is opened when the photosensitive lithographic printing plate is discharged from the casing. Therefore, the photosensitive lithographic printing plate is discharged from the discharge port without contacting the lid. That is, problems such as damage to an image formed on the photosensitive surface of the photosensitive lithographic printing plate are eliminated.
【0027】[0027]
【実施例】図1及び図2には、本実施例に係る感光性平
版印刷版自動現像機(以下「PS版プロセッサー」と言
う)10が示されている。PS版プロセッサー10は、
図示しない焼付装置によって画像が焼付けられた感光性
平版印刷版(以下「PS版」と言う)12をこのPS版
プロセッサー10で現像処理した後に乾燥するようにな
っている。1 and 2 show a photosensitive lithographic printing plate automatic developing machine (hereinafter referred to as "PS plate processor") 10 according to this embodiment. PS version processor 10,
A photosensitive lithographic printing plate (hereinafter, referred to as “PS plate”) 12 on which an image is printed by a printing device (not shown) is developed by the PS plate processor 10 and then dried.
【0028】図1に示されるように、PS版プロセッサ
ー10は、内部の処理部が外板パネル14で覆われてい
る。外板パネル14には、PS版12(図2参照)を内
方へ送り込むための挿入台16が取り付けられている。
PS版12は、この挿入台16に載置されて挿入台16
の奥側の開口から外板パネル14内部へ挿入される。As shown in FIG. 1, the PS plate processor 10 has an internal processing unit covered with an outer panel 14. An insert 16 for feeding the PS plate 12 (see FIG. 2) inward is attached to the outer panel 14.
The PS plate 12 is placed on the insertion table 16 and
Is inserted into the inside of the outer panel 14 from the opening on the back side of the panel.
【0029】外板パネル14の内部には、図2に示され
る如く、PS版12を現像処理するための現像槽18及
び現像槽18からオーバーフローした現像液を回収する
オーバーフロー管20を備えた現像部22と、PS版1
2に付着した現像液を水洗して水洗処理する水洗部24
と、水洗後のPS版12にガム液を塗布して不感脂化処
理するフィニッシャー部26と、が配設されている。As shown in FIG. 2, a developing tank 18 for developing the PS plate 12 and an overflow pipe 20 for collecting a developing solution overflowing from the developing tank 18 are provided inside the outer panel 14. Part 22 and PS version 1
A washing section 24 for washing the developer adhering to 2 with water and washing with water;
And a finisher unit 26 for applying a gum solution to the PS plate 12 after washing with water to perform a desensitization treatment.
【0030】なお、水洗部24には、水洗槽28が配設
され、フィニッシャー部26には、ガム液槽30が配設
されている。The washing section 24 is provided with a washing tank 28, and the finisher section 26 is provided with a gum solution tank 30.
【0031】外板パネル14には、スリット状の挿入口
102及び排出口104がそれぞれ設けられ、挿入口1
02は、前記挿入台16の奥側開口と対応して設けられ
ている。一方、排出口104は、図1に示される如く、
フィニッシャー部26の下流側に設けられた乾燥部31
の入口と対応して設けられている。The outer panel 14 is provided with a slit-shaped insertion port 102 and a discharge port 104, respectively.
02 is provided corresponding to the back side opening of the insertion table 16. On the other hand, as shown in FIG.
Drying section 31 provided downstream of finisher section 26
Is provided corresponding to the entrance.
【0032】外板パネル14の上面には、現像部22と
水洗部24との間にPS版12を挿入するリエントリー
用挿入口(副挿入口)150が設けられている。この副
挿入口150からは、現像処理を除く処理を行うための
PS版12の挿入口とされている。On the upper surface of the outer panel 14, an insertion port (sub-insertion port) 150 for inserting the PS plate 12 between the developing section 22 and the washing section 24 is provided. The sub-insertion port 150 serves as an insertion port for the PS plate 12 for performing processing other than development processing.
【0033】この副挿入口150には、仕切板としてブ
レード152が配設されている。ブレード152は、ゴ
ム製で先端部が副挿入口150の案内支持面とされる外
板パネル14に接触され、基部がブラケット154を介
して外板パネル14の裏面側に固定されている。このた
め、副挿入口150は、ブレード152によって閉塞さ
れた状態となる。ここで、リエントリーされるPS版1
2が副挿入口150から挿入されると、ブレード152
は弾性変形してこのPS版12の挿入を妨げることはな
い。A blade 152 is provided in the sub insertion slot 150 as a partition plate. The blade 152 is made of rubber, and its tip is in contact with the outer panel 14 serving as a guide support surface of the sub-insertion port 150, and its base is fixed to the back side of the outer panel 14 via a bracket 154. Therefore, the sub insertion port 150 is closed by the blade 152. Here, PS version 1 to be re-entered
2 is inserted from the sub insertion slot 150, the blade 152
Does not hinder insertion of the PS plate 12 due to elastic deformation.
【0034】乾燥部31は、図示しない多数のローラに
よって、フィニッシャー部26から送り出されたPS版
12(図2参照)を搬送しながら、このPS版12の両
面に温風を吹きつけて乾燥するようになっている。乾燥
されたPS版12は、PS版プロセッサー10から排出
されて、例えば、PS版12を立て掛けて貯版するスト
ッカー(図示省略)等に排出される。The drying section 31 is dried by blowing warm air on both sides of the PS plate 12 while conveying the PS plate 12 (see FIG. 2) sent from the finisher section 26 by a number of rollers (not shown). It has become. The dried PS plate 12 is discharged from the PS plate processor 10 and discharged to, for example, a stocker (not shown) that leans on the PS plate 12 and stores the plate.
【0035】図2に示される如く、現像部22の現像槽
18へのPS版12の挿入側には、一対の搬送ローラ3
2が配設されており、この一対の搬送ローラ32の間に
画像が焼付けられたPS版12が挿入口102から挿入
されるようになっている。一対の搬送ローラ32は、P
S版12を水平方向に対して15°の角度で現像槽18
へ向けて送り出すようになっている。As shown in FIG. 2, a pair of transport rollers 3 is provided on the side of the developing section 22 where the PS plate 12 is inserted into the developing tank 18.
The PS plate 12 on which an image is printed is inserted between the pair of transport rollers 32 from the insertion slot 102. The pair of transport rollers 32
The S plate 12 is placed in the developing tank 18 at an angle of 15 ° with respect to the horizontal direction.
To be sent out.
