JPH037766A - Organopolysiloxane composition - Google Patents
Organopolysiloxane compositionInfo
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Landscapes
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Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、保存安定性に優れたオルガノポリシロキサン
組成物に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Field of Application] The present invention relates to an organopolysiloxane composition with excellent storage stability.
オルガノポリシロキサンは、耐熱性、耐候性、耐水性、
耐蝕性などに優れており、近年、アルミニウム、セラミ
ックス、紙、ガラス、プラスチックスなどの表面を被覆
し、耐熱性、耐候性、耐水性、耐蝕性などを向上させる
材料として広(用いられている。Organopolysiloxane is heat resistant, weather resistant, water resistant,
It has excellent corrosion resistance, and in recent years has been widely used as a material to coat the surfaces of aluminum, ceramics, paper, glass, plastics, etc. to improve heat resistance, weather resistance, water resistance, corrosion resistance, etc. .
このようなオルガノポリシロキサンとして、メチルアル
コキシシランの加水分解および部分的重縮合によって得
られるメチルポリシロキサンが提案されている。As such an organopolysiloxane, a methylpolysiloxane obtained by hydrolysis and partial polycondensation of methylalkoxysilane has been proposed.
しかしながら、メチルトリアルコキシシランを加水分解
および部分的重縮合をすることによって得られるオルガ
ノポリシロキサンは、保存中に縮合反応が進行して、分
子量が増加し、増粘、ゲル化などが生じ、保存安定性に
劣るものである。However, organopolysiloxane obtained by hydrolyzing and partially polycondensing methyltrialkoxysilane undergoes a condensation reaction during storage, resulting in an increase in molecular weight, thickening, gelation, etc. It is less stable.
本発明は、前記従来の技術的課題を背景になされたもの
で、硬化物の硬度、耐熱性、耐候性、耐水性、耐蝕性、
密着性、曲げ加工性などに優れ、かつ保存安定性が良好
で、塗膜形成時の硬化性に優れるオルガノポリシロキサ
ン組成物を提供することを目的とする。The present invention was made against the background of the above-mentioned conventional technical problems, and improves the hardness, heat resistance, weather resistance, water resistance, corrosion resistance,
An object of the present invention is to provide an organopolysiloxane composition that has excellent adhesion, bending workability, etc., good storage stability, and excellent curability during coating film formation.
本発明は、(A)一般式CR3S iX3 (式中、
Xはハロゲン原子またはOR’で示されるアルコキシ基
であり、ここでR1は炭素数1〜5のアルキル基または
炭素数1〜4のアシル基を示す)で表されるメチルシラ
ン(以下[(a)メチルシラン」という)の部分的縮合
物(以下「メチルシラン縮合物」という)ならびに/ま
たは前記メチルシランと一般式R2* S t (OR
’ ) a−m (式中、R2は炭素数1〜8の有機
基、aは0または2を示し、OR’ は前記に同じ)お
よび
R’ St (OR’ )3 (式中、R3は炭素
数2〜8の有機基、R1は前記に同じ)で表される少な
くとも1種のオルガノアルコキシシラン(以下r (a
) ’オルガノアルコキシシラン」という)との部分的
共縮合物(以下「メチルシラン共縮合物」といい、前記
メチルシラン縮合物とメチルシラン共縮合物を総称して
「(A)成分」という)と、(B)一般式R’ (C
H3) b S i (OR’ ) 5−b(式中、
R4は炭素数3〜10の有機基、bは0または1、R1
は前記に同じ)で表されるアルコキシシラン(以下「(
B)成分」という)との反応生成物(以下、単に「特定
反応生成物」という)を含有してなるオルガノポリシロ
キサン組成物を提供するものである。The present invention provides (A) general formula CR3S iX3 (wherein,
X is a halogen atom or an alkoxy group represented by OR', where R1 represents an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms (hereinafter referred to as [(a) (hereinafter referred to as "methylsilane condensate") and/or a partial condensate of the methylsilane and the general formula R2*S t (OR
' ) a-m (in the formula, R2 is an organic group having 1 to 8 carbon atoms, a represents 0 or 2, and OR' is the same as above) and R' St (OR' )3 (in the formula, R3 is At least one organoalkoxysilane (hereinafter referred to as r (a
) (referred to as 'organoalkoxysilane') (hereinafter referred to as 'methylsilane cocondensate', the aforementioned methylsilane condensate and methylsilane cocondensate are collectively referred to as 'component (A)'); B) General formula R' (C
H3) b S i (OR') 5-b (in the formula,
R4 is an organic group having 3 to 10 carbon atoms, b is 0 or 1, R1
is the same as above) (hereinafter referred to as "("))
The object of the present invention is to provide an organopolysiloxane composition containing a reaction product (hereinafter simply referred to as "specific reaction product") with component B).
次に、本発明の組成物を構成要件別に詳述する。Next, the composition of the present invention will be explained in detail by component.
(A)成分
このうち、本発明に使用されるメチルシラン縮合物は、
前記一般式で表される(a)メチルシランを加水分解お
よび部分的重縮合をさせて得られるものである。Among component (A), the methylsilane condensate used in the present invention is:
It is obtained by subjecting (a) methylsilane represented by the above general formula to hydrolysis and partial polycondensation.
この(a)メチルシランにおいては、Xは塩素原子、フ
ッ素原子、臭素原子などのハロゲン原子またはOR’で
表される基である。In this (a) methylsilane, X is a halogen atom such as a chlorine atom, a fluorine atom, a bromine atom, or a group represented by OR'.
ここで、R1としては、炭素数1〜5のアルキル基また
は炭素数1〜4のアシル基であり、例えばメチル基、エ
チル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル
基、S−ブチル基、t−ブチル基、アセチル基などが挙
げられる。Here, R1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or an acyl group having 1 to 4 carbon atoms, such as a methyl group, ethyl group, n-propyl group, i-propyl group, n-butyl group, S -butyl group, t-butyl group, acetyl group, etc.