【0036】搬送ローラ32の下流側近傍には、ゴム製
ブレード106が取付けられている。ブレード106
は、その先端部が現像部22の現像槽18の側壁に接触
されており、基部がブラケット156を介して外板パネ
ル14に取付けられている。ブラケット156は、固定
部156Aと固定部に蝶ねじ158で取付けられたスラ
イド部156Bとによって構成され、ブレード106は
スライド部156Bに固着されている。このため、ブレ
ード106は、蝶ねじ158を緩めスライド部156B
を固定部156Aに対してスライドさせることにより、
先端部を現像槽18の側壁から離反させることができる
構成となっている。A rubber blade 106 is mounted near the downstream side of the transport roller 32. Blade 106
The front end portion is in contact with the side wall of the developing tank 18 of the developing section 22, and the base portion is attached to the outer panel 14 via a bracket 156. The bracket 156 includes a fixed portion 156A and a slide portion 156B attached to the fixed portion with a thumbscrew 158, and the blade 106 is fixed to the slide portion 156B. For this reason, the blade 106 loosens the thumb screw 158 and slides 156B.
By sliding with respect to the fixing portion 156A,
The configuration is such that the tip can be separated from the side wall of the developing tank 18.
【0037】ここで、通常はブレード106の先端は、
現像槽18の側壁へ接触されており、PS版12が挿入
口102へ搬送されてくると、このPS版12の搬送時
の押圧力によってブレード106は、弾性力に抗して拡
開される構成となっている。このため、PS版12を円
滑に現像部22へ送り込むことができる。Here, the tip of the blade 106 is usually
When the PS plate 12 is in contact with the side wall of the developing tank 18 and is conveyed to the insertion slot 102, the blade 106 is expanded against the elastic force by the pressing force at the time of conveying the PS plate 12. It has a configuration. Therefore, the PS plate 12 can be smoothly sent to the developing unit 22.
【0038】また、この挿入口102の近傍には、PS
版12の有無を検出するセンサ108が取付けられてい
る。このセンサ108によってPS版12が装置内に存
在することが認識できる。In the vicinity of the insertion port 102, a PS
A sensor 108 for detecting the presence or absence of the plate 12 is attached. The sensor 108 can recognize that the PS plate 12 exists in the apparatus.
【0039】現像槽18は上方が開口され底部中央部が
下方に向けて突出された略逆山形状とされている。この
現像槽18内には、ポンプ160が設けられ、このポン
プ160によって現像槽18内の現像液が吸い出され、
後述のスプレーパイプ44、172から噴出されるよう
になっている。これにより、現像槽18内に貯留された
現像液は循環されるようになっている。この循環中に現
像液の疲労度(現像液の交流インピーダンス)を計測す
る計測器162を通過するようになっており、現像液の
疲労度が検出される。また、現像槽18には、ポンプ1
64を介して現像補充原液タンク166から補充原液が
供給されるようになっている。The developing tank 18 has a substantially inverted mountain shape with an opening at the top and a center at the bottom protruding downward. A pump 160 is provided in the developing tank 18, and the developing solution in the developing tank 18 is sucked out by the pump 160,
The fuel is ejected from spray pipes 44 and 172 described later. Thereby, the developer stored in the developing tank 18 is circulated. During this circulation, it passes through a measuring device 162 that measures the degree of fatigue of the developer (AC impedance of the developer), and the degree of fatigue of the developer is detected. The developing tank 18 includes a pump 1.
A replenishing stock solution is supplied from the developing replenishing stock tank 166 via the line 64.
【0040】現像槽18内には、上流側にガイド板16
8、下流側に多数のガイドローラ34及び回転ブラシロ
ーラ170が配設されている。これらのガイドローラ3
4及び回転ブラシローラ170は、現像槽18の一対の
側板の間に回転可能に掛け渡されている。In the developing tank 18, the guide plate 16 is provided on the upstream side.
8. A large number of guide rollers 34 and rotating brush rollers 170 are provided on the downstream side. These guide rollers 3
4 and the rotating brush roller 170 are rotatably extended between a pair of side plates of the developing tank 18.
【0041】前記ガイド板168の上方には、比較的大
径のガイドローラ36が、ガイドローラ34の上方に
は、回転ブラシローラ38、70及びガイドローラ40
が各々配設され、現像槽18の一対の側板の間に回転可
能に支持されている。Above the guide plate 168, a relatively large-diameter guide roller 36 is provided. Above the guide roller 34, rotating brush rollers 38 and 70 and a guide roller 40 are provided.
Are provided and rotatably supported between a pair of side plates of the developing tank 18.
【0042】また、現像槽18内の中央部には、PS版
12の表面をスクイズする機能を備えた一対の絞りロー
ラ42が配設されている。これらのガイドローラ34、
36、40、回転ブラシローラ38及び絞りローラ42
には、図示しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転
し、PS版12を一定速度で搬送する。A pair of squeezing rollers 42 having a function of squeezing the surface of the PS plate 12 are provided at a central portion in the developing tank 18. These guide rollers 34,
36, 40, rotating brush roller 38 and squeezing roller 42
, A driving force of a driving unit (not shown) is transmitted to rotate and convey the PS plate 12 at a constant speed.
【0043】なお、現像槽18の底部近傍では、一対の
絞りローラ42、これに隣接する複数のガイドローラ3
4、ガイド板168によって、PS版12を300〜3
50mmの曲率半径で搬送するように配置されている。し
たがって、一対の搬送ローラ32に挟持搬送されて現像
槽18へ挿入されたPS版12は、ガイド板168とガ
イドローラ36との間を通って斜めに搬送され、絞りロ
ーラ42の間へ挿入される。絞りローラ42は、PS版
12の感光層側(図2の紙面上方側)から現像液中に溶
出した老廃物をその表面から除去し、老廃物がPS版1
2の移動と共に下流側へ搬送されないように隔離する。In the vicinity of the bottom of the developing tank 18, a pair of squeezing rollers 42 and a plurality of guide rollers 3 adjacent thereto are provided.
4. The PS plate 12 is 300 to 3 by the guide plate 168.
It is arranged to convey with a radius of curvature of 50 mm. Therefore, the PS plate 12 nipped and transported by the pair of transport rollers 32 and inserted into the developing tank 18 is obliquely transported between the guide plate 168 and the guide roller 36 and is inserted between the squeeze rollers 42. You. The squeezing roller 42 removes waste materials eluted into the developer from the photosensitive layer side of the PS plate 12 (upper side in FIG. 2) from the surface thereof.
Isolate so that it will not be transported downstream with the movement of 2.
【0044】絞りローラ42から送り出されたPS版1
2は、ガイドローラ34によって斜め上方へ向けられ、
回転ブラシローラ38、ガイドローラ40によって案内
されて現像槽18から排出される。これによって、PS
版12は無理な力が加えられことなく滑らかにかつ確実
に現像液に浸漬されながら搬送される。PS plate 1 sent out from squeeze roller 42
2 is directed obliquely upward by the guide roller 34,
The toner is discharged from the developing tank 18 while being guided by the rotating brush roller 38 and the guide roller 40. By this, PS
The plate 12 is conveyed smoothly and reliably immersed in the developer without applying excessive force.