これらの(a)メチルシランの具体例としては、メチル
トリクロロシラン、メチルトリメトキシシラン、メチル
トリエトキシシラン、メチルトリnプロポキシシラン、
メチルトリミープロポキシシラン、メチルトリn−ブト
キシシラン、メチルトリS−ブトキシシラン、メチルト
リt−ブトキシシラン、メチルトリアセトキシシランな
どが挙げられる。Specific examples of these (a) methylsilanes include methyltrichlorosilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltri-n-propoxysilane,
Examples include methyltrimypropoxysilane, methyltri-n-butoxysilane, methyltri-S-butoxysilane, methyltri-t-butoxysilane, and methyltriacetoxysilane.
(A)成分としては、前記(a)メチルシランと前記一
般式R” a S i (OR’ )a−*およびR3
S i (OR’ )3で表される少なくとも1種の
(a)′オルガノアルコキシシランを共縮合した共縮合
物であってもよい。As the component (A), the above-mentioned (a) methylsilane, the above-mentioned general formula R" a S i (OR' )a-* and R3
It may be a co-condensate obtained by co-condensing at least one (a)' organoalkoxysilane represented by S i (OR' )3.
前記一般式R” a S I (OR’ ) 4−a
において、R2は、炭素数1〜8の有機基であり、例え
ばメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル
基などのアルキル基、そのほかγ−クロロプロピル基、
ビニルL 3.3.3−)リフロロプロビル基、T−グ
リシドキシプロピル基、γ−メタクリルオキシプロピル
基、γ−メルカプトプロピル基、フェニル基、3.4−
エポキシシクロヘキシルエチル基などが挙げられる。The general formula R" a S I (OR') 4-a
In, R2 is an organic group having 1 to 8 carbon atoms, such as an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, or an i-propyl group, as well as a γ-chloropropyl group,
Vinyl L 3.3.3-) Lifluoroprovir group, T-glycidoxypropyl group, γ-methacryloxypropyl group, γ-mercaptopropyl group, phenyl group, 3.4-
Examples include epoxycyclohexylethyl group.
前記一般式R2@ S i (OR’ )4−aにお
いて、aがOである場合、かかる(a)′オルガノアル
コキシシランは、一般式Si (OR’ )4で表さ
れるテトラアルコキシシランであり、ケイ素原子の持つ
4個の結合点が全てシロキサン結合に供されることから
、(A)成分中の緻密化成分として作用することができ
る。In the general formula R2@Si(OR')4-a, when a is O, the organoalkoxysilane (a)' is a tetraalkoxysilane represented by the general formula Si(OR')4. Since all four bonding points of silicon atoms are provided for siloxane bonding, it can act as a densifying component in component (A).
このテトラアルコキシシランの具体例としては、テトラ
メトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラn−プ
ロポキシシラン、テトラミープロポキシシラン、テトラ
n−ブトキシシラン、テトラi−ブトキシシラン、テト
ラt−ブトキシシラン、テトラアセトキシシランなどが
挙げられ、好ましくはテトラメトキシシラン、テトラエ
トキシシラン、テトラミープロポキシシランである。Specific examples of this tetraalkoxysilane include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetra n-propoxysilane, tetramypropoxysilane, tetra n-butoxysilane, tetra i-butoxysilane, tetra t-butoxysilane, and tetraacetoxysilane. Among them, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, and tetramypropoxysilane are preferred.
前記一般式R” @ S i (OR’ ) a−*に
おいて、aが2である場合、かかる(a)′オルガノア
ルコキシシランは、一般式Rt□St (OR’ )z
で表されるジオルガノジアルコキシシランであり、ケイ
素原子1個の対し2個のシロキサン結合を生成し得るこ
とから、メチルシラン共縮合物中に直鎖のシロキサン結
合を有する可撓性の良好な成分を含有させることができ
る。In the general formula R" @ S i (OR' ) a-*, when a is 2, such (a)' organoalkoxysilane has the general formula Rt□St (OR' )z
It is a diorganodialkoxysilane represented by the following formula, and because it can form two siloxane bonds for every one silicon atom, it is a highly flexible component that has linear siloxane bonds in the methylsilane cocondensate. can be contained.
かかるジオルガノジアルコキシシランの具体例としては
、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジェトキシシラ
ン、ジメチルジi−プロポキシシラン、ジエチルジメト
キシシラン、ジエチルジェトキシシラン、ジエチルジi
−プロポキシシラン、ジn−プロピルジメトキシシラン
、ジn−プロピルジェトキシシラン、ジメチルジアセト
キシシラン、ジn−プロピルジアセトキシシランなどが
挙げられる。Specific examples of such diorganodialkoxysilanes include dimethyldimethoxysilane, dimethyljethoxysilane, dimethyldipropoxysilane, diethyldimethoxysilane, diethyljethoxysilane, diethyldipropoxysilane,
-propoxysilane, di-n-propyldimethoxysilane, di-n-propyljethoxysilane, dimethyldiacetoxysilane, di-n-propyldiacetoxysilane, and the like.
さらに、一般式R35t (OR’ )、で表されるオ
ルガノトリアルコキシシランは、式中に示されるR3に
より得られるメチルシラン共縮合物を被覆材料に供した
場合、塗膜の硬度、密着性、撥水性などの塗膜性能を向
上させることができる。Furthermore, organotrialkoxysilane represented by the general formula R35t (OR'), when a methylsilane cocondensate obtained by R3 shown in the formula is used as a coating material, improves the hardness, adhesion, and repellency of the coating film. The performance of water-based coatings can be improved.