【0045】絞りローラ42の下流側の最も接近したス
プレーパイプ44はその外周に弾性回転部材が複数個軸
支された串型ローラ形状とされ、PS版12を案内する
役目も有しており、弾性回転部材の間にパイプの外周と
内部とを連通するで吐出口(図示省略)が設けられてい
る。また、ガイド板168の下方には、スプレーパイプ
172が配設されている。スプレーパイプ172は中空
パイプの外周面に軸方向に沿って内部と連通する図示し
ない多数の吐出口が設けられ、軸方向が搬送路の幅方向
に沿うように配置されている。これらのスプレーパイプ
172及びスプレーパイプ44は、現像液を現像槽18
の底面に向けて吐出するようになっており、新鮮な現像
液が速やかに現像槽18全体に行き渡るようになってい
る。The spray pipe 44 closest to the downstream side of the squeezing roller 42 is shaped like a skewer roller having a plurality of elastic rotating members supported on its outer periphery, and also has a role of guiding the PS plate 12. A discharge port (not shown) is provided between the elastic rotating members to communicate the outer circumference and the inside of the pipe. Further, a spray pipe 172 is provided below the guide plate 168. The spray pipe 172 is provided with a large number of discharge ports (not shown) communicating with the inside along the axial direction on the outer peripheral surface of the hollow pipe, and is arranged so that the axial direction is along the width direction of the transport path. The spray pipe 172 and the spray pipe 44 supply the developing solution to the developing tank 18.
Is discharged toward the bottom surface of the developing tank 18, so that a fresh developing solution can quickly spread throughout the developing tank 18.
【0046】現像槽18の最下流側には、前記オーバフ
ロー管20が配設され、現像液の液面が所定のレベルを
超えると、現像液を廃液タンク184へ案内して廃棄す
るようになっている。The overflow pipe 20 is provided at the most downstream side of the developing tank 18, and when the liquid level of the developing solution exceeds a predetermined level, the developing solution is guided to a waste liquid tank 184 and discarded. ing.
【0047】現像槽18内の現像液表面には、液面蓋5
0が配置されている。この液面蓋50は回転ブラシロー
ラ38とこれに隣接したガイドローラ40に対応する部
分が略円弧状に突出され、現像液表面と空気との接触を
できるだけ少なくするため現像液面に密着され、現像液
の増減に応じて上下するように、この液面蓋50のPS
版12の搬送方向の両端が図示しない側板んイスライド
可能な構造によって取付けられている。材質としてはポ
リ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリアミド等の軽量な材
質が選ばれる。The surface of the developing solution in the developing tank 18 is
0 is arranged. The liquid level cover 50 has a portion corresponding to the rotary brush roller 38 and the guide roller 40 adjacent thereto projected in a substantially arc shape, and is in close contact with the developer surface in order to minimize the contact between the developer surface and air. The PS of the liquid surface cover 50 is raised and lowered according to the increase and decrease of the developer.
Both ends of the plate 12 in the transport direction are attached by a side plate (not shown) which can be slid. As the material, a lightweight material such as polyvinyl chloride, polyethylene, and polyamide is selected.
【0048】この液面蓋50の搬送方向下流側端には、
ブレード174の先端が接触されている。このブレード
174はゴム製でブラケット176を介して外板パネル
14に固定されている。このブレード174によって液
面蓋50の搬送方向下流端から露出する現像液の液面
と、液面蓋50の上方との間が仕切られ、前記挿入口1
02の近傍のブレード106(現像槽18の側壁と接触
した状態)とによって、液面蓋50の上方は外気とは完
全に隔離されることになり、現像液の蒸発を抑制するこ
とができる。At the downstream end of the liquid level cover 50 in the transport direction,
The tip of the blade 174 is in contact. The blade 174 is made of rubber and fixed to the outer panel 14 via a bracket 176. The blade 174 separates the liquid level of the developer exposed from the downstream end of the liquid level cover 50 in the transport direction from above the liquid level lid 50, and
By the blade 106 near the surface 02 (in a state of contact with the side wall of the developing tank 18), the upper part of the liquid level cover 50 is completely isolated from the outside air, and the evaporation of the developing solution can be suppressed.
【0049】現像槽18の搬送方向の最下流側には、P
S版12を挟持して搬送すると共に、PS版12の表面
から現像液を絞り取るローラ対54が配置されている。At the most downstream side in the transport direction of the developing tank 18, P
A pair of rollers 54 is arranged to pinch and transport the S plate 12 and squeeze the developer from the surface of the PS plate 12.
【0050】一方、PS版プロセッサー10には、現像
部22の下流側に水洗部24の水洗槽28が配設されて
いる。水洗槽28の上方には、2対の搬送ローラ52、
53が配設されている。これらの搬送ローラ52、53
は、図示しない側板に回転可能に支持されており、図示
しない駆動手段の駆動力が伝達されて回転するようにな
っており、現像部22から送られたPS版12の搬送路
を形成している。On the other hand, in the PS plate processor 10, a washing tank 28 of the washing section 24 is provided downstream of the developing section 22. Above the washing tank 28, two pairs of transport rollers 52,
53 are provided. These transport rollers 52, 53
Is rotatably supported by a side plate (not shown), and is configured to rotate by transmitting a driving force of a driving unit (not shown), forming a transport path for the PS plate 12 sent from the developing unit 22. I have.
【0051】水洗槽28には、現像槽18から送り出さ
れたPS版12から現像液を洗い落とした後の水洗水が
貯留されている。搬送ローラ53の上流側、かつ搬送路
よりも上側には、スプレーパイプ56が配設されてお
り、このスプレーパイプ56の外周には内部と連通する
複数の吐出口が設けられている。スプレーパイプ56か
らは、水洗水タンク178からポンプ180によって汲
み上げられた水洗水が搬送ローラ53の上側のローラに
滴下され、搬送ローラ53が回転することによって、P
S版12の表面に水洗水が速やかに広がり、PS版12
の表面が水洗水によって洗浄される。The washing tank 28 stores washing water obtained by washing the developing solution from the PS plate 12 sent out from the developing tank 18. A spray pipe 56 is disposed on the upstream side of the transport roller 53 and above the transport path, and a plurality of discharge ports communicating with the inside are provided on the outer periphery of the spray pipe 56. From the spray pipe 56, the washing water pumped up by the pump 180 from the washing water tank 178 is dropped on the upper roller of the transport roller 53, and the transport roller 53 rotates, so that P
The washing water quickly spreads on the surface of the S plate 12 and the PS plate 12
Is washed with rinsing water.
【0052】また、搬送ローラ52、53の下側のロー
ラの下部は、受け皿62に収容されている。受け皿62
には、水洗水が貯留されるようになっており、下側のロ
ーラで汲み上げられて、PS版12の裏面を洗浄すると
共に上側の搬送ローラ52、53が乾くのを抑えてい
る。The lower portions of the lower rollers of the transport rollers 52 and 53 are accommodated in a tray 62. Saucer 62
, Washing water is stored therein, and is pumped up by a lower roller to clean the back surface of the PS plate 12 and to suppress drying of the upper transport rollers 52 and 53.
【0053】また、PS版12の表面上を幅方向へ拡散
した水洗水は、PS版12の幅方向両端部から下方の受
け皿62へ落ち、この受け皿62から汲み上げられた水
洗水によってPS版12の裏面が処理される構成となっ
ている。受け皿62から溢れた水洗水は水洗槽28へ案
内される。水洗槽28には、オーバフロー管182が配
設され、所定の液面を超えると、廃液タンク184へ廃
棄される。Further, the washing water diffused in the width direction on the surface of the PS plate 12 falls from both ends in the width direction of the PS plate 12 to a lower receiving tray 62, and is washed by the washing water pumped up from the receiving plate 62. Is processed. The washing water overflowing from the tray 62 is guided to the washing tank 28. An overflow pipe 182 is provided in the washing tank 28. When the overflow pipe 182 exceeds a predetermined liquid level, the overflow pipe 182 is discarded to a waste liquid tank 184.
【0054】また、この水洗槽28と現像槽18とは、
ポンプ186を介して連通されており、ポンプ186の
駆動によって、水洗槽28内の水洗水が現像槽18へ案
内され、現像槽18に補充原液を供給する際の希釈水と
して利用可能となっている。The washing tank 28 and the developing tank 18 are
The washing water in the washing tank 28 is guided to the developing tank 18 by the drive of the pump 186, and can be used as dilution water when supplying the replenishing stock solution to the developing tank 18 by driving the pump 186. I have.
【0055】図2に示される如く、不感脂化処理ぶであ
るフィニッシャー部26のガム液槽30の上方には、一
対の搬送ローラ78が設けられている。搬送ローラ53
によって送り出されたPS版12は、この搬送ローラ7
8へ案内されるようになっている。As shown in FIG. 2, a pair of transport rollers 78 is provided above the gum solution tank 30 of the finisher section 26 for desensitizing processing. Transport roller 53
The PS plate 12 sent out by the transport roller 7
8.
【0056】また、搬送ローラ78の上流側には、搬送
路の上下方向にスプレーパイプ82、188が配設され
ている。下側のスプレーパイプ188は、串型ローラ形
状とされ、PS版12を案内する役目も有している。こ
れらのスプレーパイプ82、188にも前記のスプレー
パイプ56と同様の外周に内部と連通する吐出口(図示
省略)が設けられている。このスプレーパイプ82、1
88からは、ガム液タンク190からポンプ192によ
って汲み上げられたガム液が吐出され、PS版12の表
面及び裏面に供給される。On the upstream side of the transport roller 78, spray pipes 82 and 188 are provided in the vertical direction of the transport path. The lower spray pipe 188 has a skewed roller shape, and also has a role of guiding the PS plate 12. Each of the spray pipes 82 and 188 is also provided with a discharge port (not shown) communicating with the inside on the same outer periphery as the spray pipe 56 described above. This spray pipe 82, 1
From 88, the gum solution pumped up by the pump 192 from the gum solution tank 190 is discharged and supplied to the front and back surfaces of the PS plate 12.
【0057】搬送ローラ78は、PS版12を挟持して
搬送すると共に、PS版12の表面を不感脂化処理する
ためにスプレーパイプ82によって供給されたガム液を
スクイズするようになっている。PS版12の表面から
スクイズされたガム液は、ガム液槽30に回収される。
ガム液槽30内のガム液は、ポンプ194によって循環
されるようになっている。また、このガム液槽30に
は、オーバフロー管196が設けられ、ガム液が所定の
液面を超えると廃液タンク184へ案内され廃棄される
構成となっている。The transport roller 78 nips and transports the PS plate 12 and squeezes the gum solution supplied by the spray pipe 82 to desensitize the surface of the PS plate 12. The gum solution squeezed from the surface of the PS plate 12 is collected in the gum solution tank 30.
The gum solution in the gum solution tank 30 is circulated by the pump 194. The gum solution tank 30 is provided with an overflow pipe 196 so that when the gum solution exceeds a predetermined liquid level, it is guided to the waste liquid tank 184 and discarded.
【0058】また、下側の搬送ローラ78の下部はガム
液槽30に貯留されたガム液に浸されており、PS版1
2の裏面側は、下側の搬送ローラ78が、ガム液槽30
からガム液を汲み上げることにより、塗布処理を行って
いる。これによって、搬送ローラ78がガム液を持ち出
してPS版12の裏面の不感脂化処理を行うと共に上側
の搬送ローラ78の乾きが抑えられ、搬送ローラ78の
表面に処理液の成分が析出しないようになっている。The lower portion of the lower conveying roller 78 is immersed in the gum solution stored in the gum solution tank 30, and the PS plate 1
2, the lower conveying roller 78 is connected to the gum solution tank 30.
The coating process is performed by pumping up the gum solution from Thereby, the conveying roller 78 takes out the gum solution, performs the desensitizing process on the back surface of the PS plate 12, suppresses the drying of the upper conveying roller 78, and prevents the components of the processing liquid from depositing on the surface of the conveying roller 78. It has become.
【0059】このフィニッシャー部26での処理が終了
したPS版12は、ケーシング100の排出口104を
通過して、前記乾燥部31へ送り出されるようになって
いる。The PS plate 12 that has been processed by the finisher 26 passes through the outlet 104 of the casing 100 and is sent to the drying unit 31.
【0060】ここで、排出口104には、仕切板として
の蓋体110が設けられている。この蓋体110は、平
板状とされ、上辺が軸線がPS版12の幅方向と平行と
された軸112に固着されている。このため、蓋体11
0は、軸112を中心に回動可能とされ、蓋体110が
垂直位置にあるときには、バネにより又は重力で前記排
出口104が閉塞されるようになっている。Here, the discharge port 104 is provided with a lid 110 as a partition plate. The lid 110 has a flat plate shape, and has an upper side fixed to a shaft 112 whose axis is parallel to the width direction of the PS plate 12. For this reason, the lid 11
Numeral 0 is rotatable about a shaft 112, and when the lid 110 is in the vertical position, the outlet 104 is closed by a spring or by gravity.