この一般式R″Si (OR’ )、で表されるオル
ガノトリアルコキシシラン中のR3は、炭素数2〜8の
有機基であり、例えばエチル基、n−プロピル基、j−
プロピル基などのアルキル基、そのほかT−クロロプロ
ピル基、ビニル基、3,3゜3−トリフロロプロピル基
、T−グリシドキシプロビル基、γ−メタクリルオキシ
プロピル基、T−メルカプトプロピル基、フェニル基、
3.4−エポキシシクロヘキシル基などが挙げられる。R3 in the organotrialkoxysilane represented by the general formula R''Si (OR') is an organic group having 2 to 8 carbon atoms, such as ethyl group, n-propyl group, j-
Alkyl groups such as propyl group, as well as T-chloropropyl group, vinyl group, 3,3゜3-trifluoropropyl group, T-glycidoxypropyl group, γ-methacryloxypropyl group, T-mercaptopropyl group, phenyl group,
Examples include 3,4-epoxycyclohexyl group.
このオルガノトリアルコキシシランの具体例としては、
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン
、n−プロピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリ
エトキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i
−プロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン、T−クロロプロピルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシ
シラン、3,3.3−)リフロロプロビルトリメトキシ
シラン、3,3.3−)リフロロプロビルトリエトキシ
シラン、γ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン
、T−グリシドキシプロビルトリエトキシシラン、γ−
メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メ
タクリルオキシプロピルトリエトキシシラン、T−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、T−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、T−アミノプロピル
トリメトキシシラン、3.4−エポキシシクロヘキシル
エチルメトキシシラン、3.4−エポキシシクロヘキシ
ルエチルトリエトキシシランなどを挙げることができ、
好ましくはエチルトリメトキシシラン、エチルトリエト
キシシラン、n−7”ロピルトリメトキシシラン、n−
プロピルトリエトキシシラン、1−プロピルトリメトキ
シシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、r −ク
ロロプロピルトリメトキシシラン、T−クロロプロピル
トリエトキシシランである。Specific examples of this organotrialkoxysilane include:
Ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i-propyltrimethoxysilane, i
-Propyltriethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, T-chloropropyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3,3.3-)lifluoropropyltrimethoxysilane, 3,3. 3-) Lifluoroprobyltriethoxysilane, γ-glycidoxyprobyltrimethoxysilane, T-glycidoxyprobyltriethoxysilane, γ-
methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, T-mercaptopropyltrimethoxysilane, T-mercaptopropyltriethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, T-aminopropyltrimethoxysilane, Examples include 3.4-epoxycyclohexylethylmethoxysilane, 3.4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, and the like.
Preferably ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, n-7"lopyltrimethoxysilane, n-
They are propyltriethoxysilane, 1-propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, r-chloropropyltrimethoxysilane, and T-chloropropyltriethoxysilane.
以上の(a)メチルシランと(a)′オルガノアルコキ
シシランとの共縮合割合は、(a)メチルシラン100
重量部に対し、(a)′オルガノアルクキ995フ85
〜0重量部、好ましくは70−0重量部であり、(a)
メチルシランが少なすぎると得られる組成物を被覆材料
として供した場合、材料の硬化性が低下する。The above co-condensation ratio of (a) methylsilane and (a)' organoalkoxysilane is (a) methylsilane 100%
Based on parts by weight, (a) 'Organoalkuki 995 F85
~0 parts by weight, preferably 70-0 parts by weight, (a)
When the resulting composition is used as a coating material when too little methylsilane is present, the curability of the material is reduced.
以上の(A)成分のポリスチレン換算の重量平均分子量
は、通常、500〜300,000、好ましくは800
〜100,000、さらに好ましくは1,000〜50
,000であり、500未満あるいは300,000を
超えると、得られる組成物を被覆材料に供した場合、塗
膜の密着性が低下し易くなる。The weight average molecular weight of the above component (A) in terms of polystyrene is usually 500 to 300,000, preferably 800.
~100,000, more preferably 1,000-50
,000, and if it is less than 500 or more than 300,000, when the resulting composition is used as a coating material, the adhesion of the coating film tends to decrease.
(B)成分
(B)成分は、(A)成分に添加することにより、(A
)成分中に残存するシラノール基と反応0
して縮合し、残存シラノール基量を減少させ、かつR4
で示される有機基の効果により、得られる組成物の保存
安定性を改善する作用を与えるものである。Component (B) Component (B) can be added to component (A) by adding it to component (A).
) reacts with the silanol groups remaining in the component and condenses to reduce the amount of remaining silanol groups, and R4
The effect of the organic group shown in the above gives the effect of improving the storage stability of the resulting composition.
前記一般式R’ (CH3) b S i (OR’
) s−bにおいて、R4は、炭素数3〜10の有機
基であり、例えばn−プロピル基、i−プロピル基、ブ
チル基などのアルキル基のほか、T−クロロプロピル基
、3.3.3−トリフロロプロピル基、Tグリシドキシ
プロビル基、T−メタクリルオキシプロピル基、T−メ
ルカプトプロピル基、フェニル基、3,4−エポキシシ
クロヘキシルエチル基などが挙げられる。The general formula R' (CH3) b S i (OR'
) In s-b, R4 is an organic group having 3 to 10 carbon atoms, such as an alkyl group such as n-propyl group, i-propyl group, butyl group, T-chloropropyl group, 3.3. Examples include 3-trifluoropropyl group, T-glycidoxypropyl group, T-methacryloxypropyl group, T-mercaptopropyl group, phenyl group, and 3,4-epoxycyclohexylethyl group.
このR4の炭素数が3未満の場合、得られる組成物の保
存安定性の向上効果が小さく、一方炭素数が10を超え
る場合には、(B)成分の縮合反応性が著しく減少し、
しかも(A)成分との相溶性も減少する。When the number of carbon atoms in R4 is less than 3, the effect of improving the storage stability of the resulting composition is small, while when the number of carbon atoms exceeds 10, the condensation reactivity of component (B) is significantly reduced,
Moreover, the compatibility with component (A) also decreases.