【0061】軸112は図示しない駆動手段で(例えば
ソレノイド)回動可能とされており、この軸112の回
動に伴って蓋体110は、略90°の範囲で揺動される
ようになっている。ここで、蓋体110が略水平位置に
あるときは、排出口104が開放されることになる。The shaft 112 is rotatable (for example, a solenoid) by driving means (not shown), and the cover 110 is swung within a range of approximately 90 ° with the rotation of the shaft 112. ing. Here, when the lid 110 is at a substantially horizontal position, the outlet 104 is opened.
【0062】この軸112の回転は、挿入口102の近
傍に設けられた前記センサ108によるPS版12の検
出に基づいてなされる。すなわち、センサ108でPS
版12を検出している間及び検出しなくなってから(後
端を検出してから)所定時間経過するまでの間は蓋体1
10は略水平(排出口104の開放状態)で保持され、
それ以外は垂直(排出口104の閉塞状態)とされるよ
うになっている。The rotation of the shaft 112 is performed based on the detection of the PS plate 12 by the sensor 108 provided near the insertion slot 102. That is, PS
While the plate 12 is being detected and after the plate 12 is no longer detected (after the rear end is detected) until a predetermined time has elapsed, the lid 1
10 is held substantially horizontally (the discharge port 104 is open),
Otherwise, it is vertical (the outlet 104 is closed).
【0063】このため、PS版12が排出口104を通
過する際には、このPS版12と蓋体110との接触は
一切ない。Therefore, when the PS plate 12 passes through the outlet 104, there is no contact between the PS plate 12 and the lid 110.
【0064】以下に本実施例の作用を説明する。まず、
現像槽18、水洗槽28、ガム液槽30等の処理槽は、
上蓋14、本体8等のケーシング100によって覆われ
ている。また、PS版プロセッサー10によって、PS
版12の現像処理が行われていない状態では、挿入口1
02は、ブレード106が現像槽18の側壁に接触し合
っているため、閉塞されている。一方、排出口104
は、センサ108でPS版12を検出していないので、
蓋体110が垂直状態とされ、この排出口104も閉塞
されている。さらに、副挿入口150もブレード152
によって閉塞され、現像部22の液面蓋50の上方もブ
レード106、152によって閉塞されている。このた
め、現像槽18内の現像液、水洗部24内の水洗水及び
フィニッシャー部26内のガム液は、外気に晒されるこ
とはなく、CO2 疲労は殆ど無い。このため、経時的劣
化による現像能力の低下を抑えることができるので、例
えば、現像部22における補充原液の補充量を激減する
ことができる。特に、現像槽18の現像液表面は液面蓋
50で覆われているので現像液と外気との接触防止の効
果は大きい。The operation of this embodiment will be described below. First,
Processing tanks such as the developing tank 18, the washing tank 28, and the gum solution tank 30 include:
It is covered by a casing 100 such as the upper lid 14 and the main body 8. In addition, the PS version processor 10
In a state where the development processing of the plate 12 is not performed, the insertion slot 1
02 is closed because the blade 106 is in contact with the side wall of the developing tank 18. On the other hand, the outlet 104
Does not detect the PS plate 12 with the sensor 108,
The lid 110 is in a vertical state, and the outlet 104 is also closed. Further, the secondary insertion port 150 is also provided with the blade 152
The upper part of the liquid surface cover 50 of the developing unit 22 is also closed by the blades 106 and 152. For this reason, the developing solution in the developing tank 18, the washing water in the washing unit 24, and the gum solution in the finisher unit 26 are not exposed to the outside air and have almost no CO 2 fatigue. For this reason, it is possible to suppress a decrease in the developing capacity due to the deterioration over time, and for example, it is possible to drastically reduce the replenishment amount of the replenisher in the developing unit 22. In particular, since the surface of the developing solution in the developing tank 18 is covered with the liquid surface cover 50, the effect of preventing contact between the developing solution and the outside air is great.
【0065】ここで、挿入口102のブレード106
は、蝶ねじ158を緩めることにより、スライド部15
6Bがスライド可能であるため、必要に応じて開口させ
ることができる。例えば、補充原液の補充量を意図的に
増加したい場合等は、ある程度開口させておけば、補充
インタバルを狭くすることができる。Here, the blade 106 of the insertion port 102
Can be removed by loosening the thumbscrew 158.
Since 6B is slidable, it can be opened as needed. For example, when it is desired to intentionally increase the replenishment amount of the replenisher stock, the replenishment interval can be narrowed by opening the replenisher to some extent.
【0066】ブレード174又はブレード106と同様
の構造を持つ図示しないブレードを現像槽18と水洗槽
28の間又は水洗槽28とガム液槽30との間に設け、
ブレード106と同様に蝶ねじを緩めることいより、ス
ライド部をスライド可能とし必要に応じて開口させるこ
とができるようにしてもよい。A blade (not shown) having the same structure as the blade 174 or the blade 106 is provided between the developing tank 18 and the washing tank 28 or between the washing tank 28 and the gum solution tank 30.
By loosening the thumbscrew like the blade 106, the slide portion may be made slidable so that it can be opened as needed.
【0067】次に、PS版12の処理手順について説明
する。図示しない焼付装置等によって画像が記録された
PS版12は、挿入台16に載置されこの挿入台16の
奥側へ送り込まれる。これにより、PS版12は挿入口
102へと至る。Next, the processing procedure of the PS plate 12 will be described. The PS plate 12 on which an image is recorded by a printing device (not shown) or the like is placed on an insertion table 16 and sent to the back of the insertion table 16. Thus, the PS plate 12 reaches the insertion slot 102.
【0068】また、このPS版12の先端が挿入口10
2を通過すると、センサ108によってこれを検出し、
軸112を回動させて排出口104の蓋体110を垂直
状態から略水平状態に揺動させる。これにより、排出口
104は開口される。なお、センサ108がPS版12
の先端を検出したときに信号をCPUへ入力し、搬送速
度から適正なタイミングで排出口104を開口するよう
にしてもよい。Also, the tip of the PS plate 12 is
2, when it is detected by the sensor 108,
By rotating the shaft 112, the lid 110 of the outlet 104 is swung from a vertical state to a substantially horizontal state. Thereby, the discharge port 104 is opened. In addition, the sensor 108 is the PS plate 12
A signal may be input to the CPU when the leading end of the sheet is detected, and the discharge port 104 may be opened at an appropriate timing based on the transport speed.
【0069】ケーシング100内に挿入されたPS版1
2は、まず、現像部22に送られる。PS版プロセッサ
ー10はPS版12が挿入されると、搬送ローラ32に
よって現像槽18へ送り込まれる。搬送ローラ32によ
って送り込まれるPS版12は、その搬送時の押圧力で
ブレード106をその弾性力に抗して拡開させる。この
ため、PS版12は円滑に現像部22へと搬送される。The PS plate 1 inserted in the casing 100
2 is first sent to the developing unit 22. When the PS plate 12 is inserted, the PS plate processor 10 is sent to the developing tank 18 by the transport roller 32. The PS plate 12 fed by the transport roller 32 expands the blade 106 against the elastic force by the pressing force at the time of transport. Therefore, the PS plate 12 is smoothly transported to the developing unit 22.