また、(B)成分中、bの値が2以上の場合には、(A
)成分との縮合反応により、反応系中の全てのシラノー
ル基およびアルコキシ基が消費され、得られる組成物の
硬化性が著しく低下する。In addition, when the value of b in component (B) is 2 or more, (A
The condensation reaction with component ) consumes all the silanol groups and alkoxy groups in the reaction system, and the curability of the resulting composition is significantly reduced.
これらの(B)成分の具体例としては、n−プロピルト
リメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシラン、
i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリエ
トキシシラン、T−クロロプロピルトリメトキシシラン
、γ−クロロプロピルトリエトキシシラン、3,3.3
−トリフロロプロピルトリメトキシシラン、3.3.3
−)リフロロプロピルトリエトキシシラン、T−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、T−グリシドキシ
プロピルトリエトキシシラン、T−メタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン、γメルカプトプロピルトリメ
トキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシ
ラン、3,4−エポキシシクロヘキシルエチルトリメト
キシシラン、3.4−エポキシシクロヘキシルエチルト
リエトキシシラン、T−クロロプロピルメチルジメトキ
シシラン、T−クロロプロビルメチルジエト1
2
キシシラン、T−グリシドキシプロビルメチルジメトキ
シシラン、T−グリシドキシメチルジェトキシシラン、
T−メタクリルオキシプロピルメチルジメトキシシラン
、T−メタクリルオキシメチルジェトキシシラン、3,
4−エポキシシクロヘキシルエチルメチルジェトキシシ
ランなどを挙げることができるが、好ましくはn−プロ
ピルトリメトキシシラン、n−プロピルトリエトキシシ
ラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピル
トリエトキシシラン、T−クロロプロピルトリメトキシ
シラン、T−クロロプロピルトリエトキシシラン、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、T−グリシ
ドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、T−メルカプトプロピルト
リエトキシシラン、3.4−エポキシシクロヘキシルエ
チルトリメトキシシラン、34−エポキシシクロヘキシ
ルエチルトリエトキシシランなどであり、さらに好まし
くはγ−グリシドキシプロビルトリメトキシシラン、T
−グリシドキシ−プロピルトリエトキシシラン、3.4
−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、
3.4−エポキシシクロヘキシルエチルトリエトキシシ
ランなどである。Specific examples of these component (B) include n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane,
i-propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, T-chloropropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltriethoxysilane, 3,3.3
- trifluoropropyltrimethoxysilane, 3.3.3
-) Lifluoropropyltriethoxysilane, T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, T-glycidoxypropyltriethoxysilane, T-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γmercaptopropyl Trimethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 3,4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane, T-chloropropylmethyldimethoxysilane, T-chloropropylmethyldieth 1 2 xysilane, T-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, T-glycidoxymethyljethoxysilane,
T-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, T-methacryloxymethyljethoxysilane, 3,
Examples include 4-epoxycyclohexylethylmethyljethoxysilane, preferably n-propyltrimethoxysilane, n-propyltriethoxysilane, i-propyltrimethoxysilane, i-propyltriethoxysilane, T-chloro Propyltrimethoxysilane, T-chloropropyltriethoxysilane, γ-
Glycidoxypropyltrimethoxysilane, T-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltriethoxysilane, T-mercaptopropyltriethoxysilane, 3.4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane, 34-epoxycyclohexylethyl Triethoxysilane, etc., more preferably γ-glycidoxyprobyltrimethoxysilane, T
-glycidoxy-propyltriethoxysilane, 3.4
- epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane,
3.4-epoxycyclohexylethyltriethoxysilane and the like.
本発明において、特定反応生成物は、(A)成分100
重量部に対して、(B)成分を、通常、1〜25重量部
、好ましくは2〜15重量部添加し、好ましくは50°
C以上、さらに好ましくは60〜80°Cで反応させる
。In the present invention, the specific reaction product is component (A) 100%
Component (B) is usually added in 1 to 25 parts by weight, preferably 2 to 15 parts by weight, preferably at 50°
C or higher, preferably 60 to 80°C.
本発明の組成物における特定反応生成物の割合は、通常
、10〜100重量%、好ましくは20〜100重量%
である。The proportion of the specific reaction product in the composition of the present invention is usually 10 to 100% by weight, preferably 20 to 100% by weight.
It is.
(C)金属酸化物ゾル
本発明の組成物は、必要に応じて(C)金属酸化物ゾル
を含有していてもよい。(C) Metal oxide sol The composition of the present invention may contain (C) metal oxide sol as necessary.
金属酸化物ゾルは、増粘ならびに得られる塗膜の耐熱性
、硬度および密着性の向上、さらには帯電防止などを目
的に使用されるものである。Metal oxide sols are used for the purposes of increasing viscosity, improving the heat resistance, hardness and adhesion of the resulting coating film, and preventing static electricity.
このような(C)成分としては、シリカゾル、アルミナ
ゾル、アルミナゾル、ジルコニアゾルな3
4
どが挙げられる。Examples of such component (C) include silica sol, alumina sol, alumina sol, and zirconia sol.
このうち、シリカゾル(コロイド状シリカ)は、高純度
の無水ケイ酸の水性分散液であり、通常、平均粒子径が
5〜30μm、固形分濃度が18〜30重量%程度であ
る。このシリカゾルは、通常、ナトリウム含有量が0.
005重量%以下で、酸性領域、すなわちpH2〜6の
範囲である。Among these, silica sol (colloidal silica) is an aqueous dispersion of highly pure silicic acid anhydride, and usually has an average particle diameter of 5 to 30 μm and a solid content concentration of about 18 to 30% by weight. This silica sol usually has a sodium content of 0.
0.005% by weight or less and is in the acidic region, that is, the pH range is from 2 to 6.
このようなシリカゾルの具体例としては、日産化学工業
■製のスノーテックスO1触媒化成工業■製のカタロイ
ドSN、デュポン社製のLudox、モンサント社製の
5yton、ナルコケミカル社製のNalcogなどを
挙げることができる。Specific examples of such silica sol include Snowtex O manufactured by Nissan Chemical Industries, Cataloid SN manufactured by Catalysts and Chemicals, Ludox manufactured by DuPont, 5yton manufactured by Monsanto, and Nalcog manufactured by Nalco Chemical. I can do it.
さらに、アルミナゾルとしては、酸化アルミニウムCA
11t Cps )を5〜25重量%含有し、安定剤と
して硝酸、塩酸、酢酸などを使用し、粒子径が10〜1
00mμのものを例示することができる。このアルミナ
ゾルは、酸性領域、好ましくはpHが2〜6の範囲であ
る。このようなアルミナゾルの具体例としては、日産化
学工業■製のアルミナゾル100、アルミナゾル200
1アルミナゾル520などを挙げることができる。Furthermore, as alumina sol, aluminum oxide CA
11t Cps), nitric acid, hydrochloric acid, acetic acid, etc. are used as a stabilizer, and the particle size is 10 to 1.
00 mμ can be exemplified. This alumina sol has a pH in the acidic range, preferably in the range of 2 to 6. Specific examples of such alumina sol include Alumina Sol 100 and Alumina Sol 200 manufactured by Nissan Chemical Industries.
1 alumina sol 520 and the like.
さらに、チタニアゾルとしては、アルキルチタネートの
加水分解物の分散液を挙げることができる。Further, as the titania sol, a dispersion of an alkyl titanate hydrolyzate can be mentioned.
さらに、°ジルコニアゾルは、二酸化ジルコニウム水性
分散液、または酢酸ジルコニウム水溶液などであり、こ
のようなジルコアシルとしては、例えば日産化学工業■
製のジルコニアゾルNZS−20A、ジルコニアゾルア
セテートなどを挙げることができる。Further, the zirconia sol is an aqueous zirconium dioxide dispersion or an aqueous zirconium acetate solution, and examples of such zircoacyl include, for example, Nissan Chemical Industries.
Examples include zirconia sol NZS-20A, zirconia sol acetate, and the like.
以上の(C)成分の組成物中のおける割合は、0〜70
重量%である。The ratio of the above component (C) in the composition is 0 to 70
Weight%.
本発明の組成物には、必要に応じて充填剤を添加するこ
とも可能である。It is also possible to add fillers to the composition of the present invention, if necessary.
この充填剤としては、例えば有機または無機顔料を挙げ
ることができる。有機顔料としては、ファーストイエロ
ーG1ジアゾイエロー、ジアゾオレンジ、ナフトールレ
ッド、フロロシアニングリーンなどを挙げることができ
る。無機顔料とじて5
6
は、粒子状、繊維状の金属および合金ならびにこれらの
酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物などを挙げ
ることができ、具体例として粒子状もしくは繊維状の鉄
、銅、アルミニウム、ニッケル、クロム、鉛、銀、亜鉛
、フェライト、カーボンブラック、ステンレス鋼、二酸
化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ニッケ
ル、酸化銅、酸化亜鉛、酸化鉛、酸化クロム、酸化マン
ガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム、酸化コバルト、合成
ムライト、カオリン、雲母、ジルコン(ケイ酸ジルコニ
ウム)、水酸化アルミニウム、水酸化鉄、炭化ケイ素、
窒化ケイ素、窒化ホウ素、チタン酸カリウム、二硫化モ
リブデンなどを挙げることができるが、これらに限定さ
れるものではない。As fillers, mention may be made, for example, of organic or inorganic pigments. Examples of organic pigments include Fast Yellow G1 diazo yellow, diazo orange, naphthol red, and fluorocyanine green. Examples of inorganic pigments include particulate or fibrous metals and alloys, as well as their oxides, hydroxides, carbides, nitrides, and sulfides. Iron, copper, aluminum, nickel, chromium, lead, silver, zinc, ferrite, carbon black, stainless steel, silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, nickel oxide, copper oxide, zinc oxide, lead oxide, chromium oxide, manganese oxide , iron oxide, zirconium oxide, cobalt oxide, synthetic mullite, kaolin, mica, zircon (zirconium silicate), aluminum hydroxide, iron hydroxide, silicon carbide,
Examples include, but are not limited to, silicon nitride, boron nitride, potassium titanate, molybdenum disulfide, and the like.
これらの充填剤の平均粒径または平均長さは、通常、0
.05〜100μm、好ましくは0. 1〜70μmで
あり、0.05μm未満では組成物の粘度が上昇し、一
方100μmを超えると得られる組成物の分散性が悪化
する場合がある。The average particle size or average length of these fillers is usually 0
.. 05 to 100 μm, preferably 0.05 to 100 μm, preferably 0. If it is less than 0.05 μm, the viscosity of the composition will increase, while if it exceeds 100 μm, the dispersibility of the resulting composition may deteriorate.
充填剤の組成物中の割合は、通常、0〜70重量%であ
る。The proportion of filler in the composition is usually 0 to 70% by weight.
なお、充填剤の選択は、得られる塗膜の目的によって、
例えば下記選択に基づいて行う。The filler selection depends on the purpose of the coating film to be obtained.
For example, this is done based on the following selections.
■防蝕膜を作るための充填剤としては、二酸化ケイ素、
酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化ジル
コニウム、合成ムライト、ジルコン、炭化ケイ素、窒化
ケイ素などの耐蝕性に優れたものを使用する。■Silicon dioxide,
Use materials with excellent corrosion resistance such as titanium oxide, aluminum oxide, chromium oxide, zirconium oxide, synthetic mullite, zircon, silicon carbide, and silicon nitride.
■電気絶縁膜を作るための充填剤としては、アルカリ金
属を含まない電気絶縁性の金属酸化物、炭化物または窒
化物を使用する。■As a filler for making an electrically insulating film, use electrically insulating metal oxides, carbides, or nitrides that do not contain alkali metals.