【0070】PS版12はガイド板168に案内されて
水平に対して15°の角度で送り出され、ガイドローラ
34等によって現像槽18内を搬送される。The PS plate 12 is guided by a guide plate 168 and sent out at an angle of 15 ° with respect to the horizontal, and is conveyed in the developing tank 18 by guide rollers 34 and the like.
【0071】しかる後に、PS版12の感光層側表面
は、回転ブラシ38でこすられて現像が促進され、非画
像部分の感光層が除去される。Thereafter, the photosensitive layer side surface of the PS plate 12 is rubbed with a rotating brush 38 to promote development, and the photosensitive layer in the non-image area is removed.
【0072】現像処理されたPS版12は、水洗部24
へ送られ、搬送ローラ52、53によって挟持搬送され
る。この際、PS版12の表面はスプレーパイプ56か
ら搬送ローラ53のうち上側のローラに滴下される新し
い水洗水によって洗浄され、裏面は受け皿62から搬送
ローラ53のうち下側のローラによって持ち出される水
洗水によって洗浄される。The developed PS plate 12 is washed with
To be transported by the transport rollers 52 and 53. At this time, the front surface of the PS plate 12 is washed with new washing water dropped from the spray pipe 56 to the upper roller of the conveying rollers 53, and the back surface is washed with water taken out of the tray 62 by the lower roller of the conveying rollers 53. Washed with water.
【0073】すなわち、スプレーパイプ56から滴下さ
れPS版12の幅方向両端部に至った水洗水は表面上か
ら落下して受け皿62へと至る。この受け皿62には、
PS版12の長手方向両端部から流入される。受け皿6
2に浸漬されている下側の搬送ローラ52、53は、回
転によってこの受け皿60内の水洗水を汲み上げ、PS
版12の裏面側の洗浄を行う。That is, the washing water dropped from the spray pipe 56 and reaching both ends in the width direction of the PS plate 12 falls from the surface and reaches the receiving tray 62. In this saucer 62,
It flows in from both longitudinal ends of the PS plate 12. Saucer 6
The lower transport rollers 52 and 53 immersed in the pump 2 draw up the washing water in the tray 60 by rotation, and
The back side of the plate 12 is cleaned.
【0074】受け皿62から溢れた水洗水は、水洗槽2
8へと案内され、水洗槽28内の水洗水は、所定の量を
超えることによって、オーバフロー管182によって廃
液タンク184へ送られるが、大部分はポンプ186に
よって現像槽18へ供給される。The washing water overflowing from the receiving tray 62 is supplied to the washing tank 2.
8, the washing water in the washing tank 28 is sent to the waste tank 184 by the overflow pipe 182 by exceeding a predetermined amount, but most of the washing water is supplied to the developing tank 18 by the pump 186.
【0075】すなわち、現像槽18には、PS版12の
処理量等に応じて現像補充原液タンク166から補充原
液がポンプ164の作動によって供給されるが、前記水
洗槽28からの水洗水は、この補充される補充原液量と
所定の比率とされる希釈水として利用される。これによ
り、水洗部24で水洗処理が終了した水洗水を有効利用
することができ、かつ廃液量を軽減することができる。That is, the replenisher stock is supplied from the replenisher stock tank 166 to the developing tank 18 by the operation of the pump 164 in accordance with the processing amount of the PS plate 12, and the like. It is used as dilution water having a predetermined ratio with the replenishing stock solution to be replenished. This makes it possible to effectively use the washing water whose washing process has been completed in the washing section 24 and reduce the amount of waste liquid.
【0076】水洗処理が終了すると、PS版12は、ガ
イドローラ80に案内されて不感脂化処理部であるフィ
ニッシャー部26へ送られ、搬送ローラ78によって挟
持搬送される。ここで、スプレーパイプ82、188か
ら吐出されるガム液によって不感脂化処理される。When the rinsing process is completed, the PS plate 12 is guided by the guide rollers 80, sent to the finisher unit 26, which is a desensitizing unit, and nipped and transported by the transport rollers 78. Here, the desensitizing treatment is performed by the gum solution discharged from the spray pipes 82 and 188.
【0077】フィニッシャー部26から排出されたPS
版12は、ケーシング100の排出口104へと至る。The PS discharged from the finisher 26
The plate 12 reaches an outlet 104 of the casing 100.
【0078】この排出口104には、蓋体110が配設
されているが、前記センサ108によるPS版12の検
出によって軸112が回動され、蓋体110は略水平状
態とされているため、排出口104を通過するPS版1
2とこの蓋体110との干渉は一切ない。従って、現像
処理されたPS版12の感光面を擦るようなことがな
く、PS版12の面質を保護することができる。Although a lid 110 is provided at the outlet 104, the shaft 112 is rotated by the detection of the PS plate 12 by the sensor 108, and the lid 110 is in a substantially horizontal state. Plate 1 passing through the outlet 104
2 does not interfere with the lid 110 at all. Therefore, the surface quality of the PS plate 12 can be protected without rubbing the photosensitive surface of the developed PS plate 12.
【0079】また、前記センサ108でPS版12の後
端を検出した後、所定時間経過すると蓋体110は、垂
直状態、すなわち排出口104を閉塞することになる
が、ケーシング100内を通過する時間は一定であるた
め、PS版12の後端が確実に排出口104を抜け出た
後に蓋体110は揺動して排出口104を閉塞する。After a predetermined time elapses after the sensor 108 detects the rear end of the PS plate 12, the lid 110 is in a vertical state, that is, closes the discharge port 104, but passes through the casing 100. Since the time is constant, the lid 110 swings and closes the outlet 104 after the rear end of the PS plate 12 has surely exited the outlet 104.
【0080】排出口104を通過したPS版12は、乾
燥部31で乾燥処理されて、PS版プロセッサー10か
ら排出されて処理は終了する。The PS plate 12 that has passed through the outlet 104 is subjected to a drying process in the drying unit 31 and is discharged from the PS plate processor 10 to complete the process.