■化粧膜を作るための充填剤としては、酸化鉄、二酸化
チタン、酸化コバルト、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化鉛、
酸化アルミニウムなどの酸化物やステンレス鋼などを使
用する。■Fillers for making a cosmetic film include iron oxide, titanium dioxide, cobalt oxide, zinc oxide, tin oxide, lead oxide,
Oxides such as aluminum oxide and stainless steel are used.
■熱放射膜を作るための充填剤としては、酸化鉄、酸化
銅、酸化コバルト、酸化マンガン、酸化クロム、二酸化
ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、ジルコンなど
の酸化物を使用する。■Oxides such as iron oxide, copper oxide, cobalt oxide, manganese oxide, chromium oxide, silicon dioxide, titanium oxide, aluminum oxide, and zircon are used as fillers for making the heat radiation film.
■導電膜または半導電膜を作るための充填剤と7
8
しては、銅、アルミニウム、ニッケル、銀、カーボンブ
ラック、酸化スズなどを使用する。■ Copper, aluminum, nickel, silver, carbon black, tin oxide, etc. are used as fillers for making conductive or semiconductive films.
■断熱膜を作るための充填剤としては、熱伝導率の小さ
い金属酸化物、水酸化物、窒化物などを使用する。■Metal oxides, hydroxides, nitrides, etc. with low thermal conductivity are used as fillers to create the heat insulating film.
■防蝕膜を作るための充填剤としては、亜鉛、鉛、クロ
ムなどを使用する。■Zinc, lead, chromium, etc. are used as fillers to create a corrosion-resistant film.
■溶接可能な膜を作るための充填剤としては、ステンレ
ス鋼などを使用する。■Stainless steel is used as a filler to create a weldable membrane.
■金属光沢を有する膜を作るための充填剤としては、ニ
ッケル、アルミニウム、雲母、ステンレス鋼などを使用
する。■Nickel, aluminum, mica, stainless steel, etc. are used as fillers to create a film with metallic luster.
[相]そのほか、各種充填剤の持つ特性を活かした塗膜
を作るためには、前記例示の充填剤を2種以上併用する
ことができる。[Phase] In addition, in order to create a coating film that takes advantage of the characteristics of various fillers, two or more of the above-mentioned fillers can be used in combination.
次に、本発明の組成物を被覆材料などとして供する場合
に、塗膜形成時の作業性向上、あるいは本発明の組成物
と他の塗料用顔料または充填剤とを混合させる目的で、
有機溶剤を使用することができる。Next, when using the composition of the present invention as a coating material, etc., for the purpose of improving workability during coating film formation or mixing the composition of the present invention with other paint pigments or fillers,
Organic solvents can be used.
この有機溶剤としては、例えばメタノール、エタノール
、n−プロピルアルコール、i−プロピルアルコール、
S−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール、n−ペ
ンチルアルコール、ne〇−ペンチルアルコール、n−
ヘキシルアルコール、n−ヘプチルアルコール、メチル
セロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ、
エチレングリコール、プロピレングリコール、メチルジ
グライム、エチルジグライム、テトラヒドロフラン、1
.4−ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルプロピルケトン、メチルn−ブチルケトン、メチル
イソブチルケトン、アセトフェノン、ベンゾフェノン、
ベンゼン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチル、ジクロロメタン、クロロホルム、四
塩化炭素、各種フロン系溶剤などが挙げられる。Examples of the organic solvent include methanol, ethanol, n-propyl alcohol, i-propyl alcohol,
S-butyl alcohol, t-butyl alcohol, n-pentyl alcohol, ne〇-pentyl alcohol, n-
Hexyl alcohol, n-heptyl alcohol, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, propyl cellosolve,
Ethylene glycol, propylene glycol, methyl diglyme, ethyl diglyme, tetrahydrofuran, 1
.. 4-dioxane, acetone, methyl ethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl n-butyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetophenone, benzophenone,
Examples include benzene, toluene, xylene, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, dichloromethane, chloroform, carbon tetrachloride, and various fluorocarbon solvents.
この有機溶剤は、必要に応じて添加量を規定すればよく
、2種以上またはそれ以上の混合溶剤系であってもよい
。The amount of this organic solvent to be added may be determined as necessary, and it may be a mixed solvent system of two or more types or more.
また、本発明の組成物は、前記有機溶剤の使用9 0 に加えて、水を混合させることができる。Furthermore, the composition of the present invention is characterized by the use of the organic solvent described above. 0 In addition, water can be mixed.
さらに、本発明の組成物をより速く硬化させるにあたっ
ては、硬化促進剤を使用してもよく、比較的低い温度で
硬化させるためには、硬化促進剤を使用する方が効果的
である。Furthermore, in order to cure the composition of the present invention more quickly, a curing accelerator may be used, and in order to cure the composition at a relatively low temperature, it is more effective to use a curing accelerator.
かかる硬化促進剤としては、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどのアルカリ化合物;アルキルチタン酸、リ
ン酸、p−)ルエンスルホン酸、フタル酸などの酸性化
合物;エチレンジアミン、ヘキサンジアミンなどの脂肪
族ジアミン;ジエチレントリアミン、トリエチレンテト
ラミン、テトラエチレンペンクミンなどの脂肪族ポリア
ミン;ピペリジン、ピペラジンなどの脂環式アミン類;
メタフェニレンジアミンなどの芳香族アミン類;エタノ
ールアミン類、トリエチルアミン、エポキシ樹脂の硬化
剤として用いられる各種変性アミン;γ−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、T(2−アミノエチル)−アミ
ノプロピルトリメトキシシラン、γ−(2−アミノエチ
ル)−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、T−ア
ニリノプロピルトリメトキシシランなどのアミン系シラ
ンカップリング剤、有機スズ化合物などが使用される。Such curing accelerators include alkaline compounds such as sodium hydroxide and potassium hydroxide; acidic compounds such as alkyl titanic acid, phosphoric acid, p-)luenesulfonic acid, and phthalic acid; aliphatic diamines such as ethylenediamine and hexanediamine; Aliphatic polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, and tetraethylenepencumine; alicyclic amines such as piperidine and piperazine;
Aromatic amines such as metaphenylenediamine; ethanolamines, triethylamine, various modified amines used as curing agents for epoxy resins; γ-aminopropyltriethoxysilane, T(2-aminoethyl)-aminopropyltrimethoxysilane, Amine-based silane coupling agents such as γ-(2-aminoethyl)-aminopropylmethyldimethoxysilane and T-anilinopropyltrimethoxysilane, organic tin compounds, and the like are used.
これらの硬化促進剤の組成物中における割合は、本発明
の組成物おいて、通常、0.1〜15重量%、好ましく
は0.5〜10重量%用いられる。The proportion of these curing accelerators in the composition of the present invention is usually 0.1 to 15% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight.
なお、本発明の組成物には、各種界面活性剤、染料など
を添加することもできる。In addition, various surfactants, dyes, etc. can also be added to the composition of the present invention.
本発明の組成物の全固形分濃度は、通常、5〜80重量
%、好ましくは10〜50重量%、特に好ましくは15
〜35重量%であり、5重量%未満では固形分濃度が薄
すぎて得られる組成物をコーティングに供することによ
り形成される塗膜の耐熱性、耐水性、耐薬品性、耐候性
などの緒特性が発現されない場合があり、また形成され
る塗膜にピンホールが発生する場合があり、一方80重
量%を超えると固形分濃度が高すぎて組成物の保存安定
性が悪化したり、組成物をコーティングに供しても均一
な塗膜の形成が困難となるなどの弊害が生起する場合が
ある。The total solids concentration of the composition of the present invention is usually 5 to 80% by weight, preferably 10 to 50% by weight, particularly preferably 15% by weight.
~35% by weight, and if it is less than 5% by weight, the solid content concentration is too low and the properties such as heat resistance, water resistance, chemical resistance, weather resistance, etc. of the coating film formed by coating the resulting composition are impaired. Properties may not be expressed, and pinholes may occur in the formed coating film.On the other hand, if it exceeds 80% by weight, the solid content concentration is too high and the storage stability of the composition may deteriorate or the composition may deteriorate. Even when objects are coated, problems may occur, such as difficulty in forming a uniform coating film.
以下、実施例を挙げ、本発明をさらに具体的に説明する
が、以下の実施例に限定されるものではない。EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples.
なお、実施例中、部および%は、特に断らない限り重量
基準である。また、実施例中における各種の測定は、下
記のとおりである。In the examples, parts and percentages are based on weight unless otherwise specified. Moreover, various measurements in the examples are as follows.
ポリスチレン換算重量平均分子量の測定は、ゲルパーミ
ェーションクロマトグラフィー(cpc)法により、下
記条件においてテトラヒドロフランを溶媒として使用し
、オルガノポリシロキサン1gを100ccのテトラヒ
ドロフランに溶解して試料とした。また、標準ポリスチ
レンは、東ソー■製の標準ポリスチレンを使用した。The weight average molecular weight in terms of polystyrene was measured by gel permeation chromatography (CPC) under the following conditions using tetrahydrofuran as a solvent, and a sample was obtained by dissolving 1 g of organopolysiloxane in 100 cc of tetrahydrofuran. In addition, standard polystyrene manufactured by Tosoh ■ was used.
装置;■高滓製作所製、高速液体クロマトグラム(モデ
ルLC−RID−6A)
カラム;昭和電工■製、SHODEX
A−8M、長さ50cm
測定温度;40°C
流速;ice/分
密着性は、JIS K5400による基盤目テスト後
、テープ剥離試験を3回実施し、その平均によった。Apparatus: High performance liquid chromatogram (model LC-RID-6A) manufactured by Takashi Seisakusho Column: SHODEX A-8M manufactured by Showa Denko ■, length 50 cm Measurement temperature: 40°C Flow rate: ice/min Adhesion: After the base grain test according to JIS K5400, a tape peel test was performed three times and the average was taken.
硬度は、JIS K5400による鉛筆硬度によった
。The hardness was determined by pencil hardness according to JIS K5400.
保存安定性は、ポリエチレン製の瓶中で密栓保存し、4
5°C恒温槽中で一定期間保存したのち、目視によりゲ
ル化の有無を判定した。Storage stability is determined by storing in a polyethylene bottle with a tightly stopper.
After being stored for a certain period of time in a 5°C constant temperature bath, the presence or absence of gelation was visually determined.
実施例1〜8および比較例1〜6
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、メチルトリメト
キシシラン100部、アルミナソ゛ル(日産化学工業■
製の水性分散液、固形分濃度20%)50部、i−プロ
ピルアルコール15部を加え、60°Cに加熱して4時
間反応させ、さらにT−グリシドキシプロビルトリメト
キシシラン5部を加え、60℃に加熱して20分間、反
応させ、室温まで冷却してi−プロピルアルコールをさ
らに100部添加し、ポリスチレン換算の重量平均分子
量がs、oooである特定反応生成物を含む組成物イを
得た。Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6 In a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer, 100 parts of methyltrimethoxysilane and alumina sole (Nissan Chemical Industry Co., Ltd.
Add 50 parts of an aqueous dispersion (solid content 20%) and 15 parts of i-propyl alcohol, heat to 60°C and react for 4 hours, and then add 5 parts of T-glycidoxypropyltrimethoxysilane. In addition, the composition is heated to 60°C and reacted for 20 minutes, cooled to room temperature, and further added with 100 parts of i-propyl alcohol, and contains a specific reaction product having a weight average molecular weight in terms of polystyrene of s, ooo. I got it.
3
4
前記と同様にして、(A)成分および(B)成分を第1
表のように変えることにより、本発明の組成物口〜へ、
ならびに比較のための組成物υ〜力を得た。3 4 In the same manner as above, add component (A) and component (B) to the first
By changing as shown in the table, the composition of the present invention is
As well as the composition υ~ force for comparison was obtained.