【0081】なお、現像液と外気との接触をできるだけ
少なくするという本発明の目的から、蓋体110の開い
ている時間をできるだけ短くする方がよい。従って、P
S版12が通過している間のみ開いていて、それ以外の
間は閉じている構造が好ましい。そのために、例えば、
排出口の内側近傍にセンサを配し、PS版12の先端を
検知して蓋体110を開き、PS版12の後端が通過し
たら後端が排出口から完全に出るまでの時間を、PS版
搬送速度から決定して、その時間をタイマーに設定して
蓋体110を閉じるようにすることもできる。For the purpose of the present invention of minimizing the contact between the developer and the outside air, it is preferable that the time during which the lid 110 is open is as short as possible. Therefore, P
A structure that is open only while the S plate 12 is passing, and closed during other times is preferable. For that, for example,
A sensor is arranged near the inside of the discharge port to detect the front end of the PS plate 12 and open the lid 110. When the rear end of the PS plate 12 passes, the time until the rear end completely comes out of the discharge port is indicated by PS. It is also possible to determine the time from the plate transport speed, set the time to a timer, and close the lid 110.
【0082】このように、本実施例では、水洗部24は
水洗水を大型のタンクに貯留しておき、循環利用する循
環型ではなく、必要最小限の水洗水を滴下し、その後廃
棄する非循環型としたため、水洗槽28を比較的小型と
することができ、循環ポンプ、配管等も不要となり、装
置全体の小型化を図ることができる。また、循環型の装
置の場合に生じていた、PS版12を処理した後落下す
る処理液を貯留して循環するための大型の処理液タンク
からの蒸発によって、ローラ等に析出物が固化するとい
った不具合を解消することができ、メンテナンス性を向
上することができる。本実施例のおける総廃棄量は、1
日あたりの処理面積に拘らず、25〜100cc /m2となり、
従来の150 〜500c/m2に比べ、大幅に軽減することがで
きる。As described above, in this embodiment, the rinsing section 24 stores the rinsing water in a large tank, is not a circulating type in which the rinsing water is circulated, but drops the minimum necessary rinsing water, and then discards it. Because of the circulation type, the washing tank 28 can be made relatively small, and a circulation pump, piping, etc. are not required, and the entire apparatus can be downsized. In addition, due to evaporation from a large processing liquid tank for storing and circulating the processing liquid that drops after processing the PS plate 12, which has occurred in the case of the circulation type apparatus, deposits are solidified on rollers and the like. Such problems can be solved, and the maintainability can be improved. The total amount of waste in this embodiment is 1
Regardless of the processing area per day, 25~100cc / m 2, and the
Compared to conventional 150 ~500c / m 2, it can be greatly reduced.
【0083】また、現像部22をブレード106、17
4によって他部とは隔離し、副挿入口150及び排出口
104にもブレード152、蓋体110を配設したの
で、装置内をいくつかのブロック毎に仕切ることがで
き、外気による処理液の劣化を大幅に抑制することがで
きる。The developing unit 22 is connected to the blades 106 and 17
4, the blade 152 and the lid 110 are provided also at the sub-insertion port 150 and the discharge port 104, so that the inside of the apparatus can be partitioned into several blocks, and the processing liquid by the outside air can be separated. Deterioration can be greatly suppressed.
【0084】さらに、従来の処理装置では、始業時に必
要であったクリーニング版(1〜3版程度)が不要とな
り、作業性が向上する。Further, in the conventional processing apparatus, the cleaning plate (about 1 to 3 plates) required at the start of work is not required, and workability is improved.
【0085】なお、本実施例では、フィニッシャー部2
6が、受け皿を持たず直接ガム液槽に下側の搬送ローラ
78を浸すようにしたが、水洗部24と同様に受け皿を
設けるような構成としてもよい。また、フィニッシャー
部もガム液の処理性能によっては非循環型にしてもよ
い。In this embodiment, the finisher 2
Although the lower transport roller 78 is directly immersed in the gum solution tank without having a tray, the tray 6 may be provided with a tray similarly to the washing unit 24. Further, the finisher may be of a non-circulating type depending on the processing performance of the gum solution.
【0086】また、現像部22を1つのブロック、水洗
部24とフィニッシャー部26とをまとめて1つのブロ
ックとし、ブレード106、152、174及び蓋体1
10で仕切ったが、ブレード174を設けずに現像部2
2、水洗部24及びフィニッシャー部26をまとめて1
つのブロックとしてもよいし、また、現像部22、水洗
部24及びフィニッシャー部26をそれぞれ独立したブ
ロックとしてもよい。また、処理液が空気疲労しにくい
特性を持ったものであれば、ブロック間の仕切りは省略
してもよい。Further, the developing section 22 is formed as one block, the washing section 24 and the finisher section 26 are collectively formed as one block, and the blades 106, 152, 174 and the lid 1 are formed.
10, but without the blade 174.
2. The washing section 24 and the finisher section 26 are collectively 1
The developing unit 22, the washing unit 24, and the finisher unit 26 may be independent blocks. In addition, the partition between blocks may be omitted as long as the processing liquid has a property of hardly causing air fatigue.
【0087】さらに、本実施例では、測定器162によ
る測定結果に基づいて現像補充原液の補充時期を定める
コンピュータ制御を行ったため、スクリーン線数が400
〜700 線/インチの高精細印刷用の刷版も安定してい処
理可能となったが、従来通りの精度(150 〜170 線/イ
ンチ)であれば、コンピュータ制御を省くことも可能で
ある。Further, in this embodiment, computer control for determining the replenishment timing of the development replenisher is performed based on the measurement result of the measuring device 162, so that the screen ruling is 400.
Although printing plates for high-definition printing of up to 700 lines / inch can be processed stably, computer control can be omitted if the accuracy is the same as before (150 to 170 lines / inch).
【0088】[0088]
【発明の効果】以上説明した如く本発明に係る感光性平
版印刷版の自動現像機は、各処理部をケーシング及び仕
切板で取り囲んで外気の侵入を阻止して処理の安定性を
向上させると共に処理液の廃棄量を軽減して装置の小型
化を図り、かつメンテナンス作業を向上させることがで
きるという優れた効果を有する。As described above, the automatic developing machine for photosensitive lithographic printing plates according to the present invention improves the stability of processing by surrounding each processing section with a casing and a partition plate, thereby preventing the invasion of outside air and improving the processing stability. The present invention has an excellent effect that the amount of processing liquid to be discarded can be reduced, the size of the apparatus can be reduced, and maintenance work can be improved.
【図1】本実施例に係るPS版プロセッサーの斜視図で
ある。FIG. 1 is a perspective view of a PS plate processor according to an embodiment.
【図2】本実施例に係るPS版プロセッサーの概略構成
図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a PS plate processor according to the embodiment.
10 PS版プロセッサー 12 PS版 22 現像部 24 水洗部 26 フィニッシャー部 102 挿入口 104 排出口 106 ブレード(仕切板) 110 蓋体(仕切板) 152 ブレード(仕切板) 174 ブレード(仕切板) DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 PS plate processor 12 PS plate 22 Developing part 24 Washing part 26 Finisher part 102 Insertion opening 104 Outlet 106 Blade (partition plate) 110 Lid (partition plate) 152 Blade (partition plate) 174 Blade (partition plate)
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭63−167366(JP,A) 特開 平2−267549(JP,A) 特開 昭63−103255(JP,A) 特開 平3−39960(JP,A) 特開 平3−87832(JP,A) 特開 昭63−23160(JP,A) 特開 昭58−102937(JP,A) 特開 平1−310355(JP,A) 実開 昭64−49935(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) G03F 7/30 501 G03F 7/00 503 Continuation of the front page (56) References JP-A-63-167366 (JP, A) JP-A-2-267549 (JP, A) JP-A-63-103255 (JP, A) JP-A-3-39960 (JP) JP-A-3-87832 (JP, A) JP-A-63-23160 (JP, A) JP-A-58-102937 (JP, A) JP-A-1-310355 (JP, A) 64-49935 (JP, U) (58) Fields investigated (Int. Cl. 7 , DB name) G03F 7/30 501 G03F 7/00 503
Claims (6)
によって処理する処理部の一つである現像部と、 前記感光性平版印刷版を搬送しながらリンス液を前記感
光性平版印刷版の一方の面に供給して処理すると共に前
記一方の面から落下するリンス液を貯留しこれによって
前記感光性平版印刷版の他方の面を処理した後、該リン
ス液を排出するリンス部と、 前記感光性平版印刷版の通過に支障のないように仕切る
仕切板を設けた挿入口及び排出口を備え少なくとも前記
現像部又はリンス部を含む前記感光性平版印刷版の処理
領域を囲んで少なくとも前記現像液又はリンス液が外気
に晒されることを抑止するケーシングと、 を有する感光性平版印刷版の自動現像機。1. A developing section, which is one of processing sections for processing with a developer while transporting a photosensitive lithographic printing plate, and a rinsing solution while transporting the photosensitive lithographic printing plate, A rinsing unit for supplying and treating the one side of the photosensitive lithographic printing plate, treating the other side of the photosensitive lithographic printing plate by storing the rinsing liquid falling from the one side, and discharging the rinsing liquid; The photosensitive lithographic printing plate is provided with an insertion port and a discharge port provided with a partition plate that does not hinder the passage of the photosensitive lithographic printing plate, and includes at least the developing section or the rinsing section. An automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate, comprising: a casing for preventing the liquid or the rinsing liquid from being exposed to the outside air.
前記リンス液が水であり、該水を前記現像部へ補充する
補充原液の希釈水として用いることを特徴とする請求項
1記載の感光性平版印刷版の自動現像機。2. The photosensitive material according to claim 1, wherein the rinsing liquid supplied from the rinsing section to the developing section is water, and the water is used as dilution water of a stock solution for replenishing the developing section with the water. Automatic lithographic printing plate developing machine.
又は複数の前記処理部を組み合わせたブロックに分割
し、前記感光性平版印刷版の通過に支障のないように前
記ブロック間を仕切る仕切板を設けたことを特徴とする
請求項1又は請求項2記載の感光性平版印刷版の自動現
像機。3. A partition plate which divides the processing region into blocks for each processing unit or blocks in which a plurality of the processing units are combined, and partitions the blocks so as not to hinder the passage of the photosensitive lithographic printing plate. 3. An automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate according to claim 1, further comprising:
である少なくとも現像部又はリンス部を通過させて処理
する感光性平版印刷版の自動現像機であって、 前記感光性平版印刷版の挿入口及び排出口を備え少なく
とも前記現像部又はリンス部を含む前記感光性平版印刷
版の処理領域を囲んで少なくとも現像液又はリンス液が
外気に晒されることを抑止するケーシングと、 前記処理領域を前記処理部毎のブロック又は複数の前記
処理部を組み合わせたブロックに分割し、これらのブロ
ック間及び前記感光性平版印刷版の前記挿入口と排出口
に設けて前記感光性平版印刷版の通過に支障のないよう
に前記挿入口と排出口及び各ブロック間を仕切る仕切板
と、 前記仕切板を閉止位置及び開放位置へ移動可能とする移
動手段と、 を有する感光性平版印刷版の自動現像機。4. An automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate, wherein the photosensitive lithographic printing plate is processed by passing the photosensitive lithographic printing plate through at least a developing unit or a rinsing unit while transporting the photosensitive lithographic printing plate. A casing provided with an insertion port and a discharge port, surrounding the processing area of the photosensitive lithographic printing plate including at least the developing section or the rinsing section and suppressing at least a developing solution or a rinsing liquid from being exposed to the outside air; and Divided into blocks for each of the processing units or blocks obtained by combining a plurality of the processing units, and provided between the blocks and at the insertion port and the discharge port of the photosensitive lithographic printing plate to allow passage of the photosensitive lithographic printing plate. A photosensitive plate comprising: a partition plate for partitioning the insertion port, the discharge port, and each block so as not to interfere; and a moving means for moving the partition plate to a closed position and an open position. Automatic developing machine of the printing plate.
とも現像液によって処理する感光性平版印刷版の自動現
像機であって、 前記感光性平版印刷版の挿入口及び排出口を備え少なく
とも前記感光性平版印刷版を前記現像液によって処理す
る現像部を囲んで少なくとも前記現像液が外気に晒され
ることを抑止するケーシングと、 前記感光性平版印刷版の挿入口及び排出口を設けて前記
感光性平版印刷版の通過に支障のないように前記挿入口
及び排出口を仕切る仕切板と、 前記感光性平版印刷版を前記現像液によって処理した後
リンス液によって処理するリンス部から前記現像部へ供
給する前記リンス液が水であり、該水を前記現像部へ補
充する補充原液の希釈水として前記現像部へ供給するリ
ンス液供給手段と、 を有する感光性平版印刷版の自動現像機。5. An automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate, wherein the photosensitive lithographic printing plate is processed with at least a developing solution while transporting the photosensitive lithographic printing plate. A casing surrounding the developing unit for processing the lithographic printing plate with the developer, and preventing at least the developer from being exposed to the outside air; and A partition plate for partitioning the insertion port and the discharge port so as not to hinder the passage of the lithographic printing plate; and The rinsing liquid to be supplied is water, and a rinsing liquid supply means for supplying the developing section with dilution water of a replenishing stock solution for replenishing the water to the developing section. Automatic developing machine.
感光性平版印刷版の通過時には、前記感光性平版印刷版
と非接触の位置に退避することを特徴とする請求項1乃
至請求項5の何れか1項記載の感光性平版印刷版の自動
現像機。6. The photosensitive lithographic printing plate is retracted to a position not in contact with the photosensitive lithographic printing plate when the partition plate provided at the discharge port passes through the photosensitive lithographic printing plate. Item 6. An automatic developing machine for a photosensitive lithographic printing plate according to any one of items 5.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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