さらに、組成物イおよび二にそれぞれケイ酸ジルコニウ
ムおよび二酸化チタンを加え、組成物トおよびチを得た
。Further, zirconium silicate and titanium dioxide were added to compositions A and II, respectively, to obtain compositions I and II.
次いで、得られた組成物イルカを、それぞれ脱脂処理し
たアルミニウム製板(JIS K4000、A202
4)上にスプレー塗装し、150°Cで30分間加熱し
て硬化塗膜を形成させた。Next, each of the obtained compositions was prepared using degreased aluminum plates (JIS K4000, A202
4) Spray-coated on top and heated at 150°C for 30 minutes to form a cured coating.
これらの硬化塗膜について、密着性および硬度を測定し
た。また、各組成物の保存安定性を評価した。結果を第
1表に示す。Adhesion and hardness of these cured coatings were measured. In addition, the storage stability of each composition was evaluated. The results are shown in Table 1.
(以下余白)
比較例7〜8
還流冷却器、攪拌機を備えた反応器に、第2表に示すよ
うにメチルトリメトキシシラン、T−グリシドキシプロ
ビルトリメトキシシラン、シリカゾル(日産化学工業■
製、エタノール分散液、固形分濃度20%)、i−プロ
ピルアルコールおよび水を加え、60°Cに加熱して5
時間反応させ、組成物ヨおよび夕を得た。(Left below) Comparative Examples 7-8 In a reactor equipped with a reflux condenser and a stirrer, methyltrimethoxysilane, T-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and silica sol (Nissan Chemical Co., Ltd.) were added as shown in Table 2.
ethanol dispersion, solid content concentration 20%), i-propyl alcohol and water were added, heated to 60°C and heated to
After a period of reaction, compositions 1 and 2 were obtained.
得られた組成物は、実施例1〜8、比較例1〜6と同様
に、GPC法によるポリスチレン換算重量平均分子量、
密着性、硬度および保存安定性について評価した。結果
を第2表に示す。As in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 6, the obtained compositions had a polystyrene equivalent weight average molecular weight by GPC method,
Adhesion, hardness and storage stability were evaluated. The results are shown in Table 2.
(以下余白)
第2表
〔発明の効果〕
本発明の組成物を被覆材料に供することにより得られる
塗膜は、硬化性に優れ、溶融亜鉛メツキ鋼板、電気亜鉛
メツキ鋼板、アルミニウムメツキ鋼板、有機複合メツキ
鋼板などの各種メツキ鋼板、7
8
化成処理鋼板、ステンレス、アルミニウム、セラミック
ス、セメント、繊維、紙、ガラス、プラスチックス(た
だし、フッ素系樹脂、ポリエチレンなどの官能基を有し
ないものを除く)などに対する使用が可能であり、80
〜a o o ”cで10〜120分間の加熱により硬
化でき、また用途によっては1〜7日間の常温乾燥のみ
でも硬化でき、さらに本発明の組成物は水を含んだ加水
分解性の組成物であるにもかかわらず、6ケ月以上の保
存安定性を確保することができる。(Margins below) Table 2 [Effects of the Invention] The coating film obtained by applying the composition of the present invention to coating materials has excellent curability, Various plated steel plates such as composite plated steel plates, 7 8 chemical conversion treated steel plates, stainless steel, aluminum, ceramics, cement, fibers, paper, glass, plastics (excluding those without functional groups such as fluorine resins and polyethylene) It can be used for 80
The composition of the present invention can be cured by heating for 10 to 120 minutes at ~a o o "c, and depending on the application, can be cured by drying at room temperature for 1 to 7 days. Furthermore, the composition of the present invention is a hydrolyzable composition containing water. Despite this, storage stability for 6 months or more can be ensured.
しかも、本発明の組成物より得られる塗膜は、硬度、耐
熱性、耐候性、耐水性、耐蝕性、密着性などに優れたも
のである。Furthermore, the coating film obtained from the composition of the present invention has excellent hardness, heat resistance, weather resistance, water resistance, corrosion resistance, adhesion, and the like.
Claims (1)
ロゲン原子またはOR^1で示される基であり、ここで
R^1は炭素数1〜5のアルキル基または炭素数1〜4
のアシル基を示す)で表されるメチルシランの部分的縮
合物ならびに/または前記メチルシランと一般式R^2
_aSi(OR^1)_4_−_a(式中、R^2は炭
素数1〜8の有機基、aは0または2を示し、R^1は
前記に同じ)および R^3Si(OR^1)_3(式中、R^3は炭素数2
〜8の有機基、R^1は前記に同じ)で表される少なく
とも1種のオルガノアルコキシシランとの部分的共縮合
物と、 (B)一般式R^4(CH_3)_bSi(OR^1)
_3_−_b(式中、R^4は炭素数3〜10の有機基
、bは0または1、R^1は前記に同じ)で表されるア
ルコキシシランとの反応生成物を含有してなるオルガノ
ポリシロキサン組成物。(1) (A) General formula CH_3SiX_3 (wherein, X is a halogen atom or a group represented by OR^1, where R^1 is an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms or
(indicating an acyl group) and/or a partial condensate of methylsilane represented by the acyl group of
_aSi(OR^1)_4_-_a (in the formula, R^2 is an organic group having 1 to 8 carbon atoms, a represents 0 or 2, R^1 is the same as above) and R^3Si(OR^1 )_3 (In the formula, R^3 is carbon number 2
~8 organic group, R^1 is the same as above) with at least one organoalkoxysilane, and (B) general formula R^4(CH_3)_bSi(OR^1 )
Contains a reaction product with an alkoxysilane represented by _3_-_b (wherein R^4 is an organic group having 3 to 10 carbon atoms, b is 0 or 1, and R^1 is the same as above) Organopolysiloxane composition.
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---|---|---|---|
